JP7317939B2 - 偏光素子および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、偏光素子および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。

例えば、特許文献１には、「基板と、その上に、光配向膜及び光吸収異方性膜がこの順で順次積層された偏光フィルムであって、該光吸収異方性膜が、液晶性の非着色性低分子化合物の占める割合が３０質量％以下であり、且つネマチック液晶性を有するアゾ系二色性色素の少なくとも一種を含む二色性色素組成物の配向を固定してなり、Ｘ線回折測定において、配向軸垂直方向の周期構造に由来する回折ピークを示し、該回折ピークの少なくとも一つが表す周期が３．０～１５．０Åであり、且つ該回折ピークの強度が、配向軸に垂直な面内の膜法線方向±７０°の範囲で極大値を示さないことを特徴とする偏光フィルム。」が記載されている（［請求項１］）。

また、特許文献２には、「透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられた偏光子であり、該光配向層が、光反応性基を有するポリマーから形成されたものであり、該偏光層が、重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されたものである偏光素子。」が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１１－２１５３３６号公報 特開２０１３－０３３２４９号公報

本発明者らは、特許文献１および２に記載された偏光素子について検討したところ、光配向膜上に偏光層を形成する際に、使用する溶媒の種類によっては光配向膜の配向性が乱れ、偏光素子の偏光度が低くなる場合があり、また、光配向膜と偏光層との密着性が劣る場合があることを明らかした。

そこで、本発明は、偏光度が高く、偏光層と光配向膜との密着性に優れた偏光素子および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、特定の繰り返し単位を有する共重合体を用いて形成した光配向膜上に、液晶化合物および二色性物質を含有する特定の偏光層形成用組成物を用いて偏光層を形成することにより、偏光度が高く、偏光層と光配向膜との密着性に優れた偏光素子となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 支持体と、光配向膜と、偏光層とをこの順に有する偏光素子であって、
光配向膜が、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を含有する光配向膜形成用組成物を用いて形成される膜であり、
偏光層が、液晶化合物および二色性物質を含有し、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する偏光層形成用組成物を用いて形成される層である、偏光素子。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、
Ａは、下記式（ａ１）で表される光配向性基を表し、
Ｂは、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。

上記式（ａ１）中、
２つの＊は、いずれか一方がＬ^１との結合位置を表し、他方がＲ^７を表し、
Ｒ^３～Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。

上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）中、
＊は、Ｌ^２との結合位置を表し、
Ｒ^８は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、上記式（ＰＧ－２）、（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^８は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

［２］ 繰り返し単位Ｂが、繰り返し単位Ｂ１および繰り返し単位Ｂ２の２種の繰り返し単位からなり、
繰り返し単位Ｂ１が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－１）で表される重合性基を表す繰り返し単位であり、
繰り返し単位Ｂ２が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す繰り返し単位である、［１］に記載の偏光素子。
［３］ 共重合体の全質量に対する繰返し単位Ａの含有量ａ、繰返し単位Ｂ１の含有量ｂ１、および、繰返し単位Ｂ２の含有量ｂ２の各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ１≦４５、および、５０≦ｂ２≦７５を満たす、［２］に記載の共重合体。
［４］ 共重合体の重量平均分子量が、１００００～１０００００である、［１］～［３］のいずれかに記載の偏光素子。
［５］ 液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、［１］～［４］のいずれかに記載の偏光素子。
［６］ 液晶化合物が、側鎖型高分子液晶化合物である、［１］～［４］のいずれかに記載の偏光素子。
［７］ 側鎖型高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体である、［６］に記載の偏光素子。

上記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
［８］ 光配向膜形成用組成物が、更に、架橋剤を含有する、［１］～［７］のいずれかに記載の偏光素子。
［９］ ［１］～［８］のいずれかに記載の偏光素子を有する、画像表示装置。

本発明によれば、偏光度が高く、偏光層と光配向膜との密着性に優れた偏光素子および画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

［偏光素子］
本発明の偏光素子は、支持体と、光配向膜と、偏光層とをこの順に有する偏光素子である。
また、本発明の偏光素子においては、光配向膜が、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を含有する光配向膜形成用組成物を用いて形成される膜である。
更に、本発明の偏光素子においては、偏光層が、液晶化合物および二色性物質を含有し、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する偏光層形成用組成物を用いて形成される層である。

本発明においては、繰り返し単位Ａと繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を用いて形成した光配向膜上に、液晶化合物および二色性物質を含有し、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する偏光層形成用組成物を用いて偏光層を形成することにより、偏光度が高く、偏光層と光配向膜との密着性に優れた偏光素子となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、本発明の偏光素子は、光配向膜形成用組成物に含まれる共重合体が、後述する式（ａ１）で表される構造を側鎖に含む繰り返し単位Ａを有していることにより、偏光照射によって異性化反応や光二量化反応し、配向規制力が発現する。また、この繰り返し単位Ａが、後述する式（Ａ）で表される主鎖構造を有していることにより、液晶化合物および二色性色素を含有する塗工液（偏光層形成用組成物）を用いて偏光層を形成する際に、この塗工液により光配向膜が溶解してしまう弊害を防ぐことができる。更に、共重合体が、後述する式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される重合性基を側鎖に有する繰り返し単位Ｂを有していることにより、加熱や光照射によって重合反応し、塗工液（偏光層形成用組成物）により光配向膜が緩和してしまう弊害を防ぎ、偏光層と光配向膜との密着性を付与することができる。

〔支持体〕
本発明の偏光素子が有する支持体は特に限定されず、例えば、透明支持体が好適に用いられる。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が６０％以上であるこという。
透明支持体としては、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
これらのうち、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
また、支持体は、光配向膜を形成した後に、剥離可能な仮支持体であってもよい。

本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、１～１００μｍであるのが好ましく、５～５０μｍであるのがより好ましく、５～２０μｍであるのが更に好ましい。

〔光配向膜〕
本発明の偏光素子が有する光配向膜は、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を含有する光配向膜形成用組成物を用いて形成される膜である。
以下、光配向膜形成用組成物に含まれる共重合体および任意成分、ならびに、光配向膜形成用組成物を用いた光配向膜の形成方法について説明する。

＜共重合体＞
光配向膜形成用組成物に含まれる共重合体は、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂとを有する共重合体である。
なお、光配向膜形成用組成物における共重合体の含有量は特に限定されないが、光配向膜形成用組成物が後述する有機溶媒を含有する場合、有機溶媒１００質量部に対して０．１～５０質量部であることが好ましく、０．５～１０質量部であることがより好ましい。

（繰り返し単位Ａ）
共重合体が有する繰り返し単位Ａは、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位である。

上記式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子または置換基を表し、Ｌ^１は、２価の連結基を表し、Ａは、後述する式（ａ１）で表される光配向性基を表す。

次に、上記式（Ａ）中のＲ^１が表す、水素原子または置換基について説明する。
上記式（Ａ）中、Ｒ^１の一態様が示す置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、または、アミノ基であることが好ましい。

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。

炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。

炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。

炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。

炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。

炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２－ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。

アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ_２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。

次に、上記式（Ａ）中のＬ^１が表す、２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。

ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。

炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。

炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。

次に、上記式（Ａ）中のＡが表す、下記式（ａ１）で表される光配向性基について説明する。

上記式（ａ１）中、２つの＊は、いずれか一方がＬ^１との結合位置を表し、他方がＲ^７を表し、Ｒ^３～Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。

本発明においては、上記式（ａ１）で表される光配向性基は、下記式（ａ２）で表される光配向性基であることが好ましい。

上記式（ａ２）中、＊は、Ｌ^１との結合位置を表し、Ｒ^３～Ｒ^７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。

ここで、Ｒ^３～Ｒ^７の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（ａ３）で表される基であることが好ましい。
なお、下記式（ａ３）で表される基以外の置換基の具体例は、上記式（Ａ）中のＲ^１の一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。

ここで、上記式（ａ３）中、＊は、上記式（ａ２）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ^９は、１価の有機基を表す。

上記式（ａ３）中のＲ^９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（ａ３）中のＲ^９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。

本発明においては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（ａ１）中のＲ^３～Ｒ^６、または、上記式（ａ２）中のＲ^３～Ｒ^７のうち、少なくとも１つ（特に、Ｒ^７）が上述した置換基であることが好ましく、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、偏光照射した際に反応効率が向上する理由から、電子供与性の置換基であることがより好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、隣接する液晶層の液晶配向性が更に良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。

上記式（Ａ）表される繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１６０が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表す。

（繰り返し単位Ｂ）
共重合体が有する繰り返し単位Ｂは、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位である。

上記式（Ｂ）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を表す。なお、Ｒ^２の一態様が示す置換基としては、上記式（Ａ）中のＲ^１の一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｌ^２は、２価の連結基を表す。なお、Ｌ^２が表す２価の連結基としては、上記式（Ａ）中のＬ^１が表す２価の連結基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｂは、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。

上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）中、＊は、Ｌ^２との結合位置を表す。
また、Ｒ^８は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、上記式（ＰＧ－２）、（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^８は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

本発明においては、偏光度がより向上する理由から、上記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂが、繰り返し単位Ｂ１および繰り返し単位Ｂ２の２種の繰り返し単位からなり、繰り返し単位Ｂ１が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－１）で表される重合性基を表す繰り返し単位であり、繰り返し単位Ｂ２が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す繰り返し単位であることが好ましい。

上記繰り返し単位Ｂ１としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－２９が挙げられる。

上記繰り返し単位Ｂ２としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－３０～Ｂ－５２が挙げられる。

本発明においては、上記共重合体が、上記繰り返し単位Ａの含有量ａと、上記繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１１）を満たしていることが好ましく、下記式（１２）を満たしていることがより好ましく、下記式（１３）を満たしていることが更に好ましく、下記式（１４）を満たしていることが特に好ましい。
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．５ ・・・（１１）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．３ ・・・（１２）
０．０３ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１３）
０．０５ ≦ ａ／（ａ＋ｂ） ≦ ０．２ ・・・（１４）

また、本発明においては、上記共重合体が、上記繰り返し単位Ｂ１および上記繰り返し単位Ｂ２を有する場合、光配向膜を硬化しつつ、偏光層との密着性がより良好となる理由から、上述した繰り返し単位Ａの含有量ａと、上述した繰り返し単位Ｂ１の含有量ｂ１と、上述した繰り返し単位Ｂ２の含有量ｂ２とが、質量比で下記式（１５）を満たしていることが好ましく、下記式（１６）を満たしていることがより好ましい。
０．０５ ≦ ｂ１／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．７ ・・・（１５）
０．１０ ≦ ｂ１／（ａ＋ｂ１＋ｂ２） ≦ ０．５ ・・・（１６）

更に、本発明においては、偏光層と配向膜との密着性がより良好となる理由から、上記共重合体の全質量に対する繰返し単位Ａの含有量ａ、繰返し単位Ｂ１の含有量ｂ１、および、繰返し単位Ｂ２の含有量ｂ２の各質量％が、それぞれ、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ１≦４５、および、５０≦ｂ２≦７５であることが好ましく、７≦ａ≦２２、２３≦ｂ１≦３８、および、５５≦ｂ２≦７０であることがより好ましい。

（他の繰り返し単位）
什器共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。

上記共重合体の合成法は特に限定されず、例えば、上述した繰り返し単位Ａを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｂを形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。

上記共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、偏光度がより向上する理由から、１００００～５０００００が好ましく、１００００～１０００００がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

＜有機溶媒＞
光配向膜形成用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有していることが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

＜重合開始剤＞
光配向膜形成用組成物は、偏光層を形成する前の光配向膜に、加熱や光照射を施して重合反応を生起させることにより、偏光層を形成する際に使用する溶媒による光配向膜の配向性の乱れを抑制する観点から、重合開始剤を含有していることが好ましい。
重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。
熱重合開始剤としては、例えば、アゾ系化合物、過酸化物系化合物などが挙げられる。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、光配向膜形成用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．５～５質量％であることがより好ましい。

＜添加剤＞
光配向膜形成用組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、屈折率調整剤、弾性率調整剤、架橋剤、フィラー、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤などの添加剤が挙げられる。中でも配向能を低下させない観点から架橋剤を用いることが好ましく、架橋剤の有する架橋性基は、光配向膜形成用組成物に含まれる共重合体が有する重合性基と反応し得ることが好ましい。

（架橋剤）
架橋剤としては、重合性基を有する架橋剤が挙げられ、重合性基としては、上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基であることが好ましい。
架橋剤は１分子中に上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を複数有することも好ましく、１分子中に同一の上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を有していてもよいし、異なる上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を有していてもよい。
上記架橋剤としては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。

（１）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ－６１１、ＥＸ－６１２、ＥＸ－６１４、ＥＸ－６１４Ｂ、ＥＸ－６２２、ＥＸ－５１２、ＥＸ－５２１、ＥＸ－４１１、ＥＸ－４２１、ＥＸ－３１３、ＥＸ－３１４、ＥＸ－３２１、ＥＸ－２１１、ＥＸ－２１２、ＥＸ－８１０、ＥＸ－８１１、ＥＸ－８５０、ＥＸ－８５１、ＥＸ－８２１、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８３２、ＥＸ－８４１、ＥＸ－９１１、ＥＸ－９４１、ＥＸ－９２０、ＥＸ－９３１、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－１１１１、ＥＸ－１１１２、ＤＬＣ－２０１、ＤＬＣ－２０３、ＤＬＣ－２０４、ＤＬＣ－２０５、ＤＬＣ－２０６、ＤＬＣ－３０１、ＤＬＣ－４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４０１、ＰＢ３６００、ＰＢ４７００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ，セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１５２、１５４、６３０、１０３１Ｓ、１２５５ＨＸ３０、１５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０、ＹＬ６８１０，ＹＸ４０００、ＹＸ６９５４ＢＨ３０、ＹＸ７２００Ｂ３５、ＹＸ７５５３ＢＨ３０、ＹＬ６１２１ＨＡ、ＹＬ６６７７、ＹＬ６８１０（三菱ケミカル社製）、ＥＰＣＬＯＮ ８４０－ＳＳ、ＥＸＡ－１５１４、Ｎ－５４０、Ｎ－６９５、ＨＰ－８２０、ＨＰ－４０３２Ｄ、ＨＰ－４７００、ＨＰ－４７１０、ＨＰ－７２００、（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ－ＵＣ（日産化学社製）、ＫＲ－４７０（信越シリコーン社製）、ＥＰＯＣＨＡＬＩＣ ＴＨＩ－ＤＥ、ＤＥ－１０２，ＤＥ－１０３(ＪＸＴＧエネルギー社製)、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

（２）分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。

（３）ブロックイソシアネート化合物
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃～２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－トリメチレンジイソシアネート、１，４－テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９－ノナメチレンジイソシアネート、１，１０－デカメチレンジイソシアネート、１，４－シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’－ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、ｏ－キシレンジイソシアネート、ｍ－キシレンジイソシアネート、ｐ－キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン－１，３－ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン－１，４－ジメチレンジイソシアネート、１，５－ナフタレンジイソシアネート、ｐ－フェニレンジイソシアネート、３，３’－メチレンジトリレン－４，４’－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３－キシリレンジイソシアネート、水素化１，４－キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ－５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８２０ＮＳＵ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８４６Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ－６０ＰＸ、１７Ｂ－６０Ｐ、ＴＰＡ－Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、ＭＦ－Ｂ６０Ｂ、ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、ＭＦ－Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２－Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ－７０Ｄ、ＳＢＢ－７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。

光配向膜形成用組成物が架橋剤を含有する場合の含有量は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、光配向膜形成用組成物の全固形分に対して、１～９０質量部であることが好ましく、４～８０質量部であることがより好ましい。

上述した光配向膜形成用組成物を用いて形成される光配向膜の膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０～５０００ｎｍが好ましく、１０～３０００ｎｍがより好ましい。

＜光配向膜の形成方法＞
光配向膜は、上述した光配向膜形成用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、例えば、上述した光配向膜形成用組成物を上述した支持体上に塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程と、
第１塗布膜を加熱して有機溶媒を乾燥除去することにより、上述した支持体上に第１乾燥被膜を形成して、第１積層体を得る加熱工程と、
第１乾燥被膜に、偏光紫外線（ＵＶ）または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光ＵＶを照射することにより、第１乾燥被膜から光配向膜を形成して第２積層体を得る光照射工程により作製することができる。

＜塗布工程＞
塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。

＜加熱工程＞
加熱工程の温度は、第１塗布膜に含まれる有機溶媒を乾燥除去することができる温度であれば特に限定されないが、光配向膜形成用組成物が重合開始剤を含有している場合には、重合反応を生起させる観点から、１２０～１６０℃であることが好ましく、１３０～１５０℃であることがより好ましい。
また、加熱工程の時間は、第１塗布膜に含まれる有機溶媒を乾燥除去することができる温度であれば特に限定されないが、光配向膜形成用組成物が重合開始剤を含有している場合には、重合反応を十分に進行させる観点から、３０秒～５分であることが好ましく、１分～３分であることがより好ましい。

＜光照射工程＞
光照射工程において、第１乾燥被膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０～８０°であることが好ましい。

偏光または非偏光における波長としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、可視光線などが挙げられる。中でも、２５０ｎｍ～４５０ｎｍの近紫外線が特に好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。

偏光または非偏光の積算光量としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はなく、特に制限はないが、１～３００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、５～１００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１～３００ｍＷ／ｃｍ^２が好ましく、１～１００ｍＷ／ｃｍ^２がより好ましい。

〔偏光層〕
本発明の偏光素子が有する偏光層は、液晶化合物および二色性物質を含有し、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する偏光層形成用組成物を用いて形成される層である。
以下、偏光層形成用組成物に含まれる液晶化合物、二色性物質および任意成分、ならびに、偏光層形成用組成物を用いた偏光層の形成方法について説明する。

＜置換基Ｗ＞
液晶化合物の説明で用いられる置換基Ｗは、以下の基を表す。
置換基Ｗとしては、具体的には、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のシクロアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む。以下同様。）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ（ＯＨ）_２）、ホスファト基（－ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、スルファト基（－ＯＳＯ_３Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の［００２３］段落に記載されている。
また、置換基Ｗは、下記式（Ｗ１）で表される基であってもよい。

上記式（Ｗ１）中、ＬＷは、単結合または２価の連結基を表し、ＳＰＷは２価のスペーサー基を表し、Ｑは、後述する式（ＬＣ）中のＱ１またはＱ２で表される基と同様の基を表し、＊は、結合位置を表す。

ＬＷの一態様が表す２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ここで、ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（ここで、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、などが挙げられる。ＬＷは、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

ＳＰＷが表すスペーサー基としては、例えば、単結合、炭素数１～５０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキレン基、および、炭素数１～２０複素環基などが挙げられる。
ここで、上記アルキレン基および上記複素環基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ここで、ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（ここで、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、および、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい（以下、炭素原子を置換する基を「ＳＰ－Ｃ」とも略す。）。
また、上記アルキレン基および上記複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、－Ｚ^Ｈ、－ＯＨ、－ＯＺ^Ｈ、－ＣＯＯＨ、－Ｃ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ、－ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＯＺ^Ｈ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺ^ＨＺ^Ｈ’、－ＮＺ^ＨＣ（Ｏ）ＮＺ^Ｈ’ＯＺ^Ｈ’’、－ＳＨ、－ＳＺ^Ｈ、－Ｃ（Ｓ）Ｚ^Ｈ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺ^Ｈ、および、－ＳＣ（Ｏ）Ｚ^Ｈ、で置換されていてもよい（以下、水素原子を置換する基を「ＳＰ－Ｈ」とも略す。）。ここで、Ｚ^ＨおよびＺ^Ｈ’は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、または、－Ｌ－ＣＬを表す。なお、Ｌは単結合または連結基を表し、連結基の具体例は上述したＬＷおよびＳＰＷと同じである。また、ＣＬは架橋性基を表し、後述する式（ＬＣ）中のＱ１またはＱ２で表される基が挙げられ、後述する式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される基が好ましい。

＜液晶化合物＞
偏光層形成用組成物が含有する液晶化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶化合物が好ましい。
液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
低分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶化合物が挙げられる。
高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。

このような液晶化合物としては、下記式（ＬＣ）で表される液晶化合物またはその重合体であることが好ましい。

上記式（ＬＣ）中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ（ＯＨ）_２）、ホスファト基（－ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、スルファト基（－ＯＳＯ_３Ｈ）、または、下記式（Ｐ１）～（Ｐ－３０）で表される架橋性基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも１つは、下記式（Ｐ１）～（Ｐ－３０）で表される架橋性基であることが好ましい。

上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）中、Ｒ^Ｐは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキレン基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ（ＯＨ）_２）、ホスファト基（－ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、または、スルファト基（－ＯＳＯ_３Ｈ）を表し、複数のＲ^Ｐは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

架橋性基としては、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、上記式（Ｐ－１）で表されるビニル基、上記式（Ｐ－２）で表されるブタジエン基、上記式（Ｐ－４）で表される（メタ）アクリル基、上記式（Ｐ－５）で表される（メタ）アクリルアミド基、上記式（Ｐ－６）で表される酢酸ビニル基、上記式（Ｐ－７）で表されるフマル酸エステル基、上記式（Ｐ－８）で表されるスチリル基、上記式（Ｐ－９）で表されるビニルピロリドン基、上記式（Ｐ－１１）で表される無水マレイン酸、上記式（Ｐ－１２）で表されるマレイミド基が好ましい。
カチオン重合性基としては、上記式（Ｐ－１８）で表されるビニルエーテル基、上記式（Ｐ－１９）で表されるエポキシ基、上記式（Ｐ－２０）で表されるオキセタニル基が好ましい。

上記式（ＬＣ）において、Ｓ１およびＳ２は、２価のスペーサー基を表し、Ｓ１およびＳ２の好適態様は、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷと同じ構造が挙げられるため、その説明を省略する。

上記式（ＬＣ）中、ＭＧはメソゲン基を表す。
ＭＧが表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
ＭＧが表すメソゲン基は、環状構造を２～１０個含むのが好ましく、３～７個含むのがより好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基などが挙げられる。

ＭＧが表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点などから、下記式（ＭＧ－Ａ）または下記式（ＭＧ－Ｂ）で表される基が好ましく、式（ＭＧ－Ｂ）で表される基がより好ましい。

上記式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、上述した置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～１５員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、Ｓ１またはＳ２との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基、ナフチレン基が好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基としては、具体的には、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基としては、具体的には、例えば、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられ、炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、（ここで、Ｚは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、および、－ＳＯ_２－、これらの基を２つ以上組み合わせた基によって置換されていてもよい。

上記式（ＭＧ－Ａ）中、ａ１は２～１０の整数を表す。複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

上記式（ＭＧ－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基を表す。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、上記式（ＭＧ－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
上記式（ＭＧ－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２～１０の整数である場合、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、２以上であることがより好ましい。

上記式（ＭＧ－Ｂ）中、ＬＡ１は、単結合または２価の連結基を表す。
ＬＡ１の一態様が表す２価の連結基としては、上述したＬＷと同様であるので、その説明を省略する。

ＭＧの具体例としては、以下の構造が挙げられる。なお、以下の構造中、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基上の水素原子は、上述した置換基Ｗで置換されていてもよい。

上記式（ＬＣ）で表される液晶化合物が低分子液晶化合物の場合、メソゲン基ＭＧの環状構造の好ましい態様としては、シクロへキシレン基、シクロペンチレン基、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、ピリジン－ジイル基、ピリダジン－ジイル基、チオフェン－ジイル基、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、等が挙げられ、環状構造の個数は、２～１０個が好ましく、３～７個がさらに好ましい。
メソゲン環構造の側鎖Ｗの好ましい態様としては、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルカルボニルオキシ基、アミノ基、炭素数１～１０のアルキルアミノ基、アルキルアミノカルボニル基、スペーサー基（例えば、上述したＬＷ）を介した上記（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される架橋性基、などが挙げられ、架橋性基としては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましい。

スペーサー基Ｓ１およびＳ２の好ましい態様としては、上述したＬＷと同様のため、その説明を省略する。
スメクチック性を示す低分子液晶を用いる場合、スペーサー基の炭素数（炭素を「ＳＰ－Ｃ」で置き変えた場合はその原子数）は、炭素数６以上が好ましく、８以上がさらに好ましい。

上記式（ＬＣ）で表される液晶化合物が低分子液晶化合物の場合、複数の低分子液晶化合物を併用してもよく、２～６種を併用するのが好ましく、２～４種を併用することがさらに好ましい。低分子液晶化合物を併用することで、溶解性の向上や偏光子形成用組成物の相転移温度の調整をすることができる。

低分子液晶化合物として具体的には以下に示す（ＬＣ-１）～（ＬＣ－７７）が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明においては、上記液晶化合物として、重合性スメクチック液晶化合物を用いることが好ましい。
ここで、「重合性スメクチック液晶化合物」とは、重合性基を有し、かつスメクチック相の液晶状態を示す化合物である。
重合性スメクチック液晶化合物が示す液晶状態は、高次のスメクチック相であることが好ましい。ここでいう高次のスメクチック相とは、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相、および、スメクチックＬ相であり、中でも、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相、傾斜したスメクチックＦ相および傾斜したスメクチックＩ相が好ましく、スメクチックＡ相、メクチックＢ相がより好ましい。
このような重合性スメクチック液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－０３３２４９号公報の［００４３］～［００５５］段落に記載されたものが挙げられる。

また、本発明においては、上記液晶化合物は、偏光度がより向上する理由から、側鎖型高分子液晶化合物であることが好ましく、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を有する重合体であることがより好ましい。

上記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

ＰＣ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、上記式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^１４（ＯＲ^１５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^１４と同義であり、複数のＲ^１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

Ｌ１は、上述したＬＷと同様の連結基であり、好ましい態様としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）_２－、および、－ＮＲ^１６Ｒ^１７－などが挙げられる。式中、Ｒ^１６およびＲ^１７はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、上述した置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰＣ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
ＰＣ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－または－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１６－で表される基が好ましい。
ＰＣ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１が表すスペーサー基は、上記Ｓ１およびＳ２と同じ基を表し、配向度の観点から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＮＲ－、－Ｓ（Ｏ）_２－、を含んでいてもよい。ここで、Ｒは炭素数１～１０のアルキル基を表す。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であるがより好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。ｎ１は、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数がより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、－ＳＨ、カルボキシル基、ボロン酸基、－ＳＯ_３Ｈ、－ＰＯ_３Ｈ_２、－ＮＲ^１１Ｒ^１２（ここで、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数１～１０のアルキル基、シクロアルキル基、または、アリール基を表す。）、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、架橋性基含有基などが挙げられる。
上記架橋性基含有基としては、例えば、－Ｌ－ＣＬが挙げられる。なお、Ｌは単結合または連結基を表し、連結基の具体例は上述したＬＷおよびＳＰＷと同じである。また、ＣＬは架橋性基を表し、上述した式（ＬＣ）中のＱ１またはＱ２で表される基が挙げられ、上述した式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される基が好ましい。
また、Ｔ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
Ｔ１は、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

（ｌｏｇＰ値）
上記式（１）において、ＰＣ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_１」ともいう。）と、ＭＧ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ_１－ｌｏｇＰ_２｜）が４以上であることが好ましく、偏光子の配向度がより向上する観点から、４．２５以上がより好ましく、４．５以上が更に好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

上記ｌｏｇＰ_１は、上述したように、ＰＣ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「ＰＣ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、ＰＣ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、ＰＣ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない、具体的には、ｌｏｇＰ_１は、上記式（１）におけるＰ１～ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ_１の算出にあたって、ＰＣ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、ＰＣ１で表される基の部分に関しては、ＰＣ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、上記式（１）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰＣ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（ＰＣ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。ＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）－で表される基（Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、ＰＣ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、ＰＣ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、ＰＣ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。

ｌｏｇＰ_１は、上述したｌｏｇＰ_２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ_２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ_２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ_２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（１）におけるＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（１）におけるＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。

上記側鎖型高分子液晶化合物は、配向度を向上させる観点から、末端に電子供与性および／または電子吸引性を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
より具体的には、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位（２１）と、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位（２２）と、を含むことがより好ましい。このように、高分子絵液晶化合物が繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）を含む場合、上記繰り返し単位（２１）または上記繰り返し単位（２２）のいずれかのみを含む場合と比べて、これを用いて形成される偏光子の配向度が向上する。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
すなわち、繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）に発生する逆向きの双極子モーメントが、分子間相互作用をすることによって、メソゲン基の短軸方向への相互作用が強くなって、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなると考えられる。これにより、二色性物質の配向性も良好になるので、形成される光吸収異方性膜の配向度が高くなると推測される。
なお、上記繰り返し単位（２１）および（２２）は、上記式（１）で表される繰り返し単位であってもよい。

繰り返し単位（２１）は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有する。
上記電子吸引性基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０より大きい基である。電子吸引性基（σｐ値が０よりも大きい基）としては、後述の式（ＬＣＰ－２１）におけるＥＷＧで表される基が挙げられ、その具体例も同様である。
上記電子吸引性基のσｐ値は、０よりも大きく、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、０．３以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。上記電子吸引性基のσｐ値の上限値は、配向の均一性が優れる点から、１．２以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。

σｐ値とは、ハメットの置換基定数σｐ値（単に「σｐ値」とも略記する）であり、置換安息香酸の酸解離平衡定数における置換基の効果を数値で表したものであり、置換基の電子吸引性および電子供与性の強度を示すパラメータである。本明細書におけるハメットの置換基定数σｐ値は、置換基が安息香酸のパラ位に位置する場合の置換基定数σを意味する。
本明細書における各基のハメットの置換基定数σｐ値は、文献「Ｈａｎｓｃｈ ｅｔ ａｌ．， Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ， １９９１， Ｖｏｌ， ９１， Ｎｏ． ２， １６５－１９５」に記載された値を採用する。なお、上記文献にハメットの置換基定数σｐ値が示されていない基については、ソフトウェア「ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ（ＡＣＤ／Ｌａｂｓ ８．００ Ｒｅｌｅａｓｅ Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｖｅｒｓｉｏｎ：８．０８）」を用いて、安息香酸のｐＫａと、パラ位に置換基を有する安息香酸誘導体のｐＫａとの差に基づいて、ハメットの置換基定数σｐ値を算出できる。

繰り返し単位（２１）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有していれば、特に限定されないが、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、下記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

上記式（ＬＣＰ－２１）中、ＰＣ２１は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２１は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２１ＡおよびＳＰ２１Ｂはそれぞれ独立にスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２１はメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧを表し、ＥＷＧはσｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。

ＳＰ２１ＡおよびＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、上記式Ｓ１およびＳ２と同様の基を表し、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。

ＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、単結合、または、炭素数２～２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
これらの中でも、ＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、偏光子の配向度がより高くなる点から、単結合が好ましい。換言すれば、繰り返し単位２１は、式（ＬＣＰ－２１）における電子吸引性基であるＥＷＧが、式（ＬＣＰ－２１）におけるメソゲン基であるＭＧ２１に直結する構造を有するのが好ましい。このように、電子吸引性基がメソゲン基に直結していると、高分子液晶化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用がより効果的に働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、配向度がより高くなると考えられる。

ＥＷＧは、σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。σｐ値が０より大きい電子吸引性基としては、エステル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｅで表される基）、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＯＲ^Ｅ、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－Ｒ^Ｅ、－Ｏ－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－Ｒ^Ｅ、アシル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）Ｒ^Ｅで表される基）、アシルオキシ基（具体的には、＊－ＯＣ（Ｏ）Ｒ^Ｅで表される基）、イソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ（Ｏ））、＊－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^Ｆ）_２、ハロゲン原子、ならびに、これらの基で置換されたアルキル基（炭素数１～２０が好ましい。）が挙げられる。上記各基において、＊はＳＰ２１Ｂとの結合位置を表す。Ｒ^Ｅは、炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。Ｒ^Ｆはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。
上記基の中でも、ＥＷＧは、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｅで表される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、または、シアノ基、ニトロ基、が好ましい。

繰り返し単位（２１）の含有量は、偏光子の高い配向度を維持しつつ、高分子液晶化合物および二色性物質を均一に配向できる点から、高分子液晶化合物の全質量（１００質量％）に対して、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３５％以下が特に好ましい。
繰り返し単位（２１）の含有量の下限値は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。
本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（２１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２１）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、ＥＷＧに架橋性基を含まない繰り返し単位（２１）と、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位（２１）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。なお、架橋性基としては、ビニル基、上ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましい。
この場合、光吸収異方性膜の硬化性と配向度のバランスの点から、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位（２１）の含有量が、高分子液晶化合物の全質量に対して、１～３０質量％であることが好ましい。

以下において、繰り返し単位（２１）の一例を示すが、繰り返し単位（２１）は、以下の繰り返し単に限定されるものではない。

本発明者らは、繰り返し単位（２１）および繰り返し単位（２２）について、組成（含有割合）ならびに末端基の電子供与性および電子吸引性について鋭意検討した結果、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が強い場合（すなわち、σｐ値が大きい場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を低くすれば光吸収異方性膜の配向度がより高くなり、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が弱い場合（すなわち、σｐ値が０に近い場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を高くすれば光吸収異方性膜の配向度がより高くなることを見出した。
この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。すなわち、高分子液晶化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用が働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、光吸収異方性膜の配向度がより高くなると考えられる。
具体的には、繰り返し単位（２１）における上記電子吸引性基（式（ＬＣＰ－２１）においてはＥＷＧ）のσｐ値と、高分子液晶化合物中の繰り返し単位（２１）の含有割合（質量基準）と、の積は、０．０２０～０．１５０が好ましく、０．０５０～０．１３０がより好ましく、０．０５５～０．１２５が特に好ましい。上記積が上記範囲内であれば、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる。

繰り返し単位（２２）は、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２２）を有することで、高分子液晶化合物および二色性物質を均一に配向できる。
メソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＭＧで説明する通りであり、その具体例も同様である。
上記基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０以下の基である。上記基（σｐ値が０以下である基）としては、σｐ値が０である水素原子、および、σｐ値が０よりも小さい後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２で表される基（電子供与性基）が挙げられる。上記基のうち、σｐ値が０よりも小さい基（電子供与性基）の具体例は、後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２と同様である。
上記基のσｐ値は、０以下であり、配向の均一性がより優れる点から、０よりも小さいことが好ましく、－０．１以下がより好ましく、－０．２以下が特に好ましい。上記基のσｐ値の下限値は、－０．９以上が好ましく、－０．７以上がより好ましい。

繰り返し単位（２２）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下である基とを有していれば、特に限定されないが、液晶の配向の均一性がより高くなる点から、上記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（ＰＣＰ－２２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

上記式（ＬＣＰ－２２）中、ＰＣ２２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２２は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２２はスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２２はメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧを表し、Ｔ２２はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。

Ｔ２２は、σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。σｐ値が０より小さい電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、および、炭素数１～１０のアルキルアミノ基などが挙げられる。
Ｔ２２の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ２２おける「主鎖」とは、ＭＧ２２と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ２２の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ２２がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ２２がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

以下において、繰り返し単位（２２）の一例を示すが、繰り返し単位（２２）は、以下の繰り返し単に限定されるものではない。

繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）は、構造の一部が共通しているのが好ましい。繰り返し単位同士の構造が類似しているほど、液晶が均一に整列すると推察される。これにより、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる。
具体的には、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、式（ＬＣＰ－２１）のＳＰ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＳＰ２２とが同一構造であること、式（ＬＣＰ－２１）のＭＧ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＭＧ２２とが同一構造であること、および、式（ＬＣＰ－２１）のＬ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＬ２２とが同一構造であること、のうち、少なくとも１つを満たすことが好ましく、２つ以上を満たすことがより好ましく、全てを満たすことが特に好ましい。

繰り返し単位（２２）の含有量は、配向の均一性が優れる点から、高分子液晶化合物の全質量（１００質量％）に対して、５０質量％以上が好ましく、５５％以上がより好ましく、６０％以上が特に好ましい。
繰り返し単位（２２）の含有量の上限値は、配向度が向上する点から、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
繰り返し単位（２２）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２２）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

上記側鎖型高分子液晶化合物は、汎用溶媒に対する溶解性を向上させる観点から、メソゲンを含有しない繰り返し単位（３）を含むことができる。特に配向度の低下を抑えながら溶解性を向上させるためには、このメソゲンを含有しない繰り返し単位（３）として、分子量２８０以下の繰り返し単位であることが好ましい。このように、メソゲンを含有しない分子量２８０以下の繰り返し単位を含むことで配向度の低下を抑えながら溶解性を向上させられる理由としては以下のように推定している。
すなわち、高分子液晶がその分子鎖中にメソゲンを持たない繰り返し単位（３）を含むことで、高分子液晶化合物中に溶媒が入り込みやすくなるために溶解性は向上するが、非メソゲン性の繰り返し単位（３）は配向度を低下させると考えられる。しかしながら、繰り返し単位の分子量が小さいことで、上記メソゲン基を含む繰り返し単位（１）、繰り返し単位（２１）または繰り返し単位（２２）の配向が乱されにくく、配向度の低下を抑えられる、と推定される。

上記繰り返し単位（３）は、分子量２８０以下の繰り返し単位であることが好ましい。
繰り返し単位（３）の分子量とは、繰り返し単位（３）を得るために使用するモノマーの分子量を意味するのではなく、モノマーの重合によって高分子液晶化合物に組み込まれた状態における繰り返し単位（３）の分子量を意味する。
繰り返し単位（３）の分子量は、２８０以下であり、１８０以下が好ましく、１００以下がより好ましい。繰り返し単位（３）の分子量の下限値は、通常、４０以上であり、５０以上がより好ましい。繰り返し単位（３）の分子量が２８０以下であれば、高分子液晶化合物の溶解性に優れ、かつ、高い配向度の偏光子が得られる。
一方で、繰り返し単位（３）の分子量が２８０を超えると、上記繰り返し単位（ＬＣＰ－１）、繰り返し単位（２１）または繰り返し単位（２２）の部分の液晶配向を乱してしまい、配向度が低くなる。また、高分子液晶化合物中に溶媒が入り込みにくくなるので、高分子液晶化合物の溶解性が低下する。

繰り返し単位（３）の具体例としては、架橋性基（例えば、エチレン性不飽和基）を含まない繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－１）」ともいう。）、および、架橋性基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）が挙げられる。

（繰り返し単位（３－１））
繰り返し単位（３－１）の重合に使用されるモノマーの具体例としては、アクリル酸［７２．１］、α－アルキルアクリル酸類（例えば、メタクリル酸［８６．１］、イタコン酸［１３０．１］）、それらから誘導されるエステル類およびアミド類（例えば、Ｎ－ｉ－プロピルアクリルアミド［１１３．２］、Ｎ－ｎ－ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ－ｔ－ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド［９９．１］、Ｎ－メチルメタクリルアミド［９９．１］、アクリルアミド［７１．１］、メタクリルアミド［８５．１］、ジアセトンアクリルアミド［１６９．２］、アクリロイルモルホリン［１４１．２］、Ｎ－メチロールアクリルアミド［１０１．１］、Ｎ－メチロールメタクリルアミド［１１５．１］、メチルアクリレート［８６．０］、エチルアクリレート［１００．１］、ヒドロキシエチルアクリレート［１１６．１］、ｎ－プロピルアクリレート［１１４．１］、ｉ－プロピルアクリレート［１１４．２］、２－ヒドロキシプロピルアクリレート［１３０．１］、２－メチル－２－ニトロプロピルアクリレート［１７３．２］、ｎ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｉ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ－ペンチルアクリレート［１４２．２］、２－メトキシエチルアクリレート［１３０．１］、２－エトキシエチルアクリレート［１４４．２］、２－エトキシエトキシエチルアクリレート［１８８．２］、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート［１５４．１］、２，２－ジメチルブチルアクリレート［１５６．２］、３－メトキシブチルアクリレート［１５８．２］、エチルカルビトールアクリレート［１８８．２］、フェノキシエチルアクリレート［１９２．２］、ｎ－ペンチルアクリレート［１４２．２］、ｎ－ヘキシルアクリレート［１５６．２］、シクロヘキシルアクリレート［１５４．２］、シクロペンチルアクリレート［１４０．２］、ベンジルアクリレート［１６２．２］、ｎ－オクチルアクリレート［１８４．３］、２－エチルヘキシルアクリレート［１８４．３］、４－メチル－２－プロピルペンチルアクリレート［１９８．３］、メチルメタクリレート［１００．１］、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート［１６８．１］、ヒドロキシエチルメタクリレート［１３０．１］、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート［１４４．２］、ｎ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｉ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｓｅｃ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｎ－オクチルメタクリレート［１９８．３］、２－エチルヘキシルメタクリレート［１９８．３］、２－メトキシエチルメタクリレート［１４４．２］、２－エトキシエチルメタクリレート［１５８．２］、ベンジルメタクリレート［１７６．２］、２－ノルボルニルメチルメタクリレート［１９４．３］、５－ノルボルネン－２－イルメチルメタクリレート［１９４．３］、ジメチルアミノエチルメタクリレート［１５７．２］）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル［８６．１］）、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類（例えば、マレイン酸ジメチル［１４４．１］、フマル酸ジエチル［１７２．２］）、マレイミド類（例えば、Ｎ－フェニルマレイミド［１７３．２］）、マレイン酸［１１６．１］、フマル酸［１１６．１］、ｐ－スチレンスルホン酸［１８４．１］、アクリロニトリル［５３．１］、メタクリロニトリル［６７．１］、ジエン類（例えば、ブタジエン［５４．１］、シクロペンタジエン［６６．１］、イソプレン［６８．１］）、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレン［１０４．２］、ｐ－クロルスチレン［１３８．６］、ｔ－ブチルスチレン［１６０．３］、α－メチルスチレン［１１８．２］）、Ｎ－ビニルピロリドン［１１１．１］、Ｎ－ビニルオキサゾリドン［１１３．１］、Ｎ－ビニルサクシンイミド［１２５．１］、Ｎ－ビニルホルムアミド［７１．１］、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルホルムアミド［８５．１］、Ｎ－ビニルアセトアミド［８５．１］、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルアセトアミド［９９．１］、１－ビニルイミダゾール［９４．１］、４－ビニルピリジン［１０５．２］、ビニルスルホン酸［１０８．１］、ビニルスルホン酸ナトリウム［１３０．２］、アリルスルホン酸ナトリウム［１４４．１］、メタリルスルホン酸ナトリウム［１５８．２］、ビニリデンクロライド［９６．９］、ビニルアルキルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル［５８．１］）、エチレン［２８．０］、プロピレン［４２．１］、１－ブテン［５６．１］、ならびに、イソブテン［５６．１］が挙げられる。なお、［ ］内の数値は、モノマーの分子量を意味する。
上記モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記モノマーの中でも、アクリル酸、α－アルキルアクリル酸類、それらから誘導されるエステル類およびアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ならびに、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記以外のモノマーとしては、例えば、リサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５（１９８０年、７月）に記載の化合物を使用できる。

以下において、繰り返し単位（３－１）の具体例およびその分子量を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

（繰り返し単位（３－２））
繰り返し単位（３－２）において、架橋性基の具体例としては、上記Ｐ１～Ｐ３０で表される基が挙げられ、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、がより好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、重合が容易である点から、下記式（３）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

上記式（３）中、ＰＣ３２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（ＬＣＰ－１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ３２は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（ＬＣＰ－１）中のＬ１と同様の構造を表し、Ｐ３２は上記Ｐ１～Ｐ３０で表される基、を表す。

以下において、繰り返し単位（３－２）の具体例およびその分子量を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

繰り返し単位（３）の含有量は、高分子液晶化合物の全質量（１００質量％）に対して、１４質量％未満であることが好ましく、７質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。繰り返し単位（３）の含有量の下限値は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。繰り返し単位（３）の含有量が１４質量％未満であれば、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。繰り返し単位（３）の含有量が２質量％以上であれば、高分子液晶化合物の溶解性がより向上する。
繰り返し単位（３）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

上記側鎖型高分子液晶化合物は、密着性や面状均一性の観点を向上させる観点から、分子鎖の長い柔軟な構造（後述の式（４）のＳＰ４）をもつ繰り返し単位（４）を含むことができる。この理由については以下のように推定している。
すなわち、このような分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、高分子液晶化合物を構成する分子鎖同士の絡まりが生じやすくなり、偏光子の凝集破壊（具体的には、偏光子自体が破壊すること）が抑制される。その結果、偏光子と、下地層（例えば、基材または配向膜）との密着性が向上すると推測される。また、面状均一性の低下は、二色性物質と高分子液晶化合物との相溶性が低いために生じると考えられる。すなわち、二色性物質と高分子液晶化合物は相溶性が不十分であると、析出する二色性物質を核とする面状不良（配向欠陥）が発生すると考えられる。これに対して、高分子液晶化合物が分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、二色性物質の析出が抑制されて、面状均一性に優れた光吸収異方性膜が得られたと推測される。ここで、面状均一性に優れるとは、高分子液晶化合物を含む液晶組成物が下地層（例えば、基材または配向膜）上ではじかれて生じる配向欠陥が少ないことを意味する。

上記繰り返し単位（４）は、下記式（４）で表される繰り返し単位である。

上記式（４）中、ＰＣ４は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ４は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し（単結合が好ましい）、Ｔ４は末端基を表し、より具体的には上記式（１）中のＴ１を表す。

式（４）中、ＳＰ４は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表す。ただし、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－は、上述した「ＳＰ－Ｃ」より置き換えられていてもよく、特に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ^２２）＝Ｃ（Ｒ^２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ^２４）（Ｒ^２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ^２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^２７）－、－Ｃ（Ｒ^２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）_２－からなる群より選択される少なくとも一種の基で置き換えられていることが好ましい。ただし、Ｒ^２１～Ｒ^２８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－に含まれる水素原子は、上述した「ＳＰ－Ｈ」により置き換えられていてもよい。

式（４）中、Ｔ４は、の具体例および好適態様は、式（１）のＴ１と同様であるので、その説明を省略する。

ＰＣ４の具体例および好適態様は、式（１）のＰＣ１と同様であるので、その説明を省略する。

Ｌ４が表す置換基を有していてもよい２価の脂環式基の具体例としては、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の脂環式基と同様であるので、その説明を省略する。また、置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、アシルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、スルホ基、アルキルスルフィニル基またはアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｌ４が表す置換基を有していてもよい２価の芳香族基としては、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族炭化水素基と同様であるので、その説明を省略する。また、２価の芳香族複素環基の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）におけるＡ１で説明した２価の芳香族複素環基と同様であるので、その説明を省略する。また、置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、アシルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアミノ基、スルホ基、アルキルスルフィニル基またはアルコキシカルボニル基が好ましい。
Ｌ４としては、単結合が好ましい。

ＳＰ４は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表し、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－は全述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられていてもよく、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－に含まれる水素原子は上述した「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。
ＳＰ４の主鎖の原子数は、１０以上であり、密着性および面状均一性の少なくとも一方がより優れた光吸収異方性膜が得られる点から、１５以上が好ましく、１９以上がより好ましい。また、ＳＰ２の主鎖の原子数の上限は、配向度により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、７０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、５０以下が特に好ましい。
ここで、ＳＰ４における「主鎖」とは、Ｌ４とＴ４とを直接連結するために必要な部分構造を意味し、「主鎖の原子数」とは、上記部分構造を構成する原子の個数を意味する。換言すれば、ＳＰ４における「主鎖」は、Ｌ４とＴ４を連結する原子の数が最短になる部分構造である。例えば、ＳＰ４が３，７－ジメチルデカニル基である場合の主鎖の原子数は１０であり、ＳＰ４が４，６－ジメチルドデカニル基の場合の主鎖の原子数は１２である。また、下記式（４－１）においては、点線の四角形で表す枠内がＳＰ４に相当し、ＳＰ４の主鎖の原子数（点線の丸で囲った原子の合計数に相当）は１１である。

ＳＰ４が表すアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
ＳＰ４が表すアルキレン基の炭素数は、配向度により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、８～８０が好ましく、１５～８０が好ましく、２５～７０がより好ましく、２５～６０が特に好ましい。

ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－は、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、上述した「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられているのが好ましい。
また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－が複数ある場合、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、複数の－ＣＨ_２－の一部のみが上述した「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられていることがより好ましい。

「ＳＰ－Ｃ」のうち、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ^２２）＝Ｃ（Ｒ^２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ^２４）（Ｒ^２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ^２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^２７）－、－Ｃ（Ｒ^２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）_２－、が好ましく、密着性および面状均一性により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－Ｓ（＝Ｏ）_２－からなる群より選択される少なくとも一種の基がさらに好ましく、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^２１）－および－Ｃ（＝Ｏ）－からなる群より選択される少なくとも１種の基が特に好ましい。
特に、ＳＰ４は、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－が－Ｏ－によって置き換えられたオキシアルキレン構造、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－ＣＨ_２－が－Ｏ－および－Ｃ（＝Ｏ）－によって置き換えられたエステル構造、ならびに、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－ＮＨ－によって置き換えられたウレタン結合からなる群より選択される少なくとも１つを含む基であるのが好ましい。

ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ_２－に含まれる水素原子は、上述した「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。この場合、－ＣＨ_２－に含まれる水素原子の１個以上が「ＳＰ－Ｈ」に置き換えられていればよい。すなわち、－ＣＨ_２－に含まれる水素原子の１個のみが「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよいし、－ＣＨ_２－に含まれる水素原子の全て（２個）が「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。
「ＳＰ－Ｈ」のうち、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基、炭素数１～１０ハロゲン化アルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることが好ましく、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基がさらに好ましい。

Ｔ４は、上述したように、Ｔ１と同様の末端基を表し、水素原子、メチル基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいフェニル基、または、－Ｌ－ＣＬを表す。なお、Ｌは単結合または連結基を表し、連結基の具体例は上述したＬＷおよびＳＰＷと同じである。また、ＣＬは架橋性基を表し、上述した式（ＬＣ）中のＱ１またはＱ２で表される基が挙げられ、上述した式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される基が好ましく、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましい。
エポキシ基は、エポキシシクロアルキル基であってもよく、エポキシシクロアルキル基におけるシクロアルキル基部分の炭素数は、３～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、６（すなわち、エポキシシクロアルキル基がエポキシシクロヘキシル基である場合）が特に好ましい。
オキセタニル基の置換基としては、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、炭素１～５のアルキル基が好ましい。オキセタニル基の置換基としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよいが、直鎖状であることが好ましい。
フェニル基の置換基としては、ボロン酸基、スルホン酸基、ビニル基、アミノ基が挙げられ、ボロン酸基が好ましい。

繰り返し単位（４）の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、ｎ１は２以上の整数を表し、ｎ２は１以上の整数を表す。

繰り返し単位（４）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、２～２０質量％が好ましく、３～１８質量％がより好ましい。繰り返し単位（４）の含有量が２質量％以上であれば、密着性により優れた光吸収異方性膜が得られる。また、繰り返し単位（４）の含有量が２０質量％以下であれば、面状均一性により優れた光吸収異方性膜が得られる。
繰り返し単位（４）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（４）が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位（４）の含有量は、繰り返し単位（４）の含有量の合計を意味する。

上記側鎖型高分子液晶化合物は、面状均一性の観点から、多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を含むことができる。特に配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させるためには、この多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を１０質量％以下含むことが好ましい。このように、繰り返し単位（５）を１０質量％以下含むことで配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させられる理由としては以下のように推定している。
繰り返し単位（５）は、多官能モノマーを重合して、高分子液晶化合物に導入される単位である。そのため、高分子液晶化合物には、繰り返し単位（５）によって３次元架橋構造を形成した高分子量体が含まれていると考えられる。ここで、繰り返し単位（５）の含有量は少ないため、繰り返し単位（５）を含む高分子量体の含有率はわずかであると考えられる。
このように３次元架橋構造を形成した高分子量体が僅かに存在することで、液晶組成物のはじきが抑制されて、面状均一性に優れた光吸収異方性膜が得られたと推測される。
また、高分子量体の含有量が僅かであるため、配向度の低下を抑えられるという効果が維持できたと推測される。

上記多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）は、下記式（５）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

上記式（５）中、ＰＣ５ＡおよびＰＣ５Ｂは繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ５ＡおよびＬ５Ｂは単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ５ＡおよびＳＰ５Ｂはスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂはメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧを表し、ａおよびｂは０または１の整数を表す。

ＰＣ５ＡおよびＰＣ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
Ｌ５ＡおよびＬ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ＳＰ５ＡおよびＳＰ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ここで、上記式（５）における同一の基とは、各基が結合する向きを問わずに化学構造が同一であるという意味であり、例えば、ＳＰ５Ａが＊－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－＊＊（＊はＬ５Ａとの結合位置を表し、＊＊はＭＧ５Ａとの結合位置を表す。）であり、ＳＰ５Ｂが＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－＊＊（＊はＭＧ５Ｂとの結合位置を表し、＊＊はＬ５Ｂとの結合位置を表す。）である場合も、同一の基である。

ａおよびｂはそれぞれ独立に、０または１の整数であり、偏光子の配向度がより向上する点から、１であるのが好ましい。
ａおよびｂは、同一であっても、異なっていてもよいが、偏光子の配向度がより向上する点から、いずれも１であるのが好ましい。
ａおよびｂの合計は、偏光子の配向度がより向上する点から、１または２であるのが好ましく（すなわち、式（５）で表される繰り返し単位がメソゲン基を有すること）、２であるのがより好ましい。

－（ＭＧ５Ａ）_ａ－（ＭＧ５Ｂ）_ｂ－で表される部分構造は、偏光子の配向度がより向上する点から、環状構造を有するのが好ましい。この場合、偏光子の配向度がより向上する点から、－（ＭＧ５Ａ２）_ａ－（ＭＧ５Ｂ）_ｂ－で表される部分構造における環状構造の個数は、２個以上が好ましく、２～８個がより好ましく、２～６個がさらに好ましく、２～４個が特に好ましく、４個が最も好ましい。
ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂが表すメソゲン基はそれぞれ独立に、偏光子の配向度がより向上する点から、環状構造を１個以上含むのが好ましく、２～４個含むのが好ましく、２～３個含むのがより好ましく、２個含むのが特に好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基が挙げられ、これらの中でも芳香族炭化水素基が好ましい。
ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、偏光子の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。

ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂが表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点から、上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧであることが好ましい。

特に、繰り返し単位（５）は、ＰＣ５ＡとＰＣ５Ｂが同一の基であり、Ｌ５ＡとＬ５Ｂがいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ５ＡとＳＰ５Ｂがいずれも単結合または同一の基であり、ＭＧ５ＡとＭＧ５Ｂが同一の基であるのが好ましい。これにより、偏光子の配向度がより向上する。

繰り返し単位（５）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位の含有量（１００質量％）に対して、１０質量％以下であることが好ましく、０．００１～５質量％がより好ましく、０．０５～３質量％が更に好ましい。
繰り返し単位（５）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

本発明においては、上記高分子液晶化合物は、星型ポリマーであってもよい。本発明における星型ポリマーとは、核を起点として延びるポリマー鎖を３つ以上有するポリマーを意味し、具体的には、下記式（６）で表される。
高分子液晶化合物として式（６）で表される星型ポリマーは、高溶解性（溶媒に対する溶解性が優れること）でありながら、配向度の高い光吸収異方膜を形成できる。

上記式（６）中、ｎ_Ａは、３以上の整数を表し、４以上の整数が好ましい。ｎ_Ａの上限値は、これに限定されないが、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
複数のＰＩはそれぞれ独立に、上記式（１）、（２１）、（２２）、（３）、（４）、（５）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、上記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
Ａは、星型ポリマーの核となる原子団を表す。Ａの具体例としては、特開２０１１－０７４２８０号公報の[００５２]～[００５８]段落、特開２０１２－１８９８４７号公報の[００１７]～[００２１]段落、特開２０１３－０３１９８６号公報の[００１２]～[００２４]段落、特開２０１４－１０４６３１号公報の[０１１８]～[０１４２]段落等に記載の多官能チオール化合物のチオール基から水素原子を取り除いた構造が挙げられる。この場合、ＡとＰＩは、スルフィド結合によって結合される。

Ａの由来となる上記多官能チオール化合物のチオール基の数は、３つ以上が好ましく、４以上がより好ましい。多官能チオール化合物のチオール基の数の上限値は、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
多官能チオール化合物の具体例を以下に示す。

高分子液晶化合物は、配向度を向上させる観点から、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子であってもよい。

（サーモトロピック液晶）
サーモトロピック液晶とは、温度変化によって液晶相への転移を示す液晶である。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃～４００℃であることがより好ましい。

（結晶性高分子）
結晶性高分子とは、温度変化によって結晶層への転移を示す高分子である。結晶性高分子は結晶層への転移の他にガラス転移を示すものであってもよい。

なお、高分子液晶化合物の結晶性の有無は以下のように評価する。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットする。そして、高分子液晶化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットする。サンプルの状態を観察しながら、高分子液晶化合物が液晶性を示す温度までホットステージの温度を上げ、高分子液晶化合物を液晶状態にする。高分子液晶化合物が液晶状態になった後、ホットステージの温度を徐々に降下させながら液晶相転移の挙動を観察し、液晶相転移の温度を記録する。なお、高分子液晶化合物が複数の液晶相（例えばネマチック相とスメクチック相）を示す場合、その転移温度も全て記録する。
次に、高分子液晶化合物のサンプル約５ｍｇをアルミパンに入れて蓋をし、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にセットする（リファレンスとして空のアルミパンを使用）。上記で測定した高分子液晶化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、その後、温度を１分保持した。その後、１０℃／分の速度で降温させながら、熱量測定を行う。得られた熱量のスペクトルから発熱ピークを確認する。
その結果、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測された場合は、その発熱ピークが結晶化によるピークであり、高分子液晶化合物は結晶性を有すると言える。
一方、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測されなかった場合は、高分子液晶化合物は結晶性を有さないと言える。

（分子量）
高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

高分子液晶化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０～４００℃であることが好ましい。

（含有量）
液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物における固形分中の８～９９質量％となる量であることが好ましく、８～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「偏光層形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。

〔二色性物質〕
偏光層形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる偏光層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。

（含有量）
二色性物質の含有量は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。

本発明においては、上述した液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有しているが、偏光層と光配向膜との密着性がより良好となる理由から、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が有する重合性基と、上述した共重合体が有する重合性基とが同一種類であることがより好ましい。

〔重合開始剤〕
偏光層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
また、本発明においては、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であることも好ましく、その具体例としては、国際公開第２０１７／１７０４４３号の［００４９］～［００５２］段落に記載された開始剤が挙げられる。

偏光層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、偏光層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光層の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光層の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

〔有機溶媒〕
偏光層形成用組成物は、作業性等の観点から、有機溶媒を含むことが好ましい。
有機溶媒としては、上述した光配向膜形成用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

偏光層形成用組成物が有機溶媒を含有する場合、有機溶媒の含有量は、偏光層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜偏光層の形成方法＞
偏光層の形成方法は特に限定されず、上述した偏光層形成用組成物を上述した光配向膜上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶成分とは、上述した液晶化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、偏光層形成用組成物を光配向膜上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した有機溶媒を含有する偏光層形成用組成物を用いたり、偏光層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向膜上に偏光層形成用組成物を塗布することが容易になる。
偏光層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させる工程である。これにより、偏光層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、偏光層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、偏光層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
偏光層の形成方法は、上記配向工程後に、偏光層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、偏光層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

偏光層の厚さは、特に限定されないが、フレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の偏光素子を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の偏光素子と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光素子を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光素子を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光素子と、λ／４機能を有する板（以下、「λ／４板」ともいう。）と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。
ここで、「λ／４機能を有する板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板をいい、例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
＜光配向膜ＰＡ１の形成＞
下記の光配向膜形成用組成物ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に支持体であるＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）上に塗布し、第１塗布膜を形成した。
次いで、支持体上の第１塗布膜を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、支持体上に第１乾燥被膜を形成した。
次いで、第１乾燥被膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向膜ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。

────────────────────────────────
（光配向膜形成用組成物ＰＡ１）
────────────────────────────────
・下記共重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
────────────────────────────────

共重合体ＰＡ－１（重量平均分子量：３５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

酸発生剤ＰＡＧ－１

酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

＜偏光層Ｐ１の形成＞
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記の偏光層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光層Ｐ１を形成し、実施例１の偏光素子を作製した。
偏光層Ｐ１の膜厚は１．５μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
（偏光層形成用組成物Ｐ１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ－１ ０．２５質量部
・下記アゾ色素Ｍ－１ ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ－１ ０．６５質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ－１ ３．５９質量部
・下記液晶化合物Ｌ－１ ０．１２質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

アゾ色素Ｙ－１

アゾ色素Ｍ－１

アゾ色素Ｃ－１

高分子液晶化合物Ｐ－１（重量平均分子量：１８０００）

液晶化合物Ｌ－１

界面改良剤Ｆ－１

［実施例２～１０］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡ－２～ＰＡ－１０に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡ２～ＰＡ１０を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡ２～ＰＡ１０を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２～１０の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。

共重合体ＰＡ－２（重量平均分子量：２４０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－３（重量平均分子量：１５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－４（重量平均分子量：４５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－５（重量平均分子量：３５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－６（重量平均分子量：１２００００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－７（重量平均分子量：７０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－８（重量平均分子量：３２０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－９（重量平均分子量：４１０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－１０（重量平均分子量：３７０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［実施例１１］
＜偏光層Ｐ１１の形成＞
下記の偏光層形成用組成物Ｐ１１を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
次いで、実施例１で得られた光配向膜ＰＡ１上に、ろ過後の偏光層形成用組成物Ｐ１１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１１を１２０℃で６０秒間加熱し、塗布層Ｐ６を室温（２３℃）になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光層Ｐ１１を作製した。
偏光層Ｐ１１の膜厚は３．８μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
（偏光層形成用組成物Ｐ１１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ－３ ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｍ－３ ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｃ－４ ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｐ－３ ７５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

アゾ色素Ｍ－３

アゾ色素Ｙ－３

アゾ色素Ｃ－４

液晶化合物Ｐ－３（下記化合物Ａ／下記化合物Ｂ＝７５／２５で混合）

化合物Ａ

化合物Ｂ

［比較例１］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－１に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ１を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡＡ１を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例１の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。

共重合体ＰＡＡ－１（重量平均分子量：３６０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［比較例２］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－２に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ２を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡＡ２を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例２の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。

共重合体ＰＡＡ－２（重量平均分子量：２８０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［比較例３］
＜光配向膜ＰＡＡ３の形成＞
特開２００７－２５２０２号公報に記載された下記例示化合物Ｐ－１０のＴＨＦ溶液（１質量％）を、ワイヤーバーで連続的にＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を室温で乾燥し、続いて、塗膜に対して、超高圧水銀ランプを用いて、紫外線用偏光フィルタを通して偏光紫外線照射することで、光配向膜ＰＡＡ３を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。

例示化合物Ｐ－１０（重量平均分子量：４００００）

＜液晶層ＰＰ３の形成＞
得られた光配向膜ＰＡＡ３上に、特開２００７－２５２０２号公報の実施例１に記載された方法に準じて、重合性液晶ＵＣＬ－００１－Ｋ１（ＤＩＣ社製）を塗布し配向させた後、無偏光紫外線を照射することにより重合して液晶層ＰＰ３を形成した。

［比較例４］
＜光配向膜ＰＡＡ４の形成＞
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－４に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ４を形成した。

共重合体ＰＡＡ－４（重量平均分子量：３２０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

＜液晶層ＰＰ４の形成＞
得られた光配向膜ＰＡＡ４上に、比較例３の液晶層ＰＰ３と同様の方法にて、液晶層ＰＰ４を形成し、比較例４の偏光素子を作製した。

［比較例５］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－５に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ５を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡＡ５を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例５の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。
なお、下記共重合体ＰＡＡ－５は、国際公開第２０１８／１８６５００号に記載された方法に従って合成した。

共重合体ＰＡＡ－５（重量平均分子量：３６０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［評価］
＜偏光度＞
作製した偏光素子（以下、本段落において「偏光膜Ｂ」と略します。）について、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて、視感度補正した偏光度を算出した。結果を下記表１に示す。
ここで、「視感度補正した偏光度」とは、光源と、直線偏光子と、偏光膜Ｂとをこの順に設置し、支持体側から入射した３８０～７８０ｎｍの波長域における透過率を測定し、下記式で各波長の偏光度を算出し、視感度補正係数を乗じた値の平均値をいう。
偏光度Ｐ＝√（（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）
Ｔｐ＝（Ｔｙ＾２＋Ｔｘ＾２）／２
Ｔｃ＝Ｔｙ＊Ｔｘ
Ｔx：入射偏光と偏光膜Ｂがクロスニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）
Ｔy：入射偏光と偏光膜Ｂがパラニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）

＜密着性＞
作製した偏光素子を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、偏光素子の偏光層にテープを貼りつけて剥離した。
偏光層剥離面を観察し、以下の基準に沿って評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：剥離無し
Ｂ：剥離残りが観察されるが、面積で５％以下
Ｃ：剥離残りが観察され、面積で５％以上

表１に示す結果から、光配向膜の形成に用いる重合体として、シンナメート基で表される光配向性基を側鎖に有するホモポリマーを用いた場合、偏光層形成用組成物に含まれる液晶成分が配向せず、偏光度が測定できないことが分かり、また、偏光層と光配向膜との密着性も劣ることが分かった（比較例１）。
また、光配向膜の形成に用いる重合体として、アゾ基を含む繰り返し単位と、重合性基を含む繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を用いた場合、偏光層と光配向膜との密着性は良好であったが、偏光度が低くなることが分かった（比較例２）。
また、光配向膜の形成に用いる重合体として、シンナメート基で表される光配向性基を側鎖に有するホモポリマーを用いた場合において、光配向膜上に、偏光層ではなく、二色性物質を含まない液晶層を形成した場合、通常のネマチック液晶と同等の配向性を有しているが、二色性物質を含まないため偏光度は測定できず、また、偏光層と光配向膜との密着性も劣ることが分かった（比較例３）。
また、光配向膜の形成に用いる重合体として、繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂを有する共重合体を用いた場合であっても、光配向膜上に、偏光層ではなく、二色性物質を含まない液晶層を形成した場合には、液晶成分が配向せず、偏光度が測定できないことが分かった（比較例４）。
また、主鎖構造がシロキサン骨格である共重合体を光配向膜に適用した場合では、偏光度が低くなり、偏光層と光配向膜との密着性も劣ることが分かった（比較例５）。これは、二色性物質は立体障害の小さい剛直な分子であるため有機溶剤に対する溶解性が低く、塗布溶剤には溶解力の高い有機溶媒の使用が必須となるため、光配向膜が、偏光層の形成時に、有機溶媒で侵されることに起因している。

これに対し、繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂを有する共重合体を用いて光配向膜を形成し、その上に偏光層を形成した場合、偏光度が高くなり、また、偏光層と光配向膜との密着性も良好となることが分かった（実施例１～１１）。
特に、実施例１～５を対比すると、繰り返し単位Ａ、繰り返し単位Ｂ１および繰り返し単位Ｂ２を有する３元系の共重合体を用いると、偏光度がより高くなることが分かった。
また、実施例１～４と実施例６～７とを対比すると、光配向膜の形成に用いる共重合体の重量平均分子量が１００００～１０００００であると、偏光度がより高くなることが分かった。
更に、実施例１と実施例１０とを対比すると、光配向膜の形成に用いる共重合体の全質量に対する繰返し単位Ａの含有量ａ、繰返し単位Ｂ１の含有量ｂ１、および、繰返し単位Ｂ２の含有量ｂ２の各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ１≦４５、および、５０≦ｂ２≦７５を満たすと、密着性がより良好となることが分かった。

［実施例１２］
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
以下のとおり、セルロースアシレートフィルム１を作製した。

＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｆ

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

〔積層体Ａの作製〕
以下のとおり、上記セルロースアシレートフィルム１と光配向膜ＰＡ１と液晶層Ｐ１と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１とをこの順に隣接して備える積層体Ａを作製した。

＜光配向膜付きＴＡＣフィルムの作製＞
後述する配向膜形成用塗布液ＰＡ１２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１２を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向膜ＰＡ１２の厚みｄは１．０μｍであった。光配向膜ＰＡ１２の弾性率Ｅは４．７ＧＰａであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ１２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体ＰＡ－１ ６５．２１質量部
・デナコールＥＸ８２１（ナガセケムテックス社製） ２６．２５質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ（Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン） ０．５５質量部
・キシレン １１４２．９２質量部
・メチルイソブチルケトン １２６．９９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜偏光層Ｐ１の形成＞
得られた光配向膜付きＴＡＣフィルムの光配向膜ＰＡ１２上に、実施例１と同様の偏光層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、実施例１と同様の方法で、偏光層Ｐ１を形成した。

＜硬化層Ｎ１の形成＞
形成された上記偏光層Ｐ１上に、下記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、偏光層Ｐ１上に硬化層Ｎ１を作製した。
硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層形成用組成物Ｎ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面改良剤Ｆ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

光重合開始剤Ｉ－１

界面改良剤Ｆ－３

＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
形成された上記硬化層Ｎ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｎ１上に厚み１．１μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜（酸素遮断層Ｂ１）を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇｃｕｒｅ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

このようにして、セルロースアシレートフィルム１と光配向膜ＰＡ１２と偏光層Ｐ１と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１とをこの順に隣接して備える積層体Ａを得た。

〔ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の作製〕
後述する配向膜形成用塗布液ＰＡＡＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上述したセルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍの厚みの光配向膜ＰＡＡＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。

後述する組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて上記光配向膜ＰＡＡＡ１上に塗布した。光配向膜ＰＡＡＡ１上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。

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（配向膜形成用塗布液ＰＡＡＡ１）
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・下記重合体ＰＡＡＡ１ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
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重合体ＰＡＡＡ１

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（組成物Ａ－１）
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・下記重合性液晶性化合物Ｌ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
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重合性液晶性化合物Ｌ－１（ｔＢｕはターシャリーブチル基を表す）

重合性液晶性化合物Ｌ－２

重合性液晶性化合物Ｌ－３

重合性液晶性化合物Ｌ－４（Ｍｅはメチル基を表す）

重合開始剤ＰＩ－１

レベリング剤Ｔ－１

〔ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の作製〕
仮支持体として、上述したセルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１を作製した。

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（アルカリ溶液）
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・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

下記の組成の配向膜形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜を形成した。

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（配向膜形成用塗布液３）
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・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向膜上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

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（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
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・下記液晶性化合物Ｌ－１１ ８０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１２ ２０質量部
・下記垂直配向性液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔粘着剤Ｎ１、Ｎ２の作製〕
次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体（Ａ１）を得た。

次に得られたアクリレート系重合体（Ａ１）を用いて、以下の表２の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、アクリレート系粘着剤Ｎ１、Ｎ２（粘着剤層）を得た。アクリレート系粘着剤の組成と膜厚を下記表２に示す。なお、粘着剤Ｎ２は後述する耐久性の評価の際に使用される粘着剤層である。

＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。

（A）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）（B）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（C）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（D）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

〔ＵＶ接着剤組成物の調製〕
下記ＵＶ接着剤組成物を調製した。
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ＵＶ接着剤組成物
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・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
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ＣＰＩ－１００Ｐ

〔実施例１２の光学積層体の作製〕
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向膜ＰＡＡＡ１とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。
低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５（富士フイルム社製）の支持体側に、上記粘着剤Ｎ１（粘着剤層２）を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１側とを、上記粘着剤Ｎ１（粘着剤層１）を用いて貼り合わせ、実施例１２の積層体を作製した。このとき、光吸収異方性層（偏光層Ｐ１）の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
このようにして、セルロースアシレートフィルム１と配向膜とポジティブＣプレートＣ１とＵＶ接着剤層とポジティブＡプレートＡ１（λ／４板）と粘着剤Ｎ１（粘着剤層１）と光配向膜ＰＡ１２と偏光層Ｐ１（光吸収異方性層）と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１と粘着剤Ｎ１（粘着剤層２）と低反射表面フィルムＣＶ－ＬＣ５（表面保護層）とをこの順に隣接して有する実施例１２の光学積層体を得た。

［実施例１３］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１２の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
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（配向膜形成用塗布液ＰＡ１３）
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・上記重合体ＰＡ－１ ６３．３６質量部
・デナコールＥＸ８１０（ナガセケムテックス社製） ２８．５１質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ（Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン） ０．５５質量部
・キシレン １１５０．９０質量部
・メチルイソブチルケトン １２９．１１質量部
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［実施例１４］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１２の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
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（配向膜形成用塗布液ＰＡ１４）
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・上記重合体ＰＡ－１ ６４．３５質量部
・デナコールＥＸ８５０（ナガセケムテックス社製） ２６．２５質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ（Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン） ０．５５質量部
・キシレン １１４２．９２質量部
・メチルイソブチルケトン １２６．９９質量部
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［実施例１５］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１２の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
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（配向膜形成用塗布液ＰＡ１５）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体ＰＡ－１ ６５．２１質量部
・ＫＲ－４７０（信越シリコーン社製） ２８．５１質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ（Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン） ０．５５質量部
・キシレン １１４７．５２質量部
・メチルイソブチルケトン １２８．１８質量部
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［実施例１６］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１２の代わりに、上述した光配向膜形成用組成物ＰＡ１を使用した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学積層体を得た。

＜耐久性の評価＞
実施例１２～１６で作製した各光学積層体について耐久性を評価した。
具体的には、光学積層体を５ｃｍ×５ｃｍのサイズに切り出した。続いて、光学積層体のポジティブＣプレートＣ１側を、粘着剤Ｎ２を用いてアルミ基板に貼合したのち、８０℃８０％ＲＨの恒温恒湿槽に１５時間静置し取り出した後、面状を目視にて観察し以下の評点をつけた。なお、用意したアルミ基板の表面反射率は８４％であった。
Ｓ：恒温恒湿槽投入後に反射ムラの発生が見られなかった。
Ａ：恒温恒湿槽投入後にサンプルの１／４以下の面積に軽微な反射ムラの発生が見られた。
Ｂ：恒温恒湿槽投入後にサンプルの半分以下の面積に反射ムラの発生が見られた。
結果を下記表３に示す。

Claims (8)

1. 支持体と、光配向膜と、偏光層とをこの順に有する偏光素子であって、
   前記光配向膜が、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂとを有する共重合体を含有する光配向膜形成用組成物を用いて形成される膜であり、
   前記繰り返し単位Ｂが、下記式（Ｂ）中のＢが表す重合性基が互いに異なる、繰り返し単位Ｂ１および繰り返し単位Ｂ２からなり、
   前記偏光層が、液晶化合物および二色性物質を含有し、前記液晶化合物および前記二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する偏光層形成用組成物を用いて形成される層である、偏光素子。
   前記式（Ａ）および（Ｂ）中、
   Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、
   Ａは、下記式（ａ１）で表される光配向性基を表し、
   Ｂは、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。
   前記式（ａ１）中、
   ２つの＊は、いずれか一方がＬ^１との結合位置を表し、他方がＲ^７を表し、
   Ｒ^３～Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
   前記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）中、
   ＊は、Ｌ^２との結合位置を表し、
   Ｒ^８は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、前記式（ＰＧ－２）、（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^８は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
2. 前記繰り返し単位Ｂ１が、前記式（Ｂ）中のＢが前記式（ＰＧ－１）で表される重合性基を表す繰り返し単位であり、
   前記繰り返し単位Ｂ２が、前記式（Ｂ）中のＢが前記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す繰り返し単位である、請求項１に記載の偏光素子。
3. 前記共重合体の全質量に対する前記繰返し単位Ａの含有量ａ、前記繰返し単位Ｂ１の含有量ｂ１、および、前記繰返し単位Ｂ２の含有量ｂ２の各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ１≦４５、および、５０≦ｂ２≦７５を満たす、請求項２に記載の偏光素子。
4. 前記共重合体の重量平均分子量が、１００００～１０００００である、請求項１～３のいずれか１項に記載の偏光素子。
5. 前記液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の偏光素子。
6. 前記液晶化合物が、側鎖型高分子液晶化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の偏光素子。
7. 前記側鎖型高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体である、請求項６に記載の偏光素子。
   前記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
8. 請求項１～７のいずれか１項に記載の偏光素子を有する、画像表示装置。