WO2018124198A1

WO2018124198A1 - 液晶性組成物、高分子液晶化合物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置

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Publication number: WO2018124198A1
Application number: PCT/JP2017/046955
Authority: WO
Inventors: 拓史松山; 渉星野; 輝樹新居; 直弥西村
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2016-12-28
Filing date: 2017-12-27
Publication date: 2018-07-05
Also published as: CN115651667A; JP7125463B2; CN110168051B; KR20190085991A; CN115651667B; JP2021051313A; KR20210076193A; KR102267828B1; JP6797937B2; US11505744B2; JPWO2018124198A1; US20190322937A1; KR102313192B1; CN110168051A

Abstract

本発明の課題は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる高分子液晶化合物、液晶性組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することである。本発明の液晶性組成物は、式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物と、二色性物質と、を含有し、式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である。式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Description

液晶性組成物、高分子液晶化合物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置

　本発明は、液晶性組成物、高分子液晶化合物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。

　従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
　例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

　従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
　例えば、特許文献１には、「少なくとも１種のサーモトロピック液晶性二色性色素、及び少なくとも１種のサーモトロピック液晶性高分子を含有し、上記サーモトロピック液晶性二色性色素の光吸収異方性膜中における質量含有率が３０％以上であることを特徴とする光吸収異方性膜。」が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１１－２３７５１３号公報

　本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、光吸収異方性膜の形成に用いられるサーモトロピック液晶性高分子の種類によっては、二色性物質の配向度の低下に伴って、光吸収異方性膜の配向度が不十分となる場合があり、改善の余地があることを明らかとした。

　そこで、本発明は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる高分子液晶化合物、液晶性組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、二色性物質とともに配合する高分子液晶化合物として、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇＰ値との差が４以上となる繰り返し単位を有する高分子液晶化合物を用いることで、配向度が高い光吸収異方性膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］
　後述する式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物と、二色性物質と、を含有し、
　後述する式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、液晶性組成物。
　後述する式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
［２］
　後述する式（１）におけるＳＰ１が、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む、［１］に記載の液晶性組成物。
［３］
　上記高分子液晶化合物が、さらに、後述する式（２）で表される繰り返し単位を含み、
　下記式（２）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である、［１］または［２］に記載の液晶性組成物。
　後述する式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
［４］
　上記高分子液晶化合物が、さらに、後述する式（３）で表される繰り返し単位を含む、［１］～［３］のいずれか１つに記載の液晶性組成物。
　後述する式（３）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
［５］
　上記高分子液晶化合物が、後述する式（１）で表される繰り返し単位を２種以上含む、［１］～［４］のいずれか１つに記載の液晶性組成物。
［６］
　上記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００以上である、［１］～［５］のいずれか１つに記載の液晶性組成物。
［７］
　上記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００未満である、［１］～［５］のいずれか１つに記載の液晶性組成物。
［８］
　上記高分子液晶化合物が、後述する式（４）で表される星型ポリマーである、［１］～［７］のいずれか１つに記載の液晶性組成物。
　後述する式（４）中、ｎ_Ａは３以上の整数を表し、複数のＰＩはそれぞれ独立に後述する式（１）～（３）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表し、Ａは星型ポリマーの核となる原子団を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、後述する式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
［９］
　後述する式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物であって、
　後述する式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、高分子液晶化合物。
　後述する式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
［１０］
　後述する式（１）におけるＳＰ１が、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む、［９］に記載の高分子液晶化合物。
［１１］
　上記高分子液晶化合物が、さらに、後述する式（２）で表される繰り返し単位を含み、
　後述する式（２）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である、［９］または［１０］に記載の高分子液晶化合物。
　後述する式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
［１２］
　上記高分子液晶化合物が、さらに、後述する式（３）で表される繰り返し単位を含む、［９］～［１１］のいずれか１つに記載の高分子液晶化合物。
　後述する式（３）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
［１３］
　上記高分子液晶化合物が、後述する式（１）で表される繰り返し単位を２種以上含む、［６］～［９］のいずれか１つに記載の高分子液晶化合物。
［１４］
　上記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００以上である、［９］～［１３］のいずれか１つに記載の高分子液晶化合物。
［１５］
　上記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００未満である、［９］～［１３］のいずれか１つに記載の高分子液晶化合物。
［１６］
　上記高分子液晶化合物が、後述する式（４）で表される星型ポリマーである、［９］～［１５］のいずれか１つに記載の高分子液晶化合物。
　後述する式（４）中、ｎ_Ａは３以上の整数を表し、複数のＰＩはそれぞれ独立に後述する式（１）～（３）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表し、Ａは星型ポリマーの核となる原子団を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、後述する式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
［１７］
　［１］～［８］のいずれか１つに記載の液晶性組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
［１８］
　基材と、上記基材上に設けられる［１７］に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
［１９］
　さらに、上記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［１８］に記載の積層体。
［２０］
　［１７］に記載の光吸収異方性膜、または、［１８］もしくは［１９］に記載の積層体を有する、画像表示装置。

　本発明によれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる高分子液晶化合物、液晶性組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供できる。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称である。

［液晶性組成物］
　本発明の液晶性組成物は、後述する式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物と、二色性物質と、を含有し、後述する式（１）において、Ｐ１（以下、「主鎖」ともいう。）、Ｌ１、およびＳＰ１（以下、「スペーサー基」ともいう。）のｌｏｇＰ値と、Ｍ１（以下、「メソゲン基」ともいう。）のｌｏｇＰ値との差が、４以上である。
　本発明の液晶性組成物によれば、配向度の高い光吸収異方性膜を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
　ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。後述する式（１）で表される繰り返し単位は、主鎖、Ｌ１およびスペーサー基のｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇ値と、が所定値以上離れているので、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態にある。これにより、高分子液晶化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶化合物の配向度が高い状態にあると推測される。このように、高分子液晶化合物の配向度が高いと、高分子液晶化合物と二色性物質との相溶性が低下して（すなわち、二色性物質の結晶性が向上する）、二色性物質の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性膜の配向度が高くなったと考えられる。

〔高分子液晶化合物〕
　＜繰り返し単位（１）＞
　本発明の高分子液晶化合物は、下記式（１）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（１）」ともいう。）を含む。また、繰り返し単位（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が４以上である。

　式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

　式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^２はアルキル基を表す。
　式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、シラノールは、式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物である。式中、複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。

　Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

　ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
　ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数がより好ましく、３であることが最も好ましい。
　また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

　Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅｉｎＴａｂｅｌｌｅｎＩＩ」（ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇｆｕｒＧｒｕｎｄｓｔｏｆｆＩｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
　メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
　メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

　メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

　式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
　Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

　Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

　Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
　２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

　Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

　式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

　Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

　Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
　Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
　Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

　繰り返し単位（１）の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましく、３０～９９．９質量％がより好ましく、４０～９９．０質量％がさらに好ましい。
　本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
　繰り返し単位（１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（１）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。
　この場合、高分子液晶化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１））が、質量比で０．００５～４が好ましく、０．０１～２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。

　（ｌｏｇＰ値）
　式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ_１－ｌｏｇＰ_２｜）が４以上であり、光吸収異方性膜の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
　また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
　ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤＧｕｉｄｅｌｉｎｅｓｆｏｒｔｈｅＴｅｓｔｉｎｇｏｆＣｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ１，ＴｅｓｔＮｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

　上記ｌｏｇＰ_１は、上述したように、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない。具体的には、ｌｏｇＰ_１は、式（１）におけるＰ１～ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
　ただし、ｌｏｇＰ_１の算出にあたって、Ｐ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、式（１）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
　ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）－で表される基（Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。

　ｌｏｇＰ_１は、上述したｌｏｇＰ_２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ_２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ_２よりも高くてもよい。
　ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ_２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
　上記式（１）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（１）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
　なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。

　＜繰り返し単位（２）＞
　本発明の高分子液晶化合物は、さらに、下記式（２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
　式（２）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である。すなわち、繰り返し単位（２）は、少なくとも構造中のｌｏｇＰ値の差の点において、上記繰り返し単位（１）と異なる。
　なお、「Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値」の定義は、上述したｌｏｇＰ_１と同様であるので、その説明を省略する。
　高分子液晶化合物が繰り返し単位（２）を含む場合には、高分子液晶化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）との共重合体であり、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

　式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
　式（２）におけるＰ２、Ｌ２、ＳＰ２、Ｍ２およびＴ２の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１、Ｍ１およびＴ１と同様である。
　ここで、式（２）におけるＴ２は、光吸収異方性膜の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

　繰り返し単位（２）を含有する場合の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～５０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。
　繰り返し単位（２）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
　特に、繰り返し単位（２）におけるＴ２が重合性基を有する場合、Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（２）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～６０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（２）の含有量が０．５質量％以上であると、光吸収異方性膜の強度がより向上する。Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（２）の含有量が６０質量％以下であると、配向度により優れるという利点がある。

　＜繰り返し単位（３）＞
　本発明の高分子液晶化合物は、さらに、下記式（３）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（３）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
　繰り返し単位（３）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（１）および上記繰り返し単位（２）と異なる。
　高分子液晶化合物が繰り返し単位（３）を含む場合には、高分子液晶化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（３）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位（２）を含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

　式（３）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
　式（３）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
　ここで、式（３）におけるＴ３は、光吸収異方性膜の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

　繰り返し単位（３）を含有する場合の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
　繰り返し単位（３）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
　特に、繰り返し単位（３）におけるＴ３が重合性基を有する場合、Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（３）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～６０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（３）の含有量が０．５質量％以上であると、光吸収異方性膜の強度がより向上する。Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（３）の含有量が６０質量％以下であると、配向度に優れるという利点がある。

＜星型ポリマー＞
　本発明の高分子液晶化合物は、星型ポリマーであってもよい。本発明における星型ポリマーとは、核を起点として延びるポリマー鎖を３つ以上有するポリマーを意味し、具体的には、下記式（４）で表わされる。
　高分子液晶化合物として式（４）で表される星型ポリマーは、高溶解性（溶媒に対する溶解性が優れること）でありながら、配向度の高い光吸収異方膜を形成できる。

　式（４）中、ｎ_Ａは、３以上の整数を表し、４以上の整数が好ましい。ｎ_Ａの上限値は、これに限定されないが、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
　複数のＰＩはそれぞれ独立に、上記式（１）～（３）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、上記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
　複数のＰＩの全てが、上記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であるのが好ましい。
　Ａは、星型ポリマーの核となる原子団を表す。Ａの具体例としては、特開２０１１－０７４２８０号公報の[００５２]～[００５８]段落、特開２０１２－１８９８４７号公報の[００１７]～[００２１]段落、特開２０１３－０３１９８６号公報の[００１２]～[００２４]段落、特開２０１４－１０４６３１号公報の[０１１８]～[０１４２]段落等に記載の多官能チオール化合物のチオール基から水素原子を取り除いた構造が挙げられる。この場合、ＡとＰＩは、スルフィド結合によって結合される。

　Ａの由来となる上記多官能チオール化合物のチオール基の数は、３つ以上が好ましく、４以上がより好ましい。多官能チオール化合物のチオール基の数の上限値は、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
　多官能チオール化合物の具体例を以下に示す。

　＜物性＞
　高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる。
　特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
　また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
　ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
　・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
　・装置名：ＴＯＳＯＨＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　・カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
　・カラム温度：２５℃
　・試料濃度：０．１質量％
　・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
　・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン　Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

　高分子液晶化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
　ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃～４００℃であることが好ましい。

〔二色性物質〕
　本発明の液晶性組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
　具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特願２０１５－００１４２５号公報の［００２２］～［００８０］段落、特願２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、特願２０１６－０４４９０９号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０４４９１０号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０９５９０７号公報の［００１３］～［００３７］段落、特願２０１７－０４５２９６号公報の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

　本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。

　本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
　架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　本発明においては、二色性物質の含有量は、光吸収異方性膜の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、高分子化合物１００質量部に対して２～４００質量部であることが好ましく、３～３００質量部であることがより好ましく、４～２００質量部であることがさらに好ましい。

〔重合開始剤〕
　本発明に用いられる液晶性組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
　重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
　このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１８４、９０７、３６９、６５１、８１９、ＯＸＥ－０１およびＯＸＥ－０２などが挙げられる。
　本発明の液晶性組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。

〔溶媒〕
　本発明の液晶性組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
　本発明の液晶性組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、液晶性組成物の全質量に対して、８０～９９質量％が好ましく、８３～９８質量％がより好ましく、８５～９６質量％がさらに好ましい。

〔界面改良剤〕
　本発明の液晶性組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
　界面改良剤としては、液晶化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
　本発明の液晶性組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部が好ましい。

［光吸収異方性膜］
　本発明の光吸収異方性膜は、上述した本発明の液晶性組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
　本発明の光吸収異方性膜の製造方法の一例としては、上記液晶性組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
　以下、本発明の光吸収異方性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。

〔塗布膜形成工程〕
　塗布膜形成工程は、上記液晶性組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する液晶性組成物を用いたり、液晶性組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶性組成物を塗布することが容易になる。
　液晶性組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
　本態様では、液晶性組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶性組成物を塗布してもよい。基材および配向膜の詳細については後述する。

〔配向工程〕
　配向工程は、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　ここで、液晶性組成物に含まれる二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶性組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。

　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性などの面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

　配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
　以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
　なお、本態様では、塗布膜に含まれる二色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

〔他の工程〕
　光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
　硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルターを介して紫外線を照射してもよい。
　また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

　光吸収異方性膜の膜厚は、０．１～５．０μｍが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。液晶性組成物中の二色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性膜が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性膜が得られる。

［積層体］
　本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光吸収異方性膜とを有する。
　また、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していてもよい。
　さらに、本発明の積層体は、上記基材と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
　さらに、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層を有していてもよい。
　以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。

〔基材〕
　基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
　基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。

〔光吸収異方性膜〕
　光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔λ／４板〕
　「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
　例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
　λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。

〔バリア層〕
　本発明の積層体がバリア層を有する場合、バリア層は、光吸収異方性膜とλ／４板との間に設けられる。なお、光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を有する場合には、バリア層は、例えば、光吸収異方性膜と他の層との間に設けることができる。
　バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から光吸収異方性膜を保護する機能を有する。
　バリア層については、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。

〔配向膜〕
　本発明の積層体は、基材と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
　配向膜は、配向膜上において本発明の液晶性組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
　有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

　＜ラビング処理配向膜＞
　ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがさらに好ましい。

　＜光配向膜＞
　光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

　上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
　本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

　光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルターまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

　照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
　非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。
　照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

　パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔用途〕
　本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
　本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
　一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、上述した光吸収異方性膜または上述した積層体を有する。
　本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
　これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光吸収異方性膜と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
　なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光吸収異方性膜（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのがより好ましい。
　以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

　＜液晶セル＞
　液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａｌｌｙＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
　ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
　ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔｏｆｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（ＰａｔｔｅｒｎｅｄＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（ＯｐｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－ＳｕｓｔａｉｎｅｄＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
　ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光吸収異方性膜と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
　より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、必要に応じて設けられるバリア層、および、λ／４板の順に配置されている。
　また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

　［合成例１］
〔高分子液晶化合物Ｐ１の合成〕
　高分子液晶化合物Ｐ１は、以下の手順により作製した。

　＜Ｐ１－１の合成＞

　２－クロロエトキシエトキシエタノール（１４．０５ｇ）のジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液（６０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を加え、氷冷下においてアクリル酸クロリド（７．５４ｇ）、および、トリエチルアミン（８．８９ｇ）を滴下した。１時間攪拌した後、反応液を濾過した。次に、炭酸カリウム（１５．７ｇ）、ヨウ化カリウム（０．５７ｇ）、ｐ－ヒドロキシベンズアルデヒド（９．２５ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を添加し、１１０℃にて４時間攪拌した後、酢酸エチルと水を加え、分液操作により反応液を洗浄した。さらに、反応液をエバポレーターにより濃縮した後、室温に戻して２５ｍＬのアセトニトリル、２．３６ｇのリン酸二水素ナトリウム二水和物を８ｍＬの水に溶解したリン酸緩衝液、および１１．２ｍＬの過酸化水素水（３０質量％）を添加し、続けて３３．４ｇの２５質量％亜塩素酸ナトリウム水溶液を添加した。６時間室温で攪拌して８時間静置した後、水を加え、得られた沈殿を集め、白色固体の化合物（Ｐ１－１）を１６．９ｇ（収率６９％）得た。

　＜Ｐ１－２の合成＞

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（７３．４ｍｍｏｌ,５．７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液（７０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２００ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１－１）（６６．７ｍｍｏｌ，２１．６ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２００ｍｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）と、４－ヒドロキシ－４’－メトキシビフェニル（６０．６ｍｍｏｌ，１２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｐ１－２）１８．７ｇ（収率６１％）を得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６５－３．８２（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８５－３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８－４．２８（ｍ，２Ｈ），４．２８－４．４０（ｍ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０－７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０－７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４５－７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０－８．２０（ｍ，２Ｈ）

　＜Ｐ１の合成＞

　化合物（Ｐ１－２）（１．０ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）（商品名「Ｖ－６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物（Ｐ１）を０．９５ｇ得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１００００であった。
　なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー社製））、溶媒はＮ－メチルピロリドンを使用した。

　［合成例２］
〔高分子液晶化合物Ｐ９の合成〕
　下記ステップ１～３に従い、高分子液晶化合物Ｐ９を合成した。

　＜ステップ１＞

　水酸化ナトリウム（３４．２ｇ）を１Ｌの水に溶解させ、窒素雰囲気下で、４，４’－ジヒドロキシビフェニル（４０．６ｇ）およびブロモエタノール（３７．２ｇ）を添加し、９５℃で１０時間攪拌した。
　その後、室温まで冷却し、濃塩酸を加えて反応系を酸性に調整してから濾過および乾燥を行い、化合物Ｐ９－Ａを含む白色固体を得た。
　得られた白色固体を４００ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶解させ、氷冷下、３－クロロプロピオニルクロリド（６２．０ｇ）を滴下し、５時間攪拌した。メタノール（４０ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。
　分液操作により洗浄した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒除去し、得られた濃縮物にクロロホルムを加えた。析出した固体を濾過により取り除いた後、ロータリーエバポレーターで溶媒除去をし、酢酸エチル／クロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーによるに精製を行い、白色固体である化合物Ｐ９－Ａを２０．３ｇ（収率２９％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ_６）δ（ｐｐｍ）：２．８０－２．９０（ｔ，２Ｈ），３．７５－３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１５－４．２５（ｍ，２Ｈ），４．３５－４．４５（ｍ，２Ｈ），６．７５－６．８５（ｍ，２Ｈ），６．９０－７．００（ｍ，２Ｈ），７．３０－７．５０（ｍ，４Ｈ），９．４０（ｂｒｓ，１Ｈ）

　＜ステップ２＞

　化合物Ｐ９－Ａの４．０ｇと、合成例１で調製した化合物Ｐ１－１の８．０８ｇと、ジクロロメタン１００ｍＬとを混合し、室温で撹拌した。混合物に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン１５２ｍｇ、および、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）９．５６ｇを加え、室温で１２時間撹拌した。
　その後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、メタノール１２０ｍＬと１Ｍ、塩酸水１２０ｍＬを加えて濾過を行い、白色固体を得た。得られた白色固体を酢酸エチルと水を加えて分液を行い、集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィによる精製を行うことで化合物Ｐ９－Ｂを５．４ｇ得た（収率６９％）。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．８７（ｔ，２Ｈ）、３．６８－３．８２（ｍ，８Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），４．１８－４．２８（ｍ，４Ｈ），４．２８－４．３８（ｍ，２Ｈ），４．４６－４．５４（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０－７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０－７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４８－７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０－８．２０（ｍ，２Ｈ）

　＜ステップ３＞

　化合物Ｐ１－２（０．８ｇ）および化合物Ｐ９－Ｂ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ９－Ｃを０．９０ｇ得た。得られた化合物Ｐ９－Ｃのクロロホルム溶液（７ｍＬ）に、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（５０ｍｇ）、および、トリエチルアミン（０．７ｍＬ）を加え、内温を５０℃まで加熱した。５０℃で９時間撹拌した後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて原料の消失を確認し、室温へと冷却した。そこに、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶化合物Ｐ９を０．８ｇ得た。得られた高分子液晶化合物Ｐ９をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００（ポリスチレン換算）であった。

〔高分子液晶化合物Ｐ２～Ｐ８、Ｐ１０～Ｐ１１〕
　高分子液晶化合物Ｐ２～Ｐ８、Ｐ１０～Ｐ１１は、高分子液晶化合物Ｐ１もしくはＰ９と同様または公知の方法にしたがって合成した。

〔高分子液晶化合物Ｐ１２の合成〕
　下記ステップ１～２に従い、高分子液晶化合物Ｐ１２を合成した。

　＜ステップ１＞

　４－（４－ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルは、Ｊｏｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ　Ａ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１２，ｖｏｌ．５０，ｐ．３９３６－３９４３に記載の方法で合成を行った。

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５４．８ｍｍｏｌ，６．２７ｇ）の酢酸エチル溶液（４４ｍＬ）に２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル（６８ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１－１）（５２．６ｍｍｏｌ，１７．１ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５７．０ｍｏｌ，７．３６ｇ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、４－（４－ヒドロキシフェニル）安息香酸メチル（４３．８ｍｍｏｌ，１０．０ｇ）のＤＭＡｃ溶液、Ｎ－メチル－イミダゾール（ＮＭＩ）（１．８ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。水と酢酸エチルを加えて反応を停止した。分液を行い、酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｐ１２－Ａ）２０．４ｇ（収率８７％）を得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６８－３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８７－３．９５（ｍ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．２０－４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３１－４．３７（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９７－７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２８－７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６４－７．７２（ｍ，４Ｈ），８．０８－８．２０（ｍ，４Ｈ）

　＜ステップ２＞

　化合物Ｐ１－２（０．８ｇ）および化合物Ｐ１２－Ａ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温８０℃まで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）（商品名「Ｖ－６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物（Ｐ１２）を０．９５ｇ得た。得られた高分子液晶化合物Ｐ１２をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５０００（ポリスチレン換算）であった。

〔高分子液晶化合物Ｐ１３の合成〕
　下記ステップ１～２に従い、高分子液晶化合物Ｐ１３を合成した。

　＜ステップ１＞

　４－（４－ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルは、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００２，３５，１６６３－１６７１に記載の方法で合成した。

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５４．８ｍｍｏｌ，６．２７ｇ）の酢酸エチル溶液（４４ｍＬ）に２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル（６８ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１－１）（５２．６ｍｍｏｌ，１７．１ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５７．０ｍｏｌ，７．３６ｇ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、４－（４－ヒドロキシフェニル）安息香酸エチル（４３．８ｍｍｏｌ，１０．６ｇ）のＤＭＡｃ溶液、Ｎ－メチル－イミダゾール（ＮＭＩ）（１．８ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。水と酢酸エチルを加えて反応を停止した。分液を行い、酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｐ１３－Ａ）２０．６ｇ（収率８６％）を得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：１．４１（ｔ，３Ｈ），３．６８－３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８８－３．９５（ｍ，２Ｈ），４．２０－４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３１－４．３８（ｍ，２Ｈ），４．４１（ｑ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９７－７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２８－７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６４－７．７２（ｍ，４Ｈ），８．０８－８．２０（ｍ，４Ｈ）

　＜ステップ２＞

　化合物Ｐ１－２（０．８ｇ）および化合物Ｐ１３－Ａ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）（商品名「Ｖ－６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物（Ｐ１３）を０．９６ｇ得た。得られた高分子液晶化合物Ｐ１３をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１６０００（ポリスチレン換算）であった。

〔高分子液晶化合物Ｐ１４の合成〕
　下記ステップ１～２に従い、高分子液晶化合物Ｐ１４を合成した。

　＜ステップ１＞

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５４．８ｍｍｏｌ，６．２７ｇ）の酢酸エチル溶液（４４ｍＬ）に２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル（６８ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１－１）（５２．６ｍｍｏｌ，１７．１ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５７．０ｍｏｌ，７．３６ｇ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、４－シアノ－４’－ヒドロキシビフェニル（４３．８ｍｍｏｌ，８．５５ｇ）のＤＭＡｃ溶液、Ｎ－メチル－イミダゾール（ＮＭＩ）（１．８ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ，１３．０ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。水と酢酸エチルを加えて反応を停止した。分液を行い、酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｐ１４－Ａ）１９．０ｇ（収率８７％）を得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６８－３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８７－３．９５（ｍ，２Ｈ），４．２０－４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３２－４．３７（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９８－７．０５（ｍ，２Ｈ），７．３０－７．３７（ｍ，２Ｈ），７．６０－７．７８（ｍ，６Ｈ），８．１３－８．２０（ｍ，２Ｈ）

　＜ステップ２＞

　化合物Ｐ１－２（０．９ｇ）および化合物Ｐ１４－Ａ（０．１ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温８０℃まで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）（商品名「Ｖ－６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物（Ｐ１４）を０．９６ｇ得た。得られた高分子液晶化合物Ｐ１２をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４０００（ポリスチレン換算）であった。

　以下において、高分子液晶化合物Ｐ１～Ｐ１４の構造とともに、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ_１値と、メソゲン基のｌｏｇＰ_２値との差をあわせて示す。

〔二色性物質〕
　以下に示す二色性物質Ｄ１～Ｄ４を準備した。

　上記式中、「Ｍｅ」はメチル基を意味する。

［実施例１］
〔配向膜の作製〕
　ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
　下記の配向膜形成用組成物１を＃１２のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物１を１１０℃で２分間乾燥して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
　得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚２．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜１を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記式（ＰＶＡ－１）参照）　２．００質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．０８質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）　　　　　０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔光吸収異方性膜の作製〕
　得られた配向膜１上に、下記の液晶性組成物１を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
　塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１８０℃で１５秒間加熱した。
　次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ²の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶化合物Ｐ１　　　　　　　　　　　　　４．１２質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．８２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　０．０４質量部
・下記界面改良剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２質量部
・クロロホルム　　　　　　　　　　　　　　　　　　９５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２～１９、比較例１～４］
　液晶性組成物における高分子液晶化合物、二色性物質、重合開始剤、界面改良剤および溶媒の種類または含有量を下記第１表に示すように変更した以外は、実施例１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
　なお、実施例１５～１９および比較例３～４の光吸収異方性膜の作製に用いた液晶性組成物には、２種類の二色性物質を用いた。
　また、下記第１表中、界面改良剤Ｆ２は、以下の通りである。

［評価］
〔配向度〕
　光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｅ６００　ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（ＯｃｅａｎＯｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて第１表に記載の波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記第１表に示す。
　　配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
　　Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
　　Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

　第１表に示すように、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ_１値と、メソゲン基のｌｏｇＰ_２値との差が４以上である繰り返し単位を含む液晶性組成物を用いれば、配向度の高い光吸収異方性膜が得られることが示された（実施例）。
　これに対して、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ_１値と、メソゲン基のｌｏｇＰ_２値との差が４以上である繰り返し単位を含んでいない液晶性組成物を用いると、得られる光吸収異方性膜の配向度が劣ることが示された（比較例）。

［高分子液晶化合物Ｐ９－１～Ｐ９－６の合成］
　上記高分子液晶化合物Ｐ９の合成の「ステップ３」において、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチルの量を変えた以外は、上記高分子液晶化合物Ｐ９の合成と同様にして、互いに異なる重量平均分子量（Ｍｗ）の高分子液晶化合物Ｐ９－１～Ｐ９－６を得た。以下に、高分子液晶化合物Ｐ９および高分子液晶化合物Ｐ９－１～Ｐ９－６の重量平均分子量（Ｍｗ）を示す。
　Ｐ９　　：Ｍｗ＝　１７０００
　Ｐ９－１：Ｍｗ＝２３４０００
　Ｐ９－２：Ｍｗ＝　３８３００
　Ｐ９－３：Ｍｗ＝　２３２００
　Ｐ９－４：Ｍｗ＝　１０９００
　Ｐ９－５：Ｍｗ＝　　９５００
　Ｐ９－６：Ｍｗ＝　　６１００

［実施例２０］
　上記実施例１で用いた配向膜１上に、下記液晶性組成物２０を１０００回転でスピンコートし、塗布膜２０を形成した。

〔クラック評価〕
　得られた塗布膜２０を目視にて観察し、以下の基準でクラックを評価した。結果を下記第２表に示す。
Ａ：クラックが全く見られない。
Ｂ：細いクラックが少数見られる。
Ｃ：太いクラックが多数見られる。

　この塗布膜２０を室温で３０秒乾燥させた後、さらに１５０℃で１００秒加熱した。次いで塗布膜２０を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱して、再度室温になるまで冷却して、室温にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で５０秒間照射することにより、光吸収異方性膜２０を形成した。
　実施例１と同様の方法で、下記第２表に記載の波長域毎の配向度を評価した。結果を下記第２表に示す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物２０の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶化合物Ｐ９－１　　　　　　　　　　６．３８３質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　０．４４７質量部
・上記二色性物質Ｄ３　　　　　　　　　　　　　　　０．５７４質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）０．０７４質量部
・上記界面改良剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　０．０２２質量部
・クロロホルム　　　　　　　　　　　　　　　　　　９２．５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２１～２６］
　液晶性組成物における高分子液晶化合物の種類を下記第２表に示すように変更した以外は、実施例２０と同様の方法で、配向膜１上に塗布膜を形成した後、光吸収異方性膜を得た。塗布膜のクラック評価および光吸収異方性膜の配向度の評価を、実施例２０と同様の方法で行った。結果を下記第２表に示す。

［実施例２７］
〔配向膜２７の作製〕
　表面にケン化処理を施した透明フィルム（セルロースアシレートフィルム、フジタックＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム社製）上に、上記配向膜形成用組成物１を＃１７のバーを用いて塗布し、１１０℃で２分間乾燥し、塗布膜を形成した。
　得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚１．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、透明フィルム上に配向膜２７を作製した。

〔光吸収異方性膜２７の作製〕
　得られた配向膜２７上に、下記液晶性組成物２７を＃１５のバーを用いて塗布し、塗布膜２７を形成して、実施例２０と同様の方法にてクラックを評価した。評価結果を下記第３表に示す。
　この塗布膜２７を１５０℃で１００秒加熱した。次いで塗布膜２７を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱、再度室温になるまで冷却して、室温にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で５０秒間照射することにより、光吸収異方性膜２７を形成した。実施例２０と同様の方法で、光吸収異方性膜２７の波長域毎の配向度を評価した。結果を下記第３表に示す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物２７の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶化合物Ｐ９－１　　　　　　　　　　９．４３８質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　０．６６１質量部
・上記二色性物質Ｄ３　　　　　　　　　　　　　　　０．８４９質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）０．１０９質量部
・上記界面改良剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　０．０３３質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　６２．２４質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　２６．６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２８～２９］
　液晶性組成物における高分子液晶化合物の種類を下記第３表に示すように変更した以外は、実施例２７と同様の方法で、配向膜２７上に塗布膜を形成した後、光吸収異方性膜を得た。塗布膜のクラック評価および光吸収異方性膜の配向度の評価を、実施例２７と同様の方法で行った。結果を下記第３表に示す。

　第２表および第３表に示すように、重量平均分子量が１００００以上の液晶性高分子化合物を用いれば（実施例２０～２４、実施例２７～２８）、クラックの少ない光吸収異方性膜が得られることがわかった。また、第２表および第３表に示すように、重量平均分子量が１００００未満の高分子液晶化合物を用いれば（実施例２５～２６、実施例２９）、配向度の高い光吸収異方性膜が得られることがわかった。

［高分子液晶化合物（Ｐ１－Ａ）の合成］
　以下のようにして、星型ポリマーである高分子液晶化合物（Ｐ１－Ａ）を合成した。なお、下記式（Ｐ１－Ａ）において、「Ｓ」原子と「ＰＬ」の主鎖とが直接結合している。

　化合物（Ｐ１－２）１．００ｇおよび化合物（Ｐ－Ａ）５７ｍｇのＤＭＡｃ溶液（２．９ｍＬ）を窒素気流下８０℃に加熱した。そこに２，２’－アゾビス（２－メチルプロピレン酸）ジメチルを９．１ｍｇ加え、８０℃で２時間加熱した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノール３００ｍＬを加えて濾過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶化合物（Ｐ１－Ａ）０．９６ｇを得た。
　得られた高分子液晶化合物（Ｐ１－Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１３００であった。

［高分子液晶化合物（Ｐ１－Ｂ）の合成］
　以下のようにして、星型ポリマーである高分子液晶化合物（Ｐ１－Ｂ）を合成した。なお、下記式（Ｐ１－Ｂ）において、「Ｓ」原子と「ＰＬ」の主鎖とが直接結合している。

　化合物（Ｐ１－２）１．００ｇおよび化合物（Ｐ－Ｂ）９２ｍｇのＤＭＡｃ溶液（２．９ｍＬ）を窒素気流下８０℃に加熱した。そこに２，２’－アゾビス（２－メチルプロピレン酸）ジメチルを９．１ｍｇ加え、８０℃で２時間加熱した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノール３００ｍＬを加えて濾過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶化合物（Ｐ１－Ｂ）０．９６ｇを得た。
　得られた高分子液晶化合物（Ｐ１－Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１８００であった。

［溶解性の評価］
　下記第４表に示す溶媒中に、高分子液晶化合物（高分子液晶化合物（Ｐ１）、高分子液晶化合物（Ｐ１－Ａ）、または、高分子液晶化合物（Ｐ１－Ｂ））を所定濃度になるように添加して、以下の評価基準にしたがって、高分子液晶化合物の溶解性を評価した。結果を下記第４表に示す。
　ＡＡ　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で６日放置後も透明のままである。
　Ａ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で２日放置後は透明のままだが、室温で６日放置すると白濁する。
　Ｂ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で１日放置後は透明のままだが、室温で２日放置すると白濁する。
　Ｃ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で６０分放置後は透明のままだが、室温で１日放置すると白濁する。
　Ｄ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で５分放置後は透明のままだが、室温で６０分放置すると白濁する。
　Ｅ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明になる。室温で１分放置後は透明のままだが、室温で５分放置すると白濁する。
　Ｆ　　：４５℃１０分の撹拌で溶解しない。

［実施例３０］
　液晶性組成物２０に代えて、下記液晶性組成物３０を用いた以外は実施例２０と同様にして光吸収異方性膜を得た。光吸収異方性膜の配向度の評価を実施例２０と同様の方法で行った。結果を下記第５表に示す。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物３０の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶化合物Ｐ１　　　　　　　　　　　　　６．３８３質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．４４７質量部
・上記二色性物質Ｄ３　　　　　　　　　　　　　　　　０．５７４質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　０．０７４質量部
・上記界面改良剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２２質量部
・クロロホルム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９２．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例３１～３２］
　液晶性組成物３０における高分子液晶化合物の種類を星型ポリマーである高分子液晶化合物Ｐ１－ＡまたはＰ１－Ｂに変更した以外は、実施例３０と同様にして、光吸収異方性膜を得た。光吸収異方性膜の配向度の評価を実施例３０と同様の方法で行った。結果を下記第５表に示す。

　第４表および第５表に示すように、星型ポリマーである高分子液晶化合物（Ｐ１－ＡおよびＰ１－Ｂ）は、溶解性に優れつつ、配向度の高い光吸収異方性膜を形成できるのがわかった（実施例３１および３２）。

［実施例３３］
〔配向膜３３の作製〕
　表面にケン化処理を施した透明フィルム（セルロースアシレートフィルム、フジタックＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム社製）上に、上記配向膜形成用組成物１を＃１７のバーを用いて塗布し、１１０℃で２分間乾燥し、塗布膜を形成した。
　続いて、下記構造の光配向材料Ｅ－１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、及びジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで光配向膜用塗布液３３を調製した。得られた光配向膜用塗布液３３を上記塗布膜上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。光配向膜用塗布液を用いて得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、配向膜３３を作製した。

〔偏光素子３３の作製〕
　得られた配向膜３３上に、下記液晶性組成物３３を＃１５のバーを用いて塗布し、塗布膜を形成して、この塗布膜を１４０℃で９０秒加熱した。次いで塗布膜３３を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱、再度室温になるまで冷却して、室温にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光吸収異方性膜３３を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物３３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶化合物Ｐ１２　　　　　　　　　　　１０．２０質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．７１質量部
・上記二色性物質Ｄ３　　　　　　　　　　　　　　　　０．９２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　０．０６質量部
・上記界面改良剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　６１．６６質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　２６．４３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　続いて、光吸収異方性膜３３上に、下記バリア層形成用組成物３３を＃３０のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行うことで、光吸収異方性膜３３上にバリア層３３が形成された偏光素子３３を得た。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリア層形成用組成物３３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・化合物ＢＡ－１（下記）　　　　　　　　　　　　　　　　２９質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　　　１質量部
・エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔λ／４位相差フィルム１の作製〕
　＜液晶配向剤の調製＞
　下記組成の光学異方性層用塗布液を調製した。酢酸ブチルに対して、光学異方性層用塗布液を添加して、攪拌した後、孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度７．５重量％の液晶配向剤を調製した。なお、得られた液晶配向剤では、重合体Ａ－１および他の成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－３　　　　　　　　　　　　　４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４　　　　　　　　　　　　　４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１　　　　　　　　　　　　　１６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ－２　　　　　　　　　　　　　　６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型）　　　　　　　　０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ－１　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）　　　　　　２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製）　　　１．００質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　なお、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４はそれぞれ、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

　＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報実施例に記載のポリエステル化合物Ｂ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記の化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を得た。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

　＜λ/４位相差フィルム１の作製＞
　作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、配向膜３３の作製と同様に、配向膜形成用組成物１および光配向膜用塗布液３３を用いて、配向膜３３を形成した。次いで、配向膜３３上に、先に調製した液晶配向剤をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ/４位相差フィルム１を作製した。得られたλ/４位相差フィルム１の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

〔ポジティブＣプレート膜２の作製〕
　仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍＬ／ｍ^２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
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アルカリ溶液の組成
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・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．８質量部
・イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　６３．７質量部
・界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ）　　　　　　　　１．０質量部
・プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　１４．８質量部
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　上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
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配向膜形成用塗布液の組成
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・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）　　　２．４質量部
・イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　１．６質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
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　上記で作製した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記光学異方性膜用塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜２を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが－６０ｎｍであった。

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光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
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・下記液晶化合物Ｌ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記液晶化合物Ｌ－２　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・下記垂直配向剤Ｓ０１　　　　　　　　　　　　　　　　１．５質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　　　８質量部
・イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ製）　　　　　　　　　　　　３質量部
・カヤキュアＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）　　　　　　　　　１質量部
・下記化合物Ｂ０３　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１７０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
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　式（Ｂ０３）中、ａ：ｂ＝９０：１０（質量比）である。

〔円偏光板の作製〕
　λ／４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜２を転写し、セルロースアシレートフィルム２を除去した。次いで、λ／４位相差フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側を、粘着剤を介して偏光素子３３のバリア層３３側に貼り合わせて円偏光板３３を得た。

　実施例２０と同様の方法で、円偏光板３３の波長域毎の配向度を評価した。結果を下記第６表に示す。

［実施例３４～３５］
　液晶性組成物における高分子液晶化合物の種類を下記第６表に示すように変更した以外は、実施例３３と同様にして、偏光素子３４～３５、次いで円偏光板３４～３５を作製した。円偏光板の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

［実施例３６]
〔配向膜３６の作製〕
　上記光配向材料Ｅ－１の０．６７質量部に、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ－２１２の０．３３質量部、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および純水１５．８質量部を加えて得られた溶液を、０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで、光配向膜用塗布液３６を作製した。配向膜３３で用いたケン化処理を施したＴＧ４０ＵＬ上に設けられた上記配向膜形成用組成物１の塗布膜上に、得られた光配向膜用塗布液３６を塗布し、６０℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、配向膜３６を作製した。

　配向膜３６を用い、液晶性組成物における高分子液晶化合物の種類を下記第６表に示すように変更した以外は実施例３３と同様にして、偏光素子３６、次いで円偏光板３６を形成した。円偏光板３６の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

［実施例３７]
〔配向膜３７の作製〕
　＜重合体Ｃ－２の合成＞
　撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
　このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ－ＮＭＲ（Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
　次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｃ－２）を含む溶液を得た。この重合体Ｃ－２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｃ－２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

　＜配向層形成用組成物３７の調製＞
　以下の成分を混合して、配向層形成用組成物３７を調製した。
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・上記重合体Ｃ－２　　　　　　　　　　　　　　　　１０．６７質量部
・低分子化合物Ｒ－１　　　　　　　　　　　　　　　　５．１７質量部
・添加剤（Ｂ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５３質量部
・酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０７１．８５質量部
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添加剤（Ｂ－１）：サンアプロ社製ＴＡ－６０Ｂ（下記の構造式参照）

　配向膜３３で用いたケン化処理を施したＴＧ４０ＵＬ上に設けられた上記配向膜形成用組成物１の塗布膜上に、配向層形成用組成物３７をスピンコート法により塗布し、配向層形成用組成物３７が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。
　得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜３７を作製した。

　配向膜３７を用いた以外は実施例３４と同様にして、偏光素子３７、次いで円偏光板３７を形成した。円偏光板３７の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

［実施例３８］
〔配向膜３８の作製〕
　下記配向膜形成用組成物３８を＃１５のバーを用いてガラス上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物３８を８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で１時間加熱して、ガラス上に塗布膜を形成した。
　得られた塗布膜に偏光紫外線照射（１Ｊ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ）を１回施して、ガラス基材上に配向膜３８を作製した。

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配向膜形成用組成物３８の組成
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・ＳＥ－１３０（製品名、日産化学社製）　　　　　　　　２．０質量部
・Ｎ－メチルピロリドン　　　　　　　　　　　　　　　９８．０質量部
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　配向膜３８を用いること以外は実施例３４と同様にして、偏光素子３８、次いで円偏光板３８を形成した。円偏光板３８の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

［実施例３９］
　液晶性組成物における高分子液晶化合物の種類を下記第６表に示すように変更した以外は、実施例３３と同様にして、偏光素子３９、次いで円偏光板３９を作製した。円偏光板３９の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

［実施例４０］
　実施例３９の光異方性吸収膜上に、下記バリア層形成用組成物４０を＃１７のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃５分間乾燥を行うことで、光異方性吸収膜上にバリア層が形成された偏光素子４０を作製した。偏光素子４０を用いた以外は実施例３９と同様にして、円偏光板４０を形成した。円偏光板４０の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

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バリア層形成用組成物４０
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・変性ポリビニルアルコール（上記式（ＰＶＡ－１））　　　　７質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７２質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２１質量部
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［実施例４１～４２］
　液晶性組成物における二色性物質の量（質量部）を下記第６表に示すように変更した以外は、実施例３３と同様にして、偏光素子４１～４２、次いで円偏光板４１～４２を作製した。各円偏光板の配向度の評価を、実施例３３と同様の方法で行った。結果を下記第６表に示す。

　第６表に示すように、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ_１値と、メソゲン基のｌｏｇＰ_２値との差が４以上である繰り返し単位を含む液晶性組成物を用いれば、配向度の高い光吸収異方性膜（偏光素子）が得られることが示された（実施例）。

［実施例４３］
〔偏光素子４３の作製〕
　実施例３３の配向膜３３上に、下記液晶性組成物４３を＃４のバーを用いて塗布し、塗布膜を形成して、この塗布膜を１４０℃で９０秒加熱した。次いで塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱、再度室温になるまで冷却して、室温にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光吸収異方性膜４３を形成した。これ以外は、実施例３３と同様にして、偏光素子４３、次いで円偏光板４３を作製した。

　実施例２０と同様の方法で、円偏光板４３の波長域毎の配向度を評価した。結果を下記第７表に示す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物４３の組成
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・上記高分子液晶化合物Ｐ１３　　　　　　　　　　　１０．１８質量部
・上記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．７１質量部
・上記二色性物質Ｄ３　　　　　　　　　　　　　　　　０．９２質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　０．０６質量部
・上記界面改良剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　　０．０４質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　６１．６６質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　２６．４３質量部
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［実施例４４～４６］
　光吸収異方性膜の作製に用いる組成物を、下記第７表に示した組成物に変更した以外は実施例４３と同様にして、偏光素子４４～４６、次いで円偏光板４４～４６を作製した。
　実施例２０と同様の方法で、円偏光板４４～４６の波長域毎の配向度を評価した。結果を下記第７表に示す。

　第７表に示すように、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ_１値と、メソゲン基のｌｏｇＰ_２値との差が４以上である繰り返し単位を含む液晶性組成物を用いれば、配向度の高い光吸収異方性膜（偏光素子）が得られることが示された（実施例）。

Claims

　下記式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物と、二色性物質と、を含有し、
　下記式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、液晶性組成物。

　前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
　前記式（１）におけるＳＰ１が、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む、請求項１に記載の液晶性組成物。
　前記高分子液晶化合物が、さらに、下記式（２）で表される繰り返し単位を含み、
　下記式（２）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である、請求項１または２に記載の液晶性組成物。

　前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
　前記高分子液晶化合物が、さらに、下記式（３）で表される繰り返し単位を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶性組成物。

　前記式（３）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
　前記高分子液晶化合物が、前記式（１）で表される繰り返し単位を２種以上含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶性組成物。
　前記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載の液晶性組成物。
　前記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００未満である、請求項１～５のいずれか１項に記載の液晶性組成物。
　前記高分子液晶化合物が、下記式（４）で表される星型ポリマーである、請求項１～７のいずれか１項に記載の液晶性組成物。

　前記式（４）中、ｎ_Ａは３以上の整数を表し、複数のＰＩはそれぞれ独立に前記式（１）～（３）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表し、Ａは星型ポリマーの核となる原子団を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、前記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
　下記式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶化合物であって、
　下記式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、高分子液晶化合物。

　前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
　前記式（１）におけるＳＰ１が、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む、請求項９に記載の高分子液晶化合物。
　前記高分子液晶化合物が、さらに、下記式（２）で表される繰り返し単位を含み、
　下記式（２）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である、請求項９または１０に記載の高分子液晶化合物。

　前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
　前記高分子液晶化合物が、さらに、下記式（３）で表される繰り返し単位を含む、請求項９～１１のいずれか１項に記載の高分子液晶化合物。

　前記式（３）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
　前記高分子液晶化合物が、前記式（１）で表される繰り返し単位を２種以上含む、請求項９～１２のいずれか１項に記載の高分子液晶化合物。
　前記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００以上である、請求項９～１３のいずれか１項に記載の高分子液晶化合物。
　前記高分子液晶化合物の重量平均分子量が１００００未満である、請求項９～１３のいずれか１項に記載の高分子液晶化合物。
　前記高分子液晶化合物が、下記式（４）で表される星型ポリマーである、請求項９～１５のいずれか１項に記載の高分子液晶化合物。

　前記式（４）中、ｎ_Ａは３以上の整数を表し、複数のＰＩはそれぞれ独立に前記式（１）～（３）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表し、Ａは星型ポリマーの核となる原子団を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、前記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
　請求項１～８のいずれか１項に記載の液晶性組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
　基材と、前記基材上に設けられる請求項１７に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
　さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項１８に記載の積層体。
　請求項１７に記載の光吸収異方性膜、または、請求項１８もしくは請求項１９に記載の積層体を有する、画像表示装置。