JP4952937B2 - 薄膜コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1及び図2は、それぞれ本発明による薄膜コンデンサの好適な一実施形態の概略構成を示す斜視図及び平面図であり、図3は図2におけるIII-III線に沿う断面図である。
Claims (4)
- トレンチが少なくとも一方面に形成された基体と、
前記基体の少なくとも一方面上に形成された、下部電極、誘電体膜及び上部電極を含む積層膜と、
前記上部電極及び/又は前記下部電極に形成された開口部と、
を備える薄膜コンデンサ。 - 前記トレンチが複数形成されており、
前記開口部は、前記複数のトレンチの間の領域に形成された、
請求項1記載の薄膜コンデンサ。 - 前記トレンチが複数形成されており且つ該複数のトレンチからなる所定のパターンを有するトレンチ群が、前記基体の少なくとも一方面に複数設けられており、
前記開口部が、前記複数のトレンチ群の間の領域における前記上部電極及び/又は前記下部電極に形成された、
請求項1記載の薄膜コンデンサ。 - 基体の少なくとも一方面にトレンチを形成する工程と、
前記基体の少なくとも一方面上に、下部電極、誘電体膜及び上部電極を含む積層膜を形成する工程と、
を有し、
前記積層膜を形成する工程においては、前記下部電極及び/又は前記上部電極に開口部を形成する、
薄膜コンデンサの製造方法。
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