JP6976336B2 - 液晶組成物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶組成物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光もしくは自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能または遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、「少なくとも１種のサーモトロピック液晶性二色性色素、及び少なくとも１種のサーモトロピック液晶性高分子を含有し、上記サーモトロピック液晶性二色性色素の光吸収異方性膜中における質量含有率が３０％以上であることを特徴とする光吸収異方性膜。」が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１１−２３７５１３号公報

サーモトロピック液晶性高分子等の高分子液晶性化合物は、ジクロロメタン、クロロホルムおよび四塩化炭素等のハロゲン系溶剤、ならびに、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の高沸点溶剤には溶解するものの、ケトン類、エステル類、エーテル類、アルコール類等の工業プロセスにおいて広く使用される汎用溶媒に対する溶解性が低いという問題がある。そのため、安全性、環境保護およびコスト等の観点から、汎用溶媒に対する溶解性に優れた高分子液晶性化合物が求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、光吸収異方性膜の形成に用いられる高分子液晶性化合物の種類によっては、二色性物質の配向度の低下に伴って、光吸収異方性膜の配向度が不十分であったり、汎用溶媒に対する溶解性が低かったりする場合があり、改善の余地があることを明らかにした。

そこで、本発明は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成でき、かつ、汎用溶媒に対する溶解性に優れた側鎖型高分子液晶性化合物を含む液晶組成物、それを用いて得られる光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を所定量含む側鎖型高分子液晶性化合物が、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、この側鎖型高分子液晶性化合物および所定量の二色性物質を含む液晶組成物を用いれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できるのを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］
側鎖型高分子液晶性化合物および二色性物質を含む液晶組成物であって、
上記側鎖型高分子液晶性化合物が、メソゲン基を含み分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（１）と、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、
上記繰り返し単位（２）の含有量が、上記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、１４質量％未満であり、
上記二色性物質の含有量が、上記液晶組成物の全固形分量に対して、２質量％よりも大きい、液晶組成物。
［２］
上記繰り返し単位（１）が、後述の式（１）で表される、［１］に記載の液晶組成物。
後述の式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
［３］
上記二色性物質の含有量が、上記液晶組成物の全固形分量に対して、４質量％以上である、［１］または［２］に記載の液晶組成物。
［４］
上記二色性物質の含有量が、上記液晶組成物の全固形分量に対して、１０質量％以上である、［１］〜［３］のいずれか１つに記載の液晶組成物。
［５］
上記繰り返し単位（２）の分子量が、１８０以下である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の液晶組成物。
［６］
上記繰り返し単位（２）の含有量が、上記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、２〜７質量％である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の液晶組成物。
［７］
上記繰り返し単位（２）が、メソゲン基を含まない、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の液晶組成物。
［８］
［１］〜［７］のいずれか１つに記載の液晶組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
［９］
基材と、上記基材上に設けられる［８］に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
［１０］
さらに、上記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［９］に記載の積層体。
［１１］
［８］に記載の光吸収異方性膜、または、［９］もしくは［１０］に記載の積層体を有する、画像表示装置。

以下に示すように、本発明によれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成でき、かつ、汎用溶媒に対する溶解性に優れた側鎖型高分子液晶性化合物を含む液晶組成物、それを用いて得られる光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供できる。

以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称である。

［液晶組成物］
本発明の液晶組成物は、側鎖型高分子液晶性化合物および二色性物質を含む液晶組成物であって、上記側鎖型高分子液晶性化合物が、メソゲン基を含み分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（１）と、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、上記繰り返し単位（２）の含有量が上記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して１４質量％未満であり、上記二色性物質の含有量が上記液晶組成物の全固形分量に対して２質量％よりも大きい。

本発明の液晶組成物に含まれる側鎖型高分子液晶性化合物は、汎用溶媒に対する溶解性に優れる。この理由としては、側鎖型高分子液晶性化合物が分子量の小さい繰り返し単位（２）を有することで、側鎖型高分子液晶性化合物中に溶媒が入り込みやすくなったためと推定される。
また、本発明の液晶組成物によれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる。この理由としては、繰り返し単位（２）の分子量が小さいので、メソゲン基を含む繰り返し単位（１）の配向がこれとの共重合成分である繰り返し単位（２）によって乱されにくくなったためと推定される。
ここで、溶媒に対する溶解性に優れた側鎖型高分子液晶性化合物は、液晶組成物中の二色性物質と相溶しやすい。そのため、二色性物質の結晶性が低くなり、結果として、光吸収異方性膜の配向度が低下する場合がある。この問題に対して、本発明者らは、所定量以上の二色性物質を含む液晶組成物を用いれば、溶媒に対する溶解性に優れた側鎖型高分子化合物を用いても、光吸収異方性膜の配向度の低下を抑制できるのを見出した。

〔側鎖型高分子液晶性化合物〕
本発明における側鎖型高分子液晶性化合物は、メソゲン基を含み分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（１）と、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）と、を有する共重合体である。側鎖型高分子液晶性化合物は、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。
ここで、側鎖型高分子液晶性化合物とは、側鎖に液晶構造を有する高分子液晶性化合物を意味する。以下において、側鎖型高分子液晶性化合物を「高分子液晶性化合物」と略記する場合がある。

＜繰り返し単位（１）＞
高分子液晶性化合物が液晶性を発現する繰り返し単位（１）を有することで、液晶組成物に含まれる成分の凝集および結晶化、ならびに、塗膜を形成したときのハジキを抑制して、過熱による配向熟成が均一に進行する。
繰り返し単位（１）は、メソゲン基を含み分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位である。
本発明において、メソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の繰り返し単位（１）におけるＭ１で説明する通りであり、その具体例も同様である。
繰り返し単位（１）の分子量とは、繰り返し単位（１）を得るために使用するメソゲン基を含むモノマー（以下、「液晶性モノマー」ともいう。）の分子量を意味するのではなく、液晶性モノマーの重合によって高分子液晶性化合物に組み込まれた状態における繰り返し単位（１）の分子量を意味する。
繰り返し単位（１）の分子量は、２８０よりも大きく、３５０以上が好ましく、４００以上がより好ましい。繰り返し単位（１）の分子量の下限値は、通常、２０００以下であり、１５００以下がより好ましい。

繰り返し単位（１）は、分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位であって、側鎖にメソゲン基を有していれば、特に限定されないが、光吸収異方性膜の配向度がより向上する点から、下記式（１）で表される繰り返し単位が好ましい。

式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。

式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１−Ａ）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ^２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、シラノールは、式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物である。式中、複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。

Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、および、−ＮＲ^３Ｒ^４−などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１は、単結合またはスペーサー基である。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２〜２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であるがより好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊−（ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−Ｏ）_ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊−（ＣＦ_２−ＣＦ_２）_ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点から、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましい。

式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基または後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。

式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｇ−、−（ＣＦ_２）_ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のオキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基などが挙げられる。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましく、１〜７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ−ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ−ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

繰り返し単位（１）の含有量は、高分子液晶性化合物の全質量（１００質量％）に対して、８６質量％よりも大きいのが好ましく、９３質量％以上がより好ましく、９５質量％以上がさらに好ましい。繰り返し単位（１）の含有量の上限値は、９８質量％以下が好ましい。繰り返し単位（１）の含有量が８６質量％よりも大きければ、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。繰り返し単位（１）の含有量が９８質量％以下であれば、高分子液晶性化合物の溶解性がより向上する。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance：核磁気共鳴）分析装置を用いて測定されるポリマー中の各繰り返し単位のモル比に基づいて、算出される値である。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（１）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１））が、質量比で０．００５〜４が好ましく、０．０１〜２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。

（ｌｏｇＰ値）
式（１）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ_１−ｌｏｇＰ_２｜）は、４以上が好ましく、４．２５以上がより好ましく、４．５以上が特に好ましい。
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。式（１）で表される繰り返し単位において、Ｐ１（以下、「主鎖」ともいう。）、Ｌ１およびＳＰ１（以下、「スペーサー基」ともいう。）のｌｏｇＰ値と、Ｍ１（以下、「メソゲン基」ともいう。）のｌｏｇ値と、が所定値以上離れていれば、主鎖からスペーサー基までの構造とメソゲン基との相溶性が低い状態になる。その結果、高分子液晶性化合物の結晶性が高くなり、高分子液晶性化合物の配向度が高い状態になると推測される。このように、高分子液晶性化合物の配向度が高いと、高分子液晶性化合物と二色性物質との相溶性が低下して（すなわち、二色性物質の結晶性が向上する）、二色性物質の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる光吸収異方性膜の配向度がより高くなる。
上記差（｜ｌｏｇＰ_１−ｌｏｇＰ_２｜）の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

上記ｌｏｇＰ_１は、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではなく、具体的には、ｌｏｇＰ_１は、式（１）におけるＰ１〜ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ_１の算出にあたって、Ｐ１〜ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１−Ａ）〜式（Ｐ１−Ｄ）など）を用いてもよいし、式（１）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−で表される基（Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。

ｌｏｇＰ_１は、ｌｏｇＰ_２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ_２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ_２）は、４〜６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（１）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（１）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。

＜繰り返し単位（２）＞
繰り返し単位（２）は、分子量２８０以下の繰り返し単位である。繰り返し単位（２）は、メソゲン基を含む繰り返し単位であってもよいし、メソゲン基を含まない繰り返し単位であってもよいが、以下の理由から、メソゲン基を含まない繰り返し単位が好ましい。
すなわち、側鎖型高分子液晶性化合物にメソゲン基を含まない繰り返し単位を導入した場合、これを用いて形成される光吸収異方性膜の配向度が低下すると考えられる。しかしながら、繰り返し単位（２）の分子量が小さければ、繰り返し単位（２）がメソゲン基を含まなくても、繰り返し単位（１）の配向が乱されにくいので、光吸収異方性膜の優れた配向度を維持できると考えられる。よって、本発明の効果が顕著に発揮される点から、繰り返し単位（２）は、メソゲン基を含まない繰り返し単位であるのが好ましい。
なお、メソゲン基の定義および具体例は、上述した通りであるので、その説明を省略する。

繰り返し単位（２）の分子量とは、繰り返し単位（２）を得るために使用するモノマーの分子量を意味するのではなく、モノマーの重合によって高分子液晶性化合物に組み込まれた状態における繰り返し単位（２）の分子量を意味する。
繰り返し単位（２）の分子量は、２８０以下であり、１８０以下が好ましく、１００以下がより好ましい。繰り返し単位（２）の分子量の下限値は、通常、４０以上であり、５０以上がより好ましい。繰り返し単位（２）の分子量が２８０以下であれば、高分子液晶性化合物の溶解性に優れ、かつ、高い配向度の光吸収異方性膜が得られる。
一方で、繰り返し単位（２）の分子量が２８０を超えると、繰り返し単位（１）部分の液晶配向を乱してしまって、光吸収異方性膜の配向度が低くなる。また、高分子液晶性化合物中に溶媒が入り込みにくくなるので、高分子液晶性化合物の溶解性が低下する。

繰り返し単位（２）の具体例としては、架橋性基（例えば、エチレン性不飽和基）を含まない繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２−１）」ともいう。）、および、架橋性基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２−２）」ともいう。）が挙げられる。

（繰り返し単位（２−１））
繰り返し単位（２−１）の重合に使用されるモノマーの具体例としては、アクリル酸［７２．１］、α−アルキルアクリル酸類（例えば、メタクリル酸［８６．１］、イタコン酸［１３０．１］）、それらから誘導されるエステル類およびアミド類（例えば、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド［１１３．２］、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド［９９．１］、Ｎ−メチルメタクリルアミド［９９．１］、アクリルアミド［７１．１］、メタクリルアミド［８５．１］、ジアセトンアクリルアミド［１６９．２］、アクリロイルモルホリン［１４１．２］、Ｎ−メチロールアクリルアミド［１０１．１］、Ｎ−メチロールメタクリルアミド［１１５．１］、メチルアクリレート［８６．０］、エチルアクリレート［１００．１］、ヒドロキシエチルアクリレート［１１６．１］、ｎ−プロピルアクリレート［１１４．１］、ｉ−プロピルアクリレート［１１４．２］、２−ヒドロキシプロピルアクリレート［１３０．１］、２−メチル−２−ニトロプロピルアクリレート［１７３．２］、ｎ−ブチルアクリレート［１２８．２］、ｉ−ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ−ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ−ペンチルアクリレート［１４２．２］、２−メトキシエチルアクリレート［１３０．１］、２−エトキシエチルアクリレート［１４４．２］、２−エトキシエトキシエチルアクリレート［１８８．２］、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート［１５４．１］、２，２−ジメチルブチルアクリレート［１５６．２］、３−メトキシブチルアクリレート［１５８．２］、エチルカルビトールアクリレート［１８８．２］、フェノキシエチルアクリレート［１９２．２］、ｎ−ペンチルアクリレート［１４２．２］、ｎ−ヘキシルアクリレート［１５６．２］、シクロヘキシルアクリレート［１５４．２］、シクロペンチルアクリレート［１４０．２］、ベンジルアクリレート［１６２．２］、ｎ−オクチルアクリレート［１８４．３］、２−エチルヘキシルアクリレート［１８４．３］、４−メチル−２−プロピルペンチルアクリレート［１９８．３］、メチルメタクリレート［１００．１］、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート［１６８．１］、ヒドロキシエチルメタクリレート［１３０．１］、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート［１４４．２］、ｎ−ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｉ−ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｎ−オクチルメタクリレート［１９８．３］、２−エチルヘキシルメタクリレート［１９８．３］、２−メトキシエチルメタクリレート［１４４．２］、２−エトキシエチルメタクリレート［１５８．２］、ベンジルメタクリレート［１７６．２］、２−ノルボルニルメチルメタクリレート［１９４．３］、５−ノルボルネン−２−イルメチルメタクリレート［１９４．３］、ジメチルアミノエチルメタクリレート［１５７．２］）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル［８６．１］）、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類（例えば、マレイン酸ジメチル［１４４．１］、フマル酸ジエチル［１７２．２］）、マレイミド類（例えば、Ｎ−フェニルマレイミド［１７３．２］）、マレイン酸［１１６．１］、フマル酸［１１６．１］、ｐ−スチレンスルホン酸［１８４．１］、アクリロニトリル［５３．１］、メタクリロニトリル［６７．１］、ジエン類（例えば、ブタジエン［５４．１］、シクロペンタジエン［６６．１］、イソプレン［６８．１］）、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレン［１０４．２］、ｐ−クロルスチレン［１３８．６］、ｔ−ブチルスチレン［１６０．３］、α−メチルスチレン［１１８．２］）、Ｎ−ビニルピロリドン［１１１．１］、Ｎ−ビニルオキサゾリドン［１１３．１］、Ｎ−ビニルサクシンイミド［１２５．１］、Ｎ−ビニルホルムアミド［７１．１］、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルホルムアミド［８５．１］、Ｎ−ビニルアセトアミド［８５．１］、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド［９９．１］、１−ビニルイミダゾール［９４．１］、４−ビニルピリジン［１０５．２］、ビニルスルホン酸［１０８．１］、ビニルスルホン酸ナトリウム［１３０．２］、アリルスルホン酸ナトリウム［１４４．１］、メタリルスルホン酸ナトリウム［１５８．２］、ビニリデンクロライド［９６．９］、ビニルアルキルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル［５８．１］）、エチレン［２８．０］、プロピレン［４２．１］、１−ブテン［５６．１］、ならびに、イソブテン［５６．１］が挙げられる。なお、［ ］内の数値は、モノマーの分子量を意味する。
上記モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記モノマーの中でも、アクリル酸、α−アルキルアクリル酸類、それらから誘導されるエステル類およびアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ならびに、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記以外のモノマーとしては、例えば、リサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５（１９８０年、７月）に記載の化合物を使用できる。

以下において、繰り返し単位（２−１）の具体例およびその分子量を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

（繰り返し単位（２−２））
繰り返し単位（２−２）において、架橋性基の具体例としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、およびメタクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基、ならびに、オキセタニル基が挙げられる。
繰り返し単位（２−２）は、重合が容易である点から、下記式（２）で表される繰り返し単位が好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^２１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。
Ｌ^２１は単結合もしくは２価の連結基を表し、単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、＊側で主鎖に連結する＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＮＨＣＯ−が好ましい。
Ｐ^２１はエチレン性不飽和基を含む１価の基を表し、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基、スチリル基または１−シクロペンテン−３，５−ジオン基を含む１価の基が好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基またはスチリル基を含む１価の基がより好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^２１、Ｌ^２１、およびＰ^２１の好ましい組合せとしては、Ｒ^２１が水素原子またはメチル基であり、Ｌ^２１がアリーレン基、＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−または＊−ＯＣＯ−であり、Ｐ^２１がアクリロイル基、メタクリロイル基、マレイミド基またはスチリル基を含む１価の基である。

以下において、繰り返し単位（２−２）の具体例およびその分子量を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

繰り返し単位（２）の含有量は、高分子液晶性化合物の全質量（１００質量％）に対して、１４質量％未満であり、７質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。繰り返し単位（２）の含有量の下限値は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。繰り返し単位（２）の含有量が１４質量％未満であれば、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。繰り返し単位（２）の含有量が２質量％以上であれば、高分子液晶性化合物の溶解性がより向上する。
繰り返し単位（２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

高分子液晶性化合物の含有量は、液晶組成物の全固形分量（１００質量％）に対して、２０〜９７質量％が好ましく、３０〜９６質量％がより好ましい。

＜置換基Ｗ＞
本明細書における置換基Ｗについて記載する。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基）（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ(ＯＨ)₂）、ホスファト基（−ＯＰＯ(ＯＨ)₂）、スルファト基（−ＯＳＯ₃Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。

＜物性＞
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００〜３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜４００℃であることがより好ましい。

〔二色性物質〕
本発明における二色性物質は、特に限定されず、従来公知の二色性色素を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特願２０１５−００１４２５号公報の［００２２］〜［００８０］段落、特願２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、特願２０１６−０４４９０９号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０４４９１０号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０９５９０７号公報の［００１３］〜［００３７］段落、特願２０１７−０４５２９６号公報の［００１４］〜［００３４］段落などに記載された二色性色素が挙げられる。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。

本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

二色性物質の含有量は、液晶組成物の全固形分量（１００質量％）に対して、２質量％よりも大きく、４質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。二色性物質の含有量の上限値は、８０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。二色性物質の含有量が２質量％よりも大きければ、配向度の高い光吸収異方性膜が得られる。二色性物質の含有量が８０質量％以下であれば、面状の均一性に優れる。
なお、本発明の液晶組成物が二色性物質を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

〔重合開始剤〕
本発明の液晶組成物は、重合開始剤を含むのが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１８４、９０７、３６９、６５１、８１９、ＯＸＥ−０１およびＯＸＥ−０２などが挙げられる。
本発明の液晶組成物が重合開始剤を含む場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。

〔溶媒〕
本発明の液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン）が好ましい。
本発明の液晶組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％が好ましく、８３〜９８質量％がより好ましく、８５〜９６質量％がさらに好ましい。

〔界面改良剤〕
本発明の液晶組成物は、界面改良剤を含むのが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７−２７２１８５号公報の［００１８］〜［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
本発明の液晶組成物が界面改良剤を含む場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部がより好ましい。

［光吸収異方性膜］
本発明の光吸収異方性膜は、上述した本発明の液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
本発明の光吸収異方性膜の製造方法の一例としては、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
以下、本発明の光吸収異方性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。

〔塗布膜形成工程〕
塗布膜形成工程は、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含む液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
本態様では、液晶組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。基材および配向膜の詳細については後述する。

〔配向工程〕
配向工程は、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる二色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

〔他の工程〕
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

光吸収異方性膜の膜厚は、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。液晶組成物中の二色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性膜が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性膜が得られる。

［積層体］
本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光吸収異方性膜とを有する。
また、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記基材と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層を有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。

〔基材〕
基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。

〔光吸収異方性膜〕
光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔λ／４板〕
「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。

〔バリア層〕
本発明の積層体がバリア層を有する場合、バリア層は、光吸収異方性膜とλ／４板との間に設けられる。なお、光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を有する場合には、バリア層は、例えば、光吸収異方性膜と他の層との間に設けることができる。
バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から光吸収異方性膜を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。

〔配向膜〕
本発明の積層体は、基材と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において本発明の液晶組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましい。

＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°がより好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した光吸収異方性膜または上述した積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光吸収異方性膜と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光吸収異方性膜（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光吸収異方性膜と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、必要に応じて設けられるバリア層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［高分子液晶性化合物の合成］
高分子液晶性化合物は、以下の手順により作製した。

（化合物Ｐ１−１の合成）

２−クロロエトキシエトキシエタノール（１４．０５ｇ）のジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液（６０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を加え、氷冷下においてアクリル酸クロリド（７．５４ｇ）、および、トリエチルアミン（Ｅｔ_３Ｎ）（８．８９ｇ）を滴下した。１時間攪拌した後、反応液を濾過した。次に、炭酸カリウム（１５．７ｇ）、ヨウ化カリウム（０．５７ｇ）、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（９．２５ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を添加し、１１０℃にて４時間攪拌した後、酢酸エチルと水を加え、分液操作により反応液を洗浄した。さらに、反応液をエバポレーターにより濃縮した後、室温に戻して２５ｍＬのアセトニトリル、２．３６ｇのリン酸二水素ナトリウム二水和物を８ｍＬの水に溶解したリン酸緩衝液、および１１．２ｍＬの過酸化水素水（３０質量％）を添加し、続けて３３．４ｇの２５質量％亜塩素酸ナトリウム水溶液を添加した。６時間室温で攪拌して８時間静置した後、水を加え、得られた沈殿を集め、白色固体の化合物（Ｐ１−１）を１６．９ｇ（収率６９％）得た。

（Ｐ１−２の合成）

メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（７３．４ｍｍｏｌ,５．７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液（７０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２００ｍｇ）を加え、内温を−５℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１−１）（６６．７ｍｍｏｌ，２１．６ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。−５℃で３０分撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２００ｍｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）と、４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニル（６０．６ｍｍｏｌ，１２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物（Ｐ１−２）１８．７ｇ（収率６１％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６５−３．８２（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８５−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，２Ｈ），４．２８−４．４０（ｍ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）

（繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−３）を有する共重合体（高分子液晶性化合物）の合成）

化合物（Ｐ１−２）（０．９６ｇ）とメタクリロニトリル（０．０４ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−３）を有する共重合体を０．９５ｇ得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１３０００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー社製））、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。

（繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−４）を有する共重合体（高分子液晶性化合物）の合成）

化合物（Ｐ１−２）（０．９８ｇ）とアクリル酸（０．０２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−４）を有する共重合体を０．９５ｇ得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１２０００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー社製））、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。

（繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−６）を有する共重合体（高分子液晶性化合物）の合成）

化合物（Ｐ１−２）（０．９６ｇ）と２−ヒドロキシエチルアクリレート（０．０４ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−６−１）を有する共重合体を０．９５ｇ得た。得られた共重合体をＤＭＡｃ溶液（７ｍＬ）とし、ＢＨＴ（０．１ｇ）、アクリル酸クロリド（０．５ｍｌ）を加えて３時間攪拌した。その後、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である繰り返し単位（Ｌ−１）と繰り返し単位（Ｓ−６）を有する共重合体を０．９０ｇ得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１２０００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー社製））、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。

なお、後述の実施例および比較例で使用した高分子液晶性化合物のうち、上記のようにして合成した高分子液晶性化合物以外の他の高分子液晶性化合物については、上記の合成方法を参考にして合成した。

［実施例１−１］
＜配向膜の作製＞
ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
下記の配向膜形成用組成物１を＃１２のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物１を１１０℃で２分間乾燥して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚２．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜１を作製した。

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配向膜形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記式（ＰＶＡ−１）参照） ２．００質量部
・水 ７４．０８質量部
・メタノール ２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜光吸収異方性膜の作製＞
得られた配向膜１上に、下記の液晶組成物１を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１５０℃で６０秒間加熱した。
次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ²の照射条件ですることにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。
なお、液晶組成物１には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物１の全固形分中における二色性物質の含有量は１０質量％であった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物１の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：１０質量％）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・表１の実施例１−１に記載の高分子液晶性化合物 ７．１８質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・下記二色性物質Ｄ１ ０．３５質量部
・下記二色性物質Ｄ２ ０．４５質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・下記界面改良剤Ｆ１ ０．０１質量部
・クロロホルム ９１．９６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例１−２〜１−８、比較例１−１〜１−５］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を下記表１に示すように変更した以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

［評価試験］
＜配向度＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて表１に記載の波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

＜配向度評価＞
同一種類の繰り返し単位（１）のみからなる単独重合体である高分子液晶性化合物を含み、かつ、二色性物質の含有量が同一である比較例（以下、「基準比較例」ともいう。）の配向度を基準として、以下のように配向度を評価した。
Ａ：配向度が繰り返し単位（１）のみからなる単独重合体を用いた基準比較例と同等以上
Ｂ：配向度が繰り返し単位（１）のみからなる単独重合体を用いた基準比較例よりも０．０１以上低い
Ｃ：配向度が繰り返し単位（１）のみからなる単独重合体を用いた基準比較例よりも０．０２以上低い

＜溶解性の評価（高分子液晶性化合物の溶解性）＞
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびシクロペンタノン（ＣＰＯ）の混合溶媒（ＴＨＦ：ＣＰＯ（体積比）＝７０：３０）中に、高分子液晶性化合物を所定濃度（質量％）になるように添加して、４５℃１０分の撹拌で溶解し、透明にする。室温で１日放置し、透明のままである高分子液晶性化合物の濃度（質量％）を測定した。

＜評価結果＞
実施例１−１〜１−８および比較例１−１〜１−５の上記評価試験の結果を下記表１に示す。
なお、表１および後述する各表における繰り返し単位（１）および（２）の種類に対応する構造式を以下にまとめて示す。

式中、「Ｅｔ」はエチル基を意味する。

表１の評価試験の結果通り、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いれば（実施例１−１〜１−８）、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例１−１と同様の優れた配向度を有し、高分子液晶性化合物の溶解性については比較例１−１よりも優れるのがわかった。
これに対して、分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（２）を有する場合（比較例１−２〜１−４）、または、繰り返し単位（２）を１４質量％含有する高分子液晶性化合物を用いた場合（比較例１−５）、得られる光吸収異方性膜の配向度が劣ることが示された。

［実施例２−１］
液晶組成物１の代わりに下記液晶組成物２を用いた以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
なお、液晶組成物２には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物２の全固形分中における二色性物質の含有量は４質量％であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物２の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：４質量％）
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・表２の実施例２−１に記載の高分子液晶性化合物 ７．６７質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・上記二色性物質Ｄ１ ０．１４質量部
・上記二色性物質Ｄ２ ０．１８質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０１質量部
・クロロホルム ９１．９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例２−２、比較例２−１〜２−２］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を表２に示すように変更した以外は、実施例２−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

＜評価結果＞
実施例２−１〜２−２および比較例２−１〜２−２で使用した高分子液晶性化合物の溶解度、および、得られた光吸収異方性膜の配向度について、実施例１−１と同様の方法にて評価試験を実施した。評価結果を下記表２に示す。

表２の評価試験の結果通り、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いれば（実施例２−１〜２−２）、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例２−１と同様の優れた配向度を有し、高分子液晶性化合物の溶解性については比較例２−１よりも優れるのがわかった。
これに対して、分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（２）を含有する場合（比較例２−２）、得られる光吸収異方性膜の配向度および高分子液晶性化合物の溶解性が劣ることが示された。
ただし、表２に示すように、液晶組成物の全固形分中における二色性物質の含有量が４質量％であると、その含有量が４質量％よりも大きい場合と比べて、配向度が低下する傾向にあった。

［実施例３−１］
液晶組成物１の代わりに下記液晶組成物３を用いた以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
なお、液晶組成物３には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物３の全固形分中における二色性物質の含有量は１４質量％であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物３の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：１４質量％）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・表３の実施例３−１に記載の高分子液晶性化合物 ６．８９質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・上記二色性物質Ｄ１ ０．４８質量部
・上記二色性物質Ｄ２ ０．６２質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０３質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０１質量部
・クロロホルム ９１．９６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例３−２、比較例３−１〜３−２］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を表３に示すように変更した以外は、実施例３−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

＜評価結果＞
実施例３−１〜３−２および比較例３−１〜３−２で使用した高分子液晶性化合物の溶解度、および、得られた光吸収異方性膜の配向度について、実施例１−１と同様の方法にて評価試験を実施した。評価結果を下記表３に示す。

表３の評価試験の結果通り、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いれば（実施例３−１〜３−２）、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例３−１と同様の優れた配向度を有し、高分子液晶性化合物の溶解性については比較例３−１よりも優れるのがわかった。
これに対して、分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（２）を有する場合（比較例３−２）、得られる光吸収異方性膜の配向度が劣ることが示された。
また、表３に示すように、液晶組成物の全固形分中における二色性物質の含有量が１４質量％であると、その含有量が１４質量％より小さい場合と比べて、配向度が向上する傾向にあった。

［比較例４−１］
液晶組成物１の代わりに下記液晶組成物４を用いた以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
なお、液晶組成物４には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物４の全固形分中における二色性物質の含有量は２質量％であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物４の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：２質量％）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・表４の実施例４−１に記載の高分子液晶性化合物 ７．８３質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・上記二色性物質Ｄ１ ０．０７質量部
・上記二色性物質Ｄ２ ０．０９質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０１質量部
・クロロホルム ９１．９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［比較例４−２〜４−４］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を表４に示すように変更した以外は、比較例４−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

＜評価結果＞
比較例４−１〜４−４で使用した高分子液晶性化合物の溶解度、および、得られた光吸収異方性膜の配向度について、実施例１−１と同様の方法にて評価試験を実施した。評価結果を下記表４に示す。

表４に示すように、液晶組成物の全固形分中における二色性物質の含有量が２質量％であると、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いた場合（比較例４−１〜４−２）、高分子液晶性化合物の溶解度は優れるものの、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例４−１よりも、配向度が低下するのがわかった。

［実施例５−１］
液晶組成物１の代わりに下記液晶組成物５を用いた以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
なお、液晶組成物５には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物５の全固形分中における二色性物質の含有量は１０質量％であった。
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液晶組成物５の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：１０質量％）
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・表５の実施例５−１に記載の高分子液晶性化合物 ７．１８質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・下記二色性物質Ｄ３ ０．３５質量部
・下記二色性物質Ｄ４ ０．４５質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０１質量部
・クロロホルム ９１．９５質量部
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上記式（Ｄ３）中、「Ｍｅ」はメチル基を表す。

［実施例５−２、比較例５−１〜５−２］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を表５に示すように変更した以外は、実施例５−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

＜評価結果＞
実施例５−１〜５−２および比較例５−１〜５−２で使用した高分子液晶性化合物の溶解度、および、得られた光吸収異方性膜の配向度について、実施例１−１と同様の方法にて評価試験を実施した。評価結果を下記表５に示す。

表５の評価試験の結果通り、二色性物質の種類に関わらず、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いれば（実施例５−１〜５−２）、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例５−１と同様の優れた配向度を有し、高分子液晶性化合物の溶解性については比較例５−１よりも優れるのがわかった。
これに対して、分子量が２８０よりも大きい繰り返し単位（２）を有する場合（比較例５−２）、得られる光吸収異方性膜の配向度および高分子液晶性化合物の溶解性が劣ることが示された。

［実施例６−１］
液晶組成物１の代わりに下記液晶組成物６を用いた以外は、実施例１−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。
なお、液晶組成物６には２種類の二色性物質を用いており、液晶組成物６の全固形分中における二色性物質の含有量は３０質量％であった。
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液晶組成物６の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：３０質量％）
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・表６の実施例６−１に記載の高分子液晶性化合物 ３．９２質量部
（繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝９６：４（質量基準））
・上記二色性物質Ｄ１ ０．７８質量部
・上記二色性物質Ｄ２ １．０３質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０２質量部
・クロロホルム １０８．９２質量部
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［実施例６−２、比較例６−１〜６−２］
液晶組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を表６に示すように変更した以外は、実施例６−１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。

＜評価結果＞
実施例６−１〜６−２および比較例６−１〜６−２で使用した高分子液晶性化合物の溶解度、および、得られた光吸収異方性膜の配向度について、実施例１−１と同様の方法にて評価試験を実施した。評価結果を下記表６に示す。

表６の評価試験の結果通り、分子量２８０以下の繰り返し単位（２）を有する高分子液晶性化合物を用いれば（実施例６−１〜６−２）、繰り返し単位（１）の単独重合体である高分子液晶性化合物を用いた比較例６−１および６−２よりも優れた配向度を有し、高分子液晶性化合物の溶解性についても比較例６−１および６−２よりも優れるのがわかった。

Claims (11)

1. 側鎖型高分子液晶性化合物および二色性物質を含む液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜であって、
   前記側鎖型高分子液晶性化合物が、メソゲン基を含み分子量が２８０よりも大きく、２０００以下である繰り返し単位（１）と、分子量が４０以上２８０以下の繰り返し単位（２）と、を有する共重合体であり、
   前記繰り返し単位（２）の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、１４質量％未満であり、
   前記二色性物質の含有量が、前記液晶組成物の全固形分量に対して、２質量％よりも大きく、８０質量％以下である、光吸収異方性膜。
2. 前記繰り返し単位（１）が、下記式（１）で表される、請求項１に記載の光吸収異方性膜。
   

   

   前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１は単結合またはスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
3. 前記二色性物質の含有量が、前記液晶組成物の全固形分量に対して、４質量％以上８０質量％以下である、請求項１または２に記載の光吸収異方性膜。
4. 前記二色性物質の含有量が、前記液晶組成物の全固形分量に対して、１０質量％以上８０質量％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
5. 前記繰り返し単位（２）の分子量が、４０以上１８０以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
6. 前記繰り返し単位（２）の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、２質量％以上１４質量％未満である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
7. 前記繰り返し単位（２）の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、２〜７質量％である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
8. 前記繰り返し単位（２）が、メソゲン基を含まない、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜。
9. 基材と、前記基材上に設けられる請求項１〜８のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
10. さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項９に記載の積層体。
11. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の光吸収異方性膜、または、請求項９もしくは請求項１０に記載の積層体を有する、画像表示装置。