JP7420956B2 - 光学フィルム、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルム、円偏光板、および、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。

屈折率異方性を持つ光学異方性層は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められている。
このような要求に対して、例えば、特許文献１の実施例９においては、光学異方性層の形成に使用する重合性化合物として、逆波長分散性の重合性液晶化合物を利用し、さらに、所定の光学特性を示す異種の光学異方性層を積層した位相差板が開示されている。

国際公開第２０１８／２１６８１２号

本発明者らは、特許文献１に記載されている化合物（重合性液晶化合物）を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性層を有する偏光板について検討したところ、塩基性の求核物質であるアンモニアに対する耐久性が非常に弱いことを確認した。以下では、アンモニアに対する耐久性を、単に「耐久性」と呼ぶ。
なお、ある種の部材などからアンモニアが発生することは知られており、上記耐久性の向上が必要である。
また、近年、光学異方性層の用途として、有機ＥＬ表示装置の反射防止膜が注目されており、光学異方性層を含む円偏光板を有機ＥＬ表示装置に適用した際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきのより一層の抑制も求められている。

本発明は、耐久性に優れ、かつ、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される光学フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、円偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］光学異方性層（Ａ）、光学異方性層（Ｂ）、および、光学異方性層（Ｃ）を含み、光学異方性層（Ａ）は、ポリマーフィルムであり、
光学異方性層（Ｂ）は、液晶化合物を固定してなる層であり、
光学異方性層（Ｃ）は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
光学異方性層（Ａ）と、光学異方性層（Ｂ）と、光学異方性層（Ｃ）とをこの順に有する、光学フィルム。
［２］光学異方性層（Ａ）が、延伸フィルムである、［１］に記載の光学フィルム。
［３］光学異方性層（Ａ）が、固有複屈折が負の樹脂を含むフィルムである、［１］または［２］に記載の光学フィルム。
［４］光学異方性層（Ｂ）が、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である、［１］～［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］光学異方性層（Ａ）と、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる光学異方性層（Ｂ）と、光学異方性層（Ｃ）とをこの順に有する光学フィルムであって、
光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸と、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸とは平行であり、
光学異方性層（Ｂ）における捩れ配向した液晶化合物の捩れ角度が９０±３０°の範囲内であり、
光学異方性層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１４０～２２０ｎｍであり、
波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層（Ｂ）の屈折率異方性Δｎと光学異方性層（Ｂ）の厚みｄとの積Δｎｄの値が１４０～２２０ｎｍであり、
光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－１４０～－２０ｎｍである、［１］～［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］［１］～［５］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有し、
光学異方性層（Ａ）が、光学異方性層（Ｂ）および光学異方性層（Ｃ）よりも、偏光子に近い側に配置されてなる円偏光板。
［７］光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°時計回りに回転して配置されており、
光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°反時計回りに回転して配置されてなる、［６］に記載の円偏光板。
［８］光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°反時計回りに回転して配置されており、
光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°時計回りに回転して配置されてなる、［６］に記載の円偏光板。
［９］［１］～［５］のいずれかに記載の光学フィルム、または、［６］～［８］のいずれかに記載の円偏光板を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

本発明によれば、耐久性に優れ、かつ、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される光学フィルムを提供できる。また、本発明によれば、円偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供できる。

本発明の光学フィルムの実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 本発明の円偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

遅相軸は、特別な断りがなければ、５５０ｎｍにおける定義である。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Extreme Ultraviolet）、Ｘ線、紫外線、および電子線（ＥＢ：Electron Beam）などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。

本明細書では、「可視光」とは、３８０～７８０ｎｍの光のことをいう。また、本明細書では、屈折率など各種パラメータの測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度の関係（例えば「直交」、「平行」など）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、±５°以下の範囲内であることが好ましく、±３°以下の範囲内であることがより好ましい。

本明細書において、棒状液晶化合物の垂直配向とは、液晶化合物の長軸が層表面に対して垂直に、かつ、同一方位に配列している状態をいう。
ここで、垂直とは、厳密に垂直であることを要求するものでなく、層内の液晶化合物の平均分子軸と層表面とのなす傾斜角が７０～９０°の配向を意味するものとする。
また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。

本明細書において、液晶化合物を固定してなる層は、配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層であることが好ましい。
なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。

本発明の光学フィルムに含まれる光学異方性層（Ｃ）は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。
円偏光板や表示装置の補償層として利用できる有用性から、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層は、ポジティブＣプレートであることが好ましい。

ここで、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）は以下のように定義される。
フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。
「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）の絶対値が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本発明の光学フィルムの特徴点としては、３層の光学異方性層（Ａ）、光学異方性層（Ｂ）、および、光学異方性層（Ｃ）を含む点が挙げられる。
特許文献１においては、光学異方性層が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物（以下、単に「特定液晶化合物」ともいう。）を使用することで、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際の黒色の色味づきを抑制していた。しかしながら、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物は水およびアンモニアなどの求核種による分解を受けやすく、特に塩基性化合物であるアンモニアが存在する場合において、この問題が顕著になる傾向にあった。それに対して、本発明では、光学異方性層（Ａ）を、ポリマーフィルムとし、光学異方性層（Ｂ）および光学異方性層（Ｃ）を、液晶化合物を用いて形成する層とすることにより、高い耐久性を達成している。また、上記構成により、本発明の光学フィルムを円偏光板として有機ＥＬ表示装置に適用した際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される。
さらに、光学異方性層（Ａ）、光学異方性層（Ｂ）および光学異方性層（Ｃ）が後述する所定の光学特性を満たす場合には、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に適用した際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきがより抑制される。

以下に、本発明の光学フィルムの一実施形態について図面を参照して説明する。図１に、本発明の光学フィルムの一実施形態の概略断面図を示す。

光学フィルム１０は、光学異方性層（Ａ）１ａと、光学異方性層（Ｂ）１ｂと、光学異方性層（Ｃ）１ｃとを、この順に有する。
光学異方性層（Ａ）１ａは、ポリマーフィルムであり、延伸したポリマーフィルム（延伸フィルム）であることが好ましく、固有複屈折が負の樹脂を含む材料を延伸したポリマーフィルムであることがより好ましい。つまり、固有複屈折が負の樹脂を含む延伸フィルムであることがより好ましい。
光学異方性層（Ｂ）１ｂは、液晶化合物を固定してなる層であり、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。
また、光学異方性層（Ｃ）１ｃは、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。

＜光学異方性層（Ａ）＞
本発明の光学フィルムに含まれる光学異方性層（Ａ）は、ポリマーフィルム（ポリマーを含むフィルム）である。
一般的に光学補償フィルムに用いる樹脂は、延伸した際の光学発現性の違いから、固有複屈折が正の樹脂と固有複屈折が負の樹脂とに分類される。固有複屈折が正の樹脂とは、延伸方向が遅相軸となる樹脂である。言い換えれば、固有複屈折が正の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂である。また、固有複屈折が負の樹脂とは、延伸方向と垂直方向が遅相軸となる樹脂である。言い換えれば、固有複屈折が負の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂である。
光学異方性層（Ａ）は、固有複屈折が正の樹脂および固有複屈折が負の樹脂のいずれを含んでいてもよく、固有複屈折が負の樹脂を含むことが好ましい。

固有複屈折が正の樹脂として、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル；ポリフェニレンサルファイドなどのポリアリーレンサルファイド；ポリビニルアルコール；ポリカーボネート；ポリアリレート；セルロースアシレートなどのセルロースエステル重合体、ポリエーテルスルホン；ポリスルホン；ポリアリルサルホン；ポリ塩化ビニル；ノルボルネン重合体などの環状オレフィン重合体；棒状液晶ポリマーなどが挙げられる。また、重合体は、単独重合体でもよく、共重合体でもよい。

また、固有複屈折が負の樹脂として、スチレンまたはスチレン誘導体の単独重合体（例えば、ポリスチレン、フッ化ポリスチレン）、および、スチレンまたはスチレン誘導体と任意のモノマーとの共重合体を含むポリスチレン系重合体；ポリアクリロニトリル重合体；ポリメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル系重合体；ポリエステル系樹脂；あるいは、これらの多元共重合ポリマー；並びに、セルロースエステルなどのセルロース化合物などが挙げられる。より具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、フッ化ポリスチレン、ポリビニルナフタレン、および、フマル酸エステル系樹脂などがある。
なお、スチレン誘導体としては、スチレンが有するエテニル基の１つ以上の水素原子が置換基で置換されたモノマー、および、スチレンが有するフェニル基の１つ以上の水素原子が置換基で置換されたモノマーが挙げられ、フェニル基に置換基を有するスチレン系モノマーが好ましい。上記置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アリール基、ヒドロキシル基、カルボニル基などが挙げられる。なお、置換基の数は１つであっても、２つ以上であってもよい。さらに置換基はさらに置換基を有していても、有していなくてもよい。
また、スチレン誘導体は、フェニル基とその他の芳香環とが縮合したものでもよく、また、置換基がフェニル基以外の環を形成するようなインデン類、インダン類であってもよく、架橋環を有する構造であってもよい。

本発明では、いずれのポリマーフィルムを用いることもできるが、固有複屈折が負の樹脂を含むポリマーフィルムが好ましい。また、ポリマーフィルムは、２種類以上の樹脂を含んでいてもよい。
なお、ポリマーフィルムとしては、上述したように、延伸したポリマーフィルム（延伸フィルム）であることが好ましく、固有複屈折が負の樹脂を含む延伸フィルムであることがより好ましい。

なお、ポリマーフィルム中における固有複屈折が負の樹脂の含有量は、本発明の光学フィルムを円偏光板として適用した有機ＥＬ表示装置の正面方向または斜め方向から視認した際の黒色の色味づきがより抑制される点（以下、単に「黒色の色味づきがより抑制される点」ともいう。）で、ポリマーフィルム全質量に対して、５０～１００質量％が好ましく、７５～１００質量％がより好ましい。

光学異方性層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、１４０～２２０ｎｍが好ましく、黒色の色味づきがより抑制される点で、１５０～２００ｎｍがより好ましい。

光学異方性層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、黒色の色味づきがより抑制される点で、１４０～１８０ｎｍが好ましく、１５０～１７０ｎｍがより好ましい。

光学異方性層（Ａ）の厚みは特に制限されないが、薄型化と取り扱い性のバランスの点で、２０～５０μｍが好ましく、３０～４０μｍがより好ましい。

＜光学異方性層（Ｂ）＞
光学異方性層（Ｂ）は、液晶化合物を固定してなる層である。
なお、「固定した」状態の意味は、上述した通りである。
液晶化合物の種類については、特に制限されない。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、液晶化合物は、低分子タイプと高分子タイプとの分類できる。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載のものを好ましく用いることができる。
ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。

液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。
液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

液晶化合物は、順波長分散性の液晶化合物であっても、逆波長分散性の液晶化合物であってもよいが、液晶化合物が順波長分散性の液晶化合物である場合、光学フィルムの製造コストが低下すると共に、耐久性も向上する点で好ましい。
本明細書において、順波長分散性の液晶化合物とは、この液晶化合物を用いて作製された光学異方性層の可視光範囲における面内のレタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が小さくなるものをいう。一方、逆波長分散性の液晶化合物とは、同様にＲｅ値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が大きくなるものをいう。

光学異方性層（Ｂ）は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記相を形成する際には、ネマチック液晶相を示す液晶化合物と後述するキラル剤とを混合したものが使用されることが好ましい。

液晶化合物の捩れ配向形成に用いられるキラル剤として、公知の各種のキラル剤が利用可能である。キラル剤は液晶化合物の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって、誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤は、シンナモイル基を有することが好ましい。キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用キラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、ならびに、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－３０２４８７号公報、特開２００２－８０４７８号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２０１０－１８１８５２号公報および特開２０１４－０３４５８１号公報などに記載される化合物が例示される。

キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。
キラル剤と液晶化合物とが、いずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることがさらに好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。

キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、または、ビナフチル誘導体が好ましい。イソソルビド誘導体は、ＢＡＳＦ社製のＬＣ－７５６などの市販品を用いてもよい。
光学異方性層（Ｂ）における、キラル剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して、０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。

光学異方性層（Ｂ）は、上述した材料以外の他の材料を含んでいてもよい。
他の材料としては、例えば、後述する光学異方性層（Ｂ）の製造方法の際に使用される界面活性剤、配向制御剤、および、ポリマーなどが挙げられる。

波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層（Ｂ）の屈折率異方性Δｎと光学異方性層（Ｂ）の厚みｄとの積Δｎｄの値は特に制限されないが、１４０～２２０ｎｍが好ましく、黒色の色味づきがより抑制される点で、１５０～２１０ｎｍがより好ましく、１６０～２００ｎｍがさらに好ましい。
なお、屈折率異方性Δｎとは、光学異方性層の屈折率異方性（面内遅相軸における屈折率と面内進相軸における屈折率との差）を意味する。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

光学異方性層（Ｂ）は厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層である場合、液晶化合物の捩れ角度（液晶化合物の配向方向の捩れ角度）は９０±３０°の範囲（６０～１２０°の範囲内）であることが好ましく、黒色の色味づきがより抑制される点で、９０±２０°の範囲（７０～１１０°の範囲内）がより好ましく、９０±１０°の範囲（８０～１００°の範囲内）がさらに好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、液晶化合物が捩れ配向するとは、光学異方性層（Ｂ）の厚み方向を軸として、光学異方性層（Ｂ）の一方の主表面から他方の主表面までの液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、光学異方性層（Ｂ）の厚み方向の位置によって異なる。

光学異方性層（Ｂ）の厚みは特に制限されないが、薄型化と取り扱い性のバランスの点で、１．５～３．０μｍが好ましく、１．０～２．０μｍがより好ましい。

光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸と、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸とは平行であることが好ましい。
また、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸と、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（９０±３０°の範囲内）をなすことが好ましい。

＜光学異方性層（Ｃ）＞
光学異方性層（Ｃ）は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である。
棒状液晶化合物としては、上述した光学異方性層（Ｂ）の形成に使用される棒状液晶化合物などが挙げられる。棒状液晶化合物としては、順波長分散性の液晶化合物が好ましい。

光学異方性層（Ｃ）は、上述した材料以外の他の材料を含んでいてもよい。
他の材料としては、例えば、後述する光学異方性層（Ｃ）の製造方法の際に使用される界面活性剤、配向制御剤、および、ポリマーなどが挙げられる。

光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、０～１０ｎｍが好ましく、黒色の色味づきがより抑制される点で、０～５ｎｍがより好ましい。
光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは特に制限されないが、－１４０～－２０ｎｍが好ましく、黒色の色味づきがより抑制される点で、－１３０～－３０ｎｍがより好ましく、－１２０～－４０ｎｍがさらに好ましい。

光学異方性層（Ａ）と、光学異方性層（Ｂ）と、光学異方性層（Ｃ）とがこの順で積層されることが好ましい。

＜他の部材＞
光学フィルムは、さらに、他の部材を含んでいてもよい。
光学フィルムは、基板を含んでいてもよい。なお、後述するように、光学異方性層（Ｂ）または光学異方性層（Ｃ）を形成する際には、必要に応じて、基板上に光学異方性層（Ｂ）または光学異方性層（Ｃ）となり得る組成物層を形成することが好ましい。
基板としては、透明基板が好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。

基板の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーション値（Ｒｔｈ（５５０））は特に制限されないが、－１１０～１１０ｎｍが好ましく、－８０～８０ｎｍがより好ましい。
基板の波長５５０ｎｍにおける面内のレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は特に制限されないが、０～５０ｎｍが好ましく、０～３０ｎｍがより好ましく、０～１０ｎｍがさらに好ましい。

基板を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および、等方性などに優れるポリマーが好ましい。
基板として用いることのできるポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、および、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリルフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、並びに、脂環式構造を有するポリマーのフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）））が挙げられる。
なかでも、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、トリアセチルセルロースがより好ましい。

基板には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、など）が含まれていてもよい。

基板の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。また、基板は複数枚の積層からなっていてもよい。基板はその上に設けられる層との接着を改善するため、基板の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、基板の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
また、基板には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止したりするために、平均粒径が１０～１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分質量比で５～４０質量％混合したポリマー層を基板の片側に配置してもよい。

基板は、いわゆる仮支持体であってもよい。つまり、本発明の製造方法を実施した後、基板を光学異方性層から剥離してもよい。

また、基板の表面に直接ラビング処理を施してもよい。つまり、ラビング処理が施された基板を用いてもよい。ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。即ち、基板の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。

基板上には、配向膜が配置されていてもよい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

また、光学フィルムは、各層の間に密着層を配置してもよい。密着層としては、公知の粘着剤層および接着剤層が挙げられる。

＜光学フィルムの製造方法＞
上述した光学フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。
例えば、所定の光学特性を示す光学異方性層（Ａ）～光学異方性層（Ｃ）をそれぞれ作製して、それら光学異方性層と支持体とを密着層（例えば、粘着層または接着層）を介して所定の順番に貼り合わせることにより、光学フィルムを製造できる。
また、光学異方性層（Ａ）上に後述する重合性液晶組成物を塗布して、光学異方性層（Ｂ）を形成した後、光学異方性層（Ｂ）上に重合性液晶組成物を塗布して、光学異方性層（Ｃ）を形成してもよい。
また、上述した光学異方性層を貼り合わせる方法と、重合性液晶組成物を用いて光学異方性層を形成する方法とを組み合わせてもよい。より具体的には、基板上に重合性液晶組成物を塗布して光学異方性層（Ｃ）を形成した後、光学異方性層（Ｃ）上に重合性液晶組成物を塗布して光学異方性層（Ｂ）を形成して積層体を得た後、さらに別途作製した光学異方性層（Ａ）と積層体とを貼り合わせて、光学フィルムを製造する方法などが挙げられる。
以下では、各層の製造方法について詳述する。

光学異方性層（Ａ）が延伸フィルムである場合、所定の樹脂を含むフィルムに延伸処理を施すことにより延伸フィルムを製造できる。延伸処理の方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。

光学異方性層（Ｂ）および光学異方性層（Ｃ）は、それぞれ重合性液晶組成物を用いて形成することが好ましい。より具体的には、重合性液晶組成物を塗布して組成物層を形成し、組成物層中の液晶化合物を配向させた後、硬化処理を施して所定の光学異方性層を形成することが好ましい。
重合性液晶組成物とは、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物である。重合性液晶組成物に含まれる各種成分については、後段で詳述する。
以下、上記手順について詳述する。

上述した組成物層を形成する手順は特に制限されず、例えば、重合性液晶組成物を被塗布物上に塗布して、必要に応じて乾燥処理を施す方法が挙げられる。
塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法が挙げられる。

組成物層の膜厚は特に制限されないが、０．１～２０μｍが好ましく、０．２～１５μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。

次に、形成された組成物層に、配向処理を施して、組成物層中の重合性液晶化合物を配向させる。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、組成物層を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、組成物層を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。冷却温度としては２０～２００℃が好ましく、３０～１５０℃がより好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された組成物層に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された組成物層に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の観点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。

なお、上記では重合性液晶組成物を塗布して組成物層を形成する方法について述べたが、別途組成物層を形成して所定の基板上に転写してもよい。

上記で使用される重合性液晶組成物には、上述した重合性基を有する液晶化合物、および、その他必要に応じて用いられる他の成分（例えば、キラル剤、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、ポリマー、および、溶媒など）が含まれる。
組成物中の各成分の含有量は、上述した組成物層中の各成分の含有量となるように調整されることが好ましい。

重合性液晶組成物中における液晶化合物の含有量は特に制限されないが、液晶化合物の配向状態を制御しやすい点で、重合性液晶組成物中の全固形分に対して、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。

重合性液晶組成物は、液晶化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、重合性液晶組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合性液晶組成物が重合開始剤を含む場合、より効率的に重合性基を有する液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。
重合性液晶組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、重合性液晶組成物中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、光増感剤を含んでいてもよい。
光増感剤の種類は特に制限されず、公知の光増感剤が挙げられる。
重合性液晶組成物中における光増感剤の含有量は特に制限されないが、重合性液晶組成物中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、重合性基を有する液晶化合物とは異なる重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性化合物、および、カチオン重合性化合物が挙げられ、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落００１８～００２０に記載の重合性モノマーが挙げられる。
重合性液晶組成物中の重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特願２００３－２９５２１２号公報中の段落００６９～０１２６に記載の化合物が挙げられる。

重合性液晶組成物は、ポリマーを含んでいてもよい。ポリマーとしては、セルロースエステルが挙げられる。セルロースエステルとしては、特開２０００－１５５２１６号公報中の段落０１７８に記載のものが挙げられる。
重合性液晶組成物中のポリマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、上記以外にも、液晶化合物を水平配向状態または垂直配向状態とするために、水平配向または垂直配向を促進する添加剤（配向制御剤）を含んでいてもよい。

重合性液晶組成物は、光配向性ポリマーを含んでいてもよい。光配向性ポリマーとは、光配向性基を有するポリマーである。光配向性ポリマーが後述する式（１）または式（２）で表されるフッ素原子またはケイ素原子を有する繰り返し単位を有する場合、または、光配向性ポリマーが開裂型光配向性ポリマーである場合、重合性液晶組成物を用いて組成物層を形成する際に、光配向性ポリマーが組成物層表面上に偏在しやすくなる。このような組成物層を用いて形成された光学異方性層においては、表面付近に光配向性ポリマーが偏在するため、光配向処理を施すと、所定の配向規制力を有する表面形状が形成される。結果として、別途配向膜を設けることなく、光学異方性層上にさらに重合性液晶組成物を塗布して、所望の光学異方性層を製造することができる。

光配向性ポリマーが有する光配向性基とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列または異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいい、配向の均一性に優れ、熱的安定性および化学的安定性も良好となる理由から、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基が好ましい。

光の作用により二量化する基としては、具体的には、例えば、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、および、ベンゾフェノン誘導体からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体の骨格を有する基などが好適に挙げられる。
一方、光の作用により異性化する基としては、具体的には、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、スピロピラン化合物、桂皮酸化合物、および、ヒドラゾノ－β－ケトエステル化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の骨格を有する基などが好適に挙げられる。

これらの光配向性基のうち、少ない露光量でも光配向性ポリマーを含む光学異方性層の上層に形成される光学異方性層の液晶配向性がより良好となる理由から、シンナモイル基、アゾベンゼン基、カルコニル基、および、クマリン基からなる群から選択される基であることが好ましい。

光配向性ポリマーは、光配向性基を有する繰り返し単位と、フッ素原子またはケイ素原子とを有する繰り返し単位を含む光配向性ポリマーであることが好ましい。
また、光配向性ポリマーを含む光学異方性層の上層に形成される光学異方性層の液晶配向性がより良好となる理由から、光配向性ポリマーは、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む繰り返し単位Ａを有し、繰り返し単位Ａが、側鎖に開裂基を有し、かつ、側鎖の開裂基よりも末端側にフッ素原子またはケイ素原子を有する光配向性ポリマー（以下、「開裂型光配向性ポリマー」とも略す。）であることが好ましい。
ここで、繰り返し単位Ａが含む「極性基」とは、ヘテロ原子を少なくとも１原子以上有する基をいい、具体的には、例えば、水酸基、カルボニル基、カルボキシ基、アミノ基、ニトロ基、アンモニウム基、および、シアノ基などが挙げられる。なかでも、水酸基、カルボニル基、または、カルボキシ基が好ましい。
また、「極性基を生じる開裂基」とは、開裂によって上述した極性基を生じる基をいうが、本発明においては、ラジカル開裂後に酸素分子と反応し、極性基を生成する基も含む。

このような開裂型光配向性ポリマーとしては、例えば、特許文献１（国際公開第２０１８／２１６８１２号）の段落［００１４］～［００４９］に記載された光配向性ポリマーが挙げられ、これらの段落の記載内容は本明細書に取り込まれる。

フッ素原子またはケイ素原子を有する繰り返し単位を含む光配向性ポリマーの他の例としては、下記式（１）または式（２）で表されるフッ素原子またはケイ素原子とを有する繰り返し単位と、光配向性基を有する繰り返し単位とを有する共重合体（以下、「特定共重合体」とも略す。）が好適に挙げられる。
なお、下記式（１）または式（２）で表されるフッ素原子またはケイ素原子を有する繰り返し単位は、光、熱、酸および塩基からなる群から選択される少なくとも１種の作用により分解して極性基を生じる開裂基を含む繰り返し単位である。

上記式（１）および（２）中、ｒおよびｓは、それぞれ独立に、１以上の整数を表す。
また、Ｒ^Ｂ１およびＲ^Ｂ２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
また、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、または、－ＮＲ^Ｚ－を表す。ただし、Ｒ^Ｚは、水素原子または置換基を表す。
また、Ｌ^Ｂ１は、ｒ＋１価の連結基を表す。
また、Ｌ^Ｂ２は、ｓ＋１価の連結基を表す。
また、Ｂ１は、下記式（Ｂ１）で表される基を表す。ただし、下記式（Ｂ１）中の＊が、Ｌ^Ｂ１との結合位置を表し、ｒが２以上の整数である場合、複数のＢ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｂ２は、下記式（Ｂ２）で表される基を表す。ただし、下記式（Ｂ２）中の＊が、Ｌ^Ｂ２との結合位置を表し、ｓが２以上の整数である場合、複数のＢ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、＊は、結合位置を表す。
また、ｎは、１以上の整数を表す。
また、ｍは、２以上の整数を表す。
また、Ｒ^ｂ１は、水素原子または置換基を表す。
また、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｂ３、および、Ｒ^ｂ４は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。ただし、２個のＲ^ｂ３は、互いに結合して環を形成していてもよく、複数のＲ^ｂ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^ｂ３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^ｂ４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｌ^ｂ１は、ｎ＋１価の連結基を表す。ただし、複数のＬ^ｂ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｌ^ｂ２は、ｍ＋１価の連結基を表す。ただし、複数のＬ^ｂ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｚは、フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基、または、オルガノシロキサン基を表す。ただし、上記脂肪族炭化水素基は、酸素原子を有していてもよく、複数のＺは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^Ｂ１が表す置換基としては、公知の置換基が挙げられる。なかでも、炭素数１～１２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

上記式（１）中、Ｙ^１は、それぞれ独立に、－Ｏ－、または、－ＮＲ^Ｚ－を表し、Ｒ^Ｚは、水素原子または置換基を表す。Ｒ^Ｚの置換基としては、公知の置換基が挙げられ、メチル基が好ましい。Ｙ^１は、－Ｏ－、または、－ＮＨ－を表すことが好ましく、－Ｏ－を表すことがより好ましい。

上記式（１）中、Ｌ^Ｂ１は、ｒ＋１価の連結基を表す。ｒ＋１価の連結基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２４のｒ＋１価の炭化水素基であって、炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよい炭化水素基が好ましく、炭素数１～１０の酸素原子または窒素原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基がより好ましい。ｒ＋１価の連結基としては、２～３価の連結基が好ましく、２価の連結基がより好ましい。

上記式（１）中、ｒは、１以上の整数を表す。なかでも、合成適性の観点から、１～３の整数が好ましく、１～２の整数がより好ましく、１が更に好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^Ｂ２が表す置換基としては、公知の置換基が挙げられる。なかでも、炭素数１～１２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

上記式（２）中、Ｙ^２は、－Ｏ－、または、－ＮＲ^Ｚ－を表す。ただし、Ｒ^Ｚは、水素原子または置換基を表す。Ｒ^Ｚの置換基としては、公知の置換基が挙げられ、メチル基が好ましい。Ｙ^２は、－Ｏ－、または、－ＮＨ－を表すことが好ましく、－Ｏ－を表すことがより好ましい。

上記式（２）中、Ｌ^Ｂ２は、ｓ＋１価の連結基を表す。ｓ＋１価の連結基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２４のｓ＋１価の炭化水素基であって、炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよい炭化水素基が好ましく、炭素数１～１０の酸素原子または窒素原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基がより好ましい。
ｓ＋１価の連結基としては、２価の連結基が好ましい。

上記式（２）中、ｓは、１以上の整数を表す。なかでも、合成適性の観点から、１～２の整数が好ましく、１がより好ましい。

上記式（Ｂ１）中、Ｒ^ｂ１が表す置換基としては、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数１～１２のアルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。Ｒ^ｂ１は、置換基であることが好ましい。

上記式（Ｂ１）中、Ｒ^ｂ２が表す置換基としては、公知の置換基が挙げられ、上記式（Ｂ１）中のＲ^ｂ１の置換基で例示した基が挙げられる。また、Ｒ^ｂ２は、水素原子を表すことが好ましい。

上記式（Ｂ１）中、Ｌ^ｂ１はｎ＋１価の連結基を表し、ｎ＋１価の連結基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２４のｎ＋１価の炭化水素基であって、炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよい炭化水素基が好ましく、炭素数１～１０の酸素原子または窒素原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基がより好ましい。

ｎ＋１価の連結基としては、２～４価の連結基が好ましく、２～３価の連結基がより好ましく、２価の連結基が更に好ましい。

上記式（Ｂ１）中、ｎは、１以上の整数を表す。なかでも、合成適性の観点から、１～５の整数が好ましく、１～３の整数がより好ましく、１が更に好ましい。

上記式（Ｂ１）および上記式（Ｂ２）中、Ｚは、フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基、または、オルガノシロキサン基を表す。ただし、上記脂肪族炭化水素基は、酸素原子を有していてもよく、複数のＺは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基としては、例えば、フッ素原子含有アルキル基、フッ素原子含有アルキル基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－で置換された基、および、フッ素原子含有アルケニル基などが挙げられる。フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基の炭素数は特に限定されず、１～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、３～１０がさらに好ましい。
フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基に含まれるフッ素原子の数は特に限定されず、１～３０が好ましく、５～２５がより好ましく、７～２０がさらに好ましい。

上記式（Ｂ２）中、Ｒ^ｂ３およびＲ^ｂ４が表す置換基としては、公知の置換基が挙げられ、上記式（Ｂ１）中のＲ^ｂ１が表す置換基で例示した基が挙げられる。また、Ｒ^ｂ３は、２個のＲｂ^３が互いに結合して環を形成していることが好ましく、２個のＲｂ^３が互いに結合してシクロヘキサン環を形成していることがより好ましい。また、Ｒ^ｂ４は、水素原子を表すことが好ましい。

上記式（Ｂ２）中、Ｌ^ｂ２は、ｍ＋１価の連結基を表す。
ｍ＋１価の連結基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２４のｍ＋１価の炭化水素基であって、炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよい炭化水素基が好ましく、炭素数１～１０の酸素原子または窒素原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基がより好ましい。ｍ＋１価の連結基としては、３～４価の連結基が好ましく、４価の連結基がより好ましい。

上記式（Ｂ２）中、ｍは、２以上の整数を表す。なかでも、合成適性の観点から、２～４の整数が好ましく、２～３の整数がより好ましい。

上記式（Ｂ１）で表される基を含む繰り返し単位の具体例としては、下記式Ｂ－１～Ｂ－２２で表される繰り返し単位が挙げられ、上記式（Ｂ２）で表される基を含む繰り返し単位の具体例としては、下記式Ｂ－２３～Ｂ－２４で表される繰り返し単位が挙げられる。

光配向性ポリマー中における式（１）または（２）で表されるフッ素原子またはケイ素原子を有する繰り返し単位の含有量は特に限定されず、風ムラの抑制効果が向上する理由から、光配向性ポリマーの全繰り返し単位に対して、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、２０質量％以上が特に好ましく、９５質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましく、６０質量％以下が特に好ましく、５０質量％以下が最も好ましい。

光配向性基を有する繰り返し単位の主鎖の構造は特に限定されず、公知の構造が挙げられ、例えば、（メタ）アクリル系、スチレン系、シロキサン系、シクロオレフィン系、メチルペンテン系、アミド系、および、芳香族エステル系からなる群から選択される骨格が好ましい。
これらのうち、（メタ）アクリル系、シロキサン系、および、シクロオレフィン系からなる群から選択される骨格がより好ましく、（メタ）アクリル系骨格がさらに好ましい。

光配向性基を有する繰り返し単位の具体例としては、以下が挙げられる。

光配向性ポリマー中における光配向性基を有する繰り返し単位の含有量は特に限定されず、上層に形成される光学異方性層の液晶配向性がより良好となる理由から、光配向性ポリマーの全繰り返し単位に対して、５～６０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、１５～４０質量％がさらに好ましい。

特定共重合体は、上述した式（１）で表される基を有する繰り返し単位および光配向性基を有する繰り返し単位の他に、架橋性基を有する繰り返し単位を更に有していてもよい。
架橋性基の種類は特に限定されず、公知の架橋性基が挙げられる。なかでも、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基が挙げられる。

架橋性基を有する繰り返し単位の主鎖の構造は特に限定されず、公知の構造が挙げられ、例えば、（メタ）アクリル系、スチレン系、シロキサン系、シクロオレフィン系、メチルペンテン系、アミド系、および、芳香族エステル系からなる群から選択される骨格が好ましい。
これらのうち、（メタ）アクリル系、シロキサン系、および、シクロオレフィン系からなる群から選択される骨格がより好ましく、（メタ）アクリル系骨格がさらに好ましい。

架橋性基を有する繰り返し単位の具体例としては、以下が挙げられる。

特定共重合体における架橋性基を有する繰り返し単位の含有量は特に限定されず、上層に形成される光学異方性層の液晶配向性がより良好となる理由から、光配向性ポリマーの全繰り返し単位に対して、１０～６０質量％が好ましく、２０～５０質量％がより好ましい。

上記以外の他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物が挙げられる。

光配向性ポリマーの合成法は特に限定されず、例えば、上述した式（１）で表される基を有する繰り返し単位を形成するモノマー、上述した光反応性基を有する繰り返し単位を形成するモノマー、および、任意の他の繰り返し単位を形成するモノマーを混合し、有機溶剤中で、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成できる。

光配向性ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は特に限定されないが、上層に形成される光学異方性層の液晶配向性がより良好となる理由から、２５０００以上であることが好ましく、２５０００～５０００００がより好ましく、２５０００～３０００００が更に好ましく、３００００～１５００００が特に好ましい。
ここで、光配向性ポリマーおよび界面活性剤における重量平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

＜円偏光板＞
上述した光学フィルムは、偏光子と組み合わせて、円偏光板として使用してもよい。
円偏光板の一実施態様として、図２に示すように、本発明の円偏光板２０は、偏光子２と、光学フィルム１０と含む。偏光子２は、光学フィルム１０の光学異方性層（Ｃ）１ｃ側とは反対側に配置されている。言い換えれば、円偏光板２０において、光学異方性層（Ａ）１ａが、光学異方性層（Ｂ）１ｂおよび光学異方性層（Ｃ）１ｃよりも偏光子２０に近い側に配置されている。

偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。

円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、密着層を介して、光学フィルムおよび偏光子を貼り合わせる方法が挙げられる。

円偏光板は、黒色の色味づきがより抑制される点で、以下の要件１または要件２を満たすことが好ましい。
要件１：光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°（好ましくは、１０～３０°）時計回りに回転して配置されており、
光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°（好ましくは、１０～３０°）反時計回りに回転して配置されてなる。
要件２：光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°（好ましくは、６０～８０°）反時計回りに回転して配置されており、
光学異方性層（Ｃ）側から光学異方性層（Ａ）側に向かって円偏光板を観察した際に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、光学異方性層（Ｂ）の光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、偏光子の吸収軸を基準として、光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°（好ましくは、６０～８０°）時計回りに回転して配置されてなる。

＜有機ＥＬ表示装置＞
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した光学フィルム（または円偏光板）を有する。通常、円偏光板は、有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ表示パネル上に設けられる。つまり、本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと、上述した円偏光板とを有する。
有機ＥＬ表示装置の一例としては、有機ＥＬ表示パネル、光学フィルム、および、偏光子をこの順で有する。

有機ＥＬ表示パネルは、陽極および陰極の一対の電極間に発光層または発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、および、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（セルロースアシレートフィルム（基板）の作製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、さらに９０℃で１０分間加熱した。その後、得られた組成物を、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、ドープを調製した。ドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対する割合であり、ドープの溶剤は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１（質量比）であった。

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セルロースアシレートドープ
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セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（化学式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（化学式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶剤（塩化メチレン／メタノール／ブタノール）
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上記で作製したドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属支持体上に接するようにドープをダイから流延し、その後、得られたウェブ（フィルム）をドラムから剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ製であった。

流延されて得られたウェブ（フィルム）を、ドラムから剥離後、フィルム搬送時に３０～４０℃で、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で２０分間乾燥した。引き続き、ウェブをロール搬送しながらゾーン加熱により後乾燥した。得られたウェブにナーリングを施した後、巻き取った。
得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は２６ｎｍであった。

（光学異方性層（Ａ）の形成）
特表２０１８－５１０９２１号公報の実施例１に記載された、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）およびポリ（α，β，β－トリフルオロスチレン）（ＰＴＦＳ）固体の総重量に基づいて、ＰＭＭＡ／ＰＴＦＳ＝２０質量％／８０質量％の割合でポリマーブレンド溶液を調製した。
上記の調整したポリマーブレンド溶液を、ブレードキャスティング方法を使用して、平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムは、空気中で一晩乾燥させ、その次に室温で８時間、真空オーブン中に置いた。乾燥後、フィルムをガラス基板から剥がした。
その後、得られたフィルムを１１０℃で３０％の延伸率で延伸して、光学異方性層（Ａ）に該当する光学異方性層（１ａ）を形成した。
光学異方性層（１ａ）の厚みは、３７μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは１６６．５ｎｍ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－１４８ｎｍであった。また、光学異方性層（１ａ）の面内遅相軸の角度は、上記延伸方向を０°とすると、９０°であった。

（光学異方性層（Ｃ）および光学異方性層（Ｂ）の積層体形成）
（光学異方性層（１ｃ）の形成）
上記作製したセルロースアシレートフィルムの上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｃ）を塗布して、組成物層を形成した。その後、フィルムの両端を保持し、フィルムの塗膜が形成された面の側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるように冷却板（９℃）を設置し、フィルムの塗膜が形成された面とは反対側に、フィルムとの距離が５ｍｍとなるようにヒーター（７５℃）を設置し、２分間乾燥させた。
次いで、温風にて６０℃で１分間加熱し、酸素濃度が１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら３６５ｎｍのＵＶ－ＬＥＤを用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。その後、温風にて１２０℃で１分間アニーリングすることで、前駆体層を形成した。
得られた前駆体層に、室温で、ワイヤーグリッド偏光子を通したＵＶ光（超高圧水銀ランプ；ＵＬ７５０；ＨＯＹＡ製）を７．９ｍＪ/ｃｍ^２（波長：３１３ｎｍ）照射することで、表面に配向制御能を有する光学異方性層（１ｃ）を形成した。
なお、形成した光学異方性層（１ｃ）の膜厚は０．５μｍであった。波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－６８ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、フィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
このようにして、光学異方性層（Ｃ）に該当する光学異方性層（１ｃ）を形成した。

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光学異方性層形成用組成物（１ｃ）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
重合性モノマー（Ａ－４００、新中村化学工業社製） ４．０質量部
下記の重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ５．０質量部
下記の光酸発生剤Ｄ－１ ３．０質量部
下記の重合体Ｍ－１ ２．０質量部
下記の垂直配向剤Ｓ０１ ２．０質量部
下記の光配向性ポリマーＡ－１ ２．０質量部
下記の界面活性剤Ｂ－１ ０．２質量部
メチルエチルケトン ４２．３質量部
メチルイソブチルケトン ６２７．５質量部
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棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物）

重合開始剤Ｓ－１

光酸発生剤Ｄ－１

重合体Ｍ－１

垂直配向剤Ｓ０１

光配向性ポリマーＡ－１（各繰り返し単位中に記載の数値は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位から２５質量％、４０質量％、３５質量％であった。また、重量平均分子量は８０,０００であった。）

界面活性剤Ｂ－１（重量平均分子量は２２００であった。）

（光学異方性層（１ｂ）の形成）
次いで、上記作製した光学異方性層（１ｃ）の上に、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１ｂ）を塗布し、８０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層（Ｂ）に該当する光学異方性層（１ｂ）を形成した。
光学異方性層（１ｂ）の厚みは１．２μｍであり、波長５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８１°であった。光学異方性層（１ｂ）側から見たとき、フィルムの長手方向を０°（反時計周りを正）とすると、液晶化合物の配向軸角度は、空気側が１４°、光学異方性層（１ｃ）に接する側が９５°であった。

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光学異方性層形成用組成物（１ｂ）
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上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．６０質量部
下記の含フッ素化合物Ａ ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
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左捩れキラル剤（Ｌ１）

含フッ素化合物Ａ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）

上記手順によって、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に、光学異方性層（１ｃ）と光学異方性層（１ｂ）とが直接積層された積層体（１ｃ－１ｂ）を作製した。

（光学異方性層（Ａ）、光学異方性層（Ｂ）および光学異方性層（Ｃ）の積層体形成）
上記作製した光学異方性層（１ａ）と、上記作製したセルロースアシレートフィルム上に形成した積層体（１ｃ－１ｂ）の光学異方性層（１ｂ）の表面側とを、光学異方性層（１ａ）の面内遅相軸と光学異方性層（１ｂ）の空気側の配向軸を平行に、紫外線硬化型接着剤を用いて貼り合せた。
このようにして、光学異方性層（１ａ）上に、光学異方性層（１ｂ）、光学異方性層（１ｃ）がこの順に積層された光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）を得た。

（直線偏光板の作製）
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム社製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚さ６０μｍのロール状ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で長手方向に連続して延伸し、乾燥して厚さ１３μｍの偏光子を得た。このとき、偏光子の吸収軸方向と長手方向は一致していた。
上記の偏光子の片方の面に、上記偏光子保護フィルムを、下記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合わせて、直線偏光板を作製した。

（ＰＶＡ接着剤の調製）
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部、および、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液として、ＰＶＡ接着剤を調製した。

（円偏光板の作製）
上記作製した光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）の光学異方性層（１ａ）の表面と、上記作製した直線偏光板の偏光子の表面（偏光子保護フィルムの反対側の面）とを、直線偏光板側から見たとき、偏光子の吸収軸を基準に光学異方性層（１ａ）の遅相軸が反時計回りに１４°になるように、紫外線硬化型接着剤を用いて貼り合せた。続いて、光学異方性層（１ｃ）側のセルロースアシレートフィルムを剥離し、光学異方性層（１ｃ）のセルロースアシレートフィルムに接していた面を露出させた。
このようにして、光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）と、直線偏光板とからなる円偏光板（Ｐ１）を作製した。このとき、偏光子保護フィルム、偏光子、光学異方性層（１ａ）、光学異方性層（１ｂ）、および、光学異方性層（１ｃ）が、この順に積層されている。

＜比較例１＞
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルム上に光学異方性層（１ｃ）を形成した。
次いで、上記作製した光学異方性層（１ｃ）の上に、特許文献１の実施例９に記載の組成物Ａ－１を用いて、逆波長分散液晶化合物を含む光学異方性層（１ｈ）を形成した。５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３８ｎｍであった。逆波長分散液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの長手方向を０°とすると、光学異方性層（１ｈ）側から見たとき、遅相軸は４５°であった。
このようにして、垂直配向した棒状液晶化合物を含む光学異方性層（１ｃ）と、水平配向した逆波長分散液晶化合物を含む光学異方性層（１ｈ）とが、直接積層された積層体を作製した。
得られた積層体を光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）の代わりに用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、円偏光板（Ｃ１）を作製した。

＜比較例２＞
実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層（１ｃ）を形成した。
次いで、上記作製した光学異方性層（１ｃ）の上に、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（２ａ）を用いて、光学異方性層（２ｈ）を形成した。５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１３８ｎｍであった。棒状液晶化合物の長軸方向のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、フィルムの長手方向を０°とすると、光学異方性層（２ｈ）側から見たとき、遅相軸は４５°であった。
このようにして、垂直配向した棒状液晶化合物を含む光学異方性層（１ｃ）と、水平配向した棒状液晶化合物を含む光学異方性層（２ｈ）とが、直接積層された積層体を作製した。
得られた積層体を光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）の代わりに用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、円偏光板（Ｃ２）を作製した。

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光学異方性層形成用組成物（２ａ）
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上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
上記の含フッ素化合物Ｃ ０．０８質量部
メチルエチルケトン １５６質量部
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＜耐久性評価＞
上述の円偏光板の作製において、直線偏光板と光学異方性層を紫外線硬化型接着剤で貼り合せる代わりに、感圧型粘着剤を用いてガラス板と４０ｍｍ角に切り出した光学異方性層とを貼り合せた。すなわち、光学フィルム（１ｃ－１ｂ－１ａ）をガラス板上に配置した。このとき、光学異方性層（１ａ）はガラス板側であった。ガラス板付き光学フィルムを、アンモニア２ｍｏｌ％のメタノール溶液を入れたネジ口瓶上に配置することで、アンモニアを６０分間暴露した。このとき、暴露面が光学異方性層（１ｃ）となるように配置した。
Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏｓｃａｎを用いて、波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍおよび波長６５０ｎｍにおけるガラス板付き光学フィルムの面内レタデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）およびＲｅ（６５０）を測定した。結果を後述する表１に示す。
Ｈ＝Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）とするとき、アンモニア暴露前のＨをＨ０、アンモニア暴露後のＨをＨ１とし、ΔＨ（％）＝｜Ｈ１－Ｈ０｜／Ｈ０×１００を指標とし、下記のように評価した。結果を表１に示す。
Ａ：ΔＨが１％未満
Ｂ：ΔＨが１％以上２％未満
Ｃ：ΔＨが２％以上

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに上記作製した円偏光板を、偏光子保護フィルムが外側に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて表示装置に貼り合せた。

（表示性能の評価）
（正面方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：色味づきが全く視認されない、もしくは、視認されるものの、わずか。（許容）
Ｂ：色味づきがやや視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｃ：色味づきが視認され、反射光も大きく、許容できない。

（斜め方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角４５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：色味差が全く視認されない、もしくは、視認されるものの、ごくわずか。（許容）
Ｂ：色味差がやや視認されるが、反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
Ｃ：色味差が視認され、反射光も大きく、許容できない。

表１中、「光学異方性層種類」欄において、「延伸フィルム」欄は光学異方性層が延伸フィルムであることを意味し、「棒状液晶」は光学異方性層が棒状液晶化合物を用いて形成された層であることを意味し、「逆波長分散」は光学異方性層が逆波長分散性の液晶化合物を用いて形成された層であることを意味する。
「配向状態」欄において、「水平」とは、延伸フィルムの場合には樹脂が水平配向していることを意味し、液晶化合物を用いて形成される層の場合には液晶化合物が水平配向していることを意味する。「捩れ」とは、液晶化合物が捩れ配向していることを意味する。「垂直」とは液晶化合物が垂直配向していることを意味する。

上記表１に示す結果から、本発明の光学フィルムは、いずれもアンモニア耐久性に優れ、かつ、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきを抑制することができることが確認された。
一方、比較例の光学フィルムは、アンモニア耐久性が劣るか、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づき抑制が劣っているかのいずれかであった。

１０ 光学フィルム
２０ 円偏光板
１ａ 光学異方性層（Ａ）
１ｂ 光学異方性層（Ｂ）
１ｃ 光学異方性層（Ｃ）
２ 偏光子

Claims (8)

1. 光学異方性層（Ａ）、光学異方性層（Ｂ）、および、光学異方性層（Ｃ）を含み、
   前記光学異方性層（Ａ）は、ポリマーフィルムであり、
   前記光学異方性層（Ｂ）は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
   前記光学異方性層（Ｂ）における捩れ配向した液晶化合物の捩れ角度が９０±３０°の範囲であり、
   前記光学異方性層（Ｃ）は、垂直配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であり、
   前記光学異方性層（Ａ）と、前記光学異方性層（Ｂ）と、前記光学異方性層（Ｃ）とをこの順に有する、光学フィルム。
2. 前記光学異方性層（Ａ）が、延伸フィルムである、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記光学異方性層（Ａ）が、固有複屈折が負の樹脂を含むフィルムである、請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記光学異方性層（Ａ）と、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した棒状液晶化合物を固定してなる前記光学異方性層（Ｂ）と、前記光学異方性層（Ｃ）とをこの順に有する光学フィルムであって、
   前記光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸と、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸とは平行であり、
   前記光学異方性層（Ｂ）における前記捩れ配向した液晶化合物の捩れ角度が９０±３０°の範囲内であり、
   前記光学異方性層（Ａ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１４０～２２０ｎｍであり、
   波長５５０ｎｍで測定した前記光学異方性層（Ｂ）の屈折率異方性Δｎと前記光学異方性層（Ｂ）の厚みｄとの積Δｎｄの値が１４０～２２０ｎｍであり、
   前記光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、前記光学異方性層（Ｃ）の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－１４０～－２０ｎｍである、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有し、
   前記光学異方性層（Ａ）が、前記光学異方性層（Ｂ）および前記光学異方性層（Ｃ）よりも、前記偏光子に近い側に配置されてなる、円偏光板。
6. 前記光学異方性層（Ｃ）側から前記光学異方性層（Ａ）側に向かって前記円偏光板を観察した際に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、前記偏光子の吸収軸を基準として、前記光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°時計回りに回転して配置されており、
   前記光学異方性層（Ｃ）側から前記光学異方性層（Ａ）側に向かって前記円偏光板を観察した際に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、前記偏光子の吸収軸を基準として、前記光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が５～５５°反時計回りに回転して配置されてなる、請求項５に記載の円偏光板。
7. 前記光学異方性層（Ｃ）側から前記光学異方性層（Ａ）側に向かって前記円偏光板を観察した際に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転している場合、前記偏光子の吸収軸を基準として、前記光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°反時計回りに回転して配置されており、
   前記光学異方性層（Ｃ）側から前記光学異方性層（Ａ）側に向かって前記円偏光板を観察した際に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側の表面での面内遅相軸を基準に、前記光学異方性層（Ｂ）の前記光学異方性層（Ａ）側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転している場合、前記偏光子の吸収軸を基準として、前記光学異方性層（Ａ）の面内遅相軸が４０～８５°時計回りに回転して配置されてなる、請求項５に記載の円偏光板。
8. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルム、または、請求項５～７のいずれか１項に記載の円偏光板を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。