JP7181376B2 - 共重合体、光配向膜用組成物、光配向膜、光学異方性素子および偏光素子 - Google Patents

Description

本発明は、共重合体、光配向膜用組成物、光配向膜、光学異方性素子および偏光素子に関する。

光学補償シートおよび位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消および視野角拡大などの観点から、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物を用いた光学異方性層を使用することが提案されている。

このような光学異方性層は、液晶化合物を配向させるために、光学異方性層を形成する支持体上に配向膜を設けることが知られており、また、この配向膜として、ラビング処理に代えて光配向処理を施した光配向膜が知られている。

例えば、特許文献１には、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する光配向膜用組成物が記載されており（［請求項１］）、重合体Ａについては、シンナメート基を含む構成単位ａ１とともに、エポキシ基などの重合性基を含む構成単位ａ２を有している態様が記載されている（［００２４］～［００２８］）。
また、特許文献２には、光配向膜の形成に用いる光配向性共重合体として、シンナメート基を含む繰り返し単位Ａと、所定のエポキシ基を含む繰り返し単位Ｂとを有する光配向性共重合体が記載されている（［請求項１］）。
更に、特許文献３には、側鎖にシンナメート基およびアゾ基などの光配向性単位を含む光配向性部位（Ａ）と、側鎖にアクリロイル基などの重合性基を含む重合性部位（Ｂ）とを有する重合体が記載されている（［請求項１］）。

国際公開第２０１７／０６９２５２号 国際公開第２０１８／１７３７２７号 特許第６２５０３２４号

本発明者らは、特許文献１に記載された重合体Ａとして、シンナメート基を含む構成単位ａ１とともに、エポキシ基などの重合性基を含む構成単位ａ２を有する共重合体を検討したところ、得られる光配向膜上に液晶層（例えば、光学異方性層、偏光層など）を形成する際に、使用する溶媒の種類によっては光配向膜の配向性が乱れる場合があり、液晶層の形成に用いる液晶化合物の配向性（以下、「液晶配向性」ともいう。）が劣る場合があることを明らかにした。
また、特許文献２に記載された、シンナメート基を含む繰り返し単位Ａと、所定のエポキシ基を含む繰り返し単位Ｂとを有する光配向性共重合体を検討したところ、得られる光配向膜上に液晶層を形成すると、光配向膜と液晶層との界面で剥離する場合があることが分かった。
更に、特許文献３に記載された、光配向性部位（Ａ）と重合性部位（Ｂ）とを有する重合体を検討したところ、得られる光配向膜上に液晶層を形成する際に、使用する溶媒によって光配向膜の配向性が乱れるため、液晶配向性が劣ることが分かった。

そこで、本発明は、隣接する液晶層の液晶配向性が良好となり、かつ、液晶層との密着性にも優れた光配向膜を形成することができる共重合体、ならびに、それを用いて作製した光配向膜用組成物、光配向膜、光学異方性素子および偏光素子を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、特定の光配向性基を含む繰り返し単位と、構造の異なる２種の重合性基を別々に含む２種の繰り返し単位とを有する共重合体を用いることにより、隣接する液晶層の液晶配向性が良好となり、かつ、液晶層との密着性にも優れた光配向膜を形成することができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂと、下記式（Ｃ）で表される繰り返し単位Ｃとを有する、共重合体。

上記式（Ａ）～（Ｃ）中、
Ｒ^ａ～Ｒ^ｃは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
Ｌ^ａ～Ｌ^ｃは、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、
Ａは、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン基、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼン基、クマリン基、および、マレイミド基からなる群から選択されるいずれかの光配向性基を表し、
Ｂは、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－３）で表されるいずれかの重合性基を表し、
Ｃは、下記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。

上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）中、
＊は、Ｌ^ｂまたはＬ^ｃとの結合位置を表し、
Ｒ^ｄは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、上記式（ＰＧ－２）、（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^ｄは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

［２］ 重量平均分子量が、１００００～１０００００である、［１］に記載の共重合体。
［３］ 共重合体の全質量に対する繰返し単位Ａの含有量ａ、繰返し単位Ｂの含有量ｂ、および、繰返し単位Ｃの含有量ｃの各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ≦４５、および、５０≦ｃ≦７５を満たす、［１］または［２］に記載の共重合体。

［４］ ［１］～［３］のいずれかに記載の共重合体を含有する、光配向膜用組成物。
［５］ 更に、有機溶媒を含有する、［４］に記載の光配向膜用組成物。
［６］ 更に、重合開始剤を含有する、［４］または［５］に記載の光配向膜用組成物。
［７］ 更に、架橋剤を含有する、［４］～［６］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
［８］ ［４］～［７］のいずれかに記載の光配向膜用組成物を用いて形成した、光配向膜。

［９］ ［８］に記載の光配向膜と、重合性液晶化合物を含有する光学異方性層形成用組成物を用いて形成される光学異方性層とを有する、光学異方性素子。
［１０］ 重合性液晶化合物が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物である、［９］に記載の光学異方性素子。
［１１］ 重合性液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、［９］または［１０］に記載の光学異方性素子。

［１２］ ［８］に記載の光配向膜と、液晶化合物および二色性物質を含有する偏光層形成用組成物を用いて形成される偏光層とを有する、偏光素子。
［１３］ 液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、［１２］に記載の偏光素子。
［１４］ 液晶化合物が、側鎖型高分子液晶化合物である、［１２］に記載の偏光素子。
［１５］ 側鎖型高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体である、［１４］に記載の偏光素子。

上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
［１６］ 液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する、［１２］～［１５］のいずれかに記載の偏光素子。
［１７］ 液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が有する重合性基と、共重合体が有する重合性基とが同一種類である、［１６］に記載の偏光素子。

本発明によれば、隣接する液晶層の液晶配向性が良好となり、かつ、液晶層との密着性にも優れた光配向膜を形成することができる共重合体、ならびに、それを用いて作製した光配向膜用組成物、光配向膜、光学異方性素子および偏光素子を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

［共重合体］
本発明の共重合体は、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂと、後述する式（Ｃ）で表される繰り返し単位Ｃとを有する、共重合体である。

本発明においては、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂと、後述する式（Ｃ）で表される繰り返し単位Ｃとを有する共重合体を用いることにより、隣接する液晶層の液晶配向性が良好となり、かつ、液晶層との密着性にも優れた光配向膜を形成することができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、本発明の共重合体は、後述する式（Ａ）中のＡで表される所定の光配向性基を繰り返し単位に有していることにより、偏光照射によって異性化反応や光二量化反応し、配向規制力が発現し、隣接する液晶層の液晶配向性が良好になったと考えられる。
また、後述する式（Ｂ）および（Ｃ）で表される所定の重合性基を別々の繰り返し単位に有していることにより、光配向膜が形成された後において、液晶化合物等を含有する組成物を用いて液晶層を形成する際に、組成物（特に使用する有機溶媒）による光配向膜の緩和を抑制し、かつ、液晶層との密着性を付与することができたため、優れた液晶配向性を維持しつつ、液晶層との密着性も良好になったと考えられる。
以下、本発明の共重合体について詳細に説明する。

〔繰り返し単位Ａ〕
本発明の共重合体が有する繰り返し単位Ａは、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位である。

上記式（Ａ）中、Ｒ^ａは、水素原子または置換基を表す。
また、Ｌ^ａは、２価の連結基を表す。
また、Ａは、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン基、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼン基、クマリン基、および、マレイミド基からなる群から選択されるいずれかの光配向性基を表す。

次に、上記式（Ａ）中のＲ^ａが表す、水素原子または置換基について説明する。
上記式（Ａ）中、Ｒ^ａの一態様が示す置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、または、アミノ基であることが好ましい。

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。

炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。

炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。

炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。

炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。

炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２－ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。

アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ_２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。

次に、上記式（Ａ）中のＬ^ａが表す、２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。

ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。

炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。

炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。

次に、上記式（Ａ）中のＡが表す、光配向性基について説明する。
光配向性基は、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン基、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼン基、クマリン基、および、マレイミド基からなる群から選択されるいずれかの光配向性基である。

これらの光配向性基のうち、シンナモイル基であることが好ましく、具体的には、下記式（ａ１）で表される基であることがより好ましく、下記式（ａ２）で表される基であることが更に好ましい。

上記式（ａ１）中、２つの＊は、いずれか一方がＬ^ａとの結合位置を表し、他方が水素原子または置換基を表す。
また、上記式（ａ２）中、＊は、Ｌ^ａとの結合位置を表す。
また、上記式（ａ１）のＲ^５～Ｒ^８、および、上記式（ａ２）中のＲ^５～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。

ここで、Ｒ^５～Ｒ^９の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（ａ３）で表される基であることが好ましい。
なお、下記式（ａ３）で表される基以外の置換基の具体例は、上記式（Ａ）中のＲ^ａの一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。

ここで、上記式（ａ３）中、＊は、上記式（ａ２）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ^１０は、１価の有機基を表す。

上記式（ａ３）中のＲ^１０が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（ａ３）中のＲ^１０が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。

本発明においては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（ａ１）中のＲ^５～Ｒ^８、または、上記式（ａ２）中のＲ^５～Ｒ^９のうち、少なくとも１つ（特に、Ｒ^９）が上述した置換基であることが好ましく、得られる光配向性共重合体の直線性が向上し、偏光照射した際に反応効率が向上する理由から、電子供与性の置換基であることがより好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、隣接する液晶層の液晶配向性が更に良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。

上記式（Ａ）表される繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１６０が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表す。

〔繰り返し単位Ｂ〕
本発明の共重合体が有する繰り返し単位Ｂは、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位である。

上記式（Ｂ）中、Ｒ^ｂは、水素原子または置換基を表す。なお、Ｒ^ｂの一態様が示す置換基としては、上記式（Ａ）中のＲ^ａの一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｌ^ｂは、２価の連結基を表す。なお、Ｌ^ｂが表す２価の連結基としては、上記式（Ａ）中のＬ^ａが表す２価の連結基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｂは、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－３）で表されるいずれかの重合性基を表す。

上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－３）中、＊は、Ｌ^ｂとの結合位置を表す。
上記式（ＰＧ－１）および（ＰＧ－２）中、Ｒ^ｄは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、上記式（ＰＧ－２）における複数のＲ^ｄは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－３）で表される重合性基のうち、隣接する液晶層との密着性がより良好となる理由から、上記式（ＰＧ－１）で表される重合性基であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基であることがより好ましい。

上記式（Ｂ）表される繰り返し単位Ｂとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－２９が挙げられる。

〔繰り返し単位Ｃ〕
本発明の共重合体が有する繰り返し単位Ｃは、下記式（Ｃ）で表される繰り返し単位である。

上記式（Ｃ）中、Ｒ^ｃは、水素原子または置換基を表す。なお、Ｒ^ｃの一態様が示す置換基としては、上記式（Ａ）中のＲ^ａの一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｌ^ｃは、２価の連結基を表す。なお、Ｌ^ｃが表す２価の連結基としては、上記式（Ａ）中のＬ^ａが表す２価の連結基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｃは、下記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。

上記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）中、＊は、Ｌ^ｃとの結合位置を表す。
上記式（ＰＧ－５）～（ＰＧ－９）中、Ｒ^ｄは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、上記式（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^ｄは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表される重合性基のうち、液晶層を形成する際に、組成物、特に組成物中の有機溶媒による光配向膜の緩和をより抑制できる理由から、上記式（ＰＧ－９）で表される重合性基であることが好ましい。

上記式（Ｃ）表される繰り返し単位Ｃとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｃ－１～Ｃ－２３が挙げられる。

本発明の共重合体においては、液晶層の液晶配向性および密着性がより良好となる理由から、上記式（Ａ）で表される繰返し単位Ａの含有量ａ（質量％）、上記式（Ｂ）で表される繰返し単位Ｂの含有量ｂ（質量％）、および、上記式（Ｃ）で表される繰返し単位Ｃの含有量ｃ（質量％）は、それぞれ、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ≦４５、および、５０≦ｃ≦７５であることが好ましく、７≦ａ≦２２、２３≦ｂ≦３８、および、５５≦ｃ≦７０であることがより好ましい。

〔他の繰り返し単位〕
本発明の共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａ、繰り返し単位Ｂおよび繰り返し単位Ｃ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。

本発明の共重合体の合成法は特に限定されず、例えば、上述した繰り返し単位Ａを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｂを形成するモノマー、上述した繰り返し単位Ｃを形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。

本発明の共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、１００００～５０００００が好ましく、１００００～１０００００がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

［光配向膜用組成物］
本発明の光配向膜用組成物は、上述した本発明の共重合体を含有する組成物である。
本発明の光配向膜用組成物における本発明の共重合体の含有量は特に限定されないが、後述する有機溶媒を含有する場合、有機溶媒１００質量部に対して０．１～５０質量部であることが好ましく、０．５～１０質量部であることがより好ましい。

〔有機溶媒〕
本発明の光配向膜用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有していることが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

〔重合開始剤〕
本発明の光配向膜用組成物は、隣接層を形成する前の光配向膜に、加熱や光照射を施して重合反応を生起させることにより、隣接層を形成する際に使用する溶媒による光配向膜の配向性の乱れを抑制する観点から、重合開始剤を含有していることが好ましい。
重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。
熱重合開始剤としては、例えば、アゾ系化合物、過酸化物系化合物などが挙げられる。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、本発明の光配向膜用組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．５～５質量％であることがより好ましい。

〔添加剤〕
本発明の光配向膜用組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、屈折率調整剤、弾性率調整剤、架橋剤、フィラー、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤などの添加剤が挙げられる。中でも、耐久性を向上させる観点から架橋剤を用いることが好ましく、本発明の共重合体が有する重合性基と反応する架橋性基を有する架橋剤を用いることがより好ましい。具体的には、本発明の共重合体が有する重合性基が（メタ）アクリロイル基であれば、（メタ）アクリロイル基を有する架橋剤であることが好ましく、本発明の共重合体が有する重合性基がエポキシ基であれば、エポキシ基を有する架橋剤であることが好ましい。

＜架橋剤＞
架橋剤としては、重合性基を有する架橋剤が挙げられ、重合性基としては、上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基であることが好ましい。
架橋剤は１分子中に上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を複数有することも好ましく、１分子中に同一の上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を有していてもよいし、異なる上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表される基を有していてもよい。
上記架橋剤としては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。

（１）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ－６１１、ＥＸ－６１２、ＥＸ－６１４、ＥＸ－６１４Ｂ、ＥＸ－６２２、ＥＸ－５１２、ＥＸ－５２１、ＥＸ－４１１、ＥＸ－４２１、ＥＸ－３１３、ＥＸ－３１４、ＥＸ－３２１、ＥＸ－２１１、ＥＸ－２１２、ＥＸ－８１０、ＥＸ－８１１、ＥＸ－８５０、ＥＸ－８５１、ＥＸ－８２１、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８３２、ＥＸ－８４１、ＥＸ－９１１、ＥＸ－９４１、ＥＸ－９２０、ＥＸ－９３１、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－１１１１、ＥＸ－１１１２、ＤＬＣ－２０１、ＤＬＣ－２０３、ＤＬＣ－２０４、ＤＬＣ－２０５、ＤＬＣ－２０６、ＤＬＣ－３０１、ＤＬＣ－４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４０１、ＰＢ３６００、ＰＢ４７００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ，セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１５２、１５４、６３０、１０３１Ｓ、１２５５ＨＸ３０、１５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０、ＹＬ６８１０，ＹＸ４０００、ＹＸ６９５４ＢＨ３０、ＹＸ７２００Ｂ３５、ＹＸ７５５３ＢＨ３０、ＹＬ６１２１ＨＡ、ＹＬ６６７７、ＹＬ６８１０（三菱ケミカル社製）、ＥＰＣＬＯＮ ８４０－ＳＳ、ＥＸＡ－１５１４、Ｎ－５４０、Ｎ－６９５、ＨＰ－８２０、ＨＰ－４０３２Ｄ、ＨＰ－４７００、ＨＰ－４７１０、ＨＰ－７２００、（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ－ＵＣ（日産化学社製）、ＫＲ－４７０（信越シリコーン社製）、ＥＰＯＣＨＡＬＩＣ ＴＨＩ－ＤＥ、ＤＥ－１０２，ＤＥ－１０３(ＪＸＴＧエネルギー社製)、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

（２）分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。

（３）ブロックイソシアネート化合物
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃～２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－トリメチレンジイソシアネート、１，４－テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９－ノナメチレンジイソシアネート、１，１０－デカメチレンジイソシアネート、１，４－シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’－ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、ｏ－キシレンジイソシアネート、ｍ－キシレンジイソシアネート、ｐ－キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン－１，３－ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン－１，４－ジメチレンジイソシアネート、１，５－ナフタレンジイソシアネート、ｐ－フェニレンジイソシアネート、３，３’－メチレンジトリレン－４，４’－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３－キシリレンジイソシアネート、水素化１，４－キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ－５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８２０ＮＳＵ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８４６Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ－６０ＰＸ、１７Ｂ－６０Ｐ、ＴＰＡ－Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、ＭＦ－Ｂ６０Ｂ、ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、ＭＦ－Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２－Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ－７０Ｄ、ＳＢＢ－７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。

本発明の光配向膜用組成物が架橋剤を含有する場合の含有量は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、本発明の光配向膜用組成物の全固形分に対して、１～９０質量部であることが好ましく、４～８０質量部であることがより好ましい。

［光配向膜］
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いて形成される光配向膜である。
光配向膜の膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０～１０００ｎｍが好ましく、１０～７００ｎｍがより好ましい。

〔光配向膜の形成方法〕
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、例えば、上述した本発明の光配向膜用組成物を支持体上に塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程と、
第１塗布膜を加熱して有機溶媒を乾燥除去することにより、支持体上に第１乾燥被膜を形成して、第１積層体を得る加熱工程と、
第１乾燥被膜に、偏光紫外線（ＵＶ）または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光ＵＶを照射することにより、第１乾燥被膜から光配向膜を形成して第２積層体を得る光照射工程により作製することができる。

＜塗布工程＞
塗布工程に用いる支持体としては、例えば、透明支持体が好適に用いられる。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が６０％以上であるこという。
透明支持体としては、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
これらのうち、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
また、支持体は、光配向膜を形成した後に、剥離可能な仮支持体であってもよい。

塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。

＜加熱工程＞
加熱工程の温度は、第１塗布膜に含まれる有機溶媒を乾燥除去することができる温度であれば特に限定されないが、本発明の光配向膜用組成物が重合開始剤を含有している場合には、重合反応を生起させる観点から、１２０～１６０℃であることが好ましく、１３０～１５０℃であることがより好ましい。
また、加熱工程の時間は、第１塗布膜に含まれる有機溶媒を乾燥除去することができる温度であれば特に限定されないが、本発明の光配向膜用組成物が重合開始剤を含有している場合には、重合反応を十分に進行させる観点から、３０秒～５分であることが好ましく、１分～３分であることがより好ましい。

＜光照射工程＞
光照射工程において、第１乾燥被膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０～８０°であることが好ましい。

偏光または非偏光における波長としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、可視光線などが挙げられる。中でも、２５０ｎｍ～４５０ｎｍの近紫外線が特に好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。

偏光または非偏光の積算光量としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、１～３００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、５～１００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、第１乾燥被膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１～３００ｍＷ／ｃｍ^２が好ましく、１～１００ｍＷ／ｃｍ^２がより好ましい。

［光学異方性素子］
本発明の光学異方性素子は、上述した本発明の光配向膜と、重合性液晶化合物を含有する光学異方性層形成用組成物を用いて形成される光学異方性層とを有する、光学異方性素子である。
また、本発明の光学異方性素子は、更に支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と上述した本発明の光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。なお、支持体としては、上述した光配向膜の形成方法において説明したものが挙げられる。
以下に、光学異方性層形成用組成物が含有している重合性液晶化合物および任意の添加剤について説明する。

〔重合性液晶化合物〕
光学異方性層形成用組成物が含有する重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物である。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。更にそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。

本発明においては、上述の重合性液晶化合物の固定化のために、１分子中に重合性基を２以上有することが更に好ましい。なお、重合性液晶化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の重合性液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、重合性液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。

また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。

棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

本発明においては、上記重合性液晶化合物として、逆波長分散性の重合性液晶化合物を用いることが好ましい。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の重合性液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。

逆波長分散性の重合性液晶化合物としては、例えば、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物が好適に挙げられる。
Ｌ^１－ＳＰ^１－（Ｅ^３－Ａ^１）_ｍ－Ｅ^１－Ｇ^１－Ｄ^１－Ａｒ^１－Ｄ^２－Ｇ^２－Ｅ^２－（Ａ^２－Ｅ^４）_ｎ－ＳＰ^２－Ｌ^２ ・・・（Ｉ）

上記式（Ｉ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、及びＥ^４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、又は－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。なお、上記式（Ｉ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、及びＥ^４で示される２価の基（例えば、－ＣＯ－Ｏ－）の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、Ｄ^１が－ＣＯ－Ｏ－である場合、Ｄ^１と隣接するＧ^１及びＡｒ^１との連結形態は、Ｇ^１－ＣＯ－Ｏ－Ａｒ^１であってもよいし、Ｇ^１－Ｏ－ＣＯ－Ａｒ^１であってもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、又はＮＨ－で置換されていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、又はＮＨ－で置換されていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１及びＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、若しくは－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒ^１が、下記式（Ａｒ－３）で表される芳香環である場合、Ｌ^１及びＬ^２並びに下記式（Ａｒ－３）中のＬ^３及びＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ｍは、０～２の整数を表し、ｍが２である場合、複数のＥ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、ｎは、０～２の整数を表し、ｎが２である場合、複数のＥ^４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒ^１は、後述する式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。

上記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が示す炭素数１～４のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。

上記式（Ｉ）中、Ｇ^１及びＧ^２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環又は６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ^１及びＧ^２で表される２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２－２１０６８号公報の［００７８］段落の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
これらのうち、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環に由来する２価の基）が好ましく、１，４－シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス－１，４－シクロヘキシレン基が更に好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ｇ^１及びＧ^２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基としては、１，２－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、及び２，６－ナフチレン基等が挙げられ、なかでも、１，４－フェニレン基が好ましい。
また、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基としては、上記式（Ｉ）中のＧ^１及びＧ^２で説明したものと同様のものが挙げられ、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環に由来する２価の基）が好ましく、１，４－シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス－１，４－シクロヘキシレン基が更に好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基、及びＡ^１及びＡ^２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１及びＳＰ^２が示す炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、又はへプチレン基等が好ましい。なお、ＳＰ^１及びＳＰ^２は、上述した通り、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、若しくは－ＣＯ－に置換された２価の連結基であってもよい。Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（Ｉ）中、Ｌ^１及びＬ^２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、及びシアノ基等が挙げられる。
アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、又は酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。
また、上述した、アルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（Ｉ）中、Ｌ^１及びＬ^２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に制限されないが、ラジカル重合が可能な重合性基（ラジカル重合性基）又はカチオン重合が可能な重合性基（カチオン重合性基）が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基又はメタクリロイル基が好ましい。アクリロイル基及びメタクリロイル基を比較すると、一般的にアクリロイル基の重合速度の方が速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、及びビニルオキシ基等が挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基、又はビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、又はビニルオキシ基がより好ましい。
重合性基としては、なかでも、下記に例示するものが好ましい。

上記式（Ｉ）中、湿熱耐久性が良好となる理由から、上記式（Ｉ）中のＬ^１及びＬ^２が、いずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基又はメタクリロイル基であることがより好ましい。

一方、上記式（Ｉ）中、Ａｒ^１は、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、＊は、上記式（Ｉ）中のＤ^１又はＤ^２との結合位置を表す。
以下において、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）について説明する。

ここで、上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、Ｎ、又はＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、又は、－Ｎ（Ｒ^５）－を表し、Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^５が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及びｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、及びナフチル基等のアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、及びピリジル基等のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、及びシクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基が更に好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びメトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、フッ素原子、又は塩素原子が好ましい。

また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、Ｚ^１、Ｚ^２及びＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ^６、－ＮＲ^７Ｒ^８、－ＳＲ^９、－ＣＯＯＲ^Ｘ、又は－ＯＣＯＲ^Ｙを表し、Ｒ^６～Ｒ^９、Ｒ^Ｘ、及びＲ^Ｙは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基（Ｍｅ）、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基（ｔＢｕ）、又は１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が更に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、及びエチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、及びシクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、及びアダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、及びビフェニル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ^６～Ｒ^９、Ｒ^Ｘ、及びＲ^Ｙが示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及びｎ－ヘキシル基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）及び上記式（Ａｒ－３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^１０）－、－Ｓ－、及び－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１０は、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、上述した式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子又は置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、及び置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、及び水酸基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^３及びＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、又は－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。なお、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^３及びＤ^４で示される２価の基（例えば、－ＣＯ－Ｏ－）の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、Ｄ^３が－ＣＯ－Ｏ－である場合、Ｄ^１と隣接するＳＰ^３及び炭素原子との連結形態は、ＳＰ^３－ＣＯ－Ｏ－炭素原子であってもよいし、ＳＰ^３－Ｏ－ＣＯ－炭素原子であってもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
上記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が示す炭素数１～４のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^３及びＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、若しくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基としては、上記式（Ｉ）中のＳＰ^１及びＳＰ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。
Ｑで示される置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３及びＬ^４並びに上記式（Ｉ）中のＬ^１及びＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。
１価の有機基としては、上記式（Ｉ）中のＬ^１及びＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、重合性基としては、上記式（Ｉ）中のＬ^１及びＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－４）及び上記式（Ａｒ－５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）及び上記式（Ａｒ－５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、Ａｘ及びＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、上記式（Ａｒ－４）及び上記式（Ａｒ－５）中、Ｑ^３は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。

Ａｘ及びＡｙとしては、国際公開第２０１４／０１０３２５号の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及びｎ－ヘキシル基等が挙げられる。また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３～１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

重合性液晶化合物としては、光学異方性層の湿熱耐久性が良好となる理由から、上記式（Ｉ）において、ｍが１であり、Ａ^１及びＧ^１がいずれも置換基を有していてもよいシクロヘキシレン基であり、Ｅ^１が単結合であり、ｎが１であり、Ａ^２及びＧ^２がいずれも置換基を有していてもよいシクロヘキシレン基であり、かつＥ^２が単結合を表す化合物であることが好ましい。

また、耐光性が良好となる理由から、上記式（Ｉ）中のＡｒ^１の構造から導かれる、ＨＯ－Ａｒ^１－ＯＨで表されるジフェノール化合物のｐＫａが１１以下であることが好ましい。
ここで、ｐＫａは、２５℃におけるテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）／水＝６／４の体積比である混合溶媒中における酸解離定数の値である。
本発明における酸解離定数の測定方法としては、丸善（株）刊 実験化学講座第２版の２１５ページ～２１７ページに記載のアルカリ適定法を用いることができる。

このような重合性液晶化合物（１）としては、例えば、下記式（１－１）～（１－１４）で表される化合物が好ましく、具体的には、下記式（１－１）～（１－１４）中のＫ（側鎖構造）として、下記表１に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
なお、下記表１中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、下記表１中１－２、１－１２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基及びメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

本発明においては、上記重合性液晶化合物として、重合性スメクチック液晶化合物を用いることが好ましい。
ここで、「重合性スメクチック液晶化合物」とは、重合性基を有し、かつスメクチック相の液晶状態を示す化合物である。
重合性スメクチック液晶化合物が示す液晶状態は、高次のスメクチック相であることが好ましい。ここでいう高次のスメクチック相とは、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相及びスメクチックＬ相であり、中でも、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相、傾斜したスメクチックＦ相および傾斜したスメクチックＩ相が好ましく、スメクチックＡ相、メクチックＢ相がより好ましい。
このような重合性スメクチック液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－０３３２４９号公報の［００４３］～［００５５］段落に記載されたものが挙げられる。

〔他の重合性化合物〕
光学異方性層形成用組成物は、上述した重合性液晶化合物以外に、重合性基を１個以上有する他の重合性化合物を含んでいてもよい。
ここで、他の重合性化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。なかでも、アクリロイル基、メタクリロイル基を有しているのが好ましい。

他の重合性化合物としては、形成される光学異方性層の湿熱耐久性および液晶配向性が向上する理由から、重合性基を１個～４個有する他の重合性化合物であるのが好ましい。

他の重合性化合物としては、特開２０１６－０５３７０９号公報の［００７３］～［００７４］段落に記載された化合物が挙げられる。
また、他の重合性化合物としては、特開２０１４－０７７０６８号公報の［００３０］～［００３３］段落に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の［００４６］～［００５５］段落に記載された具体例が挙げられる。
また、他の重合性化合物としては、特開２０１４－１９８８１４号公報に記載の式（１）～（３）の構造のものも好ましく用いることができ、より具体的には、同公報の［００２０］～［００３５］、［００４２］～［００５０］、［００５６］～［００５７］段落に記載された具体例が挙げられる。

このような他の重合性化合物を含有する場合の含有量は、上述した重合性液晶化合物の質量に対して、５０質量％未満であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、２～３０質量％であることが更に好ましい。

〔重合開始剤〕
光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
また、本発明においては、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であることも好ましく、その具体例としては、国際公開第２０１７／１７０４４３号の［００４９］～［００５２］段落に記載された開始剤が挙げられる。

〔有機溶媒〕
光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層を形成する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、上述した光配向膜用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

〔レベリング剤〕
光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層の表面を平滑に保ち、配向制御を容易にする観点から、レベリング剤を含有することが好ましい。
このようなレベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤であることが好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい観点から、フッ素系レベリング剤であることがより好ましい。
レベリング剤としては、具体的には、例えば、特開２００７－０６９４７１号公報の［００７９］～［０１０２］段落の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２０］～［００３２］段落に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２２］～［００２９］段落に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に［００７６］～［００７８］および［００８２］～［００８４］段落に記載された化合物）、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に［００９２］～［００９６］段落に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。

〔配向制御剤〕
光学異方性層形成用組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含有することができる。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向等の種々の配向状態を形成することができ、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現することができる。

ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤や、高分子の配向制御剤を用いることができる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の［０００９］～［００８３］段落、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１１１］～［０１２０］段落、および、特開２０１２－２１１３０６公報の［００２１］～［００２９］段落の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の［００２１］～［００５７］段落、および、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１２１］～［０１６７］段落を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。

また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８－２２５２８１号公報の［００２３］～［００３２］段落、特開２０１２－２０８３９７号公報の［００５２］～［００５８］段落、特開２００８－０２６７３０号公報の［００２４］～［００５５］段落、特開２０１６－１９３８６９号公報の［００４３］～［００５５］段落などに記載された化合物を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。

一方、コレステリック配向は、光学異方性層形成用組成物にキラル剤を加えることにより実現することができ、そのキラル性の向きによりコレステリック配向の旋回方向を制御できる。なお、キラル剤の配向規制力に応じてコレステリック配向のピッチを制御することができる。

配向制御剤の含有する場合の含有量は、重合性液晶組成物中の全固形分質量に対して０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０５～５質量％であることがより好ましい。含有量がこの範囲であると、望む配向状態を実現しつつ、析出や相分離、配向欠陥等が無く、均一で透明性の高い光学異方性層を得ることができる。
これらの配向制御剤は、さらに重合性官能基、特に、光学異方性層形成用組成物を構成する重合性液晶化合物と重合可能な重合性官能基を付与することができる。

〔その他の成分〕
光学異方性層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよく、例えば、上述した重合性液晶化合物以外の液晶化合物、界面改良剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

〔光学異方性層の形成方法〕
光学異方性層の形成方法としては、例えば、上述した光学異方性層形成用組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２～３Ｊ／ｃｍ^２であることが更に好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。

本発明においては、上記光学異方性層の厚みについては特に限定されないが、０．１～１０μｍであるのが好ましく、０．５～５μｍであるのがより好ましい。

また、本発明においては、上記光学異方性層は、下記式（ＩＩ）を満たしていることが好ましい。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。なお、本明細書において、レターデーションの測定波長を明記していない場合は、測定波長は５５０ｎｍとする。
また、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１にて、平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

また、本発明においては、上記光学異方性層は、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートであることが好ましく、ポジティブＡプレートであることがより好ましい。

ここで、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とポジティブＣプレート（正のＣプレート）は以下のように定義される。
フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。
「実質的に同一」とは、ポジティブＡプレートでは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。また、ポジティブＣプレートでは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

上記光学異方性層がポジティブＡプレートである場合、λ／４板として機能する観点から、Ｒｅ（５５０）が１００～１８０ｎｍであることが好ましく、１２０～１６０ｎｍであることがより好ましく、１３０～１５０ｎｍであることが更に好ましく、１３０～１４０ｎｍであること特に好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。

［偏光素子］
本発明の偏光素子は、上述した本発明の光配向膜と、液晶化合物および二色性物質を含有する偏光層形成用組成物を用いて形成される偏光層とを有する、偏光素子である。
また、本発明の偏光素子は、更に支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と上述した本発明の光配向膜と偏光層とをこの順に有しているのが好ましい。なお、支持体としては、上述した光配向膜の形成方法において説明したものが挙げられる。
以下に、偏光層形成用組成物が含有している液晶化合物、二色性物質および任意の添加剤について説明する。

〔液晶化合物〕
偏光層形成用組成物が含有する液晶化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶化合物が好ましい。
液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
低分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶化合物が挙げられる。
高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。

本発明においては、上記液晶化合物として、重合性スメクチック液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性スメクチック液晶化合物としては、上述した光学異方性素子を形成する光学異方性層形成用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

また、本発明においては、上記液晶化合物は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、側鎖型高分子液晶化合物であることが好ましく、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を有する重合体であることがより好ましい。

上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^１４（ＯＲ^１５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^１４と同義であり、複数のＲ^１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環状構造を有する基であることが好ましい。
メソゲン基は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

繰り返し単位（１）の含有量は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、繰り返し単位（１）が高分子液晶化合物中に２種含まれているのがよい。

高分子液晶化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。

（重量平均分子量）
高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

（含有量）
液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物における固形分中の８～９９質量％となる量であることが好ましく、８～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「偏光層形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。

〔二色性物質〕
偏光層形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる偏光層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。

（含有量）
二色性物質の含有量は、得られる偏光層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。

本発明においては、上述した本発明の光配向膜と得られる偏光層との密着性がより良好となる理由から、上述した液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有していることが好ましく、液晶化合物および二色性物質の少なくとも一方が有する重合性基と、上述した本発明の共重合体が有する重合性基とが同一種類であることがより好ましい。

〔重合開始剤〕
偏光層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光学異方性層形成用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

偏光層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、偏光層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光層の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光層の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

〔有機溶媒〕
偏光層形成用組成物は、作業性等の観点から、有機溶媒を含むことが好ましい。
有機溶媒としては、上述した光配向膜用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

偏光層形成用組成物が有機溶媒を含有する場合、有機溶媒の含有量は、偏光層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜偏光層の形成方法＞
偏光層の形成方法は特に限定されず、上述した偏光層形成用組成物を上述した本発明の光配向膜上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶成分とは、上述した液晶化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、偏光層形成用組成物を光配向膜上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した有機溶媒を含有する偏光層形成用組成物を用いたり、偏光層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向膜上に偏光層形成用組成物を塗布することが容易になる。
偏光層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させる工程である。これにより、偏光層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、偏光層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、偏光層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

（他の工程）
偏光層の形成方法は、上記配向工程後に、偏光層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、偏光層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

偏光層の厚さは、特に限定されないが、フレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光学異方性素子および／または偏光素子を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光学異方性素子および／または偏光素子と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
例えば、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の偏光素子を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の偏光素子を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の偏光素子と、上述した本発明の光学異方性素子と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔モノマーＭ１の合成〕
撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに、４－アミノシクロヘキサノール５０．０ｇ、トリエチルアミン４８．３ｇ、および、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド８００ｇを量りとり、氷冷下で撹拌した。
次いで、メタクリル酸クロリド４７．５ｇを滴下ロートを用いて４０分かけて滴下し、滴下終了後、４０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温（２３℃）まで冷却した後、析出した塩を吸引ろ過で除去した。得られた有機層を撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに移し、水冷下で撹拌した。
次いで、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン１０．６ｇ、トリエチルアミン６５．９ｇを添加し、あらかじめ１２５ｇのテトラヒドロフランに溶解させた４－オクチルオキシ桂皮酸クロリド１９１．８ｇを滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、滴下終了後、５０℃で６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水で分液洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮することにより黄白色固体を得た。
得られた黄白色固体をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４００ｇに加熱溶解させ、再結晶を行うことで、以下に示すモノマーＭ１を白色固体として９８ｇ得た（収率４０％）。

〔モノマーＭ２〕
以下に示すモノマーＭ２は、サイクロマーＭ－１００（株式会社ダイセル社製）を用いた。

〔モノマーＭ３〕
以下に示すモノマーＭ３は、ＢＢＥＭ（マナック株式会社製）を用いた。

〔共重合体ＰＡ－１の合成〕

冷却管、温度計、および撹拌機を備えたフラスコに、溶媒としてのＭＥＫ（６９．５ｇ）と、合成したモノマーＭ１（４．８５ｇ）を入れ、フラスコ内に窒素を５ｍＬ／ｍｉｎ流しながら、水浴加熱により還流することにより、モノマーＭ１を溶解させた。
ここに、モノマーＭ２（２６．３ｇ）、モノマーＭ３（１６．８ｇ）、重合開始剤としての２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル（５８０ｍｇ）、および、溶媒としてのＭＥＫ（１９．６ｇ）を混合した溶液を、３時間かけて滴下し、さらに２時間還流状態を維持したまま撹拌することにより、前駆体ｐＰＡ－１をＭＥＫ溶液として得た。
ｐＰＡ－１のＭＥＫ溶液に、ＤＭＡｃ（４７．５ｇ）、４?ヒドロキシＴＥＭＰＯ（１７３ｍｇ）、および、ジアザビシクロウンデセン（１２．０ｇ）を加え、６０℃にて８時間攪拌を行った。反応終了後、室温まで放冷、セライト濾過により不溶物を除去した後、濾液を水／メタノール（３／１（ｖ／ｖ））（１０００ｍｌ）中へ滴下することにより重合体を沈殿させた。回収した沈殿物を濾別し、水／メタノール（３／１（ｖ／ｖ））（４００ｍｌ）で２回洗浄および濾過を繰り返すことにより精製を行った。
得られた精製体を室温において１２時間送風乾燥することにより、下記式で表される共重合体ＰＡ－１を得た。

共重合体ＰＡ－１（重量平均分子量：３５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［実施例１］
＜光配向膜ＰＡ１の形成＞
下記の光配向膜用組成物ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に支持体であるＴＡＣフィルムＴＪ４０ＵＬ（厚み４０μｍ、富士フイルム社製）上に塗布し、第１塗布膜を形成した。
次いで、支持体上の第１塗布膜を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、支持体上に第１乾燥被膜を形成した。
次いで、第１乾燥被膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向膜ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。

────────────────────────────────
（光配向膜用組成物ＰＡ１）
────────────────────────────────
・上記共重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
────────────────────────────────

酸発生剤ＰＡＧ－１

酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

＜偏光層Ｐ１の形成＞
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記の偏光層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光層Ｐ１を形成し、実施例１の偏光素子を作製した。
偏光層Ｐ１の膜厚は１．５μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
（偏光層形成用組成物Ｐ１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ－１ ０．２５質量部
・下記アゾ色素Ｍ－１ ０．２７質量部
・下記アゾ色素Ｃ－１ ０．６５質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ－１ ３．５９質量部
・下記液晶化合物Ｌ－１ ０．１２質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４７．５０質量部
・テトラヒドロフラン ４７．５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

アゾ色素Ｙ－１

アゾ色素Ｍ－１

アゾ色素Ｃ－１

高分子液晶化合物Ｐ－１（重量平均分子量：１８０００）

液晶化合物Ｌ－１

界面改良剤Ｆ－１

［実施例２～４］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡ－２～ＰＡ－４に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡ２～ＰＡ４を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡ２～ＰＡ４を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、実施例２～４の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。

共重合体ＰＡ－２（重量平均分子量：２４０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－３（重量平均分子量：１５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－４（重量平均分子量：４５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［実施例５］
＜偏光層Ｐ５の形成＞
下記の偏光層形成用組成物Ｐ５を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
次いで、実施例１で得られた光配向膜ＰＡ１上に、ろ過後の偏光層形成用組成物Ｐ５をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ５を形成した。
次いで、塗布層Ｐ５を１２０℃で６０秒間加熱し、塗布層Ｐ５を室温（２３℃）になるまで冷却した。これにより、スメクチックＢ相で配向が安定化した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光層Ｐ５を形成し、実施例５の偏光素子を作製した。
偏光層Ｐ５の膜厚は３．８μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
（偏光層形成用組成物Ｐ５）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記アゾ色素Ｙ－５ ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｍ－５ ２．７質量部
・下記アゾ色素Ｃ－５ ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｐ－５ ７５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．８質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．６質量部
・シクロペンタノン ２７４．５質量部
・テトラヒドロフラン ６４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

アゾ色素Ｍ－５

アゾ色素Ｙ－５

アゾ色素Ｃ－５

液晶化合物Ｐ－５（下記化合物Ａ／下記化合物Ｂ＝７５／２５で混合）

化合物Ａ

化合物Ｂ

［比較例１］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－１に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ１を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡＡ１を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例１の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。
なお、下記共重合体ＰＡＡ－１は、国際公開第２０１７／０６９２５２号の［００９５］段落に記載された重合体Ａ２の合成方法に準じて合成した。

共重合体ＰＡＡ－１（重量平均分子量：３６０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［比較例２］
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡＡ－２に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ２を形成した。
光配向膜ＰＡ１に代えて、光配向膜ＰＡＡ２を用いた以外は、実施例１と同様の方法にて、比較例２の偏光素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、偏光層の膜厚は１．５μｍであった。
なお、下記共重合体ＰＡＡ－２は、国際公開第２０１８／１７３７２７号の実施例３１に記載された重合体Ｐ３１の合成方法に準じて合成した。

共重合体ＰＡＡ－２（重量平均分子量：７００００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［評価］
＜液晶配向性（偏光度）＞
作製した偏光素子（以下、本段落において「偏光膜Ｂ」と略します。）の液晶配向性については、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ－７０７０を用いて、視感度補正した偏光度を算出して評価した。結果を下記表２に示す。
ここで、「視感度補正した偏光度」とは、光源と、直線偏光子と、偏光膜Ｂとをこの順に設置し、支持体側から入射した３８０～７８０ｎｍの波長域における透過率を測定し、下記式で各波長の偏光度を算出し、視感度補正係数を乗じた値の平均値をいう。
偏光度Ｐ＝√（（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）
Ｔｐ＝（Ｔｙ＾２＋Ｔｘ＾２）／２
Ｔｃ＝Ｔｙ＊Ｔｘ
Ｔx：入射偏光と偏光膜Ｂがクロスニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）
Ｔy：入射偏光と偏光膜Ｂがパラニコルになるように配置した際の透過率（入射偏光を１００％とする）

＜密着性＞
作製した偏光素子を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、偏光素子の偏光層にテープを貼りつけて剥離した。
偏光層剥離面を観察し、以下の基準に沿って評価した。結果を下記表２に示す。
Ａ：剥離無し
Ｂ：剥離残りが観察されるが、面積で５％以下
Ｃ：剥離残りが観察され、面積で５％以上

表２に示す結果から、シンナメート基で表される光配向性基を含む繰り返し単位、エポキシ基で表される重合性基を含む繰り返し単位、および、アクリロイル基で表される重合性基を含む繰り返し単位を有する共重合体であっても、主鎖がシロキサンの共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として偏光層を設けた場合には、液晶配向性（偏光度）および密着性のいずれも劣ること分かった（比較例１）。これは、二色性色素は立体障害の小さい剛直な分子であるため有機溶剤に対する溶解性が低く、塗布液には溶解力の高い有機溶媒の使用が必須となるため、光配向膜が、有機溶媒で侵されることに起因している。
また、シンナメート基で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａ、および、エポキシ基で表される重合性基を含む繰り返し単位Ｃを有する共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として偏光層を設けた場合には、液晶配向性（偏光度）は良好であったが、密着性が劣ることが分かった（比較例２）。
これに対し、繰り返し単位Ａ、繰り返し単位Ｂおよび繰り返し単位Ｃを有する共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として偏光層を設けた場合にも、液晶配向性（偏光度）および密着性がいずれも良好となることが分かった（実施例１～５）。

［実施例６］
＜光学異方性層Ｐ６の形成＞
下記の光学異方性層形成用組成物Ｐ６を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
次いで、実施例１で得られた光配向膜ＰＡ１上に、ろ過後の光学異方性層形成用組成物Ｐ６をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ６を形成した。
次いで、塗布層Ｐ６を１０５℃まで加熱した後、６０℃まで徐冷して配向を安定化させた。これにより、スメクチックＡ相で配向が安定化した。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に光学異方性層Ｐ６を形成し、実施例６の光学異方性素子を作製した。
光学異方性層Ｐ６の膜厚は２．０μｍであった。

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光学異方性層形成用組成物Ｐ６
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・下記重合性液晶化合物Ｌ－６－１ ４３．７５質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－６－２ ４３．７５質量部
・下記重合性化合物Ａ－６ １２．５０質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ３．００質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
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なお、下記重合性液晶化合物Ｌ－６－１およびＬ－６－２のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記重合性液晶化合物Ｌ－６－１およびＬ－６－２は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

重合性液晶化合物Ｌ－６－１

重合性液晶化合物Ｌ－６－２

重合性化合物Ａ－６

重合開始剤Ｓ－１（オキシム型）

［実施例７～９］
光配向膜ＰＡ１に代えて、実施例２～４で得られた光配向膜ＰＡ２～ＰＡ４を用いた以外は、実施例６と同様の方法にて、実施例７～９の光学異方性素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。

［実施例１０］
＜光配向膜ＰＡ１０の形成＞
光配向膜ＰＡ１の形成において、共重合体ＰＡ－１を下記共重合体ＰＡ－１０に変更した以外は、実施例１と同様の方法にて、光配向膜ＰＡ１０を形成した。
光配向膜ＰＡ１０の膜厚は１．０μｍであった。

共重合体ＰＡ－１０（重量平均分子量：３５０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

＜光学異方性層Ｐ１０の形成＞
下記の光学異方性層形成用組成物Ｐ１０を調製し、攪拌しながら５０℃で３時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
次いで、光配向膜ＰＡ１０上に、ろ過後の光学異方性層形成用組成物Ｐ１０をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１０を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１０を１２０℃まで加熱した後、６０℃まで徐冷して配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で４秒間照射し、続いて１２０℃に加熱しながら２０秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１０上に光学異方性層Ｐ１０を形成し、実施例１０の光学異方性素子を作製した。
光学異方性層Ｐ１０の膜厚は２．０μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
（光学異方性層形成用組成物Ｐ１０）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１０－１ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１０－２ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１０ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・シクロペンタノン ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

重合性液晶化合物Ｌ－１０－１

重合性液晶化合物Ｌ－１０－２

重合性化合物Ａ－１０

［実施例１１～１６］
光配向膜ＰＡ１０の形成において、共重合体ＰＡ－１０を下記共重合体ＰＡ－１１～ＰＡ－１６に変更した以外は、実施例１０と同様の方法にて、光配向膜ＰＡ１１～ＰＡ１６を形成した。
光配向膜ＰＡ１０に代えて、光配向膜ＰＡ１１～ＰＡ１６を用いた以外は、実施例１０と同様の方法にて、実施例１１～１４の光学異方性素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。

共重合体ＰＡ－１１～ＰＡ－１３
共重合体ＰＡ－１１は重量平均分子量を４１，０００に、共重合体ＰＡ－１２は重量平均分子量を７，０００に、共重合体ＰＡ－１３は重量平均分子量を１３０，０００に変更した以外は、共重合体ＰＡ－１０と同じ構造の共重合体である。

共重合体ＰＡ－１４（重量平均分子量：３００００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－１５（重量平均分子量：３７０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

共重合体ＰＡ－１６（重量平均分子量：１９０００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［実施例１７］
光学異方性層Ｐ１０の形成において、重合性液晶化合物Ｌ－１０－１およびＬ－１０－２を下記重合性液晶化合物Ｌ－１７に変更した以外は、実施例１０と同様の方法にて、実施例１７の光学異方性素子を得た。光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。

重合性液晶化合物Ｌ－１７

［比較例３］
光配向膜ＰＡ１０の形成において、共重合体ＰＡ－１０を下記共重合体ＰＡＡ－３に変更した以外は、実施例１０と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ３を形成した。
光配向膜ＰＡ１０に代えて、光配向膜ＰＡＡ３を用いた以外は、実施例１０と同様の方法にて、比較例３の光学異方性素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。
なお、下記共重合体ＰＡＡ－３は、特許第６２５０３２４号公報の実施例６に記載された重合体６の合成方法に準じて合成した。

共重合体ＰＡＡ－３（重量平均分子量：３７３００）

（上記式中、各繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位の質量％を表す。）

［比較例４］
光配向膜ＰＡ１０の形成において、共重合体ＰＡ－１０を上記共重合体ＰＡＡ－２に変更した以外は、実施例１０と同様の方法にて、光配向膜ＰＡＡ２を形成した。
光配向膜ＰＡ１０に代えて、光配向膜ＰＡＡ２を用いた以外は、実施例１０と同様の方法にて、比較例４の光学異方性素子を作製した。光配向膜の膜厚は１．０μｍであり、光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。

［評価］
＜液晶配向性＞
作製した光学異方性素子について、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察し、以下の基準で評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：液晶ダイレクタの乱れがなく、面状が安定している
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れが部分的にある
Ｃ：液晶ダイレクタが大幅に乱れて面状が安定せず、表示性能が非常に劣る
なお、本願明細書において、安定した面状とは、クロスニコル配置した２枚の偏光板の間に光学積層体を設置して観察した際にムラや配向不良等の欠陥がない状態を意図する。
また、本願明細書において、液晶ダイレクタとは液晶性分子の長軸が配向している方向（配向主軸）のベクトルを意図する。

＜密着性＞
作製した光学異方性素子を２５ｍｍ×１５０ｍｍの大きさに裁断し、光学異方性素子の光学異方性層にテープを貼りつけて剥離した。
光学異方性層剥離面を観察し、以下の基準に沿って評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：剥離無し
Ｂ：剥離残りが観察されるが、面積で５％以下
Ｃ：剥離残りが観察され、面積で５％以上

表３に示す結果から、シンナメート基で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａ、および、アクリロイル基で表される重合性基を含む繰り返し単位Ｂを有する共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として光学異方性層を設けた場合には、液晶配向性および密着性がいずれも劣ることが分かった（比較例３）。これは、逆波長分散性の重合性液晶化合物は有機溶媒に対する溶解性が低く、塗布液には溶解力の高い有機溶媒の使用が必須となるため、光配向膜が、有機溶媒で侵されることに起因している。
また、シンナメート基で表される光配向性基を含む繰り返し単位Ａ、および、エポキシ基で表される重合性基を含む繰り返し単位Ｃを有する共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として光学異方性層を設けた場合には、液晶配向性は良好であったが、密着性が劣ることが分かった（比較例４）。

これに対し、繰り返し単位Ａ、繰り返し単位Ｂおよび繰り返し単位Ｃを有する共重合体を用いて光配向膜を形成すると、隣接層として光学異方性層を設けた場合にも、液晶配向性および密着性がいずれも良好となることが分かった（実施例６～１７）。
特に実施例１０～１３を対比すると、光配向膜の形成に用いる共重合体の重量平均分子量が１００００～１０００００であると、液晶配向性がより良好となることが分かった。
また、実施例１０、１１、１４～１６および１７を対比すると、光配向膜の形成に用いる共重合体の全質量に対する繰返し単位Ａの含有量ａ、繰返し単位Ｂの含有量ｂ、および、繰返し単位Ｃの含有量ｃの各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ≦４５、および、５０≦ｃ≦７５を満たすと、液晶配向性および密着性のいずれか一方がより良好となることが分かった。

［実施例１８］
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
以下のとおり、セルロースアシレートフィルム１を作製した。

＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｆ

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

〔積層体Ａの作製〕
以下のとおり、上記セルロースアシレートフィルム１と光配向膜ＰＡ１と液晶層Ｐ１と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１とをこの順に隣接して備える積層体Ａを作製した。

＜光配向膜付きＴＡＣフィルムの作製＞
後述する配向膜形成用塗布液ＰＡ１８を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１８を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向膜ＰＡ１８の厚みｄは１．０μｍであった。光配向膜ＰＡ１８の弾性率Ｅは４．７ＧＰａであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ１８）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ ６５．２１質量部
・デナコールＥＸ６１４Ｂ（ナガセケムテックス社製）２６．２５質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ） ０．５５質量部
・キシレン １１４２．９２質量部
・メチルイソブチルケトン １２６．９９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜偏光層Ｐ１の形成＞
得られた光配向膜付きＴＡＣフィルムの光配向膜ＰＡ１８上に、実施例１と同様の偏光層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、実施例１と同様の方法で、偏光層Ｐ１を形成した。

＜硬化層Ｎ１の形成＞
形成された上記偏光層Ｐ１上に、下記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層Ｎ１を形成した。
次いで、硬化層Ｎ１を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、偏光層Ｐ１上に硬化層Ｎ１を作製した。
硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化層形成用組成物Ｎ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面改良剤Ｆ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

光重合開始剤Ｉ－１

界面改良剤Ｆ－３

＜酸素遮断層Ｂ１の形成＞
形成された上記硬化層Ｎ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｎ１上に厚み１．１μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜（酸素遮断層Ｂ１）を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇｃｕｒｅ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

このようにして、セルロースアシレートフィルム１と光配向膜ＰＡ１８と偏光層Ｐ１と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１とをこの順に隣接して備える積層体Ａを得た。

〔ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の作製〕
後述する配向膜形成用塗布液ＰＡＡＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上述したセルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍの厚みの光配向膜ＰＡＡＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。

後述する組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて上記光配向膜ＰＡＡＡ１上に塗布した。光配向膜ＰＡＡＡ１上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡＡＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡＡＡ１ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合体ＰＡＡＡ１

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ａ－１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物Ｌ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合性液晶性化合物Ｌ－１（ｔＢｕはターシャリーブチル基を表す）

重合性液晶性化合物Ｌ－２

重合性液晶性化合物Ｌ－３

重合性液晶性化合物Ｌ－４（Ｍｅはメチル基を表す）

重合開始剤ＰＩ－１

レベリング剤Ｔ－１

〔ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の作製〕
仮支持体として、上述したセルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

下記の組成の配向膜形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向膜上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－１１ ８０質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１２ ２０質量部
・下記垂直配向性液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔粘着剤Ｎ１、Ｎ２の作製〕
次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体（Ａ１）を得た。

次に得られたアクリレート系重合体（Ａ１）を用いて、以下の表４の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、アクリレート系粘着剤Ｎ１、Ｎ２（粘着剤層）を得た。アクリレート系粘着剤の組成と膜厚を下記表４に示す。なお、粘着剤Ｎ２は後述する耐久性の評価の際に使用される粘着剤層である。

＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。

（A）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）（B）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（C）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（D）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）

〔ＵＶ接着剤組成物の調製〕
下記ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
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・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────

ＣＰＩ－１００Ｐ

〔実施例１８の光学異方性素子の作製〕
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて６００ｍＪ/ｃｍ^２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向膜ＰＡＡＡ１とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。
低反射表面フィルムＣＶ-ＬＣ５（富士フイルム社製）の支持体側に、上記粘着剤Ｎ１（粘着剤層２）を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１側とを、上記粘着剤Ｎ１（粘着剤層１）を用いて貼り合わせ、実施例１８の積層体を作製した。このとき、光吸収異方性層（偏光層Ｐ１）の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
このようにして、セルロースアシレートフィルム１と配向膜とポジティブＣプレートＣ１とＵＶ接着剤層とポジティブＡプレートＡ１（λ／４板）と粘着剤Ｎ１（粘着剤層１）と光配向膜ＰＡ１８と偏光層Ｐ１（光吸収異方性層）と硬化層Ｎ１と酸素遮断層Ｂ１と粘着剤Ｎ１（粘着剤層２）と低反射表面フィルムＣＶ－ＬＣ５（表面保護層）とをこの順に隣接して有する実施例１８の光学異方性素子を得た。

［実施例１９］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
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（配向膜形成用塗布液ＰＡ１９）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ ６３．３６質量部
・デナコールＥＸ１１１２（ナガセケムテックス社製）２８．５１質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ ０．５５質量部
・キシレン １１５０．９０質量部
・メチルイソブチルケトン １２９．１１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２０］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ２０）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ ６４．３５質量部
・ＴＥＰＩＣ－ＵＣ（日産化学社製） ２６．２５質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ ０．５５質量部
・キシレン １１４２．９２質量部
・メチルイソブチルケトン １２６．９９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２１］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ２１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ ６５．２１質量部
・デナコールＥＸ８１１（ナガセケムテックス社製） ２８．５１質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ ０．５５質量部
・キシレン １１４７．５２質量部
・メチルイソブチルケトン １２８．１８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２２］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ２２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ ６５．２１質量部
・デュラネートＫ６０Ｂ（旭化成ケミカルズ社製） ２８．５１質量部
・酸発生剤サンエイドＳＩ－Ｂ３Ａ ７．５８質量部
・ＤＩＰＥＡ ０．５５質量部
・キシレン １１４７．５２質量部
・メチルイソブチルケトン １２８．１８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２３］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向膜形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記共重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
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［比較例５］
配向膜形成用塗布液ＰＡ１８の代わりに、以下に示す塗布液を使用した以外は、実施例１８と同様の手順に従って、光学異方性素子を得た。
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（配向膜形成用塗布液ＰＡＡ２）
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・上記共重合体ＰＡＡ－２ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
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＜耐久性の評価＞
実施例１８～２３および比較例５で作製した各光学異方性素子について耐久性を評価した。
具体的には、光学異方性素子のポジティブＣプレートＣ１側を、粘着剤Ｎ２を用いてアルミ基板に貼合したのち、８０℃８０％ＲＨの恒温恒湿槽に２５時間静置し取り出した後、面状を目視にて観察し以下の評点をつけた。なお、用意したアルミ基板の表面反射率は８４％であった。結果を下記表５に示す。実用上、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。
Ａ：恒温恒湿槽投入後に反射ムラの発生が見られなかった。
Ｂ：恒温恒湿槽投入後にサンプルの半分以下の面積に軽微な反射ムラの発生が見られた。
Ｃ：恒温恒湿槽投入後にサンプル全面に反射ムラの発生が見られた。

Claims (17)

1. 下記式（Ａ）で表される繰り返し単位Ａと、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂと、下記式（Ｃ）で表される繰り返し単位Ｃとを有する共重合体であって、
   前記共重合体の全質量に対する、前記繰り返し単位Ａの含有量が４～３０質量％であり、前記繰り返し単位Ｂの含有量が１９～４５質量％であり、前記繰り返し単位Ｃの含有量が４９～７５質量％である、共重合体。
   

   

   前記式（Ａ）～（Ｃ）中、
   Ｒ^ａ～Ｒ^ｃは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
   Ｌ^ａ～Ｌ^ｃは、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、
   Ａは、シンナモイル基である光配向性基を表し、
   Ｂは、下記式（ＰＧ－１）で表される重合性基を表し、
   Ｃは、下記式（ＰＧ－５）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。
   

   

   

   前記式（ＰＧ－１）、および（ＰＧ－５）～（ＰＧ－９）中、
   ＊は、Ｌ^ｂまたはＬ^ｃとの結合位置を表し、
   Ｒ^ｄは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、または、トリフルオロメチル基を表す。ただし、前記式（ＰＧ－５）、（ＰＧ－６）および（ＰＧ－９）における複数のＲ^ｄは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
2. 重量平均分子量が、１００００～１０００００である、請求項１に記載の共重合体。
3. 前記共重合体の全質量に対する前記繰り返し単位Ａの含有量ａ、前記繰り返し単位Ｂの含有量ｂ、および、前記繰り返し単位Ｃの含有量ｃの各質量％が、５≦ａ≦３０、２０≦ｂ≦４５、および、５０≦ｃ≦７５を満たす、請求項１または２に記載の共重合体。
4. 請求項１～３のいずれか１項に記載の共重合体を含有する、光配向膜用組成物。
5. 更に、有機溶媒を含有する、請求項４に記載の光配向膜用組成物。
6. 更に、重合開始剤を含有する、請求項４または５に記載の光配向膜用組成物。
7. 更に、架橋剤を含有する、請求項４～６のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
8. 請求項４～７のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物を用いて形成した、光配向膜。
9. 請求項８に記載の光配向膜と、重合性液晶化合物を含有する光学異方性層形成用組成物を用いて形成される光学異方性層とを有する、光学異方性素子。
10. 前記重合性液晶化合物が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物である、請求項９に記載の光学異方性素子。
11. 前記重合性液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、請求項９または１０に記載の光学異方性素子。
12. 請求項８に記載の光配向膜と、液晶化合物および二色性物質を含有する偏光層形成用組成物を用いて形成される偏光層とを有する、偏光素子。
13. 前記液晶化合物が、重合性スメクチック液晶化合物である、請求項１２に記載の偏光素子。
14. 前記液晶化合物が、側鎖型高分子液晶化合物である、請求項１２に記載の偏光素子。
15. 前記側鎖型高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体である、請求項１４に記載の偏光素子。
    

    

    前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
16. 前記液晶化合物および前記二色性物質の少なくとも一方が重合性基を有する、請求項１２～１５のいずれか１項に記載の偏光素子。
17. 前記液晶化合物および前記二色性物質の少なくとも一方が有する重合性基と、前記共重合体が有する重合性基とが同一種類である、請求項１６に記載の偏光素子。