JP2020189323A - レーザー加工装置の光軸調整方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態1に係るレーザー加工装置の光軸調整方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係るレーザー加工装置の光軸調整方法が行われるレーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。図2は、図1に示されたレーザー加工装置のレーザービーム照射ユニットの構成を模式的に示す図である。図3は、図2に示されたレーザービーム照射ユニットのミラーホルダーの構成例を示す斜視図である。図4は、実施形態1に係るレーザー加工装置の光軸調整方法の流れを示すフローチャートである。
図1に示されたレーザー加工装置1の加工対象である被加工物200は、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素などの基板201を有する円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハである。被加工物200は、図1に示すように、基板201の表面202に格子状に設定された分割予定ライン203と、分割予定ライン203によって区画された領域に形成されたデバイス204と、を有している。デバイス204は、例えば、IC(Integrated Circuit)、又はLSI(Large Scale Integration)等の集積回路、CCD(Charge Coupled Device)、又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサである。
レーザー加工装置1は、図1に示すように、被加工物200を保持面11で保持するチャックテーブル10と、レーザービーム照射ユニット20と、移動手段である移動ユニット30と、撮像ユニット90と、制御ユニット100とを備える。
実施形態1に係る光軸調整方法は、レーザー加工装置1においてレーザービーム照射ユニット20のレーザービーム21の光軸を調整する方法であって、レーザービーム照射ユニット20のミラー23や集光レンズ24等の各光学部品のメンテナンス方法でもある。光軸調整方法は、図4に示すように、位置検出ユニットセットステップST1と、位置検出ステップST2と、記憶ステップST3と、部品調整ステップST4と、光軸調整ステップST5とを備える。
図5は、図4に示されたレーザー加工装置の光軸調整方法の位置検出ユニットセットステップの概要を模式的に示す図である。位置検出ユニットセットステップST1は、各光学部品をメンテナンスする前に、レーザービーム21の位置を検出する位置検出ユニット70を予め定められた加工点に設置するステップである。
図6は、図4に示されたレーザー加工装置の光軸調整方法の位置検出ステップにおいて位置検出ユニットにより位置が検出されたレーザービームの一例を模式的に示す受光面の平面図である。位置検出ステップST2は、各光学部品にメンテナンス作業を施す前に、レーザー発振器22からレーザービーム21を発振し、加工点である保持面11の所定の位置に配設された位置検出ユニット70でレーザービーム21の位置を検出するステップである。
記憶ステップST3は、位置検出ステップで検出された受光面71内のレーザービーム21の位置を基準位置300(図6に示す)として記憶しておくステップである。実施形態1において、記憶ステップST3では、制御ユニット100が、検出した受光面71内のレーザービーム21の位置を基準位置300として記憶装置に記憶するとともに、位置検出ステップST2において位置付けられたチャックテーブル10即ち位置検出ユニット70の位置を記憶装置に記憶して、部品調整ステップST4に進む。
部品調整ステップST4は、記憶ステップST3後に、レーザービーム照射ユニット20の光学部品である複数のミラー23及び集光レンズ24のうち一つをレーザービーム照射ユニット20から取り外した後、取り外した光学部品を清掃又は交換等のメンテナンス作業を施して、再度、レーザービーム照射ユニット20に取り付けるステップである。実施形態1において、部品調整ステップST4では、オペレータがレーザービーム照射ユニット20の複数の光学部品のうち一つの光学部品を取り外してメンテナンス作業を施した後、再度、レーザービーム照射ユニット20に取り付けて、光軸調整ステップST5に進む。
図7は、図4に示されたレーザー加工装置の光軸調整方法の光軸調整ステップにおいて位置検出ユニットにより位置が検出されたレーザービームの一例を模式的に示す受光面の平面図である。光軸調整ステップST5は、一つの光学部品にメンテナンス作業を施した後に、レーザー発振器22からレーザービーム21を発振し、加工点である保持面11の所定の位置に配設された位置検出ユニット70でレーザービーム21の位置を検出するステップである。
本発明の実施形態1の変形例に係るレーザー加工装置の光軸調整方法を図面に基づいて説明する。図8は、実施形態1の変形例に係るレーザー加工装置の光軸調整方法が行われるレーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。なお、図8は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
11 保持面(加工点)
14 移動プレート(加工点)
20 レーザービーム照射ユニット
21 レーザービーム
22 レーザー発振器
23 ミラー(光学部品)
24 集光レンズ(光学部品)
26 ミラーホルダー(光学部品ホルダー)
27 レンズホルダー(光学部品ホルダー)
28,28−1 中心(光軸)
70 位置検出ユニット
261 調整機構
300 基準位置
ST2 位置検出ステップ
ST3 記憶ステップ
Claims (1)
- レーザー発振器と、
該レーザー発振器から出射されたレーザービームを被加工物を加工する加工点へと伝搬する複数の光学部品と、
該光学部品を保持し、該レーザービームの位置を調整する調整機構を有する光学部品ホルダーと、
を含むレーザービーム照射ユニットを備えたレーザー加工装置において、
該レーザービームの光軸を調整する光軸調整方法であって、
該レーザー発振器からレーザーを発振し、加工点に配設された位置検出ユニットで該レーザービームの位置を検出する位置検出ステップと、
該位置検出ステップで検出されたレーザービームの位置を基準位置として記憶しておく記憶ステップと、
を含み、
該レーザービームの位置が該基準位置からずれた際に、
該光学部品ホルダーの調整機構を調整して該レーザービームの位置を該基準位置に戻すことで、
該レーザービームの光軸を調整することを特徴とする、レーザー加工装置の光軸調整方法。
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