JP7376721B2 - 液晶組成物、光学異方性層、積層体及び画像表示装置 - Google Patents

液晶組成物、光学異方性層、積層体及び画像表示装置 Download PDF

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Description

本発明は、液晶組成物、光学異方性層、積層体及び画像表示装置に関する。
光学補償シート及び位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消及び視野角拡大などの観点から、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物を用いた光学異方性層（液晶層）を使用することが提案されている。
また、光学フィルムは、一般に、面内において均一な厚みを有することを求められる。このような均一な厚みを達成するためには、液晶組成物を基材上に塗工する際、塗工を均一に行うことが求められる。
このように塗工を均一に行うために、界面活性剤（界面改良剤）を含む液晶組成物を用いることがあり、この界面活性剤としては、フッ素原子を含むものを用いることが多い。
例えば、特許文献１には、重合性液晶化合物とフッ素原子を含む界面活性剤とを含む液晶性組成物を硬化した硬化物の層（光学異方性層）を備えた光学フィルムが記載されている（請求項１）。
国際公開第２０１７／０５７００５号
近年、液晶組成物を用いて形成される光学異方性層はより一層の性能向上が求められており、具体的には、配向欠陥を抑制でき、かつ、配向度に優れた光学異方性層が求められている。
本発明者らが、特許文献１に記載されているような光学異方性層について検討したところ、光学異方性層の形成に用いる界面改良剤の種類によっては、配向欠陥の抑制及び配向度が近年求められている水準を満たさない場合があり、改善の余地があることを明らかとした。
そこで、本発明は、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層を形成できる液晶組成物、光学異方性層、積層体及び画像表示装置の提供を課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、後述の式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１及びフッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２を有する界面改良剤を含有する液晶組成物を用いれば、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
［１］
棒状液晶性化合物と、後述の式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１及びフッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２を有する界面改良剤と、を含有する、液晶組成物。
式（Ｎ－１）中、ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、ＲＢ１３は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。ただし、ＲＢ１１及びＲＢ１２が置換基である場合、ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して環を形成していてもよい。
［２］
後述の式（Ｎ－１）において、ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計が１００以下である、［１］に記載の液晶組成物。
［３］
後述の式（Ｎ－１）において、ＲＢ１１及びＲＢ１２がそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１５の有機基である、［１］又は［２］に記載の液晶組成物。
［４］
上記繰り返し単位Ｂ１の含有量が、上記界面改良剤が有する全繰り返し単位に対して、３～７５質量％である、［１］～［３］のいずれかに記載の液晶組成物。
［５］
上記棒状液晶性化合物が高分子液晶性化合物を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の液晶組成物。
［６］
上記棒状液晶性化合物が更に低分子液晶性化合物を含む、［５］に記載の液晶組成物。
［７］
上記繰り返し単位Ｂ２が、後述の式（Ｆ－１）で表される繰り返し単位及び後述の式（Ｆ－２）で表される繰り返し単位の少なくとも一方を含む、［１］～［６］のいずれかに記載の液晶組成物。
式（Ｆ－１）中、
ＬＦ１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｒ１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素数１～２０のアルキル基を表し、
ＲＦ１は、
（ａ）後述の式（１）、（２）又は（３）で示される基
（ｂ）パーフルオロポリエーテル基
（ｃ）プロトンドナー性官能基とプロトンアクセプター性官能基の水素結合を有し、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基
（ｄ）後述の式（１－ｄ）で表される基
（ｅ）後述の式（１－ｅ）で表される基
の少なくとも１つの基を含む基を表す。
式（１－ｄ）中、Ｘは、水素原子、又は、置換基を表し、Ｔ１０は、末端基を表し、ｌは１～２０の整数を表し、ｍは０～２の整数を表し、ｎは１～２の整数を表し、ｍ＋ｎは２である。
式（１－ｅ）中、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、ＬＦ２は、単結合又は２価の連結基を表し、ＲＦ１１及びＲＦ１２はそれぞれ独立に、パーフルオロポリエーテル基を表し、＊は、式（Ｆ－１）におけるＬＦ１との結合位置を表す。
式（Ｆ－２）中、
Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表し、 ＬＦ２は、上記式（Ｆ－１）中のＬＦ１と同じ基を表し、
ＳＰ２１及びＳＰ２２はそれぞれ独立に、スペーサー基を表し、
ＤＦ２は、（ｍ２＋１）価の基を表し、
Ｔ２は、末端基を表し、
ＲＦ２は、フッ素原子を含む基を表し、
ｎ２は２以上の整数を表し、ｍ２は２以上の整数を表し、ｍ２≧ｎ２である。
［８］
更に、二色性物質を含有する、［１］～［７］のいずれかに記載の液晶組成物。
［９］
［１］～［８］のいずれかに記載の液晶組成物を用いて形成された、光学異方性層。
［１０］
基材と、上記基材上に設けられた［９］に記載の光学異方性層と、を有する積層体であって、
上記光学異方性層に含まれる棒状液晶性化合物が、水平方向に配向した状態で固定化されている、積層体。
［１１］
更に、上記光学異方性層上に設けられるλ／４板を有する、［１０］に記載の積層体。
［１２］
［９］に記載の光学異方性層、又は、［１０］若しくは［１１］に記載の積層体を有する、画像表示装置。
本発明によれば、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層を形成できる液晶組成物、光学異方性層、積層体及び画像表示装置を提供できる。
図１Ａは、特定界面改良剤が有し得るブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｂは、特定界面改良剤が有し得るブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｃは、特定界面改良剤が有し得るブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｄは、特定界面改良剤が有し得るブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｅは、特定界面改良剤が有し得るブロック構造の一例を示す図である。 図２Ａは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｂは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｃは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｄは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｅは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｆは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｇは、特定界面改良剤が有し得るグラフト構造の一例を示す図である。 図３は、グラフト構造を有する場合の特定界面改良剤を合成する方法を説明する図である。 図４Ａは、特定界面改良剤が有し得るスター構造の一例を示す図である。 図４Ｂは、特定界面改良剤が有し得るスター構造の一例を示す図である。 図４Ｃは、特定界面改良剤が有し得るスター構造の一例を示す図である。 図４Ｄは、特定界面改良剤が有し得るスター構造の一例を示す図である。 図５Ａは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｂは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｃは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｄは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｅは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｆは、特定界面改良剤が有し得るブランチ構造の一例を示す図である。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、及び、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、及び、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、及び、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」又は「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」又は「メタクリロイル」を表す表記である。
［置換基Ｗ］
本明細書で用いられる置換基Ｗは、以下の基を表す。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のシクロアルキル基、炭素数１～１０のアルキルカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルキルアミノ基、アルキルアミノカルボニル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。
また、置換基Ｗは、下記式（Ｗ１）で表される基であってもよい。
式（Ｗ１）中、ＬＷは単結合又は２価の連結基を表し、ＳＰＷは２価のスペーサー基を表し、Ｑは後述の式（ＬＣ）におけるＱ１又はＱ２を表し、＊は結合位置を表す。
ＬＷが表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、などが挙げられる。ＬＷは、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい（以下「Ｌ－Ｃ」とも省略する）。
ＳＰＷが表す２価のスペーサー基としては、炭素数１～５０の直鎖、分岐若しくは環状のアルキレン基、又は、炭素数１～２０複素環基が挙げられる。
上記アルキレン基、複素環基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい（以下「ＳＰ－Ｃ」とも省略する）。
上記アルキレン基の水素原子、及び、複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、－ＺＨ、－ＯＨ、－ＯＺＨ、－ＣＯＯＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、 －ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＨ、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、で置換されていてもよい（以下、「ＳＰ－Ｈ」とも省略する）。ここで、ＺＨ、ＺＨ’は炭素数１～１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、－Ｌ－ＣＬ（Ｌは単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の具体例は、上述したＬＷ及びＳＰＷと同じである。ＣＬは架橋性基を表し、後述の式（ＬＣ）におけるＱ１又はＱ２で表わされる基が挙げられ、後述の式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基が好ましい。）を表す。
［液晶組成物］
本発明の液晶組成物は、棒状液晶性化合物と、後述の式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１及びフッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２を有する界面改良剤（以下、「特定界面改良剤」ともいう。）と、を含有する。
本発明の液晶組成物によれば、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層を形成できる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
特定界面改良剤は、フッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２を有するので、本発明の液晶組成物を用いて光学異方性層を形成した際に、光学異方性層の表面に特定界面改良剤が存在すると推定される。すなわち、特定界面改良剤は、表面付近での棒状液晶性化合物の配向に影響を与え得る。
ここで、フッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２以外の繰り返し単位の種類によっては、液晶分子と相溶する場合があり、液晶分子と相溶することで、光学異方性層の表面付近の配向を乱し、配向欠陥を発生させたり、配向性を低下させたりすることがある。
これに対して、アミド構造を有する繰り返し単位Ｂ１は、繰り返し単位Ｂ１間で高い相互作用をすることで、特定界面改良剤と液晶分子との相溶性を低下させることができると考えられる。その結果、配向欠陥が少なく、優れた配向度の光学異方性層が得られたと推定している。
以下において、本発明の液晶組成物に含まれる成分及び含まれ得る成分について説明する。
〔棒状液晶性化合物〕
液晶性化合物は、一般的に、その形状から棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。本発明の液晶組成物は、その形状が棒状である棒状液晶性化合物を含有する。
棒状液晶性化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶性化合物が好ましい。
棒状液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物及び高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基及びメタクリロイル基）を有していてもよい。
棒状液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
棒状液晶性化合物は、本発明の効果がより優れる点から、高分子液晶性化合物を含むことが好ましく、高分子液晶性化合物及び低分子液晶性化合物の両方を含むことが特に好ましい。
棒状液晶性化合物は、式（ＬＣ）で表わされる液晶性化合物又はその重合体を含むことが好ましい。式（ＬＣ）で表わされる液晶性化合物又はその重合体は、液晶性を示す化合物である。液晶性は、ネマチック相であってもスメクチック相であってもよく、ネマチック相とスメクチック相の両方を示してもよく、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。
スメクチック相としては、高次スメクチック相であってもよい。ここでいう高次スメクチック相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相、スメクチックＬ相、であり、中でもスメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相、であることが好ましい。
液晶性化合物が示すスメクチック液晶相がこれらの高次スメクチック液晶相であると、配向秩序度のより高い光学異方性層を作製できる。また、このように配向秩序度の高い高次スメクチック液晶相から作製した光学異方性層はＸ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。上記ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークであり、本発明の液晶組成物によれば、周期間隔が３．０～５．０Åである光学異方性層を得ることができる。
式（ＬＣ）中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ（ＯＨ）２）、ホスファト基（－ＯＰＯ（ＯＨ）２）、スルファト基（－ＯＳＯ３Ｈ）、又は、下記式（Ｐ１）～（Ｐ－３０）で表わされる架橋性基を表し、Ｑ１及びＱ２の少なくとも一方は、下記式で表わされる架橋性基であることが好ましい。
式（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）中、ＲＰは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル若しくはアリールスルフィニル基、アルキル若しくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール若しくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、又は、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、を表し、複数のＲＰはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
架橋性基の好ましい態様としては、ラジカル重合性基、又はカチオン重合性基が挙げられる。ラジカル重合性基としては、上記式（Ｐ－１）で表わされるビニル基、上記式（Ｐ－２）で表わされるブタジエン基、上記式（Ｐ－４）で表わされる（メタ）アクリル基、上記式（Ｐ－５）で表わされる（メタ）アクリルアミド基、上記式（Ｐ－６）で表わされる酢酸ビニル基、上記式（Ｐ－７）で表わされるフマル酸エステル基、上記式（Ｐ－８）で表わされるスチリル基、上記式（Ｐ－９）で表わされるビニルピロリドン基、上記式（Ｐ－１１）で表わされる無水マレイン酸、又は、上記式（Ｐ－１２）で表わされるマレイミド基、が好ましい。カチオン重合性基としては、上記式（Ｐ－１８）で表わされるビニルエーテル基、上記式（Ｐ－１９）で表わされるエポキシ基、又は、上記式（Ｐ－２０）で表わされるオキセタニル基、が好ましい。
式（ＬＣ）において、Ｓ１及びＳ２はそれぞれ独立に、２価のスペーサー基を表し、Ｓ１及びＳ２の好適態様は、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷと同じ構造が挙げられるため、その説明を省略する。
式（ＬＣ）中、ＭＧは後述するメソゲン基を表わす。ＭＧが表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、及び、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
ＭＧが表すメソゲン基は、環状構造を２～１０個含むのが好ましく、３～７個含むのがより好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、及び脂環式基などが挙げられる。
ＭＧが表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性及び合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（ＭＧ－Ａ）又は下記式（ＭＧ－Ｂ）で表される基が好ましく、式（ＭＧ－Ｂ）で表される基がより好ましい。
式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基及び脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～１５員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、Ｓ１又はＳ２との結合位置を表す。
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基及びテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基、ナフチレン基が好ましい。
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族又は非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、及び、チエノオキサゾール－ジイル基、下記の構造（ＩＩ－１）～（ＩＩ－４）などが挙げられる。
式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－４）中、Ｄ１は、－Ｓ－、－Ｏ－、又はＮＲ１１－を表し、Ｒ１１は水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ１は炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、又は、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表し、Ｚ１、Ｚ２、及びＺ３はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ１２Ｒ１３又は－ＳＲ１２を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｊ１及びＪ２はそれぞれ独立に、－Ｏ－、－ＮＲ２１－（Ｒ２１は水素原子又は置換基を表す。）、－Ｓ－及びＣ（Ｏ）－からなる群から選択される基を表し、Ｅは水素原子又は置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表し、Ｊｘは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表し、Ｊｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表し、Ｊｘ及びＪｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＪｘとＪｙは結合して、環を形成していてもよく、Ｄ２は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（ＩＩ－２）中、Ｙ１が炭素数６～１２の芳香族炭化水素基である場合、単環でも多環でもよい。Ｙ１が炭素数３～１２の芳香族複素環基である場合、単環でも多環でもよい。
式（ＩＩ－２）中、Ｊ１及びＪ２が、－ＮＲ２１－を表す場合、Ｒ２１の置換基としては、例えば特開２００８－１０７７６７号公報の段落００３５～００４５の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
式（ＩＩ－２）中、Ｅが、置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子である場合、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ（Ｒ’）Ｒ’が好ましい。Ｒ’は置換基を表し、置換基としては例えば特開２００８－１０７７６７号公報の段落［００３５］～［００４５］の記載を参酌でき、－ＮＺＡ１ＺＡ２（ＺＡ１及びＺＡ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。）が好ましい。
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基及びシクロへキシレン基などが挙げられ、炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｚ）－（Ｚは、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、及び－ＳＯ２－、これらの基を２つ以上組み合わせた基によって置換されていてもよい。
式（ＭＧ－Ａ）中、ａ１は２～１０の整数を表す。複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（ＭＧ－Ｂ）中、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基及び脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２及びＡ３の具体例及び好適態様は、式（ＭＧ－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（ＭＧ－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上であることがより好ましい。
式（ＭＧ－Ｂ）中、ＬＡ１は、単結合又は２価の連結基である。ただし、ａ２が１である場合、ＬＡ１は２価の連結基であり、ａ２が２以上である場合、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。
式（ＭＧ－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、ＬＷと同様のため、その説明を省略する。
ＭＧの具体例としては、例えば以下の構造が挙げられ、以下の構造中、芳香族炭化水素基、複素環基及び脂環式基上の水素原子は、上述の置換基Ｗで置換されていてもよい。
＜低分子液晶性化合物＞
式（ＬＣ）で表わされる液晶性化合物が低分子液晶性化合物の場合、メソゲン基ＭＧの環状構造の好ましい態様としては、シクロへキシレン基、シクロペンチレン基、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、ピリジン－ジイル基、ピリダジン－ジイル基、チオフェン－ジイル基、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、等が挙げられ、環状構造の個数は、２～１０個が好ましく、３～７個が更に好ましい。
メソゲン構造の置換基Ｗの好ましい態様としては、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルキルカルボニルオキシ基、アミノ基、炭素数１～１０のアルキルアミノ基、アルキルアミノカルボニル基、上述の式（Ｗ１）においてＬＷが単結合であり、ＳＰＷが２価のスペーサー基であり、Ｑが上述の（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基である基、などが挙げられ、架橋性基としては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましい。
２価のスペーサー基Ｓ１及びＳ２の好ましい態様としては、上記ＳＰＷと同様のため、その説明を省略する。
スメクチック性を示す低分子液晶性化合物を用いる場合、スペーサー基の炭素数（この炭素を「ＳＰ－Ｃ」で置き変えた場合はその原子数）は、炭素数６以上が好ましく、８以上が更に好ましい。
式（ＬＣ）で表わされる液晶性化合物が低分子液晶性化合物の場合、複数の低分子液晶性化合物を併用してもよく、２～６種を併用するのが好ましく、２～４種を併用することが更に好ましい。低分子液晶性化合物を併用することで、溶解性の向上や液晶組成物の相転移温度を調整することができる。
低分子液晶性化合物の具体例としては、以下の式（ＬＣ-１）～（ＬＣ－７７）で表される化合物が挙げられるが、低分子液晶性化合物はこれらに限定されるものではない。
＜高分子液晶性化合物＞
高分子液晶性化合物は、後述する繰り返し単位を含むホモポリマー又はコポリマーであることが好ましく、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー、スターポリマーなど、いずれのポリマーであってもよい。
（繰り返し単位（１））
高分子液晶性化合物は、式（１）で表わされる繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」ともいう。）を含むことが好ましい。
式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合又は２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１は上述の式（ＬＣ）におけるメソゲン基ＭＧを表し、Ｔ１は末端基を表す。
ＰＣ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、例えば、式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性及び取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖又は分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基及びシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基及びシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ１４（ＯＲ１５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ１４と同義であり、複数のＲ１５はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。
Ｌ１が表す２価の連結基は、上述の式（Ｗ１）におけるＬＷと同様の２価の連結基であり、好ましい態様としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１６－、－ＮＲ１６Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）２－、及び、－ＮＲ１６Ｒ１７－などが挙げられる。式中、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、上述の置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰＣ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
ＰＣ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－又は－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１６－で表される基が好ましい。
ＰＣ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、上述の式（ＬＣ）におけるＳ１及びＳ２と同じ基を表わし、配向度の観点から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造及びフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、又は、炭素数２～２０の直鎖又は分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＮＲ－（Ｒは、炭素数１～１０のアルキル基を表す。）、又は、－Ｓ（Ｏ）２－、を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造及びフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であることがより好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１又はＭＧ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～６の整数がより好ましく、２～４であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１又はＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１又はＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１又はＭＧ１との結合位置を表す。
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、－ＳＨ、カルボキシル基、ボロン酸基、－ＳＯ３Ｈ、－ＰＯ３Ｈ２、－ＮＲ１１Ｒ１２（Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれ独立に水素原子又は置換又は非置換の炭素数１～１０のアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表わす）、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、及び、炭素数１～１０のウレイド基、架橋性基含有基などが挙げられる。
上記架橋性基含有基としては、例えば、上述の－Ｌ－ＣＬが挙げられる。Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬＷ及びＳＰＷと同じである。ＣＬは架橋性基を表し、上述のＱ１又はＱ２で表わされる基が挙げられ、上述の式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる基が好ましい。また、Ｔ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が更に好ましい。これらの末端基は、これらの基、又は、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、更に置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光学異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
繰り返し単位（１）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、４０～１００質量％が好ましく、５０～９５質量％がより好ましい。繰り返し単位（１）の含有量が４０質量％以上であれば、良好な配向性により優れた光学異方性層が得られる。また、繰り返し単位（１）の含有量が１００質量％以下であれば、良好な配向性により優れた光学異方性層が得られる。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（１）が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位（１）の含有量は、繰り返し単位（１）の含有量の合計を意味する。
（ｌｏｇＰ値）
式（１）において、ＰＣ１、Ｌ１及びＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ１」ともいう。）と、ＭＧ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ１－ｌｏｇＰ２｜）が４以上であり、光学異方性層の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整及び合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性及び疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ又はＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
上記ｌｏｇＰ１は、上述したように、ＰＣ１、Ｌ１及びＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「ＰＣ１、Ｌ１及びＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、ＰＣ１、Ｌ１及びＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、ＰＣ１、Ｌ１及びＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない、具体的には、ｌｏｇＰ１は、式（１）におけるＰＣ１～ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ１の算出にあたって、ＰＣ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、ＰＣ１で表される基の部分に関しては、ＰＣ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、式（１）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰＣ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（ＰＣ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。ＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）－で表される基（Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。）である。また、ＰＣ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、ＰＣ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、ＰＣ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ２）３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ２はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。ただし、複数のＲ２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。
ｌｏｇＰ１は、上述したｌｏｇＰ２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（１）におけるＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも低い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（１）におけるＰＣ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ１がｌｏｇＰ２よりも高い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造及びオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造及びフッ化アルキレン構造などが挙げられる。
（繰り返し単位（２１）及び（２２））
配向度を向上させる観点から、高分子液晶性化合物は、末端に電子供与性及び／又は電子吸引性を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。より具体的には、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位（２１）と、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位（２２）と、を含むことがより好ましい。このように、高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）を含む場合、上記繰り返し単位（２１）又は上記繰り返し単位（２２）のいずれかのみを含む場合と比べて、これを用いて形成される光学異方性層の配向度が向上する。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
すなわち、繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）に発生する逆向きの双極子モーメントが、分子間相互作用をすることによって、メソゲン基の短軸方向への相互作用が強くなって、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなると考えられる。これにより、二色性物質の配向性も良好になるので、形成される光学異方性層の配向度が高くなると推測される。
なお上記繰り返し単位（２１）及び（２２）は、上記式（１）で表わされる繰り返し単位であってもよい。
繰り返し単位（２１）は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有する。
上記電子吸引性基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０より大きい基である。電子吸引性基（σｐ値が０よりも大きい基）としては、後述の式（ＬＣＰ－２１）におけるＥＷＧで表される基が挙げられ、その具体例も同様である。
上記電子吸引性基のσｐ値は、０よりも大きく、光学異方性層の配向度がより高くなる点から、０．３以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。上記電子吸引性基のσｐ値の上限値は、配向の均一性が優れる点から、１．２以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。
σｐ値とは、ハメットの置換基定数σｐ値（単に「σｐ値」とも略記する）であり、置換安息香酸の酸解離平衡定数における置換基の効果を数値で表したものであり、置換基の電子吸引性及び電子供与性の強度を示すパラメータである。本明細書におけるハメットの置換基定数σｐ値は、置換基が安息香酸のパラ位に位置する場合の置換基定数σを意味する。
本明細書における各基のハメットの置換基定数σｐ値は、文献「Ｈａｎｓｃｈ ｅｔ ａｌ．， Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ， １９９１， Ｖｏｌ， ９１， Ｎｏ． ２， １６５－１９５」に記載された値を採用する。なお、上記文献にハメットの置換基定数σｐ値が示されていない基については、ソフトウェア「ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ（ＡＣＤ／Ｌａｂｓ ８．００ Ｒｅｌｅａｓｅ Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｖｅｒｓｉｏｎ：８．０８）」を用いて、安息香酸のｐＫａと、パラ位に置換基を有する安息香酸誘導体のｐＫａとの差に基づいて、ハメットの置換基定数σｐ値を算出できる。
繰り返し単位（２１）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有していれば、特に限定されないが、光学異方性層の配向度がより高くなる点から、下記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
式（ＬＣＰ－２１）中、ＰＣ２１は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２１は単結合又は２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２１Ａ及びＳＰ２１Ｂはそれぞれ独立に単結合又はスペーサー基を表し、スペーサー基の具体例は上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２１はメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧを表し、ＥＷＧはσｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
ＳＰ２１Ａ及びＳＰ２１Ｂが表わすスペーサー基は、上記式Ｓ１及びＳ２と同様の基を表わし、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造及びフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、又は、炭素数２～２０の直鎖又は分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造及びフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ＳＰ２１Ｂは、単結合、又は、炭素数２～２０の直鎖若しくは分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
これらの中でも、ＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、光学異方性層の配向度がより高くなる点から、単結合が好ましい。換言すれば、繰り返し単位２１は、式（ＬＣＰ－２１）における電子吸引性基であるＥＷＧが、式（ＬＣＰ－２１）におけるメソゲン基であるＭＧ２１に直結する構造を有するのが好ましい。このように、電子吸引性基がメソゲン基に直結していると、高分子液晶性化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用がより効果的に働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、配向度がより高くなると考えられる。
ＥＷＧは、σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。σｐ値が０より大きい電子吸引性基としては、エステル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－ＲＥで表される基）、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＯＲＥ、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＲＥ、－Ｏ－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＲＥ、アシル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）ＲＥで表される基）、アシルオキシ基（具体的には、＊－ＯＣ（Ｏ）ＲＥで表される基）、イソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ（Ｏ））、＊－Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＦ）２、ハロゲン原子、並びに、これらの基で置換されたアルキル基（炭素数１～２０が好ましい。）が挙げられる。上記各基において、＊はＳＰ２１Ｂとの結合位置を表す。ＲＥは、炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。ＲＦはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。
上記基の中でも、ＥＷＧは、本発明の効果がより発揮される点から、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－ＲＥで表される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は、シアノ基、ニトロ基、が好ましい。
繰り返し単位（２１）の含有量は、光学異方性層の高い配向度を維持しつつ、高分子液晶性化合物及び二色性物質を均一に配向できる点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。
繰り返し単位（２１）の含有量の下限値は、本発明の効果がより発揮される点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（２１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、及び、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、ＥＷＧに架橋性基を含まない繰り返し単位（２１）と、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位（２１）と、を併用してもよい。これにより、光学異方性層の硬化性がより向上する。なお、架橋性基としては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましい。
この場合、光学異方性層の硬化性と配向度のバランスの点から、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位（２１）の含有量が、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１～３０質量％であることが好ましい。
以下において、繰り返し単位（２１）の一例を示すが、繰り返し単位（２１）は、以下の繰り返し単位に限定されるものではない。
本発明者らは、繰り返し単位（２１）及び繰り返し単位（２２）について、組成（含有割合）並びに末端基の電子供与性及び電子吸引性について鋭意検討した結果、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が強い場合（すなわち、σｐ値が大きい場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を低くすれば光学異方性層の配向度がより高くなり、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が弱い場合（すなわち、σｐ値が０に近い場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を高くすれば光学異方性層の配向度がより高くなることを見出した。
この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。すなわち、高分子液晶性化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用が働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、光学異方性層の配向度がより高くなると考えられる。
具体的には、繰り返し単位（２１）における上記電子吸引性基（式（ＬＣＰ－２１）においてはＥＷＧ）のσｐ値と、高分子液晶性化合物中の繰り返し単位（２１）の含有割合（質量基準）と、の積は、０．０２０～０．１５０が好ましく、０．０５０～０．１３０がより好ましく、０．０５５～０．１２５が特に好ましい。上記積が上記範囲内であれば、光学異方性層の配向度がより高くなる。
繰り返し単位（２２）は、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２２）を有することで、高分子液晶性化合物及び二色性物質を均一に配向できる。
メソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＭＧで説明する通りであり、その具体例も同様である。
上記基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０以下の基である。上記基（σｐ値が０以下である基）としては、σｐ値が０である水素原子、及び、σｐ値が０よりも小さい後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２で表される基（電子供与性基）が挙げられる。上記基のうち、σｐ値が０よりも小さい基（電子供与性基）の具体例は、後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２と同様である。
上記基のσｐ値は、０以下であり、配向の均一性がより優れる点から、０よりも小さいことが好ましく、－０．１以下がより好ましく、－０．２以下が特に好ましい。上記基のσｐ値の下限値は、－０．９以上が好ましく、－０．７以上がより好ましい。
繰り返し単位（２２）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下である基とを有していれば、特に限定されないが、液晶の配向の均一性がより高くなる点から、上記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（ＰＣＰ－２２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
式（ＬＣＰ－２２）中、ＰＣ２２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２２は単結合又は２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２２はスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２２はメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧと同様の構造を表し、Ｔ２２はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
Ｔ２２は、σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。σｐ値が０より小さい電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、及び、炭素数１～１０のアルキルアミノ基などが挙げられる。
Ｔ２２の主鎖の原子数が２０以下であることで、光学異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ２２おける「主鎖」とは、ＭＧ２２と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ２２の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ２２がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ２２がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
以下において、繰り返し単位（２２）の一例を示すが、繰り返し単位（２２）は、以下の繰り返し単に限定されるものではない。
繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）は、構造の一部が共通しているのが好ましい。繰り返し単位同士の構造が類似しているほど、液晶が均一に整列すると推察される。これにより、光学異方性層の配向度がより高くなる。
具体的には、光学異方性層の配向度がより高くなる点から、式（ＬＣＰ－２１）のＳＰ２１Ａと式（ＬＣＰ－２２）のＳＰ２２とが同一構造であること、式（ＬＣＰ－２１）のＭＧ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＭＧ２２とが同一構造であること、及び、式（ＬＣＰ－２１）のＬ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＬ２２とが同一構造であること、のうち、少なくとも１つを満たすことが好ましく、２つ以上を満たすことがより好ましく、全てを満たすことが特に好ましい。
繰り返し単位（２２）の含有量は、配向の均一性が優れる点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、５０質量％以上が好ましく、５５質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。
繰り返し単位（２２）の含有量の上限値は、配向度が向上する点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
繰り返し単位（２２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２２）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、及び、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
（繰り返し単位（３））
高分子液晶性化合物は、汎用溶媒に対する溶解性を向上させる観点から、メソゲンを含有しない繰り返し単位（３）を含むことができる。特に配向度の低下を抑えながら溶解性を向上させるためには、このメソゲンを含有しない繰り返し単位（３）として、分子量２８０以下の繰り返し単位であることが好ましい。このように、メソゲンを含有しない分子量２８０以下の繰り返し単位を含むことで配向度の低下を抑えながら溶解性を向上させられる理由としては以下のように推定している。
すなわち、高分子液晶性化合物がその分子鎖中にメソゲンを持たない繰り返し単位（３）を含むことで、高分子液晶性化合物中に溶媒が入り込みやすくなるために溶解性は向上するが、非メソゲン性の繰り返し単位（３）は配向度を低下させると考えられる。しかしながら、上記繰り返し単位の分子量が小さいことで、上記メソゲン基を含む繰り返し単位（１）、繰り返し単位（２１）又は繰り返し単位（２２）の配向が乱されにくく、配向度の低下を抑えられる、と推定される。
上記繰り返し単位（３）は、分子量２８０以下の繰り返し単位であることが好ましい。
繰り返し単位（３）の分子量とは、繰り返し単位（３）を得るために使用するモノマーの分子量を意味するのではなく、モノマーの重合によって高分子液晶性化合物に組み込まれた状態における繰り返し単位（３）の分子量を意味する。
繰り返し単位（３）の分子量は、２８０以下であり、１８０以下が好ましく、１００以下がより好ましい。繰り返し単位（３）の分子量の下限値は、通常、４０以上であり、５０以上がより好ましい。繰り返し単位（３）の分子量が２８０以下であれば、高分子液晶性化合物の溶解性に優れ、かつ、高い配向度の光学異方性層が得られる。
一方で、繰り返し単位（３）の分子量が２８０を超えると、上記繰り返し単位（１）、繰り返し単位（２１）又は繰り返し単位（２２）の部分の液晶配向を乱してしまい、配向度が低くなる場合がある。また、高分子液晶性化合物中に溶媒が入り込みにくくなるので、高分子液晶性化合物の溶解性が低下する場合がある。
繰り返し単位（３）の具体例としては、架橋性基（例えば、エチレン性不飽和基）を含まない繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－１）」ともいう。）、及び、架橋性基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）が挙げられる。
・繰り返し単位（３－１）
繰り返し単位（３－１）の重合に使用されるモノマーの具体例としては、アクリル酸［７２．１］、α－アルキルアクリル酸類（例えば、メタクリル酸［８６．１］、イタコン酸［１３０．１］）、それらから誘導されるエステル類及びアミド類（例えば、Ｎ－ｉ－プロピルアクリルアミド［１１３．２］、Ｎ－ｎ－ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ－ｔ－ブチルアクリルアミド［１２７．２］、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド［９９．１］、Ｎ－メチルメタクリルアミド［９９．１］、アクリルアミド［７１．１］、メタクリルアミド［８５．１］、ジアセトンアクリルアミド［１６９．２］、アクリロイルモルホリン［１４１．２］、Ｎ－メチロールアクリルアミド［１０１．１］、Ｎ－メチロールメタクリルアミド［１１５．１］、メチルアクリレート［８６．０］、エチルアクリレート［１００．１］、ヒドロキシエチルアクリレート［１１６．１］、ｎ－プロピルアクリレート［１１４．１］、ｉ－プロピルアクリレート［１１４．２］、２－ヒドロキシプロピルアクリレート［１３０．１］、２－メチル－２－ニトロプロピルアクリレート［１７３．２］、ｎ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｉ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ－ブチルアクリレート［１２８．２］、ｔ－ペンチルアクリレート［１４２．２］、２－メトキシエチルアクリレート［１３０．１］、２－エトキシエチルアクリレート［１４４．２］、２－エトキシエトキシエチルアクリレート［１８８．２］、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート［１５４．１］、２，２－ジメチルブチルアクリレート［１５６．２］、３－メトキシブチルアクリレート［１５８．２］、エチルカルビトールアクリレート［１８８．２］、フェノキシエチルアクリレート［１９２．２］、ｎ－ペンチルアクリレート［１４２．２］、ｎ－ヘキシルアクリレート［１５６．２］、シクロヘキシルアクリレート［１５４．２］、シクロペンチルアクリレート［１４０．２］、ベンジルアクリレート［１６２．２］、ｎ－オクチルアクリレート［１８４．３］、２－エチルヘキシルアクリレート［１８４．３］、４－メチル－２－プロピルペンチルアクリレート［１９８．３］、メチルメタクリレート［１００．１］、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート［１６８．１］、ヒドロキシエチルメタクリレート［１３０．１］、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート［１４４．２］、ｎ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｉ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｓｅｃ－ブチルメタクリレート［１４２．２］、ｎ－オクチルメタクリレート［１９８．３］、２－エチルヘキシルメタクリレート［１９８．３］、２－メトキシエチルメタクリレート［１４４．２］、２－エトキシエチルメタクリレート［１５８．２］、ベンジルメタクリレート［１７６．２］、２－ノルボルニルメチルメタクリレート［１９４．３］、５－ノルボルネン－２－イルメチルメタクリレート［１９４．３］、ジメチルアミノエチルメタクリレート［１５７．２］）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル［８６．１］）、マレイン酸又はフマル酸から誘導されるエステル類（例えば、マレイン酸ジメチル［１４４．１］、フマル酸ジエチル［１７２．２］）、マレイミド類（例えば、Ｎ－フェニルマレイミド［１７３．２］）、マレイン酸［１１６．１］、フマル酸［１１６．１］、ｐ－スチレンスルホン酸［１８４．１］、アクリロニトリル［５３．１］、メタクリロニトリル［６７．１］、ジエン類（例えば、ブタジエン［５４．１］、シクロペンタジエン［６６．１］、イソプレン［６８．１］）、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレン［１０４．２］、ｐ－クロルスチレン［１３８．６］、ｔ－ブチルスチレン［１６０．３］、α－メチルスチレン［１１８．２］）、Ｎ－ビニルピロリドン［１１１．１］、Ｎ－ビニルオキサゾリドン［１１３．１］、Ｎ－ビニルサクシンイミド［１２５．１］、Ｎ－ビニルホルムアミド［７１．１］、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルホルムアミド［８５．１］、Ｎ－ビニルアセトアミド［８５．１］、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルアセトアミド［９９．１］、１－ビニルイミダゾール［９４．１］、４－ビニルピリジン［１０５．２］、ビニルスルホン酸［１０８．１］、ビニルスルホン酸ナトリウム［１３０．２］、アリルスルホン酸ナトリウム［１４４．１］、メタリルスルホン酸ナトリウム［１５８．２］、ビニリデンクロライド［９６．９］、ビニルアルキルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル［５８．１］）、エチレン［２８．０］、プロピレン［４２．１］、１－ブテン［５６．１］、並びに、イソブテン［５６．１］が挙げられる。なお、［ ］内の数値は、モノマーの分子量を意味する。
上記モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記モノマーの中でも、アクリル酸、α－アルキルアクリル酸類、それらから誘導されるエステル類及びアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、並びに、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記以外のモノマーとしては、例えば、リサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５（１９８０年、７月）に記載の化合物を使用できる。
以下において、繰り返し単位（３－１）の具体例及びその分子量を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
・繰り返し単位（３－２）
繰り返し単位（３－２）において、架橋性基の具体例としては、上記Ｐ１～Ｐ３０で表わされる基が挙げられ、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、がより好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、重合が容易である点から、下記式（３）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
上記式（３）中、ＰＣ３２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ３２は単結合又は２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、Ｐ３２は上記式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基、を表わす。
以下において、繰り返し単位（３－２）の具体例及びその重量平均分子量（Ｍｗ）を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
繰り返し単位（３）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１４質量％未満であり、７質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。繰り返し単位（３）の含有量の下限値は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。繰り返し単位（３）の含有量が１４質量％未満であれば、光学異方性層の配向度がより向上する。繰り返し単位（３）の含有量が２質量％以上であれば、高分子液晶性化合物の溶解性がより向上する。
繰り返し単位（３）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
（繰り返し単位（４））
高分子液晶性化合物は、密着性や面状均一性を向上させる点から、分子鎖の長い柔軟な構造（後述の式（４）のＳＰ４）をもつ繰り返し単位（４）を含むことができる。この理由については以下のように推定している。
すなわち、このような分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、高分子液晶性化合物を構成する分子鎖同士の絡まりが生じやすくなり、光学異方性層の凝集破壊（具体的には、光学異方性層自体が破壊すること）が抑制される。その結果、光学異方性層と、下地層（例えば、基材又は配向膜）との密着性が向上すると推測される。また、面状均一性の低下は、二色性物質と高分子液晶性化合物との相溶性が低いために生じると考えられる。すなわち、二色性物質と高分子液晶性化合物は相溶性が不十分であると、析出する二色性物質を核とする面状不良（配向欠陥）が発生すると考えられる。これに対して、高分子液晶性化合物が分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、二色性物質の析出が抑制されて、面状均一性に優れた光学異方性層が得られたと推測される。ここで、面状均一性に優れるとは、高分子液晶性化合物を含む液晶組成物が下地層（例えば、基材又は配向膜）上ではじかれて生じる配向欠陥が少ないことを意味する。
上記繰り返し単位（４）は、下記式（４）で表される繰り返し単位である。
上記式（４）中、ＰＣ４は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ４は単結合又は２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し（単結合が好ましい）、ＳＰ４は主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表し、Ｔ４は末端基を表わし、より具体的には上記式（１）中のＴ１と同様の構造を表す。
ＰＣ４の具体例及び好適態様は、式（１）のＰＣ１と同様であるので、その説明を省略する。
Ｌ４としては、本発明の効果がより発揮される点から、単結合が好ましい。
式（４）中、ＳＰ４は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表す。ただし、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、上述の「ＳＰ－Ｃ」より置き換えられていてもよく、特に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－及びＳ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも１種の基で置き換えられていることが好ましい。ただし、Ｒ２１～Ｒ２８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基又は炭素数１～１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表す。また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、上述の「ＳＰ－Ｈ」により置き換えられていてもよい。
ＳＰ４の主鎖の原子数は、１０以上であり、密着性及び面状均一性の少なくとも一方がより優れた光学異方性層が得られる点から、１５以上が好ましく、１９以上がより好ましい。また、ＳＰ２の主鎖の原子数の上限は、配向度により優れた光学異方性層が得られる点から、７０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、５０以下が特に好ましい。
ここで、ＳＰ４における「主鎖」とは、Ｌ４とＴ４とを直接連結するために必要な部分構造を意味し、「主鎖の原子数」とは、上記部分構造を構成する原子の個数を意味する。換言すれば、ＳＰ４における「主鎖」は、Ｌ４とＴ４を連結する原子の数が最短になる部分構造である。例えば、ＳＰ４が３，７－ジメチルデカニル基である場合の主鎖の原子数は１０であり、ＳＰ４が４，６－ジメチルドデカニル基の場合の主鎖の原子数は１２である。また、下記式（４－１）においては、点線の四角形で表す枠内がＳＰ４に相当し、ＳＰ４の主鎖の原子数（点線の丸で囲った原子の合計数に相当）は１１である。
ＳＰ４が表すアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
ＳＰ４が表すアルキレン基の炭素数は、配向度により優れた光学異方性層が得られる点から、８～８０が好ましく、１５～８０が好ましく、２５～７０がより好ましく、２５～６０が特に好ましい。
ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、密着性及び面状均一性により優れた光学異方性層が得られる点から、上述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられているのが好ましい。
また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する－ＣＨ２－が複数ある場合、密着性及び面状均一性により優れた光学異方性層が得られる点から、複数の－ＣＨ２－の一部のみが上述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられていることがより好ましい。
「ＳＰ－Ｃ」のうち、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－及びＳ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも１種の基が好ましく、密着性及び面状均一性により優れた光学異方性層が得られる点から、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＳ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも１種の基が更に好ましく、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－及びＣ（＝Ｏ）－からなる群より選択される少なくとも１種の基が特に好ましい。
特に、ＳＰ４は、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置き換えられたオキシアルキレン構造、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－及びＣ（＝Ｏ）－によって置き換えられたエステル構造、並びに、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＮＨ－によって置き換えられたウレタン結合からなる群より選択される少なくとも１つを含む基であるのが好ましい。
ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、前述の「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。この場合、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個以上が「ＳＰ－Ｈ」に置き換えられていればよい。すなわち、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個のみが「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよいし、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の全て（２個）が「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。
「ＳＰ－Ｈ」のうち、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基及び炭素数１～１０の分岐状のアルキル基、炭素数１～１０ハロゲン化アルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることが好ましく、ヒドロキシ基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基及び炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基が更に好ましい。
Ｔ４は、上述したように、Ｔ１と同様の末端基を表し、水素原子、メチル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していてもよいフェニル基、－Ｌ－ＣＬ（Ｌは単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の具体例は上述したＬＷ及びＳＰＷと同じである。ＣＬは架橋性基を表し、上記Ｑ１又はＱ２で表わされる基が挙げられ、式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基が好ましい。）であることが好ましく、上記ＣＬとしては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、又は、オキセタニル基、が好ましい。
エポキシ基は、エポキシシクロアルキル基であってもよく、エポキシシクロアルキル基におけるシクロアルキル基部分の炭素数は、本発明の効果がより優れる点から、３～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、６（すなわち、エポキシシクロアルキル基がエポキシシクロヘキシル基である場合）が特に好ましい。
オキセタニル基の置換基としては、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、炭素１～５のアルキル基が好ましい。オキセタニル基の置換基としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から直鎖状であることが好ましい。
フェニル基の置換基としては、ボロン酸基、スルホン酸基、ビニル基、及び、アミノ基が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、ボロン酸基が好ましい。
繰り返し単位（４）の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例において、ｎ１は２以上の整数を表し、ｎ２は１以上の整数を表す。
繰り返し単位（４）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、２～２０質量％が好ましく、３～１８質量％がより好ましい。繰り返し単位（４）の含有量が２質量％以上であれば、密着性により優れた光学異方性層が得られる。また、繰り返し単位（４）の含有量が２０質量％以下であれば、面状均一性により優れた光学異方性層が得られる。
繰り返し単位（４）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（４）が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位（４）の含有量は、繰り返し単位（４）の含有量の合計を意味する。
（繰り返し単位（５））
高分子液晶性化合物は、面状均一性の観点から、多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を含むことができる。特に配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させるためには、この多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を１０質量％以下含むことが好ましい。このように、繰り返し単位（５）を１０質量％以下含むことで配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させられる理由としては以下のように推定している。
繰り返し単位（５）は、多官能モノマーを重合して、高分子液晶性化合物に導入される単位である。そのため、高分子液晶性化合物には、繰り返し単位（５）によって３次元架橋構造を形成した高分子量体が含まれていると考えられる。ここで、繰り返し単位（５）の含有量は少ないため、繰り返し単位（５）を含む高分子量体の含有率はわずかであると考えられる。
このように３次元架橋構造を形成した高分子量体が僅かに存在することで、液晶組成物のはじきが抑制されて、面状均一性に優れた光学異方性層が得られたと推測される。
また、高分子量体の含有量が僅かであるため、配向度の低下を抑えられるという効果が維持できたと推測される。
上記多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）は、下記式（５）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
式（５）中、ＰＣ５Ａ及びＰＣ５Ｂは繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ５Ａ及びＬ５Ｂは単結合又は２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ５Ａ及びＳＰ５Ｂはスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ５Ａ及びＭＧ５Ｂはメソゲン構造、より具体的には上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧと同様の構造を表し、ａ及びｂは０又は１の整数を表す。
ＰＣ５Ａ及びＰＣ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光学異方性層の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
Ｌ５Ａ及びＬ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光学異方性層の配向度がより向上する点から、いずれも単結合又は同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ＳＰ５Ａ及びＳＰ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光学異方性層の配向度がより向上する点から、いずれも単結合又は同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ここで、式（５）における同一の基とは、各基が結合する向きを問わずに化学構造が同一であるという意味であり、例えば、ＳＰ５Ａが＊－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－＊＊（＊はＬ５Ａとの結合位置を表し、＊＊はＭＧ５Ａとの結合位置を表す。）であり、ＳＰ５Ｂが＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－＊＊（＊はＭＧ５Ｂとの結合位置を表し、＊＊はＬ５Ｂとの結合位置を表す。）である場合も、同一の基である。
ａ及びｂはそれぞれ独立に、０又は１の整数であり、光学異方性層の配向度がより向上する点から、１であるのが好ましい。
ａ及びｂは、同一であっても、異なっていてもよいが、光学異方性層の配向度がより向上する点から、いずれも１であるのが好ましい。
ａ及びｂの合計は、光学異方性層の配向度がより向上する点から、１又は２であるのが好ましく（すなわち、式（５）で表される繰り返し単位がメソゲン基を有すること）、２であるのがより好ましい。
－（ＭＧ５Ａ）ａ－（ＭＧ５Ｂ）ｂ－で表される部分構造は、光学異方性層の配向度がより向上する点から、環状構造を有するのが好ましい。この場合、光学異方性層の配向度がより向上する点から、－（ＭＧ５Ａ２）ａ－（ＭＧ５Ｂ）ｂ－で表される部分構造における環状構造の個数は、２個以上が好ましく、２～８個がより好ましく、２～６個が更に好ましく、２～４個が特に好ましい。
ＭＧ５Ａ及びＭＧ５Ｂが表すメソゲン基はそれぞれ独立に、光学異方性層の配向度がより向上する点から、環状構造を１個以上含むのが好ましく、２～４個含むのが好ましく、２～３個含むのがより好ましく、２個含むのが特に好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、及び脂環式基が挙げられ、これらの中でも芳香族炭化水素基及び脂環式基が好ましい。
ＭＧ５Ａ及びＭＧ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、光学異方性層の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
ＭＧ５Ａ及びＭＧ５Ｂが表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性及び合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、上記式（ＬＣ）中のメソゲン基ＭＧであることが好ましい。
特に、繰り返し単位（５）は、ＰＣ５ＡとＰＣ５Ｂが同一の基であり、Ｌ５ＡとＬ５Ｂがいずれも単結合又は同一の基であり、ＳＰ５ＡとＳＰ５Ｂがいずれも単結合又は同一の基であり、ＭＧ５ＡとＭＧ５Ｂが同一の基であるのが好ましい。これにより、光学異方性層の配向度がより向上する。
繰り返し単位（５）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位の含有量（１００質量％）に対して、１０質量％以下が好ましく、０．００１～５質量％がより好ましく、０．０５～３質量％が更に好ましい。
繰り返し単位（５）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
（星型ポリマー）
高分子液晶性化合物は、星型ポリマーであってもよい。本発明における星型ポリマーとは、核を起点として延びるポリマー鎖を３つ以上有するポリマーを意味し、具体的には、下記式（６）で表わされる。
高分子液晶性化合物として式（６）で表される星型ポリマーは、高溶解性（溶媒に対する溶解性が優れること）でありながら、配向度の高い光学異方性層を形成できる。
式（６）中、ｎＡは、３以上の整数を表し、４以上の整数が好ましい。ｎＡの上限値は、これに限定されないが、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
複数のＰＩはそれぞれ独立に、上記式（１）、（２１）、（２２）、（３）、（４）、（５）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、上記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
Ａは、星型ポリマーの核となる原子団を表す。Ａの具体例としては、特開２０１１－０７４２８０号公報の［００５２］～［００５８］段落、特開２０１２－１８９８４７号公報の［００１７］～［００２１］段落、特開２０１３－０３１９８６号公報の［００１２］～［００２４］段落、特開２０１４－１０４６３１号公報の［０１１８］～［０１４２］段落等に記載の多官能チオール化合物のチオール基から水素原子を取り除いた構造が挙げられる。この場合、ＡとＰＩは、スルフィド結合によって結合される。
Ａの由来となる上記多官能チオール化合物のチオール基の数は、３つ以上が好ましく、４以上がより好ましい。多官能チオール化合物のチオール基の数の上限値は、通常１２以下であり、６以下が好ましい。
多官能チオール化合物の具体例を以下に示す。
高分子液晶性化合物は、配向度を向上させる観点から、サーモトロピック性液晶、かつ、結晶性高分子であってもよい。
（サーモトロピック性液晶）
サーモトロピック性液晶とは、温度変化によって液晶相への転移を示す液晶である。
特定化合物は、サーモトロピック性液晶であり、ネマチック相及びスメクチック相のいずれを示してもよいが、光学異方性層の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズがより観察され難くなる（ヘイズがより良好になる）理由から、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、光学異方性層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなることから、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、４０℃～４００℃であることがより好ましい。
（結晶性高分子）
結晶性高分子とは、温度変化によって結晶層への転移を示す高分子である。結晶性高分子は結晶層への転移の他にガラス転移を示すものであってもよい。
結晶性高分子は、光学異方性層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなることから、加熱した時に結晶相から液晶相への転移を持つ（途中にガラス転移があってもよい）高分子液晶性化合物、又は、加熱により液晶状態した後で温度を下降させた時に結晶相への転移（途中にガラス転移があってもよい）を持つ高分子液晶性化合物であることが好ましい。
なお、高分子液晶性化合物の結晶性の有無は以下のように評価する。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ）の二枚の光学異方性層を互いに直交するように配置し、二枚の光学異方性層の間にサンプル台をセットする。そして、高分子液晶性化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットする。サンプルの状態を観察しながら、高分子液晶性化合物が液晶性を示す温度までホットステージの温度を上げ、高分子液晶性化合物を液晶状態にする。高分子液晶性化合物が液晶状態になった後、ホットステージの温度を徐々に降下させながら液晶相転移の挙動を観察し、液晶相転移の温度を記録する。なお、高分子液晶性化合物が複数の液晶相（例えばネマチック相とスメクチック相）を示す場合、その転移温度も全て記録する。
次に、高分子液晶性化合物のサンプル約５ｍｇをアルミパンに入れて蓋をし、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にセットする（リファレンスとして空のアルミパンを使用）。上記で測定した高分子液晶性化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、その後、温度を１分保持する。その後、１０℃／分の速度で降温させながら、熱量測定を行う。得られた熱量のスペクトルから発熱ピークを確認する。
その結果、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測された場合は、その発熱ピークが結晶化によるピークであり、高分子液晶性化合物は結晶性を有すると言える。
一方、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測されなかった場合は、高分子液晶性化合物は結晶性を有さないと言える。
結晶性高分子を得る方法は特に制限されないが、具体例としては、上記繰り返し単位（１）を含む高分子液晶性化合物を用いる方法が好ましく、なかでも、上記繰り返し単位（１）を含む高分子液晶性化合物における好適な態様を用いる方法がより好ましい。
・結晶化温度
高分子液晶性化合物の結晶化温度は、光学異方性層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなることから、－５０℃以上１５０℃未満であることが好ましく、なかでも１２０℃以下であることがより好ましく、－２０℃以上１２０℃未満であることが更に好ましく、なかでも９５℃以下であることが特に好ましい。上記高分子液晶性化合物の結晶化温度は、ヘイズを減らす観点から、１５０℃未満であることが好ましい。
なお、結晶化温度は、上述したＤＳＣにおける結晶化による発熱ピークの温度である。
（分子量）
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性及びスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、０℃～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、３０℃～４００℃であることが好ましい。
＜含有量＞
棒状液晶性化合物の含有量は、液晶組成物の全固形分（１００質量％）に対して、本発明の効果がより優れる点から、１０～９７質量％が好ましく、４０～９５質量％がより好ましく、６０～９５質量％が更に好ましい。
棒状液晶性化合物が高分子液晶性化合物を含む場合、高分子液晶性化合物の含有量は、棒状液晶性化合物の全質量（１００質量部）に対して、１０～９９質量％が好ましく、３０～９５質量％がより好ましく、４０～９０質量％が更に好ましい。
棒状液晶性化合物が低分子液晶性化合物を含む場合、低分子液晶性化合物の含有量は、棒状液晶性化合物の全質量（１００質量部）に対して、１～９０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましく、１０～６０質量％が更に好ましい。
棒状液晶性化合物が高分子液晶性化合物及び低分子液晶性化合物の両方を含む場合、高分子液晶性化合物の含有量に対する低分子液晶性化合物の含有量の質量比（低分子液晶性化合物／高分子液晶性化合物）は、本発明の効果がより優れる点から、５／９５～７０／３０が好ましく、１０／９０～５０／５０がより好ましい。
ここで、「液晶組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記棒状液晶性化合物及び後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。
〔特定界面改良剤〕
特定界面改良剤は、後述の式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１と、フッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２と、を有する共重合体である。特定界面改良剤は、上述の棒状液晶性化合物とはその構造が異なる高分子化合物であり、液晶性を示さない化合物であることが好ましい。
＜繰り返し単位Ｂ１＞
繰り返し単位Ｂ１は、式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位である。繰り返し単位Ｂ１は、後述の繰り返し単位Ｂ２とは異なる構造を有しており、フッ素原子を含まないことが好ましい。
式（Ｎ－１）中、ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。ただし、ＲＢ１１及びＲＢ１２が置換基である場合、ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して環を形成していてもよい。
ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計は、２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、７０以下であることが更に好ましい。上記分子量の合計が１００以下であれば、繰り返し単位Ｂ１間での相互作用がより向上して、特定界面改良剤と液晶分子との相溶性をより低下させることができる。これにより、配向欠陥が少なく、優れた配向度の光学異方性層が得られる。
ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計の下限は、２以上が好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が表す置換基としては、本発明の効果がより優れる点から、有機基であることが好ましく、炭素数１～１５の有機基であることがより好ましく、炭素数１～１２の有機基であることが更に好ましく、炭素数１～８の有機基であることが特に好ましい。
上記有機基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環基が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が更に好ましい。
アルキル基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’及びＺ”はそれぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、並びに、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい。アルキル基の炭素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｚ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。
アルキル基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、アリール基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、又は、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、で置換されていてもよい。ＺＨ、ＺＨ’及びＺＨ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。アルキル基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、又は、アリール基（フェニル基が好ましい。）が好ましい。
芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、 －ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、－Ｂ（ＯＨ）２で置換されていてもよい。ＺＨ、ＺＨ’及びＺＨ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－Ｂ（ＯＨ）２が好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、本発明の効果がより優れる点から、水素原子又は炭素数１～１５の有機基であることが好ましい。有機基の好適態様については、上述の通りである。
本発明の効果がより優れる点から、ＲＢ１１及びＲＢ１２のうち、少なくとも一方が置換基であることが好ましく、少なくとも一方が炭素数１～１５の有機基であることがより好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、式（Ｎ－１）における窒素原子を含む複素環であり、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等のヘテロ原子を環内に更に含んでいてよい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、本発明の効果がより優れる点から、４～８員環であることが好ましく、５～７員環であることがより好ましく、５～６員環であることが更に好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環を構成する炭素原子の数は、本発明の効果がより優れる点から、３～７が好ましく、３～６がより好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、芳香族性を有していてもよいし、芳香族性を有していなくてもよいが、本発明の効果がより優れる点から、芳香族性を有していないことが好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環の具体例としては、以下の基が挙げられる。
ＲＢ１３は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、中でも、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
上記アルキル基の炭素数は、１～５であり、１～３が好ましく、１がより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの構造であってもよい。
繰り返し単位Ｂ１の具体例を以下に示すが、繰り返し単位Ｂ１は以下の構造に限定されるものではない。
繰り返し単位Ｂ１の含有量は、特定界面改良剤が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、３～７５質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましく、２０～６５質量％が更に好ましい。繰り返し単位Ｂ１の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し単位Ｂ１は、特定界面改良剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位Ｂ１が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位Ｂ１の含有量は、繰り返し単位Ｂ１の含有量の合計を意味する。
＜繰り返し単位Ｂ２＞
繰り返し単位Ｂ２は、フッ素原子を含む繰り返し単位である。
繰り返し単位Ｂ２は、本発明の効果がより優れる点から、式（Ｆ－１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ－１」ともいう。）及び式（Ｆ－２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ－２」ともいう。）の少なくとも一方を含むことが好ましい。
繰り返し単位Ｂ２の含有量は、特定界面改良剤が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、３０～９７質量％が好ましく、３５～９０質量％がより好ましく、３５～８０質量％が更に好ましい。繰り返し単位Ｂ２の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し単位Ｂ２は、特定界面改良剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位Ｂ２が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位Ｂ２の含有量は、繰り返し単位Ｂ２の含有量の合計を意味する。
（繰り返し単位Ｆ－１）
繰り返し単位Ｆ－１は、下記式（Ｆ－１）で表される繰り返し単位である。
式（Ｆ－１）中、ＬＦ１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｒ１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、
ＲＦ１は、
（ａ）下記式（１）、（２）又は（３）で示される基
（ｂ）パーフルオロポリエーテル基
（ｃ）プロトンドナー性官能基とプロトンアクセプター性官能基の水素結合を有し、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基
（ｄ）下記式（１－ｄ）で表される基
（ｅ）下記式（１－ｅ）で表される基
の少なくとも１つの基を含む基である。
式（Ｆ－１）中、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。
式（Ｆ－１）中、ＬＦ１は単結合又は２価の連結基であり、より具体的には、上記式（Ｗ１）中の－ＬＷ－ＳＰＷ－で表される基、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、炭素数４～２０の環状のアルキレン基、及び、炭素数１～２０複素環基が挙げられ、炭素数１～２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、が好ましく、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－ＮＨ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－を有していることが好ましい。
・（ａ）式（１）、（２）又は（３）で示される基を有する繰り返し単位
式（Ｆ－１）のＲＦ１が上記式（１）、（２）又は（３）で示される基を含む場合、式（Ｆ－１）は、下記式（４）で表される繰り返し単位であることも好ましい。
式（４）中、Ｒｆａは上記式（１）、（２）又は（３）で示される基である。
式（４）中、Ｒ１Ｂは炭素数２～５０の２価の基である。Ｒ１Ｂで表される炭素原子数が２～５０の２価の基としては、ヘテロ原子を含んでいてもよく、芳香族基、ヘテロ芳香族基、ヘテロ環基、脂肪族基、脂環式基であってもよい。
Ｒ１Ｂとしては、具体的には、以下の基が挙げられる。
－（ＣＨ２）ｎ１－ （ｎ１＝２～５０）
－Ｘ－Ｙ－（ＣＨ２）ｎ２－ （ｎ２＝２～４３）
－Ｘ－（ＣＨ２）ｎ３－ （ｎ３＝１～４４）
－ＣＨ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ４－ （ｎ４＝１～２４）
－ＸＣＯ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ５－ （ｎ５＝１～２１）
上記式中、Ｘは炭素数１～３のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）、炭素数１～４のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など）、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）からなる群から選ばれる置換基を１～３個有していてもよいフェニレン、ビフェニレン若しくはナフチレンを示す。Ｙは、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯＮＨ－又は－ＮＨＣＯ－を示す。
Ｘは、１，２－フェニレン、１，３－フェニレン、１，４－フェニレンが好ましく、１，４－フェニレンがより好ましい。
特に好ましいＲ１Ｂで表される炭素原子数が２～５０の二価の基としては、具体的に以下の構造の二価の基が挙げられる。
－（ＣＨ２）ｎ１－ （ｎ１＝２～１０）
－Ｃ６Ｈ４ＯＣＯ（ＣＨ２）ｎ２－ （ｎ２＝２～１０）
－Ｃ６Ｈ４（ＣＨ２）ｎ３－ （ｎ３＝１～１０）
－ＣＨ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ４－ （ｎ４＝１～１０）
－Ｃ６Ｈ４ＣＯ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ５－ （ｎ５＝１～１０）
式（４）中、Ｒ２は水素原子又はメチル基である。
・（ｂ）パーフルオロポリエーテル基を有する繰り返し単位
上記式（Ｆ－１）中、ＲＦ１はパーフルオロポリエーテル基を有することも好ましい。
パーフルオロポリエーテル基とは、複数のフッ化炭素基がエーテル結合で結合された２価の基である。パーフルオロポリエーテル基は、複数のパーフルオロアルキレン基がエーテル結合で結合された２価の基であることが好ましい。
パーフルオロポリエーテル基は、直鎖構造であっても分岐構造であっても環状構造であってもよく、直鎖構造又は分岐構造であることが好ましく、直鎖構造であることがより好ましい。
式（Ｆ－１）のＲＦ１がパーフルオロポリエーテル基を含有する繰り返し単位を含む場合、式（Ｆ－１）は、下記式（Ｉ－ｂ）で表される構成単位であることが好ましい。
式（Ｉ－ｂ）中、ＬＦ１は式（Ｆ－１）におけるものと同じ基を表す。Ｒ１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表す。Ｒｆ１及びＲｆ２はそれぞれ独立に、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を表す。Ｒｆ１が複数存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒｆ２が複数存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。ｕは１以上の整数を表す。ｐは１以上の整数を表す。
Ｒ１２は水素原子又は置換基を表し、上記置換基としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、パーフルオロアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、ヒドロキシアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）等が挙げられる。
式（Ｉ－ｂ）中、ｕは１以上の整数を表し、１～１０を表すことが好ましく、１～６を表すことがより好ましく、１～３を表すことが更に好ましい。
式（Ｉ－ｂ）中、ｐは１以上の整数を表し、１～１００を表すことが好ましく、１～８０を表すことがより好ましく、１～６０を表すことが更に好ましい。
なお、ｐ個の［ＣＲｆ１Ｒｆ２］ｕＯはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
・（ｃ）プロトンドナー性官能基とプロトンアクセプター性官能基の水素結合を有し、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基
上記式（Ｆ－１）中、ＲＦ１がプロトンドナー性官能基とプロトンアクセプター性官能基の水素結合を有し、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基（以下、「特定アルキル基ｃ」ともいう。）を有することも好ましい。
上記一般式（Ｆ－１）中のＲＦ１が特定アルキル基ｃである場合、式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ－ｃ１）で表される繰り返し単位、又は、下記一般式（Ｉ－ｃ２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
上記一般式（Ｉ－ｃ１）中、Ｒ１は、上述の式（１）のＲ１と同義であり、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
上記一般式（Ｉ－ｃ１）中、ＸＣ１ ＋は、プロトンアクセプター性官能基を有する基を表す。プロトンアクセプター性官能基としては、第４級アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン等が挙げられる。ＸＣ１ ＋の具体例としては、－Ｃ（Ｏ）－ＮＨ－ＬＣ１－ＸＣ１１ ＋、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－ＬＣ１－ＸＣ１１ ＋、及び、－ＸＣ１２ ＋が挙げられる。ＬＣ１は、炭素数１～５のアルキレン基を表す。ＸＣ１１ ＋は、第４級アンモニウムカチオンを表す。ＸＣ１２ ＋は、ピリジニウムカチオンを表す。
上記一般式（Ｉ－ｃ１）中、ＹＣ１ －は、プロトンドナー性官能基、及び、フルオロアルキル基を有する基を表す。プロトンドナー性官能基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２Ｏ－等が挙げられる。ＹＣ１ －の具体例としては、ＲＣ１－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、及び、ＲＣ１－Ｓ（Ｏ）２Ｏ－が挙げられる。ＲＣ１は、炭素数２～１５のフルオロアルキル基、炭素数２～１５のフルオロアルキル基の１個以上の炭素原子が－Ｏ－及びＣ（Ｏ）－の少なくとも一方で置換された基、又は、これらの基を置換基として有するフェニル基、を表す。
上記一般式（Ｉ－ｃ２）中、Ｒ１は、上述の式（１）のＲ１と同義であり、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
上記一般式（Ｉ－ｃ２）中、ＹＣ２ －は、プロトンドナー性官能基を有する基を表す。プロトンドナー性官能基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２Ｏ－等が挙げられる。ＹＣ２ －の具体例としては、－Ｃ（Ｏ）－ＮＨ－ＬＣ２－ＹＣ２１ －、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－ＬＣ２－ＹＣ２１ －が挙げられる。ＬＣ２は、炭素数１～５のアルキレン基を表す。ＹＣ２１ －は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－又はＳ（Ｏ）２Ｏ－を表す。
上記一般式（Ｉ－ｃ２）中、ＸＣ２ ＋は、プロトンアクセプター性官能基（例えば、第４級アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン等）、及び、フルオロアルキル基を有する基を表す。ＸＣ２ ＋の具体例としては、ＲＣ２－ＸＣ２１ ＋が挙げられる。ＲＣ２は、炭素数２～１５のフルオロアルキル基、又は、炭素数２～１５のフルオロアルキル基の１個以上の炭素原子が－Ｏ－及びＣ（Ｏ）－の少なくとも一方で置換された基、又は、これらの基を置換基として有するフェニル基、を表す。ＸＣ２１ ＋は、第４級アンモニウムカチオンを表す。
一般式（Ｆ－１）中のＲＦ１が特定アルキル基ｃである繰り返し単位の製造方法としては、プロトンアクセプター性官能基を有する繰り返し単位に、後述のプロトンドナー性官能基を有する化合物を反応させる方法、及び、プロトンドナー性官能基を有する繰り返し単位に、後述のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を反応させる方法、が挙げられる。
プロトンドナー性官能基を有する化合物及びプロトンアクセプター性官能基を有する化合物は、下記式（１－１）～（１～３）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
（ＨＢ－Ｘ１）ｍ－Ｘ３－（Ｘ２－ＲＬ）ｎ ・・・（１－１）
（ＨＢ）－（Ｘ２－ＲＬ）ｎ ・・・（１－２）
（ＨＢ－Ｘ１）ｍ－（ＲＬ） ・・・（１－３）
上記式（１－１）及び上記式（１－３）中、ｍは、１～５の整数を表し、上記式（１－１）及び上記式（１－２）中、ｎは、１～５の整数を表す。ただし、ｍ及びｎの合計は、２～６の整数を表す。
また、上記式（１－１）～（１－３）中、ＨＢは、上述した水素結合可能な官能基（すなわち、プロトンドナー性官能基及びプロトンアクセプター性官能基）を表し、ｍが２～５の整数である場合、複数のＨＢは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
プロトンドナー性官能基としては、カルボキシ基、スルホン酸基等が挙げられる。
プロトンアクセプター官能基としては、窒素原子を含む基が挙げられる。
また、上記式（１－１）～（１－３）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し、ｍが２～５の整数である場合、複数のＸ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２～５の整数である場合、複数のＸ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。なお、上記式（１－２）中、ＨＢ及びＸ２は、ＨＢとＸ２の一部とで環を形成していてもよく、上記式（１－３）中、ＲＬ及びＸ１は、ＲＬとＸ１の一部とで環を形成していてもよい。
上記式（１－１）～（１－３）中のＸ１及びＸ２の一態様が示す２価の連結基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１～１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、及び、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも１以上の基が挙げられる。
ここで、アルキレン基、アリーレン基及びイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基又はエチル基であるのが特に好ましい。アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であるのが特に好ましい。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
炭素数１～１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基などが挙げられる。また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられる。
炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、なかでも、フェニレン基が好ましい。
また、上記式（１－１）中、Ｘ３は、単結合又は２～６価の連結基を表す。ここで、Ｘ３の一態様が示す２価の連結基としては、上記式（１－１）～（１－３）中のＸ１及びＸ２の一態様が示す２価の連結基として説明したものが挙げられる。また、Ｘ３の一態様が示す３～６価の連結基としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環などのシクロアルキレン環；ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等の芳香族複素環；などの環構造において、環を形成している炭素原子に結合している水素原子を３～６個除いた構造が挙げられる。これらの環構造のなかでも、ベンゼン環（例えば、ベンゼン－１，２，４－イル基など）が好ましい。
また、上記式（１－１）～（１－３）中、ＲＬは、フッ素原子を含む置換基又は炭素数６以上のアルキル基を表し、ｎが２～５の整数である場合、複数のＲＬは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ここで、フッ素原子を含む１価の置換基としては、例えば、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する、炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数２～２０のアルケニル基が挙げられる。
上記式（１－１）～（１－３）のいずれかで表される化合物のうち、プロトンドナー性官能基を有する化合物としては、具体的には、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
また、上記式（１－１）～（１－３）のいずれかで表される化合物のうち、プロトンアクセプター性官能基を有する化合物としては、具体的には、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
・（ｄ）式（１－ｄ）で表される基
式（１－ｄ）中、
Ｘは、水素原子、又は、置換基（好ましくは、上記「ＳＰ－Ｈ」で表される基）を表し、
Ｔ１０は、末端基（好ましくは上記Ｔ１と同じ基）を表し、
ｌは１～２０の整数を表し、ｍは０～２の整数を表し、ｎは１～２の整数を表し、ｍ＋ｎは２である。
ｌが２以上の時、複数の－（ＣＸｍＦｎ）－は同一であっても異なっていてもよい。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’が好ましく、水素原子、フッ素原子、－ＺＨ、又は、－ＯＺＨ、が更に好ましい。ＺＨ及びＺＨ’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、を表し、炭素数が１～４であることが好ましい。
Ｔ１０は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、又は、上述の式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基、が好ましく、水素原子、フッ素原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、ビニル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、がより好ましい。ＺＨは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、を表し、炭素数が１～４であることが好ましい。
・（ｅ）式（１－ｅ）で表される基
式（１－ｅ）中、
Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、
ＬＦ２は、単結合又は２価の連結基を表し、
ＲＦ１１及びＲＦ１２はそれぞれ独立に、パーフルオロポリエーテル基を表し、
＊は、上記式（Ｆ－１）におけるＬＦ１との結合位置を表す。
Ｒ２及びＬＦ２の好適態様はそれぞれ、式（Ｆ－１）のＲ１及びＬＦ１と同様である。
ＲＦ１１及びＲＦ１２の好適態様は、式（Ｆ－１）のＲＦ１と同様である。
上記式（Ｆ－１）で表される繰返し単位を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式（Ｆ１－１）～（Ｆ１－４１）で表される構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
繰り返し単位Ｆ－１の含有量は、特定界面改良剤が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１０～９８質量％が好ましく、１５～９０質量％がより好ましく、２０～８５質量％が更に好ましい。繰り返し単位Ｆ－１の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し単位Ｆ－１は、特定界面改良剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位Ｆ－１が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位Ｆ－１の含有量は、繰り返し単位Ｆ－１の含有量の合計を意味する。
（繰り返し単位Ｆ－２）
繰り返し単位Ｆ－２は、下記式（Ｆ－２）で表される繰り返し単位である。
式（Ｆ－２）中、
Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表し、 ＬＦ２は、上記式（Ｆ－１）中のＬＦ１と同じ基を表し、
ＳＰ２１及びＳＰ２２はそれぞれ独立に、スペーサー基を表し、
ＤＦ２は、（ｍ２＋１）価の基を表し、
Ｔ２は、末端基を表し、
ＲＦ２は、フッ素原子を含む基を表し、
ｎ２は２以上の整数を表し、ｍ２は２以上の整数を表し、ｍ２≧ｎ２である。
複数の－ＳＰ２２－ＲＦ２は、同一であっても異なっていてもよい。Ｔ２が複数存在する場合は、複数のＴ２は、同一であっても異なっていてもよい。
式（Ｆ－２）中、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数１～４のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
式（Ｆ－２）中、ＤＦ２は（ｍ２＋１）価の基を表し、具体的には、３級炭素原子（－Ｃ（Ｈ）＜）、４級炭素原子（＞Ｃ＜）、窒素原子、リン酸エステル基（Ｐ（＝Ｏ）（－Ｏ－）３）、炭素数２～２０の分岐アルキレン基、炭素数４～１５の芳香環、炭素数４～１５の脂肪族環、及び、複素環、等が挙げられる。
分岐アルキレン基、芳香環、及び、脂肪族環中の炭素原子は、上記「ＳＰ－Ｃ」で置き換えられていてもよい。
分岐アルキレン基、芳香環、脂肪族環中の水素原子は、上記「ＳＰ－Ｈ」で置き換えられていてもよい。
ＤＦ２は、炭素原子（３級炭素原子又は４級炭素原子）、窒素原子、ベンゼン環、シクロヘキサン環、又は、シクロペンタン環であることが好ましい。
ＳＰ２１及びＳＰ２２はそれぞれ独立に、スペーサー基を表し、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷが挙げられる。
ＳＰ２１及びＳＰ２２としては、単結合、炭素数１～１０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基が好ましい。ここで、アルキレン基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｓ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｓ）－、－ＳＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｓ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、（Ｚ及びＺ’はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）で置換されていてもよい。また、アルキレン基の水素原子は、フッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
Ｔ２は、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表わされる架橋性基、が好ましく、水素原子、フッ素原子、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＺＨ、－ＯＺＨ、ビニル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、がより好ましい。ＺＨは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、を表し、炭素数が１～４であることが好ましい。
ＲＦ２は、フッ素原子を含む基を表し、中でも、フッ素原子、上記式（Ｆ－１）中のＲＦ１、又は、上記Ｔ２のうちフッ素原子を含む基が好ましい。
式（Ｆ－２）中、ｍ２は２～８であることが好ましく、２～６であることがより好ましい。ｎ２は２～４であることが好ましく、２又は３であることがより好ましい。
式（Ｆ－２）で表される繰り返し単位は、酸又は塩基などによって開裂し、ＲＦ２がポリマー側鎖から脱離する開裂型であってもよい。これにより、上層塗布性が良好となる。
式（Ｆ－２）で表される繰返し単位としては、例えば、下記式（Ｆ２－１）～（Ｆ２－３９）で表される繰り返し単位が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
繰り返し単位Ｆ－２の含有量は、特定界面改良剤が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、５～９５質量％が好ましく、７～９０質量％がより好ましく、１０～８５質量％が更に好ましい。繰り返し単位Ｆ－２の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し単位Ｆ－２は、特定界面改良剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位Ｆ－２が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位Ｆ－２の含有量は、繰り返し単位Ｆ－２の含有量の合計を意味する。
特定界面改良剤は、ブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造又はスター構造を有する重合体であってもよい。このようなブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造又はスター構造を有することで、フッ素原子団が塊として存在し、重合体の塗膜表面への移行性が向上する等の点で好ましい。
また、フッ素置換アルキル鎖長が１～４のランダム構造を有する共重合体においては、フッ素原子団の塊が小さく、汎用溶剤への溶解性は優れるものの、塗膜表面への移行性は低い。一方、上記の重合体は、フッ素原子団が塊として存在することに起因し、フッ素置換アルキル鎖長が１～４でも塗膜表面への移行性が高く、このような重合体を組成物中に添加することで、塗膜の表面張力を低下させ、塗工時における組成物の基材に対するぬれ性（均質塗工性）、塗膜表面の面状を良好なものとできることから好ましい。
特定界面改良剤は、後述する一次構造を有することが好ましい。
この一次構造は、特定界面改良剤を形成する繰り返し単位が１種である場合、グラフト構造、分岐構造又はスター構造であり、上記繰り返し単位が２種以上である場合、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造又スター構造である。
特定界面改良剤は、上記一次構造を１種有していても、２種以上を有していてもよい。
まず、特定界面改良剤が有し得る一次構造について、模式図を参照して説明するが、本発明はこれらの一次構造に限定されない。以下の説明においては、理解のため、１～４種の繰り返し単位Ａ～Ｄからなるポリマー（共重合体）を例に挙げるが、本発明においては、後述するように、繰り返し単位は１～４種に限定されない。また、図中における繰り返し単位Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ別の構造（繰り返し単位）で置き換えることができる。
本発明において、「主鎖方向」とは、特定界面改良剤（フッ素重合体）を形成する各部分構造において、この部分構造を形成する繰り返し単位の結合方向を意味する。
また、本発明において、「繰り返し単位からなる」とは、特定の繰り返し単位のみからなる態様に加えて、特定の繰り返し単位と、これとは別の１種以上の繰り返し単位からなる態様を包含する。別の繰り返し単位としては、特に限定されないが、例えば、グラフト鎖を導入するための、重合性基を有する化合物由来の繰り返し単位、又は、後述する、２種以上の構成成分からなる繰り返し単位が挙げられる。
・ブロック構造
ブロック構造とは、単一種の繰り返し単位からなる部分構造同士の主鎖方向が、ポリマー鎖内において単一の直線方向である構造をいう。ブロック構造は、２種以上の繰り返し単位からなる。
本発明において、１つの繰り返し単位が２種以上の構成成分からなる場合、単一種の繰り返し単位からなる部分構造は、各構成成分が同一である繰り返し単位が結合してなる部分構造と、構成成分の少なくとも一つが異なる繰り返し単位を含んでなる部分構造を含む。
特定界面改良剤が有し得るブロック構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図１Ａ～図１Ｅ（合わせて図１ということがある。）に示す構造が挙げられる。図１において、Ａ～Ｄは互いに異なる繰り返し単位を表す（図２～５においても同じ）。
図１Ａに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、繰り返し単位Ｂからなる部分構造とが、ポリマー鎖内において単一の直線方向に、結合したブロック構造（Ａ－Ｂ型）である。図１Ｂに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造の両端部に対し、繰り返し単位Ｂからなる部分構造がポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造（Ｂ－Ａ－Ｂ型）である。図１Ｃに示すブロック構造は、繰り返し単位Ｂからなる部分構造と、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、更に第３成分として繰り返し単位Ｃからなる部分構造とが、この順で、ポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造である。図１Ｄに示すブロック構造は、図１Ｃに示すブロック構造において、繰り返し単位Ｃからなる部分構造に、更に第４成分として繰り返し単位Ｄからなる部分構造がポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造である。図１Ｅに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、繰り返し単位Ｂからなる部分構造とが、ポリマー鎖内において単一の直線方向に交互に２回繰り返された（結合した）ブロック構造である。
ブロック構造を有するポリマーは、ブロック共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、リビングラジカル重合法、リビングカチオン重合、又は、リビングアニオン重合法が挙げられる。リビングラジカル重合法、リビングカチオン重合、又は、リビングアニオン重合法の例として、「精密ラジカル重合ガイドブック（Aldrich）」、
（URL:http://www.sigmaaldrich.com/japan/materialscience/polymer-science/crp-guide.html）、
又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p60、p105-108、p249-259及びp381-386
を参照できる。
図１Ｂに示すブロック構造を持つポリマーは、例えば、以下に示すように、リビングラジカル重合法における原子移動ラジカル重合（ＡＴＲＰ）法を用いて、末端構造（繰り返し単位Ｂ）を開始点として、各繰り返し単位となるモノマーを順に反応させることにより繰り返し単位を伸長させて、合成することもできる。
Ｒは、末端基を示し、後述する末端構造の末端基と同義である。
また、図１Ｂに示すブロック構造を持つポリマーは、例えば、以下に示すように、ブロモ化合物等を連鎖移動剤として用いて、連鎖移動剤を中心点として、その両側に繰り返し単位を伸長して合成することできる。なお、この場合、下記のように、繰り返し単位Ａからなる２つの部分構造間に連鎖移動剤の残基が介在する。
・グラフト構造
グラフト構造とは、下記の条件（Ｇ－１）～（Ｇ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｇ－１）１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマーともいう）に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなる別のポリマーＰＢＧ１（枝ポリマーともいう）が１つ以上結合した構造である。
（Ｇ－２）ポリマー鎖内において、上記ポリマーＰＢＧ１の主鎖方向と、上記ポリマーＰＡＧ１の主鎖方向とは異なる。
（Ｇ－３）上記ポリマーＰＢＧ１に対し、上記ポリマーＰＢＧ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有するポリマーＰＢＧ２が結合していない。
上記グラフト構造において、上記ポリマーＰＡＧ１及び上記ポリマーＰＢＧ１は、同一であっても異なっていてもよく、上記ポリマーＰＢＧ１が複数存在する場合も、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。また、上記ポリマーＰＡＧ１及び上記ポリマーＰＢＧ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、各ポリマーにおいて単一の直線方向に結合したものであれば特に限定されず、ブロック構造でもランダム構造でもよい。
更に、ポリマーＰＡＧ１に結合するポリマーＰＢＧ１の数は、１つ以上であればよく、フッ素重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、１個以上とすることができ、２００個以下とすることができる。好ましくは１００個以下であり、より好ましくは５０個以下である。
本発明のフッ素重合体が有するグラフト構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図２Ａ～図２Ｇ（合わせて図２ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図２Ａに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＢＧ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。図２Ｂに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＢＧ１（枝ポリマー）が６本結合したグラフト構造である。図２Ｃに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢＧ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。
図２Ｄ～図２Ｇに示すグラフト構造は、更に、第３成分として繰り返し単位Ｃ、上記繰り返し単位Ｃと第４成分として繰り返し単位Ｄを有するグラフト構造である。
すなわち、図２Ｄに示すグラフト構造は、繰り返し単位Ａ及び繰り返し単位Ｃからなるランダム構造のポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢＧ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。図２Ｅに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢＧ１－Ｂが２本と、繰り返し単位ＣからなるポリマーＰＢＧ１―Ｃが１本結合したグラフト構造である。図２Ｆに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＧ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位Ｂ及びＣからなるブロック構造（交互共重合構造を含む）のポリマーＰＢＧ１－ＢＣが３本結合したグラフト構造である。図２Ｇに示すグラフト構造は、繰り返し単位Ａ及びＢからなるランダム構造のポリマーＰＡＧ１―ＡＢ（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位Ｃ及びＤからなるブロック構造（交互共重合構造を含む）のポリマーＰＢＧ１－ＣＤが３本結合したグラフト構造である。
グラフト構造を有するポリマーは、グラフト共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、末端に重合性官能基（Ｙ）を有するマクロモノマー（Ｙ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ）を単独重合、若しくは、このマクロモノマーと同一のモノマー（Ｂ）若しくは異種のモノマー（Ａ）と共重合するｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｈｒｏｕｇｈ法（図３に示す合成法１））、末端官能性ポリマー（Ｚ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ）の反応性基を利用して、他のポリマー鎖に結合させるｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｏ法（図３に示す合成法２））、又は、重合開始点（Ｘ）を側鎖に持つポリマーとモノマー（Ｂ）を反応させて、繰り返し単位Ｂを有するポリマー鎖を生やすｇｒａｆｔｉｎｇ ｆｒｏｍ法（図３に示す合成法３））が挙げられる。これらの詳細は、例として、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p60、p108-110及びp387-393を参照できる。
図３において、Ｘ及びＹは重合反応性基を表し、Ｗ及びＺは反応性基を表す。ここで、Ｚが表す反応性基とは、反応性基Ｗに対して重合とは異なる反応によってポリマーの部分構造を形成する基となるものを意味する。
ｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｈｒｏｕｇｈ法に用いられるマクロモノマーとしては、グラフトポリマーの合成に通常用いられるものであれば特に限定されない。マクロモノマーは、市販品を用いてもよいし、適宜に合成したものを用いてもよい。マクロモノマーの合成方法としては、例えば、特開平５－２９５０１５号公報に記載の方法、又は、３－メルカプト－１－プロパノール等の連鎖移動剤とモノマーとの重合物と、イソシアネート基と重合性基を持つ化合物とを、例えばスズ触媒存在下で、反応させる方法等が挙げられる。また、マクロモノマーの合成法として、山下雄也著、「マクロモノマーの化学と工業」、アイピーシー出版部、1989年を、参照することができる。
・スター構造
スター構造（星型構造）とは、下記の条件（Ｓ－１）～（Ｓ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｓ－１）ポリマー中に核を１つ有する。
（Ｓ－２）上記核に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡＳ１が３つ以上結合している。
（Ｓ－３）上記ポリマーＰＡＳ１に対し、上記ポリマーＰＡＳ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有し、かつ、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＢＳ１が結合していない。
上記スター構造において、核に結合するポリマーＰＡＳ１の数は、３つ以上であればよく、フッ素重合体（特定含界面改良剤）の特性等に応じて適宜に決定される。ポリマーＰＡＳ１の数は、通常、後述する端部の数と同じである。複数存在するポリマーＰＡＳ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、「核」とは、上記ポリマーＰＡＳ１が結合可能な多分岐構造（基）を意味し、多数（例えば２～１２本）のポリマーが生える中心点となる。
上記スター構造において、ポリマーＰＡＳ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、特に限定されず、ブロック構造でもランダム構造でもよい。
特定含界面改良剤が有し得るスター構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図４Ａ～図４Ｄ（合わせて図４ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図４Ａに示すスター構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＳ１が核に対して４本結合した構造である。図４Ｂに示すスター構造は、繰り返し単位Ａ及びＢをランダム構造で有するポリマーＰＡＳ１が核に対して４本結合した構造である。図４Ｃに示すスター構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造及び繰り返し単位Ｂからなる部分構造をブロック構造で有するポリマーＰＡＳ１が、その繰り返し単位Ａを介して、核に対して４本結合した構造である。図４Ｄに示すスター構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＳ１が核に対して８本結合した構造である。
スター構造を有するポリマーは、スター共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、多官能性開始剤を用いる方法、多官能性停止剤を用いる方法、ジビニル化合物によるリンキング反応を用いる方法が挙げられ、多官能性開始剤を用いる方法が好ましい。
上述した重合方法については、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p110-113を参照することが
できる。
更に、スター構造を有するポリマーの合成には、アニオン重合も用いることができ、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p395-402を参照することができる。
スター構造を形成する核としては、通常用いられる化合物を特に限定されることなく、使用できる。例えば、核となる化合物として、有機化合物（例えば、多置換芳香族環、糖、カリックスアレン若しくはデンドリマー）、無機化合物（例えば、環状シロキサン若しくはリンアミド）、又は、中心に金属を有する多座金属錯体などが挙げられる。
上述した核としては、以下に記載の化合物が例として挙げられる。また、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p110-113を参照することができる。
・分岐構造
分岐構造とは、下記の条件（Ｂ－１）～（Ｂ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｂ－１）ポリマー中に核を１つ以上有する。
（Ｂ－２）上記核に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡＢ１が２つ以上結合している。
（Ｂ－３）上記ポリマーＰＡＢ１に対し、上記ポリマーＰＡＢ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有し、かつ、１種類又は２種類以上の繰り返し単位（世代）からなるポリマーＰＢＢ１が（核を介して）結合している。
上記条件（Ｂ－３）は、複数回満たすことができる。すなわち、上記のように結合したポリマーＰＢＢ１に対して、更に別のポリマーＰＢＢ１が（Ｂ－３）に規定の方向に結合する（各世代が繰り返してポリマー化する）ことができる（樹木状多分岐構造）。この場合、条件（Ｂ－３）を満たす複数回は、２回以上であればよく、フッ素重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、２～７回とすることができる。
上記分岐構造において、上記ポリマーＰＡＢ１及び上記ポリマーＰＢＢ１は、同一であっても異なっていてもよい。また、上記ポリマーＰＡＢ１及び上記ポリマーＰＢＢ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、特に限定されず、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造又はスター構造でもよい。すなわち、ブランチ構造には、例えば、核から生えるポリマーが、末端方向に従って、次々と分岐していく樹木状多分岐構造、更には、ブロック構造、グラフト構造及び／又はスター構造を組み合わせた構造等も、含まれる。ブランチ構造においては、分岐ごとに繰り返し単位を変更することもできる。
更に、ポリマー中に有する核の数は、１つ以上であればよく、フッ素重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、１個以上とすることができ、１５０個以下とすることができる。また、核に結合するポリマーＰＡＢ１の数は、２つ以上であればよく、フッ素重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、２個以上とすることができ、２０個以下とすることができる。更に、ポリマーＰＡＢ１に対して結合するポリマーＰＢＢ１の数は、フッ素重合体の特性等に応じて適宜に決定され、例えば、１個以上とすることができ、１５０個以下とすることができる。特に、１個のポリマーＰＡＢ１（核）に結合するポリマーＰＢＢ１の数は２個以上が好ましい。
特定含界面改良剤が有し得る分岐構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図５Ａ～図５Ｅ（合わせて図５ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図５Ａ及び図５Ｂに示す分岐構造は、核に対して結合したポリマーＰＡＢ１に対し、更に結合したポリマーＰＢＢ１を有する。すなわち、核から末端方向に従って繰り返し単位Ａが次々と分岐した、樹木状多分岐構造である。図５Ｃに示す分岐構造は、分岐鎖の端部から繰り返し単位Ｂを分岐状に有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図５Ｄに示す分岐構造は、繰り返し単位Ａ及び繰り返し単位Ｂを分岐状にランダムな配列で有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図５Ｅに示す分岐構造は、分岐鎖の端部から繰り返し単位Ｂ（第２世代）を分岐状に有し、更にその途中から第３成分として繰り返し単位Ｃ（第３世代）を分岐状に有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図５Ｆに示す分岐構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡＳ１が核に対して５本結合したスター構造２つが、各スター構造の１つのポリマーＰＡＳ１同士で結合された構造である。
分岐構造を有するポリマーは、通常の重合方法により、得ることができる。例えば、divergent法又はconvergent法が挙げられ、convergent法が好ましい。上述した重合方法としては、Macromolecules,2005,38(21),p8701-8711、Macromolecules,2006,39(22),p4361-4365、又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p402-414を参照することができる。
分岐構造を形成しうる核としては、上述のスター構造にて記載した核の他、ブロック構造、グラフト構造及びスター構造からなる群から選択される少なくとも１つ以上の構造を有するポリマー又はマクロモノマーであってもよい。
上述した核としては、Macromolecules,2005,38(21),p8701-8711、Macromolecules,2006,39(22),p4361-4365、又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p402-414を参照することができる。
上記一次構造及び重合方法については、更に、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年を参照できる。
上述した各一次構造は、それぞれ、次のようにして同定することができる。すなわち、グラフト構造、スター構造及び分岐構造は、静的光散乱測定から、平均２乗回転半径＜Ｓ２＞を測定し、粒子の形状として、確認することができる。また、ブロック構造の有無は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により確認できる。
上記一次構造の同定については、「若手研究者のための有機・高分子測定ラボガイド」、講談社、2006年が参照できる。
特定界面改良剤は、溶解性、配向性及び配向欠陥の点で、２種以上の繰り返し単位からなる、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造若しくはスター構造を有することが好ましく、２種以上の繰り返し単位からなる、グラフト構造又は分岐構造を有することが好ましい。
特定界面改良剤を形成する繰り返し単位は、１種又は２種以上であれば特に限定されない。２種以上の繰り返し単位からなる、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造若しくはスター構造の場合、繰り返し単位は、２～１０種が好ましく、２～５種がより好ましく、２種又は３種が更に好ましい。繰り返し単位については上述した単位を用いることができる。
特定界面改良剤は、１分子当たり２～２５０個の端部を有することが好ましく、２～１００個の端部を有することがより好ましく、２～８０個の端部を有することが更に好ましく、２～５０個の端部を有することが特に好ましい。特定界面改良剤の端部とは、ある分子量の特定界面改良剤においてとり得る末端の最大数を意味する。
特定界面改良剤の端部の数は、下記算出方法により、求めることができる。
特定界面改良剤がグラフト構造を有する場合、数平均分子量（Ｍｎ）を用いて、端部の数を求めることができる。
例えば、モノマーＡと、マクロモノマーＡＡ－１（Ｍｎ＝５，０００）の共重合によってグラフト構造を有するコポリマー（Ｍｎ＝１００，０００）を合成した場合は、
（端部の個数）＝（コポリマーの数平均分子量）／（マクロモノマーの数平均分子量）＋（幹の末端の個数）
より、
（端部の個数）＝１００，０００／５，０００＋２
＝２２（個）
として、算出することができる。
ここで、コポリマー及びマクロモノマーの数平均分子量は、後述の方法等で測定することができる。
特定界面改良剤がスター構造又は分岐構造を有する場合は、核によって端部の個数が決まる。
スター構造の場合は、
（端部の個数）＝（核に用いた化合物の最大分岐数）
となる。
また、分岐構造の場合は、核の分岐数に各分岐点において用いた核の最大分岐数を掛け合わせることにより算出される。すなわち、
（端部の個数）＝核の最大分岐数×（分岐点１に用いた核の最大分岐数）×（分岐点２に用いた核の最大分岐数）×…×（分岐点ｎに用いた核の最大分岐数）
として算出することができる。ここで、ｎは分岐点の数（世代数－１と同義）を表す。
ブロック構造の場合、端部の個数は２である。
また、特定界面改良剤の、１分子当たりの端部の数は、元素分析又はＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ；Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）の解析結果及び核磁気共鳴（ＮＭＲ；Nuclear Magnetic Resonance）測定より、繰り返し単位及び／又は重合開始点となる元素を同定して、算出することもできる。重合開始点となる元素としては、例えば、Ｓ原子、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ）、Ｓｉ原子、Ｎ原子、Ｏ原子等が挙げられる。また、繰り返し単位中に含まれる官能基としては、例えば、－ＳＯ２－、－ＳＯ－等が挙げられる。
＜含有量＞
特定界面改良剤の含有量は、液晶組成物の全固形分（１００質量％）に対して、本発明の効果がより優れる点から、０．０１～１０．０質量％が好ましく、０．０５～６．０質量％がより好ましく、０．１～４．０質量％が更に好ましい。
＜分子量＞
特定界面改良剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点から、２０００～５０００００が好ましく、３０００～３０００００がより好ましく、４０００～１０００００がさらに好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：テトラヒドロフラン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
〔二色性物質〕
本発明の液晶組成物は、更に二色性物質を含有してもよい。
本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。二色性物質は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、及び、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、国際公開２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、形成される光学異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
本発明の液晶組成物が二色性物質を含有する場合、二色性物質の含有量は、液晶組成物の全固形分（１００質量％）に対して、本発明の効果がより優れる点から、１～７０質量％が好ましく、２～６０質量％がより好ましく、３～５０質量％が更に好ましい。
〔溶媒〕
本発明の液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及び、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキソラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、及び、シクロペンチルメチルエーテルなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン（クロロホルム）、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、及び、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、及び、酢酸ブチル、炭酸ジエチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、及び、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、及び、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、及び、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなど）、及び、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、並びに、水が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、形成される光学異方性層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類、エーテル類又はケトン類を用いることがより好ましい。
液晶組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、形成される光学異方性層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、液晶組成物の全質量（１００質量％）に対して、７０～９９．５質量％であることが好ましく、７５～９９質量％であることがより好ましく、８０～９８質量％であることが特に好ましい。
〔他の界面改良剤〕
本発明の液晶組成物は、上述の特定界面改良剤以外の界面改良剤（以下、「他の界面改良剤」ともいう。）を含有してもよい。
他の界面改良剤としては、液晶性化合物を水平配向させるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。また、特開２００７－０６９４７１号公報の段落［００７９］～［０１０２］の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された式（４）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２０］～［００３２］に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された式（４）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２２］～［００２９］に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された式（４）で表される液晶配向促進剤（特に段落［００７６］～［００７８］及び段落［００８２］～［００８４］に記載された化合物）、並びに、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された式（４）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物（特に段落［００９２］～［００９６］に記載された化合物）などが挙げられる。
〔重合開始剤〕
本発明の液晶組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号及び同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］）、及び、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報及び特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１及びイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、形成される光学異方性層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、液晶組成物の全固形分（１００質量％）に対して、０．０１～３０質量％が好ましく、０．１～１５質量％がより好ましい。
〔重合性ボロン酸化合物〕
本発明の液晶組成物は、密着性の向上等の観点から、重合性基を有するボロン酸化合物（以下、「重合性ボロン酸化合物」ともいう。）を含んでいてもよい。
重合性ボロン酸化合物は、後述する通り、重合性基と、ボロン酸基及びボロン酸エステル基の少なくとも一方の基と、を有する化合物である。重合性ボロン酸化合物が有するこれらの基（重合性基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基）が他の部材と相互作用して、光学異方性層と他の部材との密着性が向上したと推測される。
また、重合性ボロン酸化合物は、液晶性化合物を垂直配向させる垂直配向剤として広く使用される。しかしながら、その理由は定かではないが、本発明においては重合性ボロン酸化合物が垂直配向剤として十分に機能せずに、液晶性化合物が水平配向することを阻害しなかったと考えられる。これにより、高い配向度を維持しながら密着性向上効果が見込まれる。
重合性ボロン酸化合物は、重合性基と、ボロン酸基及びボロン酸エステル基の少なくとも一方の基と、を有する化合物である。光学異方性層中において、重合性ボロン酸化合物は重合していてもよい。
重合性基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、及び、スチリル基が好ましく、密着性がより優れる点から、アクリロイル基及びメタクリロイル基がより好ましい。
重合性ボロン酸化合物は、重合性基を１個以上有していればよく、２個以上有していてもよいが、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、１個有しているのが好ましい。
ボロン酸基は、－Ｂ（ＯＨ）２で表される基である。
ボロン酸エステル基としては、後述の式（Ｂ－１）における－Ｂ（－ＯＲＢ１２）（－ＯＲＢ１３）で表される基が挙げられる。
重合性ボロン酸化合物は、ボロン酸基及びボロン酸エステル基の少なくとも一方の基を１個以上有していればよく、２個以上有していてもよいが、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、１個有しているのが好ましい。
重合性ボロン酸化合物は、配向度がより優れる点から、芳香族環を有していることが好ましい。
芳香族環としては、芳香族炭化水素基、及び、芳香族複素環基が挙げられる。中でも、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、芳香族炭化水素基が好ましい。
芳香族炭化水素基の炭素数は特に制限されず、４～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環基が挙げられる。
芳香族複素基の炭素数は特に制限されず、３～１０が好ましく、３～５がより好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素原子以外の原子としては、酸素原子、窒素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。
芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基には、置換基が置換していてもよい。
重合性ボロン酸化合物が芳香族環を有する場合、芳香族環の個数は、１個であっても、２個以上であってもよいが、配向度がより優れる点から、１個であることが好ましい。
重合性ボロン酸化合物は、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、式（Ｂ－１）で表される化合物が好ましい。
式（Ｂ－１）中、ＲＢ１１は、水素原子又はメチル基を表す。
ＬＢ１は、単結合、２価の脂肪族炭化水素基、又は、２価の脂肪族炭化水素基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＮ（ＲＢ１４）－からなる群から選択される少なくとも１種の基（以下、「特定基Ｂ１」ともいう。）で置換された２価の基（以下、「２価の連結基Ｂ１」ともいう。）を表す。中でも、配向度及び密着性がより優れる点から、２価の連結基Ｂ１が好ましい。
ＲＢ１４は、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は特に制限されず、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
２価の脂肪族炭化水素基は、飽和であっても、不飽和であってもよいが、飽和であることが好ましい。２価の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状又は環状であってもよいが、直鎖状又は分岐状であるのが好ましい。２価の脂肪族炭化水素基は、配向度及び密着性がより優れる点から、アルキレン基であることが好ましい。２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５が特に好ましい。
２価の連結基Ｂ１は、２価の脂肪族炭化水素基を構成する１個の－ＣＨ２－のみが特定基Ｂ１で置換されていてもよく、２個以上の－ＣＨ２－が特定基Ｂ１で置換されていてもよい。
２価の連結基Ｂ１の好適態様としては、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－アルキレン基－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－アルキレン基－Ｎ（ＲＢ１４）－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－アルキレン基－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（ＲＢ１４）－、－アルキレン基－Ｎ（ＲＢ１４）－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、及び、－アルキレン基－Ｏ－が挙げられる。
ＡＢ１は、置換基を有していてもよいアリーレン基、又は、置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。中でも、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、置換基を有していてもよいアリーレン基が好ましく、アリーレン基（すなわち置換基を有しないアリーレン基）が特に好ましい。
アリーレン基の炭素数は特に制限されず、４～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリーレン基としては、例えば、フェニレン基が挙げられる。
ヘテロアリーレン基の炭素数は特に制限されず、３～１０が好ましく、３～５がより好ましい。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。
ＲＢ１２及びＲＢ１３はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は、置換を有していてよいヘテロアリール基を表す。中でも、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
アルキル基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基が挙げられる。
アリール基の炭素数は特に制限されず、４～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。
ヘテロアリール基の炭素数は特に制限されず、３～１０が好ましく、３～５がより好ましい。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。
ＲＢ１２及びＲＢ１３は、互いに結合して環を形成していてもよい。形成される環としては、例えば、ホウ素原子を含む脂肪族炭化水素環が挙げられる。
式（Ｂ－１）で表される化合物は、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、式（Ｂ－２）で表される化合物が好ましい。
式（Ｂ－２）中、ＲＢ２１は、水素原子又はメチル基を表す。
ＬＢ２は、単結合、２価の脂肪族炭化水素基、又は、２価の脂肪族炭化水素基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＮ（ＲＢ２５）－からなる群から選択される少なくとも１種の基（以下、「特定基Ｂ２」ともいう。）で置換された２価の基（以下、「２価の連結基Ｂ２」ともいう。）を表す。中でも、配向度及び密着性がより優れる点から、２価の連結基Ｂ２が好ましい。
ＲＢ２５は、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は特に制限されず、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
ＬＢ２における２価の脂肪族炭化水素基、２価の連結基Ｂ２、及び、特定基Ｂ２はそれぞれ、式（Ｂ－１）のＬＢ１における２価の脂肪族炭化水素基、２価の連結基Ｂ１、及び、特定基Ｂ１と同様であるのでその説明を省略する。
ＲＢ２２及びＲＢ２３はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は、置換を有していてよいヘテロアリール基を表す。中でも、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
ＲＢ２２における各基は、式（Ｂ－１）のＲＢ１２における各基と同様であるのでその説明を省略する。
ＲＢ２３における各基は、式（Ｂ－１）のＲＢ１３における各基と同様であるのでその説明を省略する。
ＲＢ２２及びＲＢ２３は、互いに結合して環を形成していてもよい。形成される環としては、例えば、ホウ素原子を含む脂肪族炭化水素環が挙げられる。
ＲＢ２４は、１価の置換基を表す。１価の置換基の具体例としては、後述の通りである。１価の置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、又は、アリール基が好ましい。
ｎｂは、０～４の整数を表す。中でも、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
ｎｂが２以上の場合、複数のＲＢ２４はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
式（Ｂ－２）で表される化合物において、－Ｂ（ＯＲＢ２２）（ＯＲＢ２３）で表される基の位置は特に制限されないが、密着性及び配向度の少なくとも一方がより優れる点から、ＬＢ２の結合位置に対して、メタ位又はパラ位に配置されることが好ましい。
重合性ボロン酸化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるわけではない。
重合性ボロン酸化合物の含有量は、液晶組成物の全固形分質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．２～８質量％がより好ましく、０．３～６質量％が特に好ましい。重合性ボロン酸化合物の含有量が下限値以上であれば、光学異方性層の密着性がより優れる。重合性ボロン酸化合物の含有量が上限値以下であれば、光学異方性層の配向度がより優れる。
重合性ボロン酸化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合性ボロン酸化合物を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
光学異方性層の全質量に対する光学異方性層中の重合性ボロン酸化合物の含有量は、上述した液晶組成物の全固形分質量に対する重合性ボロン酸化合物の含有量と同じであるのが好ましい。
［光学異方性層］
本発明の光学異方性層は、上述した本発明の液晶組成物を用いて形成される光学異方性層（光学異方性膜）である。
本発明の光学異方性層の製造方法の一例としては、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる棒状液晶性化合物を水平配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
以下、本発明の光学異方性層を作製する製造方法の各工程について説明する。
〔塗布膜形成工程〕
塗布膜形成工程は、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、及び、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
本態様では、液晶組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。基材及び配向膜の詳細については後述する。
〔配向工程〕
配向工程は、塗布膜に含まれる棒状液晶性化合物を水平配向させる工程である。これにより、光学異方性層が得られる。また、塗布膜に二色性物質が含まれる場合には、二色性物質も棒状液晶性化合物と同様に配向する。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱及び／又は送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれ得る二色性物質は、上述した塗布膜形成工程又は乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光学異方性を持つ塗布膜（すなわち、光学異方性層）が得られる。
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる棒状液晶性化合物を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光学異方性層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる棒状液晶性化合物の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光学異方性層を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる棒状液晶性化合物を配向する方法として、乾燥処理及び加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
〔他の工程〕
光学異方性層の製造方法は、上記配向工程後に、光学異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱及び／又は光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光又は紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルターを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光学異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
光学異方性層の膜厚は、０．１～５．０μｍが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。液晶組成物中の棒状液晶性化合物の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光学異方性層が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光学異方性層が得られる。
［積層体］
本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光学異方性層とを有する。上記光学異方性層に含まれる棒状液晶性化合物は、水平方向に配向した状態で固定化されている。ここで、水平方向とは、積層体の厚み方向と直交する方向を意味する。
また、本発明の積層体は、上記光学異方性層上にλ／４板を有していてもよく、上記光学異方性層上にバリア層を有していてもよい。また、本発明の積層体は、λ／４板及びバリア層の両方を有していてもよく、この場合、上記光学異方性層とλ／４板との間に、バリア層を有することが好ましい。
更に、本発明の積層体は、上記基材と上記光学異方性層との間に、配向膜を有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
〔基材〕
基材としては、光学異方性層の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラス及びポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例及び好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
〔光学異方性層〕
光学異方性層については、上述した通りであるので、その説明を省略する。
〔λ／４板〕
「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（又は円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と光学異方性層とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光学異方性層との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層又は接着層、及びバリア層が挙げられる。
〔バリア層〕
本発明の積層体がバリア層を有する場合、バリア層は、光学異方性層とλ／４板との間に設けられることが好ましい。なお、光学異方性層とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層又は接着層）を有する場合には、バリア層は、例えば、光学異方性層と他の層との間に設けることができる。
バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、又は、隣接する層に含まれる化合物等から光学異方性層を保護する機能を有する。
バリア層については、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
〔配向膜〕
本発明の積層体は、基材と光学異方性層との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において本発明の液晶組成物に含まれる棒状液晶性化合物を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。更に、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
なお、配向膜は、上述のバリア層として機能する場合がある。
＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることが更に好ましい。
＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、又は、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド若しくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルである。
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光又は非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ及びカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー及びＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、並びに、陰極線管などを挙げることができる。
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性色素偏光板、及び、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）若しくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、又は、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルター又は波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、又は、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板又は円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などを有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した光学異方性層又は上述した積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、及び、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セル又は有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光学異方性層と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光学異方性層（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光学異方性層（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側及びリア側の偏光素子として本発明の光学異方性層（積層体）を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、及び特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光学異方性層と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光学異方性層、必要に応じて設けられるバリア層、及び、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極及び陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容及び処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
［合成例１］
界面改良剤Ｂ１は、以下の手順により合成した。
反応容器に仕込んだメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７．１ｇを、窒素気流下、内温が８０℃になるまで加熱した。そこに、Ｎ（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド（東京化成社製）１３．０g、ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＡＣ－６（ユニマテック社製、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート）７．０ｇ、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（商品名「Ｖ－６０１」、富士フイルム和光純薬社製）０．６０ｇ、及び、メチルエチルケトン２２．６ｇの混合溶液を３時間かけて滴下し、８０℃で重合反応させた。滴下終了後、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル０．１０ｇのメチルエチルケトン（１．０ｇ）溶液を添加し、８０℃で５時間攪拌し、界面改良剤Ｂ１のメチルエチルケトン溶液を得た。
得られた界面改良剤Ｂ１をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は２２０００（ポリスチレン換算）であった。
［合成例２～１０］
界面改良剤Ｂ１の合成方法を参考にして、界面改良剤Ｂ２～Ｂ１０（後述の式参照）を合成した。
［合成例１１］
界面改良剤Ｂ１１は、以下の手順により合成した。
窒素気流下、内温が８０℃になるまで反応容器を加熱した。そこに、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド（東京化成社製）１４．０ｇ、ＲＡＦＴ（Reversible Addition/Fragmentation Chain Transfer）剤（ＲＡＦＴ－１）１９８ｍｇ、及び、メチルエチルケトン２６ｇの混合溶液を添加して、８０℃に加熱し、６時間反応を行った（第一段階反応）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にてＮ，Ｎ－ジメチルアクリルアミドの重合性基の消失を確認した後、ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＡＣ－４（ユニマテック社製、２－（パーフルオロブチル）エチルアクリレート）６．０ｇ、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル（商品名「Ｖ－６０１」、富士フイルム和光純薬社製）０．０９ｇ、メチルエチルケトン４ｇの混合溶液を添加し、８０℃で２０時間攪拌して重合反応を行った（第二段階反応）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル測定にてＦＡＡＣ－４の重合性基の消失を確認し、界面改良剤（Ｂ１）のメチルエチルケトン溶液を得た。
得られた界面改良剤Ｂ１１をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１２０００（ポリスチレン換算）であった。
以下において、界面改良剤Ｂ１～Ｂ１１の構造を示す。なお、各繰り返し単位の括弧に付した数値は、各重合体が有する全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を示す。
［実施例１－１］
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１（支持体１）とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
〔光配向層ＰＡ１の作製〕
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は０．５μｍであった。
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（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
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下記重合体ＰＡ１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ８．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
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〔光学異方性層１－１の作製〕
得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の液晶組成物１－１を＃２０のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層を形成した。
次いで、上記塗布層を１４０℃で３０秒間加熱し、を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光学異方性層１－１を作製した。光学異方性層１－１の膜厚は１．７μｍであった。
このようにして、光配向層付きＴＡＣフィルムの光配向層ＰＡ１上に、光学異方性層１－１が形成された積層体１－１を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物１－１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記高分子液晶性化合物Ｐ１ ２．７３０質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｌ１ ０．９３３質量部
・下記二色性物質Ｙ１ ０．４２２質量部
・下記二色性物質Ｍ１ ０．１４９質量部
・下記二色性物質Ｃ１ ０．５７１質量部
・重合開始剤Ｉ１
（ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製） ０．１２４質量部
・下記界面改良剤Ｂ１ ０．０１２質量部
・シクロペンタノン ８５．５００質量部
・テトラヒドロフラン ９．５００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、高分子液晶性化合物Ｐ１及び低分子液晶性化合物Ｌ１はいずれも棒状液晶性化合物である。
〔評価試験〕
＜配向欠陥＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態サンプル台に実施例１－１の積層体１－１をセットした。サンプルから５か所をランダムに選択し、対物レンズ２０倍にて顕微鏡で観察した。測定した５か所の配向欠陥の個数の平均値を算出し、配向欠陥の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
Ａ：配向欠陥の個数が５個未満。
Ｂ：配向欠陥の個数が５個以上、２０個未満。
Ｃ：配向欠陥の個数が２０個以上、５０個未満。
Ｄ：配向欠陥の個数が５０個以上。
＜配向度＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例１－１の積層体１－１をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長域における光学異方性層１－１の吸光度を１ｎｍピッチで測定し、以下の式により４００ｎｍ～７００ｎｍにおける配向度を算出した。得られた配向度に基づいて、以下の評価基準にしたがって配向度を評価した。評価結果を第１表に示す。
配向度：Ｓ＝（（Ａｚ０／Ａｙ０）－１）／（（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２）
上記式において、「Ａｚ０」は光学異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度を表し、「Ａｙ０」は光学異方性層の透過軸方向の偏光に対する吸光度を表す。
Ａ：０．９６以上
Ｂ：０．９３以上０．９６未満
Ｃ：０．９０以上０．９３未満
Ｄ：０．９０未満
［実施例１－２～１－１５、比較例１－１～１－３］
配向層形成用塗布液中の重合体ＰＡ１の代わりに、下記重合体ＰＡ２を含む配向膜形成用塗布液を用いて得られた配向層ＰＡ２を用い、液晶組成物１－１の組成を下記第１表に示す組成に変更した以外は実施例１－１と同様にして、実施例１－２～１－３、１－５、１－１０、１－１２、１－１３及び１－１５、並びに、比較例１－３の各積層体を得た。
また、液晶組成物１－１の組成を下記第１表に示す組成に変更した以外は実施例１－１と同様にして、実施例１－４、１－６～１－９、１－１１及び１－１４、並びに、比較例１－１～１－２の各積層体を得た。
得られた各積層体を用いて、実施例１－１と同様の配向欠陥及び配向度の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
第１表中において記号で示した成分のうち、既に示した成分以外の概要を以下に示す。なお、各繰り返し単位の括弧に付した数値は、各重合体が有する全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を示す。
なお、高分子液晶性化合物Ｐ２～Ｐ５、及び、低分子液晶性化合物Ｌ２～Ｌ６はいずれも、棒状液晶性化合物である。
Ｒ３（メガファックＦ５６２，ＤＩＣ社製。式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１を含まないフッ素系の界面改良剤。）
表中、界面改良剤の欄における「末端基の合計分子量」とは、式（Ｎ－１）におけるＲＢ１１及びＲＢ１２に相当する基の分子量の合計を意味する。
第１表に示すように、棒状液晶性化合物と特定界面改良剤とを含有する液晶組成物を用いれば、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層が得られることが示された（実施例１－１～１－１５）。
これに対して、特定界面改良剤を含有しない液晶組成物を用いて得られた光学異方性層は、配向欠陥の発生が顕著になり、配向度も劣ることが示された（比較例１－１～１－３）。
なお、実施例及び比較例の光学異方性層に含まれる液晶性化合物はいずれも、水平配向していた。
［実施例２－１］
石英ガラス上に、上記配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に塗布した。塗膜が形成された石英ガラスを１４０℃で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１’を形成し、光配向層付き石英ガラスを得た。
光配向層ＰＡ１’上に、下記液晶組成物２－１を＃２０のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層を形成した。
次いで、上記塗布層を１３０℃で３０秒間加熱した後、室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１’上に光学異方性層２－１を作製した。光学異方性層２－１の膜厚は２．１μｍであった。
このようにして、光配向層付き石英ガラスの光配向層ＰＡ１’上に、光学異方性層２－１が形成された積層体２－１を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物２－１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｐ１ ５．５９７質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ１ ２．１１２質量部
・重合開始剤Ｉ１
（ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製） ０．２６４質量部
・上記界面改良剤Ｂ１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ８２．８００質量部
・テトラヒドロフラン ９．２００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔評価試験〕
＜配向欠陥＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側と接眼レンズ側に１枚ずつ直線偏光子を吸収軸が直交するようにセットした。２枚の直線偏光子の間のサンプル台に実施例２－１の積層体２－１をセットした。サンプルから５か所をランダムに選択し、対物レンズ２０倍にて顕微鏡で観察した。測定した５か所の配向欠陥の個数の平均値を算出し、配向欠陥の評価を行った。評価結果を第２表に示す。
Ａ：配向欠陥の個数が１０個未満。
Ｂ：配向欠陥の個数が１０個以上、３０個未満。
Ｃ：配向欠陥の個数が３０個以上、５０個未満。
Ｄ：配向欠陥の個数が５０個以上。
＜配向度＞
実施例２－１の積層体２－１を、ＪＡＳＣＯ Ｖ－６００（日本分光社製）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、３００ｎｍ～４００ｎｍの波長域における光学異方性層２－１の吸光度を１ｎｍピッチで測定し、以下の式により３００ｎｍ～４００ｎｍにおける配向度を算出した。
配向度：Ｓ＝（（Ａｚ０／Ａｙ０）－１）／（（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２）
上記式において、「Ａｚ０」は光学異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度を表し、「Ａｙ０」は光学異方性層の透過軸方向の偏光に対する吸光度を表す。
Ａ：０．８５以上
Ｂ：０．７５以上０．８５未満
Ｃ：０．６５以上０．７５未満
Ｄ：０．６５未満
［実施例２－２～２－１０、比較例１－１～１－２］
配向層形成用塗布液ＰＡ１中の重合体ＰＡ１の代わりに、上記重合体ＰＡ２を含む配向膜形成用塗布液を用いて得られた配向層ＰＡ２’を用い、液晶組成物２－１の組成を下記第２表に示す組成に変更した以外は実施例２－１と同様にして、実施例２－２～２－３、２－７、２－９及び２－１０の各積層体を得た。
また、液晶組成物２－１の組成を下記第２表に示す組成に変更した以外は実施例２－１と同様にして、実施例２－４～２－６及び２－８、並びに、比較例２－１～２－２の各積層体を得た。
得られた各積層体を用いて、実施例２－１と同様の配向欠陥及び配向度の評価を行った。評価結果を第２表に示す。
第２表に示すように、棒状液晶性化合物と特定界面改良剤とを含有する液晶組成物を用いれば、配向欠陥が抑制され、かつ、配向度に優れた光学異方性層が得られることが示された（実施例２－１～２－１０）。
これに対して、特定界面改良剤を含有しない液晶組成物を用いて得られた光学異方性層は、配向欠陥の発生が顕著になり、配向度も劣ることが示された（比較例２－１～２－２）。
なお、実施例及び比較例の光学異方性層に含まれる液晶性化合物はいずれも、水平配向していた。
ここで、特開２００６－１２６７６８の［０２１５］～［０２１９］段落に記載された方法を参考にして、下記ディスコティック液晶性化合物と、上記界面改良剤Ｒ－１とを含む円盤状液晶層Ｘを作製した。
なお、ディスコティック液晶性化合物には、１，２，１'，２'，１’’，２’’－トリス［４、５－ジ（ビニルカルボニルオキシブトキシベンゾイルオキシ）フェニレン（特開平８－５０２０６号公報、段落００４４に記載の例示化合物ＴＥ－８の（８）、ｍ＝４）を用いた。
また、界面改良剤Ｒ－１を上記界面改良剤Ｂ－１に変更した以外は、円盤状液晶層Ｘの作製方法と同様にして、円盤状液晶層Ｙを作製した。
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側と接眼レンズ側に１枚ずつ直線偏光子を吸収軸が直交するようにセットした。２枚の直線偏光子の間のサンプル台に上記円盤状液晶層Ｘ又はＹをセットし、対物レンズ２０倍にて顕微鏡で観察したところ、配向欠陥に違いがないことを確認した。
このように、本発明の効果は、棒状液晶性化合物を用いた場合に発揮されることが確認できた。

Claims (12)

  1. 棒状液晶性化合物と、式（Ｎ－１）で表される繰り返し単位Ｂ１及びフッ素原子を含む繰り返し単位Ｂ２を有する界面改良剤と、を含有する、液晶組成物。

    式（Ｎ－１）中、ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、ＲＢ１３は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。ただし、ＲＢ１１及びＲＢ１２が置換基である場合、ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して環を形成していてもよい。
  2. 前記式（Ｎ－１）において、ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計が１００以下である、請求項１に記載の液晶組成物。
  3. 前記式（Ｎ－１）において、ＲＢ１１及びＲＢ１２がそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１５の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶組成物。
  4. 前記繰り返し単位Ｂ１の含有量が、前記界面改良剤が有する全繰り返し単位に対して、３～７５質量％である、請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
  5. 前記棒状液晶性化合物が高分子液晶性化合物を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
  6. 前記棒状液晶性化合物が更に低分子液晶性化合物を含む、請求項５に記載の液晶組成物。
  7. 前記繰り返し単位Ｂ２が、式（Ｆ－１）で表される繰り返し単位及び式（Ｆ－２）で表される繰り返し単位の少なくとも一方を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の液晶組成物。

    式（Ｆ－１）中、
    ＬＦ１は、単結合又は２価の連結基を表し、
    Ｒ１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素数１～２０のアルキル基を表し、
    ＲＦ１は、
    （ａ）下記式（１）、（２）又は（３）で示される基
    （ｂ）パーフルオロポリエーテル基
    （ｃ）プロトンドナー性官能基とプロトンアクセプター性官能基の水素結合を有し、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基
    （ｄ）下記式（１－ｄ）で表される基
    （ｅ）下記式（１－ｅ）で表される基
    の少なくとも１つの基を含む基を表す。

    式（１－ｄ）中、
    Ｘは、水素原子、又は、置換基を表し、
    Ｔ１０は、末端基を表し、
    ｌは１～２０の整数を表し、ｍは０～２の整数を表し、ｎは１～２の整数を表し、ｍ＋ｎは２である。

    式（１－ｅ）中、
    Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、
    ＬＦ２は、単結合又は２価の連結基を表し、
    ＲＦ１１及びＲＦ１２はそれぞれ独立に、パーフルオロポリエーテル基を表し、
    ＊は、式（Ｆ－１）におけるＬＦ１との結合位置を表す。

    式（Ｆ－２）中、
    Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表し、 ＬＦ２は、前記式（Ｆ－１）中のＬＦ１と同じ基を表し、
    ＳＰ２１及びＳＰ２２はそれぞれ独立に、スペーサー基を表し、
    ＤＦ２は、（ｍ２＋１）価の基を表し、
    Ｔ２は、末端基を表し、
    ＲＦ２は、フッ素原子を含む基を表し、
    ｎ２は２以上の整数を表し、ｍ２は２以上の整数を表し、ｍ２≧ｎ２である。
  8. 更に、二色性物質を含有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
  9. 請求項１～８のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて形成された、光学異方性層。
  10. 基材と、前記基材上に設けられた請求項９に記載の光学異方性層と、を有する積層体であって、
    前記光学異方性層に含まれる棒状液晶性化合物が、水平方向に配向した状態で固定化されている、積層体。
  11. 更に、前記光学異方性層上に設けられるλ／４板を有する、請求項１０に記載の積層体。
  12. 請求項９に記載の光学異方性層、又は、請求項１０若しくは１１に記載の積層体を有する、画像表示装置。
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