WO2020129729A1

WO2020129729A1 - 液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置

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Publication number: WO2020129729A1
Application number: PCT/JP2019/048062
Authority: WO
Inventors: 拓史松山; 渉星野
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2018-12-21
Filing date: 2019-12-09
Publication date: 2020-06-25
Also published as: JPWO2020129729A1; JP7108051B2; CN113227851B; US20210324272A1; US11697770B2; CN113227851A

Abstract

本発明の課題は、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置の提供である。本発明の液晶組成物は、高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物であって、高分子液晶性化合物が式（１）で表される繰り返し単位（１）を９０質量％以上と、式（２）で表される繰り返し単位（２）を１０質量%以下と、を有する共重合体である。式（１）および（２）中、Ｐ１～Ｐ３は繰り返し単位の主鎖、Ｌ１～Ｌ３は単結合または２価の連結基、ＳＰ１はスペーサー基、ＳＰ２～ＳＰ３は単結合またはスペーサー基、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基、Ｍ２～Ｍ３はメソゲン基、Ｔ１は末端基、ｎおよびｍは０または１の整数を表す。

Description

液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置

　本発明は、液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。

　従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
　例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

　従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
　例えば、特許文献１には、高分子液晶性化合物と二色性物質とを含有する液晶組成物において、主鎖からスペーサー基までのｌｏｇＰ値と、メソゲン基のｌｏｇＰ値との差が４以上となる繰り返し単位を有する高分子液晶性化合物を用いれば、配向度の高い光吸収異方性膜を形成できることが記載されている（段落０００７等）。

国際公開第２０１８／１２４１９８号

　本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、高い配向度を示すものの、光吸収異方性膜の形成に用いられる高分子液晶性化合物の種類によっては、高分子液晶性化合物を含む液晶組成物が基材上ではじかれて、光吸収異方性膜の面状均一性が不十分となったりする等の問題が生じることを明らかとした。

　そこで、本発明は、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置の提供を課題とする。

　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、二色性物質とともに配合する高分子液晶性化合物が特定構造の繰り返し単位（１）および（２）を有し、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、繰り返し単位（１）の含有量が９０質量％以上であり、かつ、繰り返し単位（２）の含有量が１０質量％以下であれば、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］
　高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物であって、
　上記高分子液晶性化合物が、後述の式（１）で表される繰り返し単位（１）と、後述の式（２）で表される繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、
　上記繰り返し単位（１）の含有量が、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、９０質量％以上であり、
　上記繰り返し単位（２）の含有量が、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、１０質量％以下である、液晶組成物。
　後述の式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
　後述の式（２）中、Ｐ２およびＰ３はそれぞれ独立に繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。
［２］
　後述の式（２）中、ｎおよびｍの合計が１または２である、［１］に記載の液晶組成物。
［３］
　後述の式（２）中、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造が２個以上の環状構造を含む、［１］または［２］に記載の液晶組成物。
［４］
　後述の式（２）中、Ｐ２とＰ３が同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基である、［１］～［３］のいずれかに記載の液晶組成物。
［５］
　上記繰り返し単位（２）の含有量が、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、０．００１～３質量％である、［１］～［４］のいずれかに記載の液晶組成物。
［６］
　単官能モノマーと、多官能モノマーと、を共重合して、高分子液晶性化合物を得る工程を含み、
　上記単官能モノマーの含有量が、上記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、９０質量％以上であり、
　上記多官能モノマーの含有量が、上記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、１０質量％以下である、高分子液晶性化合物の製造方法。
［７］
　上記単官能モノマーが、メソゲン基を含む、［６］に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
［８］
　上記単官能モノマーが、後述の式（１ａ）で表される化合物である、［６］または［７］に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　後述の式（１ａ）中、Ｐ１ａは重合性基を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１ａは末端基を表す。
［９］
　上記多官能モノマーが、後述の式（２ａ）で表される化合物である、［６］～［８］のいずれかに記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　後述の式（２ａ）中、Ｐ２ａおよびＰ３ａはそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。
［１０］
　後述の式（２ａ）中、ｎおよびｍの合計が１または２である、［９］に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
［１１］
　後述の式（２ａ）中、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造が２個以上の環状構造を含む、［９］または［１０］に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
［１２］
　後述の式（２ａ）中、Ｐ２ａとＰ３ａが同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基である、［８］～［１１］のいずれかに記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
［１３］
　上記多官能モノマーの含有量が、上記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、０．００１～３質量％である、［６］～［１２］のいずれかに記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
［１４］
　［１］～［５］のいずれかに記載の液晶組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
［１５］
　基材と、上記基材上に設けられる［１４］に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
［１６］
　さらに、上記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［１５］に記載の積層体。
［１７］
　［１４］に記載の光吸収異方性膜、または、［１５］もしくは［１６］に記載の積層体を有する、画像表示装置。

　本発明によれば、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、高分子液晶性化合物の製造方法、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供できる。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称である。

［液晶組成物］
　本発明の液晶組成物は、高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物であって、上記高分子液晶性化合物が、後述の式（１）で表される繰り返し単位（１）と、後述の式（２）で表される繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、上記繰り返し単位（１）の含有量が、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、９０質量％以上であり、上記繰り返し単位（２）の含有量が、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、１０質量％以下である。
　本発明の液晶組成物によれば、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
　繰り返し単位（２）は、多官能モノマーを重合して、高分子液晶性化合物に導入される単位である。そのため、高分子液晶性化合物には、繰り返し単位（２）によって３次元架橋構造を形成した高分子量体が含まれていると考えられる。ここで、繰り返し単位（２）の含有量は繰り返し単位（１）の含有量と比較して少ないので、繰り返し単位（２）を含む高分子量体は、液晶組成物中に僅かに含まれていると考えられる。
　このような高分子量体が僅かに存在することで、液晶組成物のはじきが抑制されて、面状均一性に優れた光吸収異方性膜が得られたと推測される。
　また、高分子量体の含有量が僅かであるので、繰り返し単位（１）によってもたらされる配向度に優れるという効果が維持できたと推測される。

〔高分子液晶性化合物〕
　高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）との共重合体であり、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

　＜繰り返し単位（１）＞
　本発明の液晶組成物に含まれる高分子液晶性化合物は、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）を含む。

　式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

　式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
　式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ^４（ＯＲ^５）_２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ^４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^４と同義であり、複数のＲ^５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

　Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

　ＳＰ１が表すスペーサー基は、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
　ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であるがより好ましい。
　ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数がより好ましく、３であることが最も好ましい。
　また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

　Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅｉｎＴａｂｅｌｌｅｎＩＩ」（ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇｆｕｒＧｒｕｎｄｓｔｏｆｆＩｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
　Ｍ１が表すメソゲン基は、環状構造を３個以上含み、３～５個含むのが好ましく、３～４個含むのがより好ましく、３個含むのが特に好ましい。
　環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基が挙げられ、これらの中でも芳香族炭化水素基が好ましい。

　Ｍ１が表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

　式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基または後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
　Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

　Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

　Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
　２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

　Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

　式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は３～１０の整数を表す。複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は２～１０の整数を表し、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２であることがより好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

　Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

　Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。Ｔ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
　上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
　Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
　Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

　繰り返し単位（１）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量（１００質量％）に対して、９０質量％以上であり、本発明の効果がより発揮される点から、９５～９９．９９９質量％が好ましく、９７～９９．９５質量％がより好ましい。
　本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
　繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。
　この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１））が、質量比で０．００５～４が好ましく、０．０１～２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。

　＜繰り返し単位（２）＞
　本発明の液晶組成物に含まれる高分子液晶性化合物は、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）を含む。

　式（２）中、Ｐ２およびＰ３はそれぞれ独立に繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍは０または１の整数を表す。

　Ｐ２およびＰ３の具体例および好適態様は、式（１）のＰ１と同様であるので、その説明を省略する。Ｐ２およびＰ３は、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
　Ｌ２およびＬ３が２価の連結基である場合の具体例および好適態様は、式（１）のＬ１と同様であるので、その説明を省略する。Ｌ２およびＬ３は、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
　ＳＰ２およびＳＰ３がスペーサー基である場合の具体例および好適態様は、式（１）のＳＰ１と同様であるので、その説明を省略する。ＳＰ２およびＳＰ３は、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
　ここで、式（２）における同一の基とは、各基が結合する向きを問わずに化学構造が同一であるという意味であり、例えば、ＳＰ２が＊－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－＊＊（＊はＬ２との結合位置を表し、＊＊はＭ２との結合位置を表す。）であり、ＳＰ３が＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－＊＊（＊はＭ３との結合位置を表し、＊＊はＬ３との結合位置を表す。）である場合も、同一の基である。

　ｎおよびｍはそれぞれ独立に、０または１の整数であり、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、１であるのが好ましい。
　ｎおよびｍは、同一であっても、異なっていてもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも１であるのが好ましい。
　ｎおよびｍの合計は、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、１または２であるのが好ましく（すなわち、式（２）で表される繰り返し単位がメソゲン基を有すること）、２であるのがより好ましい。
　Ｍ２およびＭ３が表すメソゲン基の定義は、式（１）のＭ１で説明したメソゲン基の定義と同様である。

　－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造は、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、環状構造を有するのが好ましい。この場合、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造における環状構造の個数は、２個以上が好ましく、２～８個がより好ましく、２～６個がさらに好ましく、２～４個が特に好ましく、４個が最も好ましい。
　Ｍ２およびＭ３が表すメソゲン基はそれぞれ独立に、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、環状構造を１個以上含むのが好ましく、２～４個含むのが好ましく、２～３個含むのがより好ましく、２個含むのが特に好ましい。
　環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基が挙げられ、これらの中でも芳香族炭化水素基が好ましい。
　Ｍ２およびＭ３は、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。

　Ｍ２およびＭ３が表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ２－Ａ）または下記式（Ｍ２－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ２－Ｂ）で表される基がより好ましい。

　式（Ｍ２－Ａ）中、Ａ４は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基または後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
　Ａ４で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ４でされる２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、Ｍ２で表されるメソゲン基である場合には、ＳＰ２またはＴ２との結合位置を表し、Ｍ３で表されるメソゲン基である場合には、ＳＰ３またはＴ３との結合位置を表す。

　Ａ４が表す２価の芳香族炭化水素基、２価の複素環基、および、２価の脂環式基の具体例および好適態様は、上述の式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。

　式（Ｍ２－Ａ）中、ａ３は１～４（好ましくは２～４、より好ましくは２）の整数を表す。ａ３が２以上の場合、複数のＡ４は同一でも異なっていてもよい。

　式（Ｍ２－Ｂ）中、Ａ５およびＡ６はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ５およびＡ６の具体例および好適態様は、式（Ｍ２－Ａ）のＡ４と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ２－Ｂ）中、ａ４は１～３の整数を表し、ａ４が２以上の場合、複数のＡ５は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ２は同一でも異なっていてもよい。ａ４は、本発明の効果がより優れる理由から、１であることがより好ましい。
　式（Ｍ２－Ｂ）中、ａ４が１である場合には、ＬＡ２は２価の連結基である。ａ４が２以上である場合には、複数のＬＡ２はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ２のうち少なくとも１つが２価の連結基である。

　式（Ｍ２－Ｂ）中、ＬＡ２が表す２価の連結基の具体例および好適態様は、上述の式（Ｍ１－Ａ）のＬＡ１と同様であるので、その説明を省略する。

　Ｍ２およびＭ３の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

　特に、繰り返し単位（２）は、Ｐ２とＰ３が同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基であるのが好ましい。これにより、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。

　繰り返し単位（２）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量（１００質量％）に対して、１０質量％以下であり、本発明の効果がより発揮される点から、０．００１～５質量％が好ましく、０．０５～３質量％がより好ましい。
　繰り返し単位（２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　＜置換基Ｗ＞
　本明細書における置換基Ｗについて記載する。
　置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、ｔｅｒｔ－ブチル基）（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)₂）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)₂）、スルファト基（－ＯＳＯ₃Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
　なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。

　＜物性＞
　高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
　特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
　また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
　ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
　・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
　・装置名：ＴＯＳＯＨＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　・カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
　・カラム温度：２５℃
　・試料濃度：０．１質量％
　・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
　・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン　Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

　高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
　ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０～４００℃であることが好ましい。

〔二色性物質〕
　本発明の液晶組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
　具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特願２０１５－００１４２５号公報の［００２２］～［００８０］段落、特願２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号の［０００８］～［００６２］段落、ＷＯ２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、ＷＯ２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、ＷＯ２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、ＷＯ２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載された二色性色素が挙げられる。

　本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。

　本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
　架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　二色性物質の含有量は、光吸収異方性膜の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、高分子液晶性化合物１００質量部に対して２～４００質量部であることが好ましく、３～３００質量部であることがより好ましく、４～２００質量部であることがさらに好ましい。

〔重合開始剤〕
　本発明の液晶組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
　重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
　このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１８４、９０７、３６９、６５１、８１９、ＯＸＥ－０１およびＯＸＥ－０２などが挙げられる。
　本発明の液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。

〔溶媒〕
　本発明の液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
　本発明の液晶組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０～９９質量％が好ましく、８３～９８質量％がより好ましく、８５～９６質量％がさらに好ましい。

〔界面改良剤〕
　本発明の液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
　界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
　本発明の液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部が好ましい。

［高分子液晶性化合物の製造方法］
　本発明の高分子液晶性化合物の製造方法は、単官能モノマーと、多官能モノマーと、を共重合して、高分子液晶性化合物を得る工程を含み、上記単官能モノマーの含有量が、上記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、９０質量％以上であり、上記多官能モノマーの含有量が、上記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、１０質量％以下である。
　本製造方法によって得られる高分子液晶性化合物には、上述の本発明の液晶組成物に含まれる高分子液晶性化合物と同様に、高分子量体が僅かに含まれていると推測される。そのため、本製造方法によって得られる高分子液晶性化合物を含む液晶組成物を用いれば、面状均一性に優れ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる。
　上述の本発明の液晶組成物に含まれる高分子液晶性化合物は、例えば、本製造方法によって製造できる。

〔単官能モノマー〕
　本発明において、単官能モノマーとは、重合性基を１個のみ含むモノマーを意味する。
　単官能モノマーは、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、メソゲン基を含むのが好ましく、環状構造を３個以上含むメソゲン基を含むのがより好ましく、下記式（１ａ）で表される化合物であるのが特に好ましい。環状構造の具体例およびメソゲン基の定義は、式（１）のＭ１で説明した通りであるので、その説明を省略する。

　式（１ａ）中、Ｐ１ａは重合性基を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　Ｐ１ａが表す重合性基としては、下記式（Ｐ１ａ－Ａ）～（Ｐ１ａ－Ｄ）で表される基が挙げられ、中でも、下記式（Ｐ１ａ－Ａ）で表される基が好ましい。

　式（Ｐ１ａ－Ａ）～（Ｐ１ａ－Ｄ）において、「＊」は、式（１ａ）におけるＬ１との結合位置を表す。
　式（Ｐ１ａ－Ａ）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１ａ－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの部分構造であることが好ましい。
　式（Ｐ１ａ－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物の部分構造である。
　式（Ｐ１ａ－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物の部分構造である。
　式（Ｐ１ａ－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の部分構造である。
　式（Ｐ１ａ－Ａ）～（Ｐ１ａ－Ｄ）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ、式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４と同義である。式（Ｐ１ａ－Ｄ）におけるＲ^５は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。

　式（１ａ）におけるＬ１の具体例および好適態様は、式（１）のＬ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（１ａ）におけるＳＰ１の具体例および好適態様は、式（１）のＳＰ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（１ａ）におけるＭ１の具体例および好適態様は、式（１）のＭ１と同様であるので、その説明を省略する。

　Ｔ１ａが表す末端基は、重合性基を含まない。重合性基の具体例は上述の通りである。
　Ｔ１ａが表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基などが挙げられる。Ｔ１ａは、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
　Ｔ１ａは、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基（より好ましくは炭素数１～５のアルコキシ基、特に好ましくはメトキシ基である）、または、炭素数１～１０のアルコキシ基と炭素数１～１０のアシルオキシ基とを組み合わせた基であって末端がハロゲン原子で置換された基（例えば、＊－Ｏ－Ｒ^ａ－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ^ｂ－Ｘで表される基。Ｒ^ａおよびＲ^ｂはそれぞれ独立に炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ｘはハロゲン原子を表し、＊はＭ１との結合位置を表す。）であるのが好ましい。

　単官能モノマーの含有量は、高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量（１００質量％）に対して、９０質量％以上であり、本発明の効果がより発揮される点から、９５～９９．９９９質量％が好ましく、９７～９９．９５質量％がより好ましい。
　単官能モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。単官能モノマーを２種以上使用すると、得られる高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。単官能モノマーを２種以上使用する場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

〔多官能モノマー〕
　本発明において、多官能モノマーとは、重合性基を２個以上含むモノマーを意味する。
　多官能モノマーは、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、下記式（２ａ）で表される化合物であるのが好ましい。

　式（２ａ）中、Ｐ２ａおよびＰ３ａはそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。

　式（２ａ）におけるＰ２ａおよびＰ３ａの具体例および好適態様は、式（１ａ）のＰ１ａと同様であるので、その説明を省略する。Ｐ２ａおよびＰ３ａは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
　式（２ａ）におけるＬ２およびＬ３が２価の連結基である場合の具体例および好適態様は、式（２）のＬ２およびＬ３と同様であるので、その説明を省略する。Ｌ２およびＬ３は、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
　式（２ａ）におけるＳＰ２およびＳＰ３がスペーサー基である場合の具体例および好適態様は、式（２）のＳＰ２およびＳＰ３と同様であるので、その説明を省略する。ＳＰ２およびＳＰ３は、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
　式（２ａ）におけるＭ２およびＭ３の具体例および好適態様（例えば、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造が２個以上の環状構造を含むのが好ましいことなど）は、式（２）のＭ２およびＭ３と同様であるので、その説明を省略する。
　式（２ａ）におけるｎおよびｍの具体例および好適態様（例えば、ｎおよびｍの合計が１または２であるのが好ましいことなど）は、式（２）のｎおよびｍと同様であるので、その説明を省略する。ｎおよびｍは、同一であってもよいし、異なっていてもよいが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、いずれも１であるのが好ましい。
　ここで、式（２ａ）における同一の基の定義は、式（２）と同様であるので、その説明を省略する。

　特に、多官能モノマーは、Ｐ２ａとＰ３ａが同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基であるのが好ましい。これにより、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。

　多官能モノマーの含有量は、高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量（１００質量％）に対して、１０質量％以下であり、本発明の効果がより発揮される点から、０．００１～５質量％が好ましく、０．０５～３質量％がより好ましい。
　多官能モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。多官能モノマーを２種以上使用する場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

〔工程〕
　単官能モノマーと多官能モノマーとを共重合する重合法としては特に限定されず、モノマーの種類によって公知の重合法から適宜選択すればよいが、ラジカル重合であるのが好ましい。
　重合では、上記モノマーの他に、溶媒（例えば、水および／または有機溶媒）、重合開始剤、連鎖移動剤、キレート化剤、および、ｐＨ調整剤等を使用してもよい。

　単官能モノマーと多官能モノマーとを共重合することで、単官能モノマーに基づく繰り返し単位と、多官能モノマーに基づく繰り返し単位と、を有する高分子液晶性化合物が得られる。得られる高分子液晶性化合物は、多官能モノマーのＰ２ａおよびＰ３ａに相当する部位が架橋点となっている３次元架橋構造を有すると推測される。
　ここで、上記共重合の後に、単官能モノマーに基づく繰り返し単位（好ましくは、繰り返し単位の側鎖）に、重合性基を導入する処理を行ってもよい。重合性基の具体例としては、上記式（１）のＴ１における重合性基が挙げられる。

　高分子液晶性化合物の製造方法の他の態様としては、単官能モノマーを単独で重合して、繰り返し単位（１）を得た後、多官能モノマーを用いて、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）と共重合する方法が挙げられる。

［光吸収異方性膜］
　本発明の光吸収異方性膜は、上述した本発明の液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
　本発明の光吸収異方性膜の製造方法の一例としては、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
　以下、本発明の光吸収異方性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。

〔塗布膜形成工程〕
　塗布膜形成工程は、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
　液晶組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
　本態様では、液晶組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。基材および配向膜の詳細については後述する。

〔配向工程〕
　配向工程は、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　ここで、液晶組成物に含まれる二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。

　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性などの面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

　配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
　以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
　なお、本態様では、塗布膜に含まれる二色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

〔他の工程〕
　光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
　硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルターを介して紫外線を照射してもよい。
　また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

　光吸収異方性膜の膜厚は、０．１～５．０μｍが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。液晶組成物中の二色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性膜が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性膜が得られる。

［積層体］
　本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光吸収異方性膜とを有する。
　また、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していてもよい。
　さらに、本発明の積層体は、上記基材と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
　さらに、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層を有していてもよい。
　以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。

〔基材〕
　基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
　基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。

〔光吸収異方性膜〕
　光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔λ／４板〕
　「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
　例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
　λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。

〔バリア層〕
　本発明の積層体がバリア層を有する場合、バリア層は、光吸収異方性膜とλ／４板との間に設けられる。なお、光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を有する場合には、バリア層は、例えば、光吸収異方性膜と他の層との間に設けることができる。
　バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から光吸収異方性膜を保護する機能を有する。
　バリア層については、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。

〔配向膜〕
　本発明の積層体は、基材と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
　配向膜は、配向膜上において本発明の液晶組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
　有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

　＜ラビング処理配向膜＞
　ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがさらに好ましい。

　＜光配向膜＞
　光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

　上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
　本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

　光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルターまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

　照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
　非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。
　照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

　パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔用途〕
　本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
　本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
　一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、上述した光吸収異方性膜または上述した積層体を有する。
　本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
　これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光吸収異方性膜と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
　なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光吸収異方性膜（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのがより好ましい。
　以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

　＜液晶セル＞
　液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａｌｌｙＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
　ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
　ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔｏｆｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（ＰａｔｔｅｒｎｅｄＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（ＯｐｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－ＳｕｓｔａｉｎｅｄＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
　ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光吸収異方性膜と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
　より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、必要に応じて設けられるバリア層、および、λ／４板の順に配置されている。
　また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［単官能モノマー（１ａ－１）の合成］
〔化合物（１ａ－１－１）の合成〕

　２－クロロエトキシエトキシエタノール（３６５ｇ）のノルマルブタノール（ｎＢｕＯＨ）溶液（４８０ｍＬ）にブチルパラベン（３００ｇ）、および、炭酸カリウム（２９９ｇ）を添加した。１００℃で１８時間攪拌した後、水（１０５０ｍＬ）を添加し、分液操作により反応液を洗浄した。得られた有機層に、２２質量％水酸化ナトリウム水溶液（４２０ｇ）を加え、５０℃で３時間撹拌した。その後、室温に戻し、濃塩酸をｐＨ３になるまで滴下し、分液操作により反応液を洗浄した。得られた有機層を、１０℃以下に冷やしたイソプロピルアルコール（５４０ｍＬ）とノルマルヘキサン（１２６０ｍＬ）の混合溶液に滴下し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（１ａ－１－１）を３６１ｇ（２工程収率８７％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）（溶媒：ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）－ｄ６）δ（ｐｐｍ）：３．３８－３．６４（ｍ，８Ｈ），３．７３－３．７９（ｍ，２Ｈ），４．１３－４．１９（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．９８－７．０５（ｍ，２Ｈ），７．８５－７．９０（ｍ，２Ｈ），１２．６３（ｂｒｓ，１Ｈ）

〔化合物（１ａ－１－２）の合成〕

　化合物（１ａ－１－１）３００ｇを、Ｎ－エチルピロリドン（ＮＥＰ）（４５０ｍＬ）、および、酢酸エチル（８００ｍＬ）に溶解させ、内温を５℃まで冷却した。そこに、３－クロロプロピオン酸クロリド（１６９ｇ）を内温が１５℃以上に上昇しないように滴下した。１０℃で３時間撹拌した後、１０質量％食塩水（１２００ｍＬ）を加え、室温にて分液を行った。得られた有機層に、再び１０質量％食塩水（１２００ｍＬ）を加え、分液を行った。その後、有機層に、撹拌しながらメタノール（７５０ｍＬ）と水（７５０ｍＬ）を滴下し、１５℃まで冷却してから、再び水（３００ｍＬ）を滴下した。次に、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（１ａ－１－２）を３３２ｇ（収率８３％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．８２（ｔ，２Ｈ），３．６５－３．８３（ｍ，８Ｈ），３．８５－３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１５－４．２５（ｍ，２Ｈ），４．２５－４．３５（ｍ，２Ｈ），６．９３－７．００（ｍ，２Ｈ），８．０２－８．０８（ｍ，２Ｈ）

〔化合物（１ａ－１－３）の合成〕

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（５６ｇ）の酢酸エチル溶液（２５３ｍＬ）を、内温０℃まで冷却した。そこに、化合物（１ａ－１－２）（１６８ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（６３ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（９３０ｍｇ）の酢酸エチル溶液（２５３ｍＬ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。５℃で１時間撹拌した後、４－ヒドロキシ－４’－メトキシビフェニル（８５ｇ、ただし４，４’－ビフェノールを０．２質量％含有）、Ｎ－メチルイミダゾール（１７ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（５５ｇ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。食塩３４ｇと０．５Ｎ塩酸水（６６０ｍＬ）を混合した水溶液を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層に、撹拌しながら、アセトニトリル（１６８ｍＬ）とメタノール（８４２ｍＬ）を加え、水（３３７ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（１ａ－１－３）２１９ｇ（収率９５％）を得た。
　なお、式中、Ｍｅは、メチル基を表す。以下の式についても同様である。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．８３（ｔ，２Ｈ）３．６５－３．８０（ｍ，８Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７－３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８－４．２６（ｍ，２Ｈ），４．２７－４．３５（ｍ，２Ｈ），６．９５－７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２２－７．２８（ｍ，２Ｈ），７．４８－７．６２（ｍ，４Ｈ），８．１４－８．１８（ｍ，２Ｈ）

（４－ヒドロキシ－４’－メトキシビフェニルの合成）
　上記１－１－３ａの合成で使用した４－ヒドロキシ－４’－メトキシビフェニルは、次のようにして合成した。
　４，４’－ビフェノール(５５．８ｇ）とヨウ化メチル（１８．６ｍＬ）のジメチルスルフィド溶液（１５０ｍＬ）に、７．８質量％水酸化カリウム溶液（６５１ｇ）を室温で加え、８時間撹拌した。反応液を、セライトを用いてろ過し、得られたろ液に濃塩酸（２４ｍＬ）を滴下してから、ろ過操作を行うことで、４，４’－ビフェノールを含有する白色固体を得た。得られた白色固体をテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）に溶解させ、０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）とメタノール（５０ｍＬ）を加えた後に、１Ｎ塩酸水（４０ｍＬ）と水（２０ｍＬ）を滴下して結晶を析出させ、ろ過操作を行うことで、４－ヒドロキシ－４’－メトキシビフェニルの白色固体（２１ｇ，収率３５％）を得た。なお、高速液体クロマトグラフィーによる分析により白色固体中に、４，４’－ビフェノールが０．２質量％残存していることを確認した。

（単官能モノマー（１ａ－１）の合成）

　化合物（１ａ－１－３）（１６０ｇ）とジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１３００ｍｇ）を、酢酸エチル（１８０ｍＬ）、トルエン（１７６ｍＬ）、アセトニトリル（２０８）ｍＬの混合溶液に溶解させた後、トリエチルアミン（ＴＥＡ）（６０ｇ）を滴下した。６０度で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸水（２８８ｍＬ）を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層をフィルター濾過した後、撹拌しながら、メタノール（９６０ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（１ａ－１）（単官能モノマー（１ａ－１））１３８ｇ（収率９３％）を得た。化合物純度は９８％であった。なお、高速液体クロマトグラフィーによる分析により白色固体中に、化合物（２ａ－１）（多官能モノマー（２ａ－１））が０．３質量％残存していることを確認した。
　^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６８－３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８７－３．９４（ｍ，２Ｈ），４．１８－４．２６（ｍ，２Ｈ），４．３２－４．３８（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９５－７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２２－７．２８（ｍ，２Ｈ），７．４８－７．６２（ｍ，４Ｈ），８．１３－８．２０（ｍ，２Ｈ）

［単官能モノマー（１ａ－２）の合成］

　単官能モノマー（１ａ－２）は、国際公開第２０１８／１２４１９８号に記載の方法に従って合成をおこなった。

［多官能モノマー（２ａ－１）の合成］

　メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（７３．４ｍｍｏｌ,５．７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液（７０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２００ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、化合物２ａ－１－１（国際公開第２０１８／１２４１９８号に記載の方法で合成）（６６．７ｍｍｏｌ，２１．６ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２００ｍｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）と、４，４’－ビフェノール（３０ｍｍｏｌ，５．５９ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（２ａ－１）（多官能モノマー（２ａ－１））を１２ｇ得た。

［多官能モノマー（２ａ－２）の合成］

　多官能モノマー（２ａ－２）は、公知の方法に従って合成した。

［多官能モノマー（２ａ－３）］

　多官能モノマー（２ａ－３）は、東京化成工業株式会社製のテトラエチレングリコールジアクリラートを用いた。

［多官能モノマー（２ａ－４）の合成］

　化合物（１ａ－２）（単官能モノマー（１ａ－２））（６０ｇ）とジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１３００ｍｇ）を、酢酸エチル（９０ｍＬ）、トルエン（８０ｍＬ）、アセトニトリル（１０４ｍＬ）の混合溶液に溶解させた後、トリエチルアミン（ＴＥＡ）（３０ｇ）を滴下した。６０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸水（１４０ｍＬ）を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層をフィルター濾過した後、撹拌しながら、メタノール（４８０ｍＬ）を滴下した。その後、０℃まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（２ａ－４）（多官能モノマー（２ａ－４））５０ｇを得た。

［高分子液晶性化合物１－１の製造］

　単官能モノマー（１ａ－１）（０．８ｇ。ただし、多官能モノマー（２ａ－１）を０．３質量％含有）および単官能モノマー（１ａ－２）（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃になるまで加熱した。そこに、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ１－１を０．９０ｇ得た。得られた化合物Ｐ１－１のクロロホルム溶液（７ｍＬ）に、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（５０ｍｇ）、および、トリエチルアミン（Ｅｔ_３Ｎ）（０．７ｍＬ）を加え、内温を５０℃まで加熱した。５０℃で９時間撹拌した後、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にて原料の消失を確認し、室温へと冷却した。そこに、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶性化合物１－１を０．８ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物１－１をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００（ポリスチレン換算）であった。

［高分子液晶性化合物１－２～１－４の製造］
　重合に使用した多官能モノマー（２ａ－１）の合計量が表１に示す量になるように、多官能モノマーを添加した以外は、高分子液晶性化合物１－１の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－２～１－４を合成した。

［高分子液晶性化合物１－５の製造］
　単官能モノマー（１ａ－１）に含まれていた多官能モノマー（２ａ－１）を除去するまでカラムクロマトグラフィーによる精製を繰り返した。このようにして得られた単官能モノマー（１ａ－１）と、単官能モノマー（１ａ－２）と、多官能モノマー（２ａ－２）と、を表１の配合割合になるように使用した以外は、高分子液晶性化合物１－１の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－５を合成した。

［高分子液晶性化合物１－６の製造］
　多官能モノマー（２ａ－２）の代わりに多官能モノマー（２ａ－３）を使用した以外は、高分子液晶性化合物１－５の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－６を合成した。

［高分子液晶性化合物１－７の製造］
　多官能モノマー（２ａ－２）の代わりに多官能モノマー（２ａ－４）を使用した以外は、高分子液晶性化合物１－５の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－７を合成した。

［高分子液晶性化合物１－８の製造］
　多官能モノマー（２ａ－２）を使用しなかった以外は、高分子液晶性化合物１－５の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－８を合成した。

［高分子液晶性化合物１－９の製造］
　重合に使用した多官能モノマー（２ａ－１）の合計量が表１に示す量になるように、多官能モノマーを添加した以外は、高分子液晶性化合物１－１の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－９を合成した。

［高分子液晶性化合物１－１０の製造］
　多官能モノマー（２ａ－２）を使用しなかった以外は、高分子液晶性化合物１－５の製造と同様にして、高分子液晶性化合物１－１０を合成した。

　高分子液晶性化合物１－１～１-１０の構造を以下に示す。
　なお、高分子液晶性化合物の式番号の右側に記した数値は、繰り返し単位の質量比を表す。具体的には、高分子液晶性化合物が３種の繰り返し単位を有する場合には、上段の繰り返し単位の質量：中段の繰り返し単位の質量：下段の繰り返し単位の質量、を意味する。また、高分子液晶性化合物が２種の繰り返し単位を有する場合には、上段の繰り返し単位の質量：下段の繰り返し単位の質量、を意味する。

［実施例１］
〔配向膜の作製〕
　ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
　下記の配向膜形成用組成物１を＃１２のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物１を１１０℃で２分間乾燥して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
　得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚２．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜１を作製した。

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配向膜形成用組成物１の組成
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・変性ビニルアルコール（下記式（ＰＶＡ－１）参照）　２．００質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．０８質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）　　　　　０．０６質量部
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〔光吸収異方性膜の作製〕
　得られた配向膜１上に、下記の液晶組成物１を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
　塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１８０℃で１５秒間加熱した。
　次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ²の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。

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液晶組成物１の組成（固形分中の二色性物質の含有量：２５質量％）
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・上記高分子液晶性化合物１－１　　　　　　　　　　　　　７０質量部
・下記二色性物質Ｄ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・下記二色性物質Ｄ２　　　　　　　　　　　　　　　　１３．２質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ－８１９（ＢＡＳＦ社製）　　　　　　０．５質量部
・下記界面改良剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・クロロホルム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１８６０質量部
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［実施例２～７および比較例１～３］
　液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類を表１に示すように変更して得られた液晶組成物を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

［評価］
〔配向度〕
　光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｅ６００　ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（ＯｃｅａｎＯｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて第１表に記載の波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記第１表に示す。
　　配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
　　Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
　　Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

〔面状の均一性〕
　クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に、配向膜上に配置された光吸収異方性膜を挟持して観察し、この光吸収異方性膜を水平面内で回転させ、明暗の状態を確認した。明暗の状態より、塗布時のムラやハジキ、配向欠陥の有無を確認した。
Ａ：目視で全体にムラ、ハジキが観察されない
Ｂ：目視で一部分にムラ、ハジキが観察される
Ｃ：目視で全体にムラ、ハジキが観察される

　表１に示すように、二色性物質と、上述の繰り返し単位（１）および上述の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物と、を含む液晶組成物において、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、繰り返し単位（１）の含有量が９０質量％以上であり、かつ、繰り返し単位（２）の含有量が１０質量％以下であれば、面状均一性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できることが示された（実施例１～７）。
　また、実施例２と実施例５との対比から、式（２）に相当する繰り返し単位において、Ｐ２およびＰ３に相当する基が同一の基であり、Ｌ２およびＬ３に相当する基が同一の基であり、ＳＰ２およびＳＰ３に相当する基が同一の基であり、Ｍ２およびＭ３に相当する基が同一の基である高分子液晶性化合物を用いれば（実施例２）、より高い配向度の光吸収異方性膜を形成できることが示された。同様の傾向が、実施例１と実施例７との対比からも示された。
　また、実施例２と実施例６との対比から、式（２）に相当する繰り返し単位がメソゲン基を含む高分子液晶性化合物を用いれば（実施例２）、より高い配向度の光吸収異方性膜を形成できることが示された。　
　これに対して、上述の繰り返し単位（２）を有しない高分子液晶性化合物を用いた場合、光吸収異方性膜の面状均一性が劣ることが示された（比較例１および３）。
　また、上述の繰り返し単位（１）および上述の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を含む液晶組成物において、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、繰り返し単位（２）の含有量が１０質量％を超えると、液晶組成物がゲル化して、各評価を実施できなかった（比較例２）。

Claims

　高分子液晶性化合物および二色性物質を含有する液晶組成物であって、
　前記高分子液晶性化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、
　前記繰り返し単位（１）の含有量が、前記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、９０質量％以上であり、
　前記繰り返し単位（２）の含有量が、前記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、１０質量％以下である、液晶組成物。

　前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　前記式（２）中、Ｐ２およびＰ３はそれぞれ独立に繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。
　前記式（２）中、ｎおよびｍの合計が１または２である、請求項１に記載の液晶組成物。
　前記式（２）中、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造が２個以上の環状構造を含む、請求項１または２に記載の液晶組成物。
　前記式（２）中、Ｐ２とＰ３が同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
　前記繰り返し単位（２）の含有量が、前記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量に対して、０．００１～３質量％である、請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
　単官能モノマーと、多官能モノマーと、を共重合して、高分子液晶性化合物を得る工程を含み、
　前記単官能モノマーの含有量が、前記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、９０質量％以上であり、
　前記多官能モノマーの含有量が、前記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、１０質量％以下である、高分子液晶性化合物の製造方法。
　前記単官能モノマーが、メソゲン基を含む、請求項６に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　前記単官能モノマーが、下記式（１ａ）で表される化合物である、請求項６または７に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。

　前記式（１ａ）中、Ｐ１ａは重合性基を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上含むメソゲン基を表し、Ｔ１ａは末端基を表す。
　前記多官能モノマーが、下記式（２ａ）で表される化合物である、請求項６～８のいずれか１項に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。

　前記式（２ａ）中、Ｐ２ａおよびＰ３ａはそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２およびＳＰ３はそれぞれ独立に単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ２およびＭ３はそれぞれ独立にメソゲン基を表し、ｎおよびｍはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。
　前記式（２ａ）中、ｎおよびｍの合計が１または２である、請求項９に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　前記式（２ａ）中、－（Ｍ２）_ｎ－（Ｍ３）_ｍ－で表される部分構造が２個以上の環状構造を含む、請求項９または１０に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　前記式（２ａ）中、Ｐ２ａとＰ３ａが同一の基であり、Ｌ２とＬ３がいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ２とＳＰ３がいずれも単結合または同一の基であり、Ｍ２とＭ３が同一の基である、請求項８～１１のいずれか１項に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　前記多官能モノマーの含有量が、前記高分子液晶性化合物の重合に使用する全モノマーの含有量に対して、０．００１～３質量％である、請求項６～１２のいずれか１項に記載の高分子液晶性化合物の製造方法。
　請求項１～５のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
　基材と、前記基材上に設けられる請求項１４に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
　さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項１５に記載の積層体。
　請求項１４に記載の光吸収異方性膜、または、請求項１５もしくは請求項１６に記載の積層体を有する、画像表示装置。