JP2020004825A - トレンチキャパシタ - Google Patents
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Abstract
Description
2,3 外部電極
10 基材
11 トレンチ
20 MIM構造体
30 バリア層
40 保護層
Claims (14)
- 上面に複数のトレンチが設けられた基材と、
前記複数のトレンチに埋め込まれるように前記基材に設けられたMIM構造体と、
を備え、
前記複数のトレンチは、第1トレンチと、前記複数のトレンチの深さ方向に直交する第1方向において前記第1トレンチに隣接している第2トレンチと、を含み、
前記基材は、前記第1トレンチと前記第2トレンチとを隔てる第1ウォールを有し、
前記第1ウォールは、前記第1方向及び前記深さ方向を含む断面において、その先端が鋭角に形成されている第1の部分を有する、
トレンチキャパシタ。 - 前記第1ウォールは、前記第1の部分において、前記先端の先端曲率半径が50nm以下となるように形成されている、
請求項1に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記第1ウォールの前記第1の部分は、
前記深さ方向に対して第1角度だけ傾斜している第1傾斜面と、
前記第1傾斜面と接続されており、前記深さ方向に対して第2角度だけ傾斜している第2傾斜面と、
を有する、
請求項1に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記第1ウォールは、前記第1傾斜面と前記第2傾斜面とが為す先端角度が2°〜240°となるように形成されている、
請求項3に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記第1ウォールの前記第1の部分とは異なる第2の部分は、前記深さ方向に対して前記第1角度だけ傾斜している第3傾斜面と、前記深さ方向に対して前記第2角度だけ傾斜している第4傾斜面と、前記第3傾斜面と前記第4傾斜面とを接続する第1ウォール上面と、を有する、
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記MIM構造体の上に設けられた保護層をさらに備え、
前記保護層には、平面視において前記第1の部分と重複する位置に第1貫通孔が設けられている、
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記第1貫通孔は、平面視において外部電極と重複しない位置に形成されている、
請求項6に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記MIM構造体は、第1誘電体層と前記第1誘電体層の下面に設けられた第1電極層と前記第1誘電体層の上面に設けられた第2電極層と、を有する、
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記MIM構造体は、前記第2電極層の上面に設けられた第2誘電体層と、前記第2誘電体層の上面に設けられた第3電極層と、をさらに有する、
請求項8に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記第2誘電体層及び前記第3電極層には、平面視において前記第1の部分と重複する位置に第2貫通孔が設けられている、
請求項9に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記MIM構造体と前記保護層との間に設けられたバリア層をさらに備える、
請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。 - 前記複数のトレンチは、第3トレンチと、前記第1方向において前記第3トレンチに隣接している第4トレンチと、を含み、
前記基材は、前記第3トレンチと前記第4トレンチとを隔てる第2ウォールを有し、
前記第2ウォールは、前記深さ方向に対して前記第1角度だけ傾斜している第5傾斜面と、前記深さ方向に対して前記第2角度だけ傾斜している第6傾斜面と、前記第4傾斜面と前記第5傾斜面とを接続する第2ウォール上面と、を有する、
請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタ。 - 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のトレンチキャパシタを備える回路基板。
- 請求項13に記載の回路基板を備える電子機器。
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