JP7217359B2 - 光学フィルム、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルム、円偏光板、および、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。

屈折率異方性を持つ光学異方性層は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
特許文献１においては、所定の光学特性を示す２種の光学異方性層を有する位相差板が開示されている。

特許５９６０７４３号

一方で、近年、各種装置においては薄型化が求められており、装置内に使用される部材についても薄型化が求められている。特許文献１に記載の位相差板は所定の光学特性を示す支持体上に形成されており、これら支持体を含めた積層体の厚みは必ずしも昨今の薄型化の要望を満たすものではなく、改善の必要があった。

また、特許文献１においては位相差板を形成する際に、支持体上に配向膜を形成して所定の角度のラビング処理を施しているが、その角度が支持体の長手方向に対して－９４°など長手方向に対して略直交方向の場合がある。このようなラビング処理の角度においては、ロールトゥロールで連続的にラビング処理を行うことができない。
また、円偏光板を作製する際には、偏光子の吸収軸と位相差板の面内遅相軸とが所定の角度となるように貼り合わせが行われる。生産性を考慮すれば、長尺状の偏光子と長尺状の位相差板とをロールトゥロールで連続的に貼り合わせて円偏光板を製造できることが好ましい。それに対して、まず、通常、長尺状の偏光子は、その長手方向に吸収軸が配置される場合が多い。また、上述した特許文献１に記載されるような、長手方向に略直交する方向にラビング処理を施した支持体を用いて長尺状の位相差板が形成できたとしても、長尺状の位相差板の面内遅相軸は、長手方向と略直交する位置になりやすい。そのため、このような長尺状の位相差板と長尺状の偏光子とをロールトゥロールで連続的に貼り合わせたとしても、偏光子の吸収軸と位相差板の面内遅相軸とが所望の角度に配置された円偏光板を作製することができない。
つまり、特許文献１に記載される位相差板は、ラビング処理自体がロールトゥロールで生産しづらく、かつ、偏光子との貼り合わせにも不適であり、連続生産性に劣る。以下、「連続生産性に適する」とは、ラビング処理をロールトゥロールで連続的に実施でき、所望の角度関係を満たす偏光板を製造するために偏光子の貼り合わせをロールトゥロールで連続的に実施できることを意味する。

さらに、光学異方性層は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の反射防止用の円偏光板の部材として用いられる場合があり、円偏光板を有する有機ＥＬ表示装置においては、正面方向および斜め方向から視認した際に、黒色に他の色が混色したような色味（黒色の色味づき）の発生を抑制することが求められている。

本発明は、上記実情に鑑みて、厚みが薄く、連続生産性に適しており、かつ、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される光学フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、円偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 長尺支持体と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、第３光学異方性層とをこの順に有し、
長尺支持体の厚みが１０～４５μｍであり、
第１光学異方性層は、棒状液晶化合物を用いて形成された層であり、
第２光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
第３光学異方性層は、液晶化合物を用いて形成された層であり、
長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層の面内遅相軸とがなす角度が５～５０°であり、
第１光学異方性層の面内遅相軸と、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸とは平行であり、
第２光学異方性層における捩れ配向した液晶化合物の捩れ角度が９０±３０°であり、
第３光学異方性層側から長尺支持体側に向かって観察した際に、長尺支持体の長手方向を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が５～５０°時計回りに回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層の第１光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転しており、
第３光学異方性層側から長尺支持体側に向かって観察した際に、長尺支持体の長手方向を基準として、第１光学異方性層の面内遅相軸が５～５０°反時計回りに回転している場合、第２光学異方性層の第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層の第１光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転しており、
第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１４０～２２０ｎｍであり、
波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層の厚みｄとの積Δｎｄの値が１４０～２２０ｎｍであり、
第２光学異方性層の捩れ配向した液晶化合物が棒状液晶化合物である場合、第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－１２０～－２０ｎｍであり、
第２光学異方性層の捩れ配向した液晶化合物が円盤状液晶化合物である場合、第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２０～１２０ｎｍである、光学フィルム。
（２） 長尺支持体と第１光学異方性層との間に実質的に配向膜が配置されていない、（１）に記載の光学フィルム。
（３） 長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層の面内遅相軸とがなす角度が１０～２５°である、（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４） 第１光学異方性層が、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である、（１）～（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（５） （１）～（４）のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、円偏光板。
（６） （５）に記載の円偏光板を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

本発明によれば、厚みが薄く、連続生産性に適しており、かつ、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に用いた際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される光学フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、円偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供できる。

本発明の光学フィルムの第１の実施態様の概略断面図の例である。 本発明の光学フィルムの第１の実施態様の一つの態様における、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。 図１中の白矢印の方向から観察した際の長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。 本発明の光学フィルムの第２の実施態様の概略断面図の例である。 本発明の光学フィルムの第２の実施態様の一つの態様における、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図である。 図４中の白矢印の方向から観察した際の長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれ面内遅相軸との角度の関係を示す概略図である。 工程１を説明するための組成物層の断面図である。 工程２を説明するための組成物層の断面図である。 キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの各々について、螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）（μｍ^-1）×濃度（質量％）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ²）との関係をプロットしたグラフの模式図である。 キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂを併用した系において、加重平均螺旋誘起力（μｍ^-1）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ²）との関係をプロットしたグラフの模式図である。 工程５を実施した場合を説明するための組成物層の断面図である。 本発明の円偏光板の一実施態様の概略断面図の例である。 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一実施態様の概略断面図の例である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

面内遅相軸は、特別な断りがなければ、５５０ｎｍにおける定義である。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Extreme Ultraviolet）、Ｘ線、紫外線、および電子線（ＥＢ：Electron Beam）などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。

本明細書では、「可視光」とは、３８０～７８０ｎｍの光のことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度の関係（例えば「直交」、「平行」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、±５°以下の範囲内であることが好ましく、±３°以下の範囲内であることがより好ましい。

本発明の光学フィルムの特徴点としては、長尺支持体上に所定の光学特性を示す光学異方性層を配置している点が挙げられる。
まず、長尺支持体上に配置される第１光学異方性層の面内遅相軸は長尺状の長手方向と所定の角度となるように配置されており、この角度であれば長尺支持体へのラビング処理および後述する偏光子の吸収軸との所定の角度での貼り合わせを、ロールトゥロールで連続的に実施することが可能となる。
特許文献１においては、所定のＲｔｈを示す支持体が使用されていたが、この支持体は厚みが厚く、薄化型の要望に応えられていなかった。それに対して、本発明では第１光学異方性層～第３光学異方性層を液晶化合物を用いて形成する層とすることにより、薄型化を達成している。
さらに、第１光学異方性層～第３光学異方性層が所定の光学特性を満たすことにより、円偏光板として有機ＥＬ表示装置に適用した際に、正面方向および斜め方向における黒色の色味づきが抑制される。

＜第１の実施態様＞
以下に、本発明の光学フィルムの第１の実施態様について図面を参照して説明する。図１に、本発明の光学フィルムの第１の実施態様の概略断面図を示す。また、図２は、本発明の光学フィルムの第１の実施態様における、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図であり、図２では、長尺支持体および第３光学異方性層の記載は省略している。また、図３は、図１の白矢印から観察した際の、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との角度の関係を示す図である。

光学フィルム１０ａは、長尺支持体１２と、第１光学異方性層１４ａと、第２光学異方性層１６ａと、第３光学異方性層１８とを有する。第２光学異方性層１６ａは、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物ＬＣを固定してなる層である。
以下、各部材について詳述する。

（長尺支持体１２）
長尺支持体１２は、長手方向に延びる支持体であり、第１光学異方性層１４ａなどを支持するための部材である。
長尺支持体１２の長手方向の長さは特に制限されないが、１０ｍ以上の支持体が好ましく、生産性の点から、１００ｍ以上が好ましい。なお、長手方向の長さは特に制限されず、１００００ｍ以下の場合が多い。
長尺支持体の幅は特に制限されないが、１５０～３０００ｍｍの場合が多く、３００～２０００ｍｍが好ましい。

長尺支持体１２としては、透明長尺支持体が好ましい。なお、透明長尺支持体とは、可視光の透過率が６０％以上である支持体を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。

長尺支持体１２の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーション値（Ｒｔｈ（５５０））は特に制限されないが、－３０～１００ｎｍが好ましく、－２０～５０ｎｍがより好ましい。
長尺支持体１２の波長５５０ｎｍにおける面内のレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は特に制限されないが、０～２０ｎｍが好ましく、０～１０ｎｍがより好ましい。

長尺支持体１２を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および、等方性などに優れるポリマーが好ましい。
長尺支持体１２として用いることのできるポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、および、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリルフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、並びに、脂環式構造を有するポリマーのフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）））が挙げられる。
なかでも、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または、脂環式構造を有するポリマーが好ましい。

長尺支持体１２には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、および、剥離剤）が含まれていてもよい。

長尺支持体１２の厚みは１０～４５μｍであり、連続生産性により適する点から、２０～４０μｍが好ましい。

また、長尺支持体１２は複数枚の積層からなっていてもよい。
長尺支持体１２はその上に設けられる層との接着を改善するため、長尺支持体１２の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、長尺支持体１２の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
長尺支持体１２は、いわゆる仮支持体であってもよい。

また、長尺支持体１２の表面に直接ラビング処理を施してもよい。つまり、ラビング処理が施された長尺支持体１２を用いてもよい。ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。即ち、長尺支持体１２の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。

（第１光学異方性層１４ａ）
第１光学異方性層１４ａは、長尺支持体１２と後述する第２光学異方性層１６ａとの間に配置される層である。
第１光学異方性層１４ａは、棒状液晶化合物を用いて形成された層である。より具体的には、第１光学異方性層１４ａは、棒状液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層である。
第１光学異方性層１４ａは、所定の光学特性を示す層であればよく、例えば、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。つまり、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物の配向状態を固定してなる層であることが好ましい。
なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態である。具体的には、通常、０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。

本明細書において、ホモジニアス配向とは、液晶化合物の分子軸（例えば、棒状液晶化合物の場合には長軸が該当）が層表面に対して水平に、かつ、同一方位に配列している状態（光学的一軸性）をいう。
ここで、水平とは、厳密に水平であることを要求するものでなく、層内の液晶化合物の平均分子軸が層表面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
また、同一方位とは、厳密に同一方位であることを要求するものでなく、面内の任意の２０か所の位置で遅相軸の方位を測定したとき、２０か所での遅相軸の方位のうちの遅相軸方位の最大差（２０個の遅相軸方位のうち、差が最大となる２つの遅相軸方位の差）が１０°未満であることを意味するものとする。

第１光学異方性層１４ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０～２２０ｎｍであり、本発明の光学フィルムを円偏光板として適用した有機ＥＬ表示装置の正面方向または斜め方向から視認した際の黒色の色味づきがより抑制される点（以下、単に「黒色の色味づきがより抑制される点」ともいう。）で、１５０～２００ｎｍがより好ましい。

図２に示すように、長尺支持体１２の長手方向と、第１光学異方性層１４ａの面内遅相軸とがなす角度θ１は５～５０°であり、連続生産性により適する点から、５～４０°が好ましく、５～２５°がより好ましい。
図２について、詳細に説明する。図２中の第１光学異方性層１４ａ中の矢印はそれぞれの表面上での面内遅相軸を表し、破線は長尺支持体の長手方向を表す。図２に示すように、第１光学異方性層１４ａの第２光学異方性層１６ａ側とは反対側の表面１４１ａにおける面内遅相軸と、第１光学異方性層１４ａの第２光学異方性層１６ａ側の表面１４２ａにおける面内遅相軸とは平行であり、いずれの面内遅相軸も長尺支持体の長手方向とのなす角度θ１は５～５０°である。
なお、図３に示すように、図１の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、破線で表した長尺支持体の長手方向を基準にして、第１光学異方性層１４ａの面内遅相軸はθ１°時計回りに回転している。つまり、第１光学異方性層１４ａの面内遅相軸はθ１°時計回りに回転した位置に位置する。

第１光学異方性層１４ａに形成に用いられる棒状液晶化合物は特に制限されず、公知の棒状液晶化合物が用いられる。棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載のものを好ましく用いることができる。
棒状液晶化合物は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

棒状液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

第１光学異方性層１４ａは、後段で詳述するように、重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましく、ホモジニアス配向した重合性基を有する棒状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

（第２光学異方性層１６ａ）
第２光学異方性層１６ａは、第１光学異方性層１４ａと第３光学異方性層１８との間に配置される層である。
第２光学異方性層１６ａは、図１に示すように、厚み方向（図１中、ｚ軸方向）を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物ＬＣを固定してなる層である。第２光学異方性層１６ａは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相を固定してなる層であることが好ましい。なお、上記相を形成する際には、ネマチック液晶相を示す液晶化合物と後述するキラル剤とを混合したものが使用されることが好ましい。
なお、「固定した」状態の意味は、上述した通りである。

波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層１６ａの屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層１６ａの厚みｄとの積Δｎｄの値は１４０～２２０ｎｍであり、黒色の色味づきがより抑制される点で、１５０～２１０ｎｍが好ましく、１６０～２００ｎｍがより好ましい。
なお、屈折率異方性Δｎとは、光学異方性層の屈折率異方性を意味する。
上記Δｎｄの測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。

液晶化合物ＬＣの捩れ角度（液晶化合物ＬＣの配向方向の捩れ角度）は９０±３０°（６０～１２０°の範囲内）であり、黒色の色味づきがより抑制される点で、９０±２０°（７０～１１０°の範囲内）がより好ましく、９０±１０°（８０～１００°の範囲内）がさらに好ましい。
なお、捩れ角度の測定方法は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ（ポラリメーター）装置を用い同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定する。
また、液晶化合物が捩れ配向するとは、第２光学異方性層１６ａの厚み方向を軸として、第２光学異方性層１６ａの一方の主表面から他方の主表面までの液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、液晶化合物の配向方向（面内遅相軸方向）が、第２光学異方性層１６ａの厚み方向の位置によって異なる。

図２を用いて、第２光学異方性層１６ａの面内遅相軸の位置関係を説明する。図２中の第２光学異方性層１６ａ中の矢印はそれぞれの表面での面内遅相軸を表す。
第１光学異方性層１４ａの面内遅相軸と、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側の表面での面内遅相軸とは平行である。言い換えれば、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側の表面１６１ａでの面内遅相軸と、長尺支持体の長手方向とのなす角度は、上述したθ１に該当する。
また、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側の表面１６１ａでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側とは反対側の表面１６２ａでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（９０±３０°の範囲内）をなす。言い換えると、図１の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側の表面１６１ａでの面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側とは反対側の表面１６２ａでの面内遅相軸が時計回りに所定の角度（９０±３０°の範囲内）回転している。
つまり、図３に示すように、図１の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、第１光学異方性層１４ａの面内遅相軸を基準にして、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側とは反対側の表面１６２ａでの面内遅相軸はθ２°時計回りに所定の角度回転した位置に位置する。

第２光学異方性層１６ａに形成に用いられる液晶化合物の種類は特に制限されず、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物（ディスコティック液晶化合物）とが挙げられる。
なお、棒状液晶化合物の例示は、上述した通りである。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。

液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

第２光学異方性層１６ａは、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。より具体的には、捩れ配向した重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることがより好ましい。

（第３光学異方性層１８）
第３光学異方性層１８は、第２光学異方性層１６ａの第１光学異方性層１４ａ側とは反対側の表面側に配置される層である。
第３光学異方性層１８は、液晶化合物を用いて形成された層である。より具体的には、第３光学異方性層１８は、液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層である。
第３光学異方性層１８は、所定の光学特性を示す層であればよく、例えば、ホメオトロピック配向した液晶化合物を固定してなる層であることが好ましい。つまり、ホメオトロピック配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層であることが好ましい。
なお、「固定した」状態の意味は、上述した通りである。

第２光学異方性層１６ａの捩れ配向した液晶化合物が棒状液晶化合物である場合、第３光学異方性層１８の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、第３光学異方性層１８の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－１２０～－２０ｎｍである。
上記面内レタデーションは、黒色の色味づきがより抑制される点で、０～５ｎｍが好ましい。上記厚み方向のレタデーションは、黒色の色味づきがより抑制される点で、－１１０～－３０ｎｍが好ましく、－１００～－４０ｎｍがより好ましい。
なお、上記光学特性を実現する上では、第３光学異方性層１８は、棒状液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。

また、第２光学異方性層１６ａの捩れ配向した液晶化合物が円盤状液晶化合物である場合、第３光学異方性層１８の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、第３光学異方性層１８の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２０～１２０ｎｍである。
上記面内レタデーションは、黒色の色味づきがより抑制される点で、０～５ｎｍが好ましい。上記厚み方向のレタデーションは、黒色の色味づきがより抑制される点で、３０～１１０ｎｍが好ましく、４０～１００ｎｍがより好ましい。
なお、上記光学特性を実現する上では、第３光学異方性層１８は、円盤状液晶化合物を用いて形成された層であることが好ましい。

第３光学異方性層１８に形成に用いられる液晶化合物の種類は特に制限されず、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物とが挙げられる。
なお、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物の例示は、上述した通りである。

液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。

第３光学異方性層１８は、後段で詳述するように、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

＜第２の実施態様＞
以下に、本発明の光学フィルムの第２の実施態様について図面を参照して説明する。図４に、本発明の光学フィルムの第２の実施態様の概略断面図を示す。また、図５は、本発明の光学フィルムの第２の実施態様における、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係を示す図であり、図５では、長尺支持体および第３光学異方性層の記載は省略している。また、図６は、図４の白矢印から観察した際の、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層および第２光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との角度の関係を示す図である。

図４に示すように、光学フィルム１０ｂは、長尺支持体１２と、第１光学異方性層１４ｂと、第２光学異方性層１６ｂと、第３光学異方性層１８とを有する。第２光学異方性層１６ｂは、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物ＬＣを固定してなる層である。
第１の実施態様と第２の実施態様とは、第１光学異方性層１４ｂおよび第２光学異方性層１６ｂ中の面内遅相軸の位置の関係以外は、同じ構成を有するため説明を省略し、以下では主に光学フィルム１０ｂ中の第１光学異方性層１４ｂおよび第２光学異方性層１６ｂ中の面内遅相軸の位置の関係について詳述する。

図５に示すように、長尺支持体の長手方向と、第１光学異方性層１４ｂの面内遅相軸とがなす角度θ１は５～５０°であり、連続生産性により優れる点から、５～４０°が好ましく、５～２５°がより好ましい。
図５について、詳細に説明する。図５中の第１光学異方性層１４ｂ中の矢印はそれぞれの表面上での面内遅相軸を表し、破線は長尺支持体の長手方向を表す。図５に示すように、第１光学異方性層１４ｂの第２光学異方性層１６ｂ側とは反対側の表面１４１ｂにおける面内遅相軸と、第１光学異方性層１４ｂの第２光学異方性層１６ｂ側の表面１４２ｂにおける面内遅相軸とは平行であり、いずれの面内遅相軸も長尺支持体の長手方向とのなす角度θ１は５～５０°である。
なお、図６に示すように、図４の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、破線で表した長尺支持体の長手方向を基準にして、第１光学異方性層１４ｂの面内遅相軸はθ１°反時計回りに回転している。つまり、第１光学異方性層１４ｂの面内遅相軸はθ１°反時計回りに回転した位置に位置する。

次に、図５を用いて、第２光学異方性層１６ｂの面内遅相軸の位置関係を説明する。図５中の第２光学異方性層１６ｂ中の矢印はそれぞれの表面での面内遅相軸を表す。
第１光学異方性層１４ｂの面内遅相軸と、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側の表面での面内遅相軸とは平行である。つまり、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側の表面１６１ｂでの面内遅相軸と、長尺支持体の長手方向とのなす角度は、上述したθ１に該当する。
また、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側の表面１６１ｂでの面内遅相軸と、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側とは反対側の表面１６２ｂでの面内遅相軸とは、上述した捩れ角度（９０±３０°の範囲内）をなす。言い換えると、図４の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側の表面１６１ｂでの面内遅相軸を基準に、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側とは反対側の表面１６２ｂでの面内遅相軸が反時計回りに所定の角度（９０±３０°の範囲内）回転している。
つまり、図６に示すように、図４の白矢印側から観察した際（第３光学異方性層１８側から長尺支持体１２を観察した際）、第１光学異方性層１４ｂの面内遅相軸を基準にして、第２光学異方性層１６ｂの第１光学異方性層１４ｂ側とは反対側の表面１６２ｂでの面内遅相軸はθ２°反時計回りに所定の角度（捩れ角度）回転した位置に位置する。

＜その他の層＞
上記光学フィルムは、長尺支持体、第１光学異方性層、第２光学異方性層、および、第３光学異方性層以外の他の層を有していてもよい。
他の層としては、例えば、配向膜が挙げられる。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で形成できる。
さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。

なお、本発明においては、長尺支持体と第１光学異方性層との間、第１光学異方性層と第２光学異方性層との間、および、第２光学異方性層と第３光学異方性層との間の少なくとも１つにおいて、実質的に配向膜がないことが好ましい。
本明細書において「実質的に配向膜がない」とは、配向膜として機能させるためだけに形成された膜を含んでいないことを意味する。下方に位置する層の表面が、上方に位置する層の液晶化合物が配向するのに寄与する場合であっても、下方に位置する層が配向膜としてのみ用いるために形成されていない限り、本発明に含まれる。

＜光学フィルムの製造方法＞
上述した光学フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。特に、上述した光学フィルムの製造方法は、ロールトゥロールで連続的に実施できる。
例えば、所定の光学特性を示す第１光学異方性層～第３光学異方性層をそれぞれ作製して、それら光学異方性層と長尺支持体とを密着層（例えば、粘着層または接着層）を介して所定の順番に貼り合わせることにより、光学フィルムを製造できる。
また、長尺支持体上に、順次、後述する重合性液晶組成物を用いて、第１光学異方性層～第３光学異方性層をそれぞれ作製して、光学フィルムを製造してもよい。つまり、長尺支持体上に重合性液晶組成物を塗布して、第１光学異方性層を形成した後、第１光学異方性層上に重合性液晶組成物を塗布して、第２光学異方性層を形成し、さらに、第２光学異方性層上に重合性液晶組成物を塗布して、第３光学異方性層を形成してもよい。
また、上述した光学異方性層を貼り合わせる方法と、重合性液晶組成物を用いて光学異方性層を形成する方法とを組み合わせてもよい。

第１光学異方性層～第３光学異方性層は、いずれも液晶化合物（例えば、棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）を用いて形成される層であり、その製造方法は特に制限されないが、重合性基を有する液晶化合物（例えば、重合性基を有する棒状液晶化合物、および、重合性基を有する円盤状液晶化合物）を含む組成物（以下、単に「重合性液晶組成物」ともいう。）を用いる方法が好ましい。
以下、重合性液晶組成物を用いる方法について詳述する。

重合性液晶組成物は、重合性基を有する液晶化合物を含む。液晶化合物としては、上述したように棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が挙げられる。
重合性液晶組成物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、重合開始剤が挙げられる。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
重合性液晶組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
なお、固形分とは、溶媒を除去した、光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。

重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物以外の他の重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられ、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。
重合性液晶組成物中における重合性モノマーの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。

重合性液晶化合物に含まれていてもよい他の成分としては、上記以外にも、配向制御剤（垂直配向剤、水平配向剤）、界面活性剤、密着改良剤、可塑剤、および、溶媒が挙げられる。
なお、第２光学異方性層のように液晶化合物を捩れ配向させるためには、重合性液晶組成物はキラル剤を含むことが好ましい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶化合物が、分子内に不斉炭素を有する等、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
キラル剤の使用量は特に制限されず、上述した捩れ角度が達成されるように調整される。

光学異方性層を作製する方法としては、重合性液晶組成物を塗布して塗膜を形成して、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させて、硬化処理を施す方法が挙げられる。
重合性液晶組成物が塗布される対象は特に制限されず、例えば、上述した長尺支持体、および、第１光学異方性層～第３光学異方性層が挙げられる。
なお、形成される光学異方性層の面内遅相軸の方向を所定の方向にするために、重合性液晶組成物が塗布される対象は、ラビング処理が施されていてもよい。例えば、ラビング処理が施された長尺支持体を用いてもよい。

重合性液晶組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。

次に、形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。冷却温度としては２０～２００℃が好ましく、３０～１５０℃がより好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。
光照射処理の際の雰囲気は特に制限されないが、窒素雰囲気が好ましい。

光学フィルムの製造方法において、長尺支持体上に第１光学異方性層および第２光学異方性層を製造する際、以下の工程１～５を実施することが好ましい。以下の工程１～工程５を実施することにより、塗布工程１回で第１光学異方性層および第２光学異方性層の積層体を製造できる。
工程１：光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤を少なくとも含むキラル剤、および、重合性基を有する棒状液晶化合物（以下、工程１～工程５の説明においては、単に「液晶化合物」とも記す。）を含む重合性液晶組成物を長尺支持体上に塗布して、組成物層を形成する工程
工程２：組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程
工程３：工程２の後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程
工程４：工程３の後、組成物層に加熱処理を施す工程
工程５：工程４の後、組成物層に対して硬化処理を施して、液晶化合物の配向状態を固定し、第１光学異方性層および第２光学異方性層を形成する工程
以下、上記各工程の手順について詳述する。

（工程１）
工程１は、光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤を少なくとも含むキラル剤、および、重合性基を有する液晶化合物を含む重合性液晶組成物を長尺支持体上に塗布して、組成物層を形成する工程である。本工程を実施することにより、後述する光照射処理が施される組成物層が形成される。
重合性液晶組成物に含まれる各種成分は上述した通りであり、以下では、上記で説明していない感光性キラル剤について詳述する。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（Ｘ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（Ｘ） ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するキラル剤の濃度（質量％））［μｍ^-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。

光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤（以下、単に「キラル剤Ａ」ともいう。）は、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ａは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ａは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。

キラル剤Ａは、光照射によって螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、減少するキラル剤であってもよい。なかでも、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤であることが好ましい。
なお、本明細書において「螺旋誘起力の増加および減少」とは、キラル剤Ａの初期（光照射前）の螺旋方向を「正」としたときの増減を表す。従って、光照射により螺旋誘起力が減少し続け、０を超えて螺旋方向が「負」となった場合（つまり、初期（光照射前）の螺旋方向とは逆の螺旋方向の螺旋を誘起する場合）にも、「螺旋誘起力が減少するキラル剤」に該当する。

キラル剤Ａとしては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
キラル剤Ａとしては、なかでも、光異性化部位を少なくとも有する化合物が好ましく、光異性化部位は光異性化可能な二重結合を有することがより好ましい。上記光異性化可能な二重結合を有する光異性化部位としては、光異性化が起こりやすく、かつ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位またはスチルベン部位が好ましく、さらに可視光の吸収が小さいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位またはスチルベン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。

工程１においては、上述したキラル剤Ａが少なくともが用いられる。工程１は、キラル剤Ａを２種以上用いる態様であってもよいし、少なくとも１種のキラル剤Ａと少なくとも１種の光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤（以下、単に「キラル剤Ｂ」ともいう。）とを用いる態様であってもよい。
キラル剤Ｂは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｂは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ｂは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ｂは重合性基を有していてもよい。
キラル剤Ｂとしては、公知のキラル剤を使用できる。
キラル剤Ｂは、上述したキラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ａにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤Ｂにより誘起する螺旋は左方向となる。

組成物層中における上記キラル剤Ａの含有量は特に制限されないが、液晶化合物が均一に配向しやすい点で、液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％未満が特に好ましく、０．８質量％以下がより特に好ましく、０．５質量％以下が最も好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましい。
なお、上記キラル剤Ａは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ａを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

組成物層中における上記キラル剤Ｂの含有量は特に制限されないが、液晶化合物が均一に配向しやすい点で、液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％未満が特に好ましく、０．８質量％以下がより特に好ましく、０．５質量％以下が最も好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましい。
なお、上記キラル剤Ｂは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ｂを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

組成物層中におけるキラル剤の合計含有量（全てのキラル剤の総含有量）は、液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、４．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましい。

重合性液晶組成物を塗布して組成物層を形成する方法は特に制限されず、上述した重合性液晶組成物を塗布する方法が挙げられる。

組成物層の膜厚は特に制限されないが、０．１～２０μｍが好ましく、０．２～１５μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。

（工程２）
工程２は、組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の液晶化合物を配向させる工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物が所定の配向状態となる。
加熱処理の条件としては、使用される液晶化合物に応じて最適な条件が選択される。
なかでも、加熱温度としては、１０～２５０℃の場合が多く、４０～１５０℃の場合がより多く、５０～１３０℃の場合がさらに多い。
加熱時間としては、０．１～６０分間の場合が多く、０．２～５分間の場合がより多い。

工程１により形成される組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、０．０～１．９μｍ^-1であることが好ましく、０．０～１．５μｍ^-1であることがより好ましく、０．０～１．０μｍ^-1であることがさらに好ましく、０．０～０．５μｍ^-1であることが特に好ましく、ゼロが最も好ましい。

なお、キラル剤の加重平均螺旋誘起力とは、組成物層中に２種以上のキラル剤が含まれる場合に、組成物層中に含まれる各キラル剤の螺旋誘起力と各キラル剤の組成物層中における濃度（質量％）との積を組成物層中におけるキラル剤の合計濃度（質量％）で除した値の合計値を表す。例えば、２種類のキラル剤（キラル剤Ｘおよびキラル剤Ｙ）を併用した場合、下記式（Ｙ）により表される。
式（Ｙ） 加重平均螺旋誘起力（μｍ^-1）＝（キラル剤Ｘの螺旋誘起力（μｍ^-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋キラル剤Ｙの螺旋誘起力（μｍ^-1）×組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））／（組成物層中におけるキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋組成物層中におけるキラル剤Ｙの濃度（質量％））
ただし、上記式（Ｙ）において、キラル剤の螺旋方向が右巻きの場合、その螺旋誘起力は正の値とする。また、キラル剤の螺旋方向が左巻きの場合、その螺旋誘起力は負の値とする。つまり、例えば、螺旋誘起力が１０μｍ^-1のキラル剤の場合、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が右巻きであるときは、螺旋誘起力を１０μｍ^-1として表す。一方、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が左巻きであるときは、螺旋誘起力を－１０μｍ^-1として表す。

工程１により形成される組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が０である場合には、図７に示すように、長尺支持体１２上に、液晶化合物ＬＣがホモジニアス配向した組成物層２０が形成される。なお、図７は、長尺支持体１２と組成物層２０との断面の概略図である。なお、図７に示す組成物層２０にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きであるとする。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じとする。

（工程３）
工程３は、工程２の後、酸素の存在下にて、組成物層に対して光照射を行う工程である。以下では、図面を用いて本工程の機構を説明する。
図８に示すように、上述した工程２では酸素濃度１体積％以上の条件下にて、長尺支持体１２の組成物層２０側とは反対側の方向（図８中の白矢印の方向）から光照射を行う。なお、図８では光照射は長尺支持体１２側から実施されているが、組成物層２０側から実施されてもよい。
その際、組成物層２０の長尺支持体１２側の下側領域２０Ａと、長尺支持体１２側とは反対側の上側領域２０Ｂとを比較すると、上側領域２０Ｂの表面のほうが空気側にあるため、上側領域２０Ｂ中の酸素濃度が高く、下側領域２０Ａ中の酸素濃度は低い。そのため、組成物層２０に対して光照射がなされると、下側領域２０Ａにおいては液晶化合物の重合が進行しやすく、液晶化合物の配向状態が固定される。なお、下側領域２０Ａにおいてもキラル剤Ａが存在しており、キラル剤Ａも感光し、螺旋誘起力が変化する。しかしながら、下側領域２０Ａでは液晶化合物の配向状態が固定されているため、後述する、光照射された組成物層に対して加熱処理を施す工程４を実施しても、液晶化合物の配向状態の変化は生じない。
また、上側領域２０Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。そして、上側領域２０Ｂにおいてもキラル剤Ａが存在しているため、キラル剤Ａが感光し、螺旋誘起力が変化する。そのため、後述する工程４（加熱処理）を実施すると、変化した螺旋誘起力に沿って液晶化合物の配向状態が変化する。

つまり、工程３を実施することにより、組成物層の基板側の領域（下側領域）においては液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の基板側と反対側の領域（上側領域）においては、液晶化合物の配向状態の固形化は進行しづらく、感光したキラル剤Ａに応じて螺旋誘起力が変化する状態となる。

工程３は、酸素濃度１体積％以上の条件下にて実施される。なかでも、光学異方性層中において液晶化合物の配向状態が異なる領域が形成しやすい点で、酸素濃度は２体積％以上が好ましく、５体積％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００体積％が挙げられる。

工程３における光照射の照射強度は特に制限されず、キラル剤Ａの螺旋誘起力に基づいて適宜決定できる。工程３における光照射の照射量は特に制限されないが、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、３００ｍＪ／ｃｍ²以下が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ²以下がより好ましい。下限としては、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、５ｍＪ／ｃｍ²以上が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ²以上がより好ましい。
なお、工程３での光照射は、１５～７０℃（好ましくは、１５～５０℃）にて実施されることが好ましい。

光照射に使用される光は、キラル剤Ａが感光する光であればよい。つまり、光照射に使用される光は、キラル剤Ａの螺旋誘起力を変化させる活性光線または放射線であれば特に制限されず、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、紫外線、および、電子線が挙げられる。なかでも、紫外線が好ましい。

（工程４）
工程４は、工程３の後、組成物層に加熱処理を施す工程である。本工程を実施することにより、光照射が施された組成物層中のキラル剤Ａの螺旋誘起力が変化した領域において、液晶化合物の配向状態が変化する。
以下では、図面を用いて本工程の機構を説明する。

上述したように、図７に示した組成物層２０に対して工程３を実施すると、下側領域２０Ａにおいては液晶化合物の配向状態が固定されるのに対して、上側領域２０Ｂでは液晶化合物の重合は進行しづらく、液晶化合物の配向状態が固定されていない。また、上側領域２０Ｂにおいてはキラル剤Ａの螺旋誘起力が変化している。このようなキラル剤Ａの螺旋誘起力の変化が生じると、光照射前の状態と比較すると、上側領域２０Ｂにおいて液晶化合物を捩じる力が変化している。この点をより詳細に説明する。
上述したように、図７に示す組成物層２０にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きである。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じである。よって、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力は０である。
上記の態様を図９に示す。図９においては、縦軸が「キラル剤の螺旋誘起力（μｍ^-1）×キラル剤の濃度（質量％）」を表し、その値がゼロから離れるほど、螺旋誘起力が大きくなる。横軸は「光照射量（ｍＪ／ｃｍ^２）」を表す。
まず、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤Ａとキラル剤Ｂとの関係は、光照射量が０の時点に該当し、「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ^-1）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」の絶対値と、「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ^-1）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」の絶対値とが等しい状態に該当する。つまり、左巻きを誘起するキラル剤Ａと右巻きを誘起するキラル剤Ｂとの両者の螺旋誘起力は相殺されている。
このような状態の上側領域２０Ｂにおいて光照射が行われ、図９に示すように、光照射量によってキラル剤Ａの螺旋誘起力が減少する場合、図１０に示すように、上側領域２０Ｂにおけるキラル剤の加重平均螺旋誘起力は大きくなり、右巻きの螺旋誘起力が強くなる。つまり、液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、照射量が大きいほど、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向（＋）に螺旋誘起力が大きくなる。
そのため、このような加重平均螺旋誘起力の変化が生じている工程３後の組成物層２０に対して、加熱処理を施して液晶化合物の再配向を促すと、図１１に示すように、上側領域２０Ｂにおいては、組成物層２０の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って液晶化合物ＬＣが捩れ配向する。
一方で、上述したように、組成物層２０の下側領域２０Ａにおいては工程３の際に液晶化合物の重合が進行して液晶化合物の配向状態が固定されているため、液晶化合物の再配向は進行しない。
上記のように、工程４を実施することにより、組成物層の厚み方向に沿って、液晶化合物の配向状態が異なる領域が複数形成される。
上記液晶化合物ＬＣの捩れの程度は、使用されるキラル剤Ａの種類、および、工程３の露光量などによって適宜調整でき、後述する第２光学異方性層の捩れ角度を実現できる。

なお、上記図９および１０においては、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤を用いた態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤を用いてもよい。その場合、光照射によりキラル剤Ａの誘起する螺旋誘起力が大きくなり、キラル剤Ａの誘起する旋回方向に液晶化合物が捩れ配向することになる。
また、上記図９および１０においては、キラル剤Ａとキラル剤Ｂとを併用する態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、２種のキラル剤Ａを用いる態様であってもよい。具体的には、左巻きを誘起するキラル剤Ａ１と、右巻きを誘起するキラル剤Ａ２とを併用する態様であってもよい。キラル剤Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、螺旋誘起力が減少するキラル剤であってもよい。例えば、左巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤と、右巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤とを併用してもよい。

加熱処理の条件としては、使用される液晶化合物に応じて最適な条件が選択される。
なかでも、加熱温度としては、工程３の状態から加熱する温度であることが好ましく、３５～２５０℃の場合が多く、５０～１５０℃の場合がより多く、５０℃超１５０℃以下の場合がさらに多く、６０～１３０℃の場合が特に多い。
加熱時間としては、０．０１～６０分間の場合が多く、０．０３～５分間の場合がより多い。

また、光照射後の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は特に制限されないが、光照射後の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力と光照射前の加重平均螺旋誘起力との差の絶対値が、０．０５μｍ^-1以上が好ましく、０．０５～１０．０μｍ^-1がより好ましく、０．１～１０．０μｍ^-1がさらに好ましい。

（工程５）
工程５は、工程４の後、組成物層に対して硬化処理を施して、液晶化合物の配向状態を固定し、第１光学異方性層および第２光学異方性層を形成する工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物の配向状態が固定され、結果として所定の光学異方性層が形成される。

硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
光（例えば、紫外線）の照射量は特に制限されないが、一般的には、１００～８００ｍＪ／ｃｍ²程度が好ましい。

＜円偏光板＞
上述した光学フィルムは、偏光子と組み合わせて、円偏光板として使用してもよい。
円偏光板の一実施態様として、図１２に示すように、本発明の円偏光板１００は、偏光子２２と、光学フィルム１０ａと含む。偏光子２２は、光学フィルム１０ａの長尺支持体１２の第１光学異方性層１４ａ側とは反対側に配置されている。
偏光子の吸収軸と長尺支持体の長手方向とは、平行であることが好ましい。つまり、偏光子の吸収軸と長尺支持体の長手方向とのなす角度は、０～１０°が好ましい。
上述したように、偏光子の吸収軸は、通常、長手方向に位置しやすい。そのため、偏光子の吸収軸と長尺支持体の長手方向とが平行になるように両者を貼り合わせる際には、両者の長手方向が沿うようにロールトゥロールで連続的に両者を貼り合わせることにより、所望の円偏光板を作製できる。
なお、図１２では光学フィルム１０ａを使用しているが、上述した光学フィルム１０ｂを用いてもよい。

偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。

円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。
例えば、密着層を介して、光学フィルムおよび偏光子を貼り合わせる方法が挙げられる。

＜有機ＥＬ表示装置＞
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した光学フィルム（または円偏光板）を有する。通常、円偏光板は、有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ表示パネル上に設けられる。つまり、本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと、上述した円偏光板とを有する。
有機ＥＬ表示装置の一例としては、図１３に示すように、有機ＥＬ表示装置２００は、有機ＥＬ表示パネル２４、光学フィルム１０ａ、および、偏光子２２をこの順で有する。図１３に示すように、偏光子２２は最も外側に配置される。
なお、図１３では光学フィルム１０ａを使用しているが、上述した光学フィルム１０ｂを用いてもよい。

有機ＥＬ表示パネル２４は、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜支持体１および２の作製＞
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、セルロースアシレート溶液１を調製した。

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セルロースアシレート溶液１
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酢化度６０．７～６１．１％のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１－ブタノール（第３溶媒） １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記のレタデーション上昇剤（１６質量部）、メチレンクロライド（９２質量部）、および、メタノール（８質量部）を投入し、加熱しながら撹拌して、レタデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアシレート溶液１（４７４質量部）にレタデーション上昇剤溶液（２５質量部）を混合し、充分に撹拌してドープを調製した。レタデーション上昇剤の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、６．０質量部であった。

レタデーション上昇剤

得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上でのフィルムの膜面温度が４０℃となってから、バンド上からフィルムを剥ぎ取り、得られたフィルムを７０℃の温風で１分間乾燥し、さらに１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、セルロースアシレートフィルムを得た。
その際、得られるセルロースアシレートフィルムの膜厚を調整して、後述する支持体１および２を作製した。

＜支持体３および４の作製＞
全置換度２．９７（内訳：アセチル置換度０．４５、プロピオニル置換度２．５２）のセルロースアシレートを調製した。
具体的には、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を－２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類およびその量を調整することで、アシル基の種類およびその置換比を調整した。また、アシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。

上記で調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした。
ステンレス製溶解タンクに溶媒および添加剤を投入して、撹拌させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、さらに、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、混合溶液を得た。
なお、上記溶媒としては、ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）の混合溶媒を用いた。なお、混合溶媒の含水率は、０．２質量％以下であった。また、溶媒の使用量は、１００質量部であった。
また、上記添加剤としては、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部、および、二酸化ケイ素微粒子（粒径：２０ｎｍ、モース硬度：約７）０．２５質量部を用いた。
また、上記セルロースアシレートの使用量は３０質量部であった。

なお、撹拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０^４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ^２）の周速で撹拌するディゾルバータイプの偏芯撹拌軸、および、中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０^４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ^２）で撹拌する撹拌軸を用いた。膨潤は、偏芯撹拌軸を停止し、アンカー翼を有する撹拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。

上記で得られた混合溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍのろ紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にてろ過して、セルロースアシレート溶液２を得た。

上記セルロースアシレート溶液２を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１－３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。
そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。
次に、得られたフィルムを１１０℃で５分間乾燥し、さらに１４０℃で１０分間乾燥して、セルロースアシレートフィルムを得た。
なお、得られるセルロースアシレートフィルムの膜厚を調整して、後述する支持体３および４を作製した。

上記で作製した支持体１～４の特性を以下に示す。

＜実施例１＞
（長尺支持体の作製）
下記成分をミキシングタンクに投入し、撹拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

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コア層セルロースアシレートドープ
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アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
ポリエステルＡ １２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶媒） ６４質量部
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なお、ポリエステルＡは、特開２０１５－２２７９５６号公報の［表１］に記載のポリエステルＡを使用した。

上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

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マット剤溶液
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平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
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上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープとを、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に設けた外層セルロースアシレートドープとを、バンド流延機を用いて３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。
次いで、溶媒含有率が約２０質量％の状態でドライ上のフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルムを横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、長尺支持体に該当する厚み２０μｍのセルロースフィルムを作製した。
作製したセルロースフィルムにおけるコア層の厚みは１５μｍであり、コア層の両側に配置された外層の厚みはそれぞれ２．５μｍであった。

（第１光学異方性層および第２光学異方性層の形成）
上記作製したセルロースフィルムの表面にロールトゥロール方式で連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のセルロースフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対するラビング方向が－１４°になるように調節した。
なお、ラビング方向の角度は、後述する光学異方性層が積層される面側からセルロースフィルムを観察して、支持体の長手方向を基準の０°とし、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表す。

上記ラビング処理したセルロースフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（１）を塗布して、組成物層を形成した（工程１に該当）。
次に、得られた組成物層を８０℃で６０秒間加熱した（工程２に該当）。この加熱により組成物層の棒状液晶化合物が所定の方向に配向した。
その後、酸素を含む空気（酸素濃度：約２０体積％）下、３０℃にて、３６５ｎｍＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）使用して紫外線を組成物層に照射した（７０ｍＪ／ｃｍ²）（工程３に該当）。
続いて、得られた組成物層を８０℃で１０秒間加熱した（工程４に該当）。
その後、窒素パージを行って、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、８０℃にて、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して組成物層に紫外線照射し（５００ｍＪ／ｃｍ²）、液晶化合物の配向状態を固定した光学異方性層を形成した（工程５に該当）。このようにして光学フィルム（Ｆ１Ａ）を作製した。
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７）は３６５ｎｍの吸収はほとんどなく（モル吸光係数１４０）、吸収ピーク波長３０６ｎｍにおけるモル吸光係数は１８，６００であった。

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光学異方性層形成用組成物（１）
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下記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
下記の左捩れキラル剤（Ｌ１） ０．３２質量部
下記の右捩れキラル剤（Ｒ１） ０．１１質量部
下記の重合性モノマー（Ａ） ５質量部
下記の重合性モノマー（Ｂ） ５質量部
下記のポリマー（Ａ） ０．２５質量部
下記のポリマー（Ｂ） ０．１０質量部
酢酸ブチル ３２５質量部
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棒状液晶化合物（Ａ）（以下、化合物の混合物に該当し、数値（％）は各化合物の混合物中における含有量（質量％）を表す。）

左捩れキラル剤（Ｌ１）

右捩れキラル剤（Ｒ１）

重合性モノマー（Ａ）

重合性モノマー（Ｂ）

ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

ポリマー（Ｂ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

上記作製した光学フィルム（Ｆ１Ａ）をラビング方向と平行に切削し、偏光顕微鏡で光学異方性層を断面方向から観察した。光学異方性層の厚みは２．２μｍであり、光学異方性層の基板側の厚み１．１μｍの領域（第１光学異方性層に該当）はホモジニアス配向であり、光学異方性層の空気側（基板と反対側）の厚み１．１μｍの領域（第２光学異方性層に該当）は液晶化合物が捩れ配向していた。
第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１６８ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は０°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、基板に接する側が－１４°、第２光学異方性層に接する側が－１４°であった。
また、第２光学異方性層のΔｎｄは１６４ｎｍ、液晶化合物の捩れ角度は８２°であり、長尺長手方向に対する液晶化合物の配向軸角度は、第１光学異方性層に接する側が－１４°、空気側が－９６°であった。
なお、光学異方性層に含まれる液晶化合物の配向軸角度は、基板の長手方向を基準の０°として、光学異方性層の表面側から基板を観察し、時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。
また、液晶化合物の捩れ角度は、光学異方性層の表面側から基板を観察し、表面側（手前側）にある液晶化合物の配向軸方向を基準に、基板側（奥側）の液晶化合物の配向軸方向が時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

（偏光子の作製）
厚み８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒間浸漬して染色した。次に、得られたフィルムをホウ酸濃度４質量％のホウ酸水溶液中に６０秒間浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚み２０μｍの偏光子を得た。

（偏光子保護フィルムの作製）
市販のセルロースアシレート系フィルムのフジタックＴＧ４０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に得られたフィルムを１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に、得られたフィルムを１２０℃で十分に乾燥させて、表面を鹸化処理した偏光子保護フィルムを作製した。

（円偏光板の作製）
前述の偏光子保護フィルムの作製と同様に、上記作製した光学フィルム（Ｆ１Ａ）を鹸化処理し、光学フィルム（Ｆ１Ａ）に含まれる基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥロールで連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板（Ｐ１Ａ）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ１Ａ）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板（長尺支持体）、および、光学異方性層（第１光学異方性層、および、第２光学異方性層）をこの順で有していた。
なお、偏光子の吸収軸は円偏光板の長手方向と一致しており、偏光子の吸収軸に対する第１光学異方性層の面内遅相軸の回転角度は－１４°であり、偏光子の吸収軸に対する第２光学異方性層の第１光学異方性層側とは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は－９６°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、光学異方性層側から偏光子を観察して、基板の長手方向を基準の０°とし、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表してある。

（第３光学異方性層の作製）
上記のセルロースアシレートフィルムを基板として、光学異方性層形成用組成物（２）を、ギーサー塗布機を用いて塗布し、４０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、窒素をパージして、酸素濃度１００体積ｐｐｍとして、得られた組成物層に対して、４０℃にて、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を使用して紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向状態を固定して、ポジティブＣプレートを形成し、基板とポジティブＣプレートとを有する光学フィルム（Ｆ１Ｂ）を作製した。上記ポジティブＣプレートが、第３光学異方性層に該当する。
得られたポジティブＣプレートの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅは０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈは－６３ｎｍであった。

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光学異方性層形成用組成物（２）
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上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＢＡＳＦ社製） ２質量部
重合開始剤（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製） ４質量部
下記のオニウム塩化合物（Ａ） ２質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．３質量部
下記のポリマー（Ｃ） ０．４質量部
下記のポリマー（Ｄ） ５質量部
トルエン ６２１質量部
メチルエチルケトン ６９質量部
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オニウム塩化合物（Ａ）

ポリマー（Ｃ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

ポリマー（Ｄ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

（円偏光板の作製）
前述の円偏光板（Ｐ１Ａ）に含まれる光学異方性層の上に、感圧型粘着剤を貼り合せ、さらに、作製した光学フィルム（Ｆ１Ｂ）に含まれるポジティブＣプレートを貼り合せた後、光学フィルム（Ｆ１Ｂ）に含まれる基板を剥離して、長尺状の円偏光板（Ｐ１Ｂ）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ１Ｂ）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板（長尺支持体）、光学異方性層（第１光学異方性層および第２光学異方性層）、および、ポジティブＣプレート（第３光学異方性層）をこの順で有していた。

＜実施例２＞
（第１光学異方性層の形成）
実施例１で作製したラビング処理したセルロースフィルムを基板として、ギーサー塗布機を用いて、光学異方性層形成用組成物（３）を塗布して、組成物層を形成した。得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱処理を施した。次に、窒素環境下、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第１光学異方性層に該当する光学異方性層Ａを形成した。
光学異方性層Ａの厚みは、１．２μｍであった。また、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）は１６８ｎｍであった。

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光学異方性層形成用組成物（３）
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上記の棒状液晶化合物（Ａ） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製） ６質量部
上記の重合性モノマー（Ａ） ５質量部
上記の重合性モノマー（Ｂ） ５質量部
上記のポリマー（Ａ） ０．２５質量部
上記のポリマー（Ｂ） ０．１０質量部
酢酸ブチル ３２５質量部
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（第２光学異方性層の形成）
上記で作製した光学異方性層Ａにラビング処理を施すことなく、光学異方性層形成用組成物（４）を、上記作製した光学異方性層Ａ上にワイヤーバーで塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は５ｍ／ｍｉｎとした。その後、得られた組成物層に対して、溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、１１０℃の温風で２分間加熱した。続いて、窒素環境下、得られた組成物層に対して８０℃にてＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化して、第２光学異方性層に該当する光学異方性層Ｂを形成した。
光学異方性層Ｂの厚みは、１．１μｍであった。また、５５０ｎｍにおけるΔｎｄは１６４ｎｍであった。
なお、光学異方性層Ｂの光学異方性層Ａ側表面の面内遅相軸は、光学異方性層Ａの面内遅相軸と平行であった。また、光学異方性層Ｂ中の円盤状液晶化合物の捩れ角度は８２°であり、支持体の長手方向を基準の０°とすると、光学異方性層Ｂの光学異方性層Ａ側とは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は－９６°であった。つまり、円盤状液晶化合物は右回りに捩れ構造を形成する。このようにして光学フィルム（Ｆ２Ａ）を作製した。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、基板の長手方向を基準の０°として、光学異方性層が積層される面側から基板を観察し、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表してある。
また、円盤状液晶化合物の捩れ角度は、光学異方性層が積層される面側から基板を観察して、光学異方性層Ｂの光学異方性層Ａ側とは反対側の表面の面内遅相軸を基準に、基板側（奥側）の液晶化合物の配向軸方向が時計回り（右回り）の時を負、反時計回り（左回り）の時を正として表してある。

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光学異方性層形成用組成物（４）
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下記の円盤状液晶化合物１ ８０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ２０質量部
下記の配向膜界面配向剤１ ０．０５質量部
下記のキラル剤（ＦＭ１０５２４） ０．２７質量部
下記の含フッ素化合物Ａ ０．１質量部
下記の含フッ素化合物Ｂ ０．０５質量部
下記の含フッ素化合物Ｃ ０．２１質量部
下記の変性トリメチロールプロパントリアクリレート ５質量部
下記の光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
メチルエチルケトン ２００質量部
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円盤状液晶化合物１

円盤状液晶化合物２

配向膜界面配向剤１

キラル剤

含フッ素化合物Ａ

上記ａおよびｂは、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量（質量％）を表し、ａは９０質量％、ｂは１０質量％を表す。

含フッ素化合物Ｂ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は３２．５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は６７．５質量％であった。）

含フッ素化合物Ｃ（各繰り返し単位中の数値は全繰り返し単位に対する含有量（質量％）を表し、左側の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、真ん中の繰り返し単位の含有量は２５質量％で、右側の繰り返し単位の含有量は５０質量％であった。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

前述の円偏光板（Ｐ１Ａ）の作製と同様に、上記作製した光学フィルム（Ｆ２Ａ）を鹸化処理し、光学フィルム（Ｆ２Ａ）に含まれる基板面に、前述の偏光子および前述の偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板（Ｐ２Ａ）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ２Ａ）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板（長尺支持体）、光学異方性層Ａ（第１光学異方性層）、および、光学異方性層Ｂ（第２光学異方性層）をこの順で有していた。
なお、偏光子の吸収軸は円偏光板の長手方向と一致しており、偏光子の吸収軸に対する光学異方性層Ａの面内遅相軸の回転角度は－１４°であり、光学異方性層Ｂの光学異方性層Ａとは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は－９６°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、光学異方性層側から偏光子を観察して、基板の長手方向を基準の０°とし、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表してある。

（第３光学異方性層の作製）
下記の光学異方性層形成用組成物（５）を調製し、均一な溶液を得た。

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光学異方性層形成用組成物（５）
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円盤状液晶化合物１ ８０質量部
円盤状液晶化合物２ ２０質量部
円盤状液晶化合物５ ５．６質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ５．６質量部
含フッ素化合物Ｂ ０．２質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
トルエン １７０質量部
メチルエチルケトン ７３質量部
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円盤状液晶化合物５（重合性のトリフェニレン型ディスコティック液晶化合物）

支持体として、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタック ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を施すことなく使用した。
支持体の表面に上記光学異方性層形成用組成物（５）を塗布し、室温から１００℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、１００℃の乾燥ゾーンで組成物層をさらに約９０秒間加熱した。その後、６０℃に降温させてから、大気下で、得られたフィルムに対して３００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶ露光を行って重合反応を進行させ、液晶化合物の配向を固定して、第３光学異方性層に該当するネガティブＣプレートを形成して、基板とネガティブＣプレートとを有する光学フィルム（Ｆ２Ｂ）を得た。
ポジティブＣプレート中での円盤状液晶化合物の配向状態を観察すると、円盤状液晶化合物が欠陥なく水平配向していることが分かった。ネガティブＣプレートの厚みは２．０μｍ、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６９ｎｍであった。

（円偏光板の作製）
前述の円偏光板（Ｐ２Ａ）に含まれる光学異方性層Ｂの上に、感圧型粘着剤を貼り合せ、さらに、作製した光学フィルム（Ｆ２Ｂ）に含まれるネガティブＣプレートを貼り合せた後、光学フィルム（Ｆ２Ｂ）に含まれる基板を剥離して、長尺状の円偏光板（Ｐ２Ｂ）を作製した。つまり、円偏光板（Ｐ２Ｂ）は、偏光子保護フィルム、偏光子、基板（長尺支持体）、光学異方性層Ａ（第１光学異方性層）、光学異方性層Ｂ（第２光学異方性層）、および、ネガティブＣプレート（第３光学異方性層）をこの順で有していた。

＜比較例１＞
特許文献１の実施例５で使用されている支持体８の代わりに、上記支持体１を用いた以外は、特許文献１の実施例５と同様の手順に従って、円偏光板を作製した。
作製した円偏光板は、偏光子、光学異方性層Ｂ（第１光学異方性層）、光学異方性層Ａ（第２光学異方性層）、および、支持体１（第３光学異方性層）をこの順で有していた。各層の光学特性は、表２にまとめて示す。

＜比較例２＞
特許文献１の実施例６で使用されている支持体７の代わりに、上記支持体２を用いた以外は、特許文献１の実施例６と同様の手順に従って、円偏光板を作製した。
作製した円偏光板は、偏光膜、光学異方性層Ｂ（第１光学異方性層）、光学異方性層Ａ（第２光学異方性層）、および、支持体２（第３光学異方性層）をこの順で有していた。各層の光学特性は、表２にまとめて示す。

＜比較例３＞
特許文献１の実施例７で使用されている支持体４の代わりに、上記支持体３を用いた以外は、特許文献１の実施例７と同様の手順に従って、円偏光板を作製した。
作製した円偏光板は、偏光膜、光学異方性層Ｂ（第１光学異方性層）、光学異方性層Ａ（第２光学異方性層）、および、支持体３（第３光学異方性層）をこの順で有していた。各層の光学特性は、表２にまとめて示す。

＜比較例４＞
特許文献１の実施例８で使用されている支持体３の代わりに、上記支持体４を用いた以外は、特許文献１の実施例８と同様の手順に従って、円偏光板を作製した。
作製した円偏光板は、偏光膜、光学異方性層Ｂ（第１光学異方性層）、光学異方性層Ａ（第２光学異方性層）、および、支持体４（第３光学異方性層）をこの順で有していた。各層の光学特性は、表２にまとめて示す。

＜有機ＥＬ表示装置の作製および表示性能の評価＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬ表示パネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、円偏光板を剥離して、そこに実施例および比較例で作製した円偏光板を、それぞれ偏光子保護フィルムが外側に配置されるように貼り合せた。

（表示性能の評価）
（正面方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において正面方向より観察し、色味づきを下記の基準で評価した。結果を表２に示す。
４：色味づきが全く視認されない。（許容）
３：色味づきが視認されるものの、ごくわずか（許容）
２：色味づきがやや視認され、反射光もややあり、許容できない。
１：色味づきが視認され、反射光も多く、許容できない。

（斜め方向）
作製した有機ＥＬ表示装置に黒表示をして、明光下において、極角４５°から蛍光灯を映し込んで、全方位から反射光を観察した。色味変化の方位角依存性を下記の基準で評価した。結果を表２に示す。
４：色味差が全く視認されない。（許容）
３：色味差が視認されるものの、ごくわずか（許容）
２：色味差が視認されるが反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
１：色味差が視認され、反射光も多く、許容できない。

＜厚み評価＞
得られた円偏光板の厚みが５０μｍ未満の場合を「Ａ」、５０μｍ以上の場合を「Ｂ」とする。

＜連続生産性＞
円偏光板を製造する際に、ラビング処理をロールトゥロールで連続的に実施でき、偏光子の貼り合わせをロールトゥロールで連続的に実施できる場合を「Ａ」、少なくとも一方を実施できない場合を「Ｂ」とした。

表２中、「Ｒｔｈ（ｎｍ）」は波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションを、「Ｒｅ（ｎｍ）」は波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションを、「Δｎｄ」は波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の屈折率異方性Δｎと第２光学異方性層の厚みｄとの積を表す。
表２中、面内遅相軸方向は、光学異方性層側から偏光子を観察して、基板の長手方向を基準の０°とし、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表してある。
表２中、「ＣＬＣ」は棒状液晶化合物を、「ＤＬＣ」は円盤状液晶化合物を、「ＴＡＣ」はセルロースアシレートフィルムを、表す。
なお、比較例１～４における円偏光板においては、それぞれ支持体１～４が含まれる。表２において比較例１～４の円偏光板の構成を記載するに際して、上記支持体１～４を本発明の第３光学異方性層に対応させた積層順で、円偏光板の各層を記載する。

上記表に示すように、本発明の光学フィルムを所望の効果を奏した。

１０ａ、１０ｂ 光学フィルム
１２ 長尺支持体
１４Ａ 第１光学異方性層
１６Ａ 第２光学異方性層
１８ 第３光学異方性層
２０ 組成物層
２０Ａ 下側領域
２０Ｂ 上側領域
２２ 偏光子
２４ 有機ＥＬ表示パネル
１００ 円偏光板
２００ 有機ＥＬ表示装置

Claims (6)

1. 長尺支持体と、第１光学異方性層と、第２光学異方性層と、第３光学異方性層とをこの順に有し、
   前記長尺支持体の厚みが１０～４５μｍであり、
   前記第１光学異方性層は、棒状液晶化合物を用いて形成された層であり、
   前記第２光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を固定してなる層であり、
   前記第３光学異方性層は、液晶化合物を用いて形成された層であり、
   前記長尺支持体の長手方向と、前記第１光学異方性層の面内遅相軸とがなす角度が５～５０°であり、
   前記第１光学異方性層の面内遅相軸と、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸とは平行であり、
   前記第２光学異方性層における前記捩れ配向した液晶化合物の捩れ角度が９０±３０°であり、
   前記第３光学異方性層側から前記長尺支持体側に向かって観察した際に、前記長尺支持体の長手方向を基準として、前記第１光学異方性層の面内遅相軸が５～５０°時計回りに回転している場合、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸が時計回りに回転しており、
   前記第３光学異方性層側から前記長尺支持体側に向かって観察した際に、前記長尺支持体の長手方向を基準として、前記第１光学異方性層の面内遅相軸が５～５０°反時計回りに回転している場合、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側の表面での面内遅相軸を基準に、前記第２光学異方性層の前記第１光学異方性層側とは反対側の表面での面内遅相軸が反時計回りに回転しており、
   前記第１光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１４０～２２０ｎｍであり、
   波長５５０ｎｍで測定した前記第２光学異方性層の屈折率異方性Δｎと前記第２光学異方性層の厚みｄとの積Δｎｄの値が１４０～２２０ｎｍであり、
   前記第２光学異方性層の捩れ配向した液晶化合物が棒状液晶化合物である場合、前記第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、前記第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは－１２０～－２０ｎｍであり、
   前記第２光学異方性層の捩れ配向した液晶化合物が円盤状液晶化合物である場合、前記第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０～１０ｎｍであり、かつ、前記第３光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは２０～１２０ｎｍである、光学フィルム。
2. 前記長尺支持体と前記第１光学異方性層との間に実質的に配向膜が配置されていない、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記長尺支持体の長手方向と、前記第１光学異方性層の面内遅相軸とがなす角度が１０～２５°である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記第１光学異方性層が、ホモジニアス配向した棒状液晶化合物を固定してなる層である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、円偏光板。
6. 請求項５に記載の円偏光板を有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

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