JP2018087338A - 金属カルベンオレフィンメタセシス2種の触媒組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2013年2月27日出願の米国仮特許出願第61/770,284号、及び2013年3月15日出願の米国仮特許出願第61/799,827号の利益を主張するものであり、それぞれの内容は、参照によって本明細書に組み込まれる。
本発明は、オレフィンメタセシス触媒、及びオレフィンメタセシス反応の制御方法に関する。より具体的には、本発明は、開環メタセシス重合(ROMP)反応を触媒し、制御するための方法及び組成物、並びにROMPを介するポリマー物品の製造に関する。本発明のメタセシス反応を介して生成されたポリマー生成物は、広範な材料及び複合用途に利用することができる。本発明は、触媒作用、有機合成、並びにポリマー及び材料の化学及び製造の分野において実用性がある。
特定の反応物、置換基、触媒、触媒組成物、樹脂組成物、反応条件等は変わり得るので、別段指定されない限り、本発明はこれらに限定されない。また、本明細書で使用される用語法は、単に特定の実施形態を説明する目的のものであり、限定的であると解釈されるべきでないと理解される。
一般に、本発明と共に使用するための金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、任意の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒から選択することができる。好ましくは、本発明と共に使用するための金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、本明細書に開示のルテニウム又はオスミウム金属カルベンオレフィンメタセシス触媒のいずれかから選択することができる。
本発明の触媒組成物に使用するための個々の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を選択する場合、典型的に、オレフィンメタセシス反応(例えば、環状オレフィンのROMP)において類似していない活性/挙動を有する個々の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が選択される。しかし、本発明の触媒組成物に使用するための個々の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が選択され得る前に、個々の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、まず、同一条件下でオレフィンメタセシス反応(例えば、環状オレフィンのROMP)におけるそれらの活性/挙動に基づいて、異なる群に分類されなければならない。
本発明と共に使用できる本明細書に開示の樹脂組成物は、1つ又は複数の環状オレフィンを含む。一般に、本明細書に開示の任意のメタセシス反応に適した環状オレフィンを使用することができる。このような環状オレフィンは、任意選択により置換されており、任意選択によりヘテロ原子を含有する、一不飽和、二不飽和又は多不飽和C5〜C24炭化水素であり得、これは単環式、二環式又は多環式であってもよい。環状オレフィンは、一般に、個々に又はROMP環状オレフィン組成物の一部としてROMP反応に関与することができるという条件で、歪みを有する又は歪みを有していないいかなる環状オレフィンであってもよい。シクロヘキセンなどの歪みを有していない特定の環状オレフィンは、一般に、これら自体、ROMP反応を受けないと理解されているが、それにも関わらず、このような歪みを有していない環状オレフィンは、適切な環境下では、ROMPに対して活性になり得る。例えば、歪みを有していない環状オレフィンは、ROMP組成物にコモノマーとして存在する場合、ROMPに対して活性であり得る。したがって、用語「歪みを有していない環状オレフィン」は、本明細書で使用される場合、当業者に理解され得る通り、歪みを有していない環状オレフィンがROMPに対して活性であるという条件で、いかなる条件下又はいかなるROMP組成物においてもROMP反応を受け得るような、歪みを有していない環状オレフィンを指すことを意図する。
式中、J、RA1及びRA2は、以下の通りである:
RA1及びRA2は、独立に、水素、ヒドロカルビル(例えば、C1〜C20アルキル、C5〜C20アリール、C5〜C30アラルキル又はC5〜C30アルカリール)、置換ヒドロカルビル(例えば、置換C1〜C20アルキル、C5〜C20アリール、C5〜C30アラルキル又はC5〜C30アルカリール)、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル(例えば、C1〜C20ヘテロアルキル、C5〜C20ヘテロアリール、ヘテロ原子含有C5〜C30アラルキル、又はヘテロ原子含有C5〜C30アルカリール)、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル(例えば、置換C1〜C20ヘテロアルキル、C5〜C20ヘテロアリール、ヘテロ原子含有C5〜C30アラルキル、又はヘテロ原子含有C5〜C30アルカリール)からなる群から選択され、置換ヒドロカルビル又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルである場合、置換基は、ホスホナト、ホスホリル、ホスファニル、ホスフィノ、スルホナト、C1〜C20アルキルスルファニル、C5〜C20アリールスルファニル、C1〜C20アルキルスルホニル、C5〜C20アリールスルホニル、C1〜C20アルキルスルフィニル、C5〜C20アリールスルフィニル、スルホンアミド、アミノ、アミド、イミノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドロキシル、C1〜C20アルコキシ、C5〜C20アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C5〜C20アリールオキシカルボニル、カルボキシル、カルボキシラト、メルカプト、ホルミル、C1〜C20チオエステル、シアノ、シアナト、チオシアナト、イソシアナート、チオイソシアナート、カルバモイル、エポキシ、スチレニル、シリル、シリルオキシ、シラニル、シロキサザニル、ボロナト、ボリル、又はハロゲン又は金属含有若しくは半金属含有基(金属は、例えばSn又はGeであり得る)などの官能基(「Fn」)であってもよい。RA1及びRA2は、それ自体が前述の基の1つであってもよく、したがって、Fn部分は、構造内に示されているオレフィンの炭素原子に直接的に結合している。しかし、後者の場合、官能基は、一般に、1つ若しくは複数の孤立電子対を含有するヘテロ原子、例えば酸素、硫黄、窒素若しくはリン原子を介して、又は電子に富んだ金属若しくは半金属、例えばGe、Sn、As、Sb、Se、Te等を介しては、オレフィンの炭素に直接的に結合しない。このような官能基を用いると、普通は、介在する連結Z*が存在し、したがって、RA1及び/又はRA2は、構造−(Z*)n−Fnを有する(nは1であり、Fnは官能基であり、Z*は、ヒドロカルビレン連結基、例えばアルキレン、置換アルキレン、ヘテロアルキレン、置換ヘテロアルケン、アリーレン、置換アリーレン、ヘテロアリーレン、又は置換ヘテロアリーレン連結である)。
Jは、飽和若しくは不飽和のヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン連結であり、Jが、置換ヒドロカルビレン又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンである場合、置換基は、1つ又は複数の−(Z*)n−Fn基(nは、0又は1であり、Fn及びZ*は、既に定義されている通りである)を含むことができる。さらに、J内の環の炭素(又は他の)原子に結合している2つ以上の置換基は、連結して、二環式又は多環式オレフィンを形成することができる。Jは、一般に、単環式オレフィンでは、およそ5〜14個の範囲の環原子、典型的に5〜8個の範囲の環原子を含有し、二環式及び多環式オレフィンでは、各環は、一般に4〜8個、典型的に5〜7個の環原子を含有する。
式中、bは、一般に、必ずではないが、1〜10、典型的に1〜5の範囲の整数であり、RA1及びRA2は、構造(A)について先に定義されている通りであり、RB1、RB2、RB3、RB4、RB5及びRB6は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル及び−(Z*)n−Fn(n、Z*及びFnは、既に定義されている通りである)からなる群から選択され、RB1〜RB6部分のいずれかが、置換ヒドロカルビル又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルである場合、置換基は、1つ又は複数の−(Z*)n−Fn基を含むことができる。したがって、RB1、RB2、RB3、RB4、RB5及びRB6は、例えば、水素、ヒドロキシル、C1〜C20アルキル、C5〜C20アリール、C1〜C20アルコキシ、C5〜C20アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C5〜C20アリールオキシカルボニル、アミノ、アミド、ニトロ等であり得る。さらに、RB1、RB2、RB3、RB4、RB5及びRB6部分のいずれかは、他のRB1、RB2、RB3、RB4、RB5及びRB6部分のいずれかに連結して、4〜30個の環炭素原子を含有する置換若しくは非置換脂環式基、又は6〜18個の環炭素原子を含有する置換若しくは非置換アリール基、又はこれらの組合せを提供することができ、連結は、ヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。脂環式基は、単環式、二環式又は多環式であってもよい。環式基は、不飽和である場合、一不飽和又は多不飽和を含有することができ、一不飽和の環式基が好ましい。環は、置換されている場合、一置換又は多置換を含有し、置換基は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−(Z*)n−Fn(nは、0又は1であり、Z*及びFnは、既に定義されている通りであり、官能基(Fn)は先に提示されている)から選択される。
式中、c及びdは、独立に、1〜約8、典型的に2〜4の範囲の整数、好ましくは2(したがって、反応物はシクロオクタジエンである)であり、RA1及びRA2は、構造(A)について先に定義されている通りであり、RC1、RC2、RC3、RC4、RC5及びRC6は、RB1〜RB6について定義されている。この場合、RC3及びRC4は非水素置換基であることが好ましく、この場合、第2のオレフィン部分は四置換されている。単環式ジエン反応物の例として、1,3−シクロペンタジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,4−シクロヘキサジエン、5−エチル−1,3−シクロヘキサジエン、1,3−シクロヘプタジエン、シクロヘキサジエン、1,5−シクロオクタジエン、1,3−シクロオクタジエン、及びこれらの置換類似体が挙げられるが、これらに限定されない。トリエン反応物は、ジエン構造(C)に類似しており、一般に、任意の2つのオレフィンセグメントの間に少なくとも1つのメチレン連結を含有する。
式中、RA1及びRA2は、構造(A)について先に定義されている通りであり、RD1、RD2、RD3及びRD4は、RB1〜RB6について定義されている通りであり、eは、1〜8(典型的に2〜4)の範囲の整数であり、fは、一般に1又は2であり、Tは、低級アルキレン又はアルケニレン(一般に、置換又は非置換のメチル又はエチル)、CHRG1、C(RG1)2、O、S、N−RG1、P−RG1、O=P−RG1、Si(RG1)2、B−RG1、又はAs−RG1(RG1は、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、アルカリール、アラルキル、又はアルコキシである)である。さらに、RD1、RD2、RD3及びRD4部分のいずれかは、他のRD1、RD2、RD3及びRD4部分のいずれかに連結して、4〜30個の環炭素原子を含有する置換若しくは非置換脂環式基、又は6〜18個の環炭素原子を含有する置換若しくは非置換アリール基、又はこれらの組合せを提供することができ、連結は、ヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。環式基は、単環式、二環式又は多環式であってもよい。環式基は、不飽和である場合、一不飽和又は多不飽和を含有することができ、一不飽和の環式基が好ましい。環は、置換されている場合、一置換又は多置換を含有し、置換基は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−(Z*)n−Fn(nは、0又は1であり、Z*及びFnは、既に定義されている通りであり、官能基(Fn)は先に提示されている)から選択される。
式中、RA1及びRA2は、構造(A)について先に定義されている通りであり、Tは、構造(D)について先に定義されている通りであり、RE1、RE2、RE3、RE4、RE5、RE6、RE7及びRE8は、RB1〜RB6について定義されている通りであり、「a」は、単結合又は二重結合を表し、fは、一般に1又は2であり、「g」は、0〜5の整数であり、「a」が二重結合である場合、RE5、RE6の1つ及びRE7、RE8の1つは、存在しない。
式中、RF1、RF2、RF3及びRF4は、RB1〜RB6について定義されている通りであり、「a」は、単結合又は二重結合を表し、「g」は、0〜5の整数であり、「a」が二重結合である場合、RF1、RF2の1つ及びRF3、RF4の1つは、存在しない。
式中、RF1〜RF4は、構造(F)について既に定義されている通りである。
式中、「g」は、0〜5の整数であり、RF1〜RF4は、構造(F)について既に定義されている通りである。
式中、「g」は、0〜5の整数であり、RF1〜RF4は、構造(F)について既に定義されている通りである。
本発明で使用できる本明細書に開示の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、好ましくは、式(I)の構造を有する第8族遷移金属錯体である
式中、
Mは、第8族遷移金属であり、
L1、L2及びL3は、中性電子供与体配位子であり、
nは、0又は1であり、したがってL3は存在しても存在しなくてもよく、
mは、0、1又は2であり、
kは、0又は1であり、
X1及びX2は、アニオン性配位子であり、
R1及びR2は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の2つ以上は、一緒になって、1つ又は複数の環式基を形成することができ、さらにX1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい。
したがって、錯体は、式(III)の構造を有することができる
式中、M、m、n、X1、X2、L2、L3、R1及びR2は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第1の群について定義されている通りであり、残りの置換基は、以下の通りである;
X及びYは、典型的に、N、O、S及びPから選択されるヘテロ原子である。O及びSは二価なので、XがO又はSである場合、pは必然的に0であり、YがO又はSである場合、qは必然的に0であり、kは0又は1である。しかし、XがN又はPである場合、pは1であり、YがN又はPである場合、qは1である。好ましい一実施形態では、X及びYの両方は、Nであり、
Q1、Q2、Q3及びQ4は、リンカー、例えばヒドロカルビレン(置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、例えば置換されている、及び/又はヘテロ原子含有アルキレンを含む)又は−(CO)−であり、w、x、y及びzは、独立に、0又は1であり、このことは、各リンカーが任意選択であることを意味する。好ましくは、w、x、y及びzは、すべて0である。さらに、Q1、Q2、Q3及びQ4内の隣接する原子上の2つ以上の置換基は、連結して、追加の環式基を形成することができ、
R3、R3A、R4及びR4Aは、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルから選択される。さらに、X及びYは、独立に、炭素及び前述のヘテロ原子の1つから選択することができ、好ましくはX又はYのわずか一方が炭素である。また、L2及びL3は、一緒になって、単一の二価の(bindentate)電子供与性の複素環式配位子を形成することができる。さらに、R1及びR2は、一緒になって、インデニリデン部分を形成することができる。さらに、X1、X2、L2、L3、X及びYは、ホウ素又はカルボキシラートにさらに配位され得る。
式中、R3及びR4は、先の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第2の群について定義されている通りであり、好ましくはR3及びR4の少なくとも1つ、より好ましくはR3及びR4の両方は、1〜約5個の環の脂環式又は芳香族であり、任意選択により1つ又は複数のヘテロ原子及び/又は置換基を含有する。Qは、リンカー、典型的に置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンリンカーを含むヒドロカルビレンリンカーであり、Q内の隣接する原子上の2つ以上の置換基はまた、連結して、追加の環式構造を形成することができ、この環式構造は、同様に置換されて、2〜約5個の環式基の縮合多環式構造を提供することができる。Qは、しばしば、必ずではないが、2つの原子による連結又は3つの原子による連結である。
が挙げられるが、これらに限定されない[式中、RW1、RW2、RW3、RW4は、独立に、水素、非置換ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、又はヘテロ原子含有ヒドロカルビルであり、RW3及びRW4の一方又は両方は、独立に、ハロゲン、ニトロ、アミド、カルボキシル、アルコキシ、アリールオキシ、スルホニル、カルボニル、チオ、又はニトロソ基から選択され得る]。
式中、R15、R16、R17及びR18は、ヒドロカルビル(例えば、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C5〜C24アリール、C6〜C24アルカリール、又はC6〜C24アラルキル)、置換ヒドロカルビル(例えば、置換C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C5〜C24アリール、C6〜C24アルカリール、又はC6〜C24アラルキル)、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル(例えば、C1〜C20ヘテロアルキル、C5〜C24ヘテロアリール、ヘテロ原子含有C6〜C24アラルキル、又はヘテロ原子含有C6〜C24アルカリール)、若しくは置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル(例えば、置換C1〜C20ヘテロアルキル、C5〜C24ヘテロアリール、ヘテロ原子含有C6〜C24アラルキル、又はヘテロ原子含有C6〜C24アルカリール)であり、又は(1)R15及びR16、(2)R17及びR18、(3)R16及びR17、若しくは(4)R15及びR16と、R17及びR18の両方は、一緒になって、環、すなわちN−複素環を形成することができる。このような場合の好ましい環式基は、5員及び6員環、典型的に芳香環である。
式中、
Mは、第8族遷移金属、特にRu若しくはOsであり、又はより具体的には、Ruであり、
X1、X2及びL1は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第1及び第2の群について本明細書で既に定義されている通りであり、
Yは、N、O、S及びPから選択されるヘテロ原子であり、好ましくは、Yは、O又はNであり、
R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、ペルフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、ナイトラート、シアノ、イソシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスファート、ボラート、又は−A−Fnからなる群から選択され、ここで「A」及びFnは、先に定義されており、Y、Z、R5、R6、R7及びR8の任意の組合せが連結して、1つ又は複数の環式基を形成することができ、
nは、0、1又は2であり、したがって、二価のヘテロ原子O又はSでは、nは1であり、三価のヘテロ原子N又はPでは、nは2であり、
Zは、水素、アルキル、アリール、官能化アルキル、官能化アリールから選択される基であり、ここで官能基(単数又は複数)は、独立に、アルコキシ、アリールオキシ、ハロゲン、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、ニトラート、シアノ、イソシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスファート、又はボラート;メチル、イソプロピル、sec−ブチル、t−ブチル、ネオペンチル、ベンジル、フェニル及びトリメチルシリルの1つ又は複数であり得、X1、X2、L1,Y、Z、R5、R6、R7及びR8の任意の1つ又は複数の組合せは、連結して担体になることができる。さらに、R5、R6、R7、R8及びZは、独立に、チオイソシアナート、シアナト又はチオシアナトであり得る。
が挙げられ、式中、L1、X1、X2及びMは、触媒の他の群のいずれかについて記載されている通りである。適切なキレート化カルベン及びカルベン前駆体は、Pedersonら(両方の開示が参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第7,026,495号及び同第6,620,955号)及びHoveydaら(両方の開示が参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第6,921,735号及び国際公開第02/14376号)によってさらに説明されている。
が挙げられる。
形式的には+2の酸化状態にあり、電子数が16であり、五配位であり、一般式(IX)を有し、金属中心を含有している中性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、
形式的には+2の酸化状態にあり、電子数が18であり、六配位であり、一般式(X)を有し、金属中心を含有している中性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、
形式的には+2の酸化状態にあり、電子数が14であり、四配位であり、一般式(XI)を有し、金属中心を含有しているカチオン性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、
形式的には+2の酸化状態にあり、電子数が14又は16であり、それぞれ四配位又は五配位であり、一般式(XII)を有し、金属中心を含有しているカチオン性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体
[式中、
M、X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2は、既に定義された金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の4つの群のいずれかについて定義されている通りであり、
r及びsは、独立に、0又は1であり、
tは、0〜5の範囲の整数であり、
kは、0〜1の範囲の整数であり、
Yは、任意の非配位アニオン(例えば、ハロゲン化物イオン、BF4 −等)であり、
Z1及びZ2は、独立に、−O−、−S−、−NR2−、−PR2−、−P(=O)R2−、−P(OR2)−、−P(=O)(OR2)−、−C(=O)−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−OC(=O)O−、−S(=O)−、−S(=O)2−、並びに任意選択により置換されている及び/又は任意選択によりヘテロ原子を含有するC1〜C20ヒドロカルビレン連結から選択され、
Z3は、−P(R2)3 +又は−N(R2)3 +などの任意のカチオン部分であり、
X1、X2、L1、L2、L3、Z1、Z2、Z3、R1及びR2の任意の2つ以上は、一緒になって、環式基、例えば多座配位子を形成することができ、X1、X2、L1、L2、L3、Z1、Z2、Z3、R1及びR2の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]
が挙げられるが、これらに限定されない。
式中、Mは、第8族遷移金属、特にルテニウム若しくはオスミウム、又はより具体的には、ルテニウムであり、
X1、X2、L1及びL2は、先に定義されている金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第1及び第2群について定義されている通りであり、
RG1、RG2、RG3、RG4、RG5及びRG6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、ペルフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、ニトラート、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナト、チオシアナト、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスファート、ボラート又は−A−Fnからなる群から選択され、ここで「A」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される二価の炭化水素部分であり、アルキレン及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は非置換であってもよく、アリールアルキレンのアリール部分は、置換又は非置換であってもよく、ヘテロ原子及び/又は官能基は、アルキレン及びアリールアルキレン基のアリール又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Fnは、官能基であり、又はRG1、RG2、RG3、RG4、RG5及びRG6の任意の1つ若しくは複数は、一緒になって連結して、環式基を形成することができ、又はRG1、RG2、RG3、RG4、RG5及びRG6の任意の1つ若しくは複数は、担体に結合していてもよい。
式中、M、X1、X2、L1及びL2は、式XIIIの第8族遷移金属錯体について先に定義されている通りであり、
RG7、RG8、RG9、RG10、RG11、RG12、RG13、RG14、RG15及びRG16は、式XIIIの第8族遷移金属錯体のRG1、RG2、RG3、RG4、RG5及びRG6について先に定義されている通りであり、又はRG7、RG8、RG9、RG10、RG11、RG12、RG13、RG14、RG15及びRG16の任意の1つ若しくは複数は、一緒になって連結して、環式基を形成することができ、又はRG7、RG8、RG9、RG10、RG11、RG12、RG13、RG14、RG15及びRG16の任意の1つ若しくは複数は、担体に結合していてもよい。
式中、M、X1、X2、L1及びL2は、式XIIIの第8族遷移金属錯体について先に定義されている通りである。
式中、Mは、第8族遷移金属、特にルテニウム若しくはオスミウム、又はより具体的には、ルテニウムであり、
X1及びL1は、先に定義されている金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第1及び第2の群について定義されている通りであり、
Zは、酸素、硫黄、セレン、NRJ11、PRJ11、AsRJ11及びSbRJ11からなる群から選択され、
RJ1、RJ2、RJ3、RJ4、RJ5、RJ6、RJ7、RJ8、RJ9、RJ10及びRJ11は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、ペルフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、ニトラート、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナト、チオシアナト、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスファート、ボラート又は−A−Fnからなる群から選択され、ここで「A」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される二価の炭化水素部分であり、アルキレン及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は非置換であってもよく、アリールアルキレンのアリール部分は、置換又は非置換であってもよく、ヘテロ原子及び/又は官能基は、アルキレン及びアリールアルキレン基のアリール又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Fnは、官能基であり、又はRJ1、RJ2、RJ3、RJ4、RJ5、RJ6、RJ7、RJ8、RJ9、RJ10及びRJ11の任意の1つ若しくは複数は、一緒になって連結して、環式基を形成することができ、又はRJ1、RJ2、RJ3、RJ4、RJ5、RJ6、RJ7、RJ8、RJ9、RJ10及びRJ11の任意の1つ若しくは複数は、担体に結合していてもよい。
式中、M、X1、L1、Z、RJ7、RJ8、RJ9、RJ10及びRJ11は、式XVIの第8族遷移金属錯体について先に定義されている通りであり、
RJ12、RJ13、RJ14、RJ15、RJ16、RJ17、RJ18、RJ19、RJ20及びRJ21は、式XVIの第8族遷移金属錯体のRJ1、RJ2、RJ3、RJ4、RJ5及びRJ6について先に定義されている通りであり、又はRJ7、RJ8、RJ9、RJ10、RJ11、RJ12、RJ13、RJ14、RJ15、RJ16、RJ17、RJ18、RJ19、RJ20及びRJ21の任意の1つ若しくは複数は、一緒になって連結して、環式基を形成することができ、又はRJ7、RJ8、RJ9、RJ10、RJ11、RJ12、RJ13、RJ14、RJ15、RJ16、RJ17、RJ18、RJ19、RJ20及びRJ21の任意の1つ若しくは複数は、担体に結合していてもよい。
式中、M、X1、L1、Z、RJ7、RJ8、RJ9、RJ10及びRJ11は、式(XVI)の第8族遷移金属錯体について先に定義されている通りである。
式中、Mは、第8族遷移金属、特にルテニウム若しくはオスミウム、又はより具体的には、ルテニウムであり、
X1、L1、R1及びR2は、先に定義されている金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第1及び第2の群について定義されている通りであり、
Zは、酸素、硫黄、セレン、NRK5、PRK5、AsRK5及びSbRK5からなる群から選択され、
mは、0、1又は2であり、
RK1、RK2、RK3、RK4及びRK5は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、ペルフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、ニトラート、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナト、チオシアナト、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスファート、ボラート又は−A−Fnからなる群から選択され、ここで「A」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される二価の炭化水素部分であり、アルキレン及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は非置換であってもよく、アリールアルキレンのアリール部分は、置換又は非置換であってもよく、ヘテロ原子及び/又は官能基は、アルキレン及びアリールアルキレン基のアリール又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Fnは、官能基であり、又はRK1、RK2、RK3、RK4及びRK5の任意の1つ若しくは複数は、一緒になって連結して、環式基を形成することができ、又はRK1、RK2、RK3、RK4及びRK5の任意の1つ若しくは複数は、担体に結合していてもよい。
[式中、
Mは、第8族遷移金属であり、
L1、L2及びL3は、中性電子供与体配位子であり、
nは、0又は1であり、
mは、0、1又は2であり、
kは、0又は1であり、
X1及びX2は、アニオン性配位子であり、
R1及びR2は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の2つ以上は、一緒になって、1つ又は複数の環式基を形成することができ、さらに、X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]、
及び式(VII)
[式中、
Mは、第8族遷移金属であり、
L1は、中性電子供与体配位子であり、
X1及びX2は、アニオン性配位子であり、
Yは、O又はNから選択されるヘテロ原子であり、
R5、R6、R7及びR8は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
nは、0、1又は2であり、
Zは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
Y、Z、R5、R6、R7及びR8の任意の組合せは、連結して、1つ又は複数の環式基を形成することができ、さらに、X1、X2、L1、Y、Z、R5、R6、R7及びR8の任意の組合せは、担体に結合していてもよい]
の構造を有している。
[式中、
Mは、ルテニウムであり、
nは、0であり、
mは、0であり、
kは、1であり、
L1及びL2は、独立に、トリ−n−ブチルホスフィン(Pn−Bu3)、トリシクロペンチルホスフィン(PCp3)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)、トリイソプロピルホスフィン(P−i−Pr3)、トリフェニルホスフィン(PPh3)、メチルジフェニルホスフィン(PMePh2)、ジメチルフェニルホスフィン(PMe2Ph)、及びジエチルフェニルホスフィン(PEt2Ph)からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、又はL1は、1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−イミダゾリジニリデン、1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)イミダゾール−2−イリデン、1,3−ビス(2,6−ジ−イソプロピルフェニル)−2−イミダゾリジニリデン、及び1,3−ビス(2,6−ジ−イソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデンからなる群から選択されるN−複素環式カルベンであり、L2は、トリ−n−ブチルホスフィン(Pn−Bu3)、トリシクロペンチルホスフィン(PCp3)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)、トリイソプロピルホスフィン(P−i−Pr3)、トリフェニルホスフィン(PPh3)、メチルジフェニルホスフィン(PMePh2)、ジメチルフェニルホスフィン(PMe2Ph)、及びジエチルフェニルホスフィン(PEt2Ph)からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
X1及びX2は、塩化物であり、
R1は、水素であり、R2は、フェニル若しくは−CH=C(CH3)2若しくはチエニルであり、又はR1及びR2は、一緒になって、3−フェニル−1H−インデンを形成する]
及び式(VII)
[式中、
Mは、ルテニウムであり、
L1は、トリ−n−ブチルホスフィン(Pn−Bu3)、トリシクロペンチルホスフィン(PCp3)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)、トリイソプロピルホスフィン(P−i−Pr3)、トリフェニルホスフィン(PPh3)、メチルジフェニルホスフィン(PMePh2)、ジメチルフェニルホスフィン(PMe2Ph)、及びジエチルフェニルホスフィン(PEt2Ph)からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、又はL1は、1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−イミダゾリジニリデン、1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)イミダゾール−2−イリデン、1,3−ビス(2,6−ジ−イソプロピルフェニル)−2−イミダゾリジニリデン、及び1,3−ビス(2,6−ジ−イソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデンからなる群から選択されるN−複素環式カルベンであり、
X1及びX2は、塩化物であり、
Yは、酸素であり、
R5、R6、R7及びR8は、それぞれ水素であり、
nは、1であり、
Zは、イソプロピルである]
の構造を有している。
本明細書に開示されている本発明に使用することができる接着促進剤は、一般に、少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物(例えば、メチレンジフェニルジイソシアナート及びヘキサメチレンジイソシアナートなど)である。接着促進剤は、ジイソシアナート、トリイソシアナート又はポリイソシアナート(すなわち、4つ以上のイソシアナート基を含有する)であり得る。接着促進剤は、少なくとも1つのジイソシアナート、トリイソシアナート又はポリイソシアナートの混合物である。本発明のより特定的な態様において、接着促進剤は、ジイソシアナート化合物若しくはジイソシアナート化合物の混合物を含む又はそれらに限定される。
ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物は、典型的には、ヒドロキシル、アミン、チオール、リン又はシラン官能基と共に、2〜20個の炭素を含有する。本明細書に開示されている本発明に使用することができるヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物は、一般に、官能基を含有する少なくとも1個のヘテロ原子及び少なくとも1つのメタセシス活性オレフィンを含有する化合物であり、以下の一般構造のものである。
(OM)−(Q*)n−(X*)−H
式中、OM、Q*及びX*は以下のとおりである。
OMは、環状オレフィン及び非環状オレフィンから選択されるメタセシス活性オレフィンフラグメントであり、炭素−炭素二重結合は、典型的には、四置換されておらず(例えば、少なくとも1つの置換基は、水素である);
Q*は、例えばヒドロカルビレン(例えば、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、並びに置換及び/若しくはヘテロ原子含有アルキレンなどの置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンを含む)又は−(CO)−基などの、任意の連結基(例えば、n=0又は1)であり;
X*は、N(RX)、P(RX)、OP(RX)、OP(RX)O、OP(ORX)O、P(=O)(RX)、OP(=O)(RX)、OP(=O)(RX)O、OP(=O)(ORX)O、Si(RX)2、Si(RX)2O、Si(ORX)2O又はSi(RX)(ORX)Oなどの、酸素、硫黄又はヘテロ原子含有フラグメントであり、
各RXは、互いに独立して、水素又はさらなる官能基を場合により含むヒドロカルビル基である。各RXは、互いに独立して、最も一般的には水素、アリール又は低級アルキル基である。
少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物を、ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物と組み合わせ、予備反応させて、樹脂内保存安定性を有する接着促進剤組成物を提供し、改善された機械的特性を有するオレフィンメタセシス複合体を提供する。少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物の任意の濃度が、本発明に使用される接着促進剤組成物の調製に使用するために十分であり、予備反応混合物を形成するために使用される、少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物のmol%又はmol当量は、予備反応混合物を形成するために使用される、ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物のmol%又はmol当量よりも大きい。ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物と、少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物とのモル比は、0.001:1〜0.90:1の範囲である。ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物と、少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物との好ましいモル比は、0.01:1〜0.75:1、特に0.01:1〜0.5:1、より特定的には0.02:1〜0.25:1の範囲である。当業者は、ヘテロ原子含有官能基及びメタセシス活性オレフィンを含む化合物と、少なくとも2つのイソシアナート基を含有する化合物との最適の比が、環状オレフィン樹脂組成物に添加される接着促進剤組成物の量の関数として調整される必要があり得ることを認識する。
本明細書に開示されている本発明に使用することができる樹脂組成物は、一般に、少なくとも1種の環状オレフィンを含む。本明細書上記に記載された環状オレフィンは、使用に適しており、官能化されていても、非官能化であってもよく、置換されていても、非置換であってもよい。加えて、本発明の樹脂組成物は、少なくとも1種の環状オレフィンと、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物とを含むことができる。加えて、本発明の樹脂組成物は、少なくとも1種の環状オレフィンを含むことができ、樹脂組成物は、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と組み合わされる。別の実施形態において、本発明の樹脂組成物は、少なくとも1種の環状オレフィン及び外因性阻害剤(例えば、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ヒドロペルオキシド)を含むことができる。ここで、外因性(樹脂組成物に添加すること又は少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含む触媒組成物と混合若しくは組み合わせることができる外部添加剤又は他の反応体を意味する)は、内在性(在来的であること又はカルベン触媒の遷移金属に結合している成分により確立されることを意味する)と区別される。本発明に使用される外因性阻害剤又は「ゲル変性添加剤」及びそれらの使用方法は、米国特許第5,939,504号に開示されており、その内容は、参照として本明細書に組み込まれる。米国特許第5,939,504号は、中性電子供与体又は中性ルイス塩基、好ましくはトリアルキルホスフィン及びトリアリールホスフィンなどの、外因性「ゲル変性添加剤」又は外因性阻害剤の使用を開示する。外因性阻害剤として使用されるトリアルキルホスフィン及びトリアリールホスフィンには、限定されることなく、トリメチルホスフィン(PMe3)、トリエチルホスフィン(PEt3)、トリ−n−ブチルホスフィン(PBu3)、トリ(オルト−トリル)ホスフィン(P−o−トリル3)、トリ−tert−ブチルホスフィン(P−tert−Bu3)、トリシクロペンチルホスフィン(Pシクロペンチル3)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)、トリイソプロピルホスフィン(P−i−Pr3)、トリオクチルホスフィン(POct3)、トリイソブチルホスフィン(P−i−Bu3)、トリフェニルホスフィン(PPh3)、トリ(ペンタフルオロフェニル)ホスフィン(P(C6F5)3)、メチルジフェニルホスフィン(PMePh2)、ジメチルフェニルホスフィン(PMe2Ph)及びジエチルフェニルホスフィン(PEt2Ph)が含まれる。外因性阻害剤として使用される好ましいトリアルキルホスフィン及びトリアリールホスフィンは、トリシクロヘキシルホスフィン及びトリフェニルホスフィンである。単一のトリアルキルホスフィン及び/又はトリアリールホスフィンを使用することができる又は2つ以上の異なるトリアルキルホスフィン及び/又はトリアリールホスフィンの組み合わせを使用することができる。別の実施形態において、本発明の樹脂組成物は、少なくとも1種の環状オレフィン及び接着促進剤を含むことができる。本発明に使用される接着促進剤及びそれらの使用方法には、上記に記述されたもの及び国際特許出願PCT/US2012/042850(その内容は参照として本明細書に組み込まれる)にさらに開示されているものが含まれる。別の実施形態において、本発明の樹脂組成物は、少なくとも1種の環状オレフィン及びヒドロペルオキシドゲル変性剤(外因性阻害剤)を含むことができる。本発明に使用されるヒドロペルオキシドゲル変性剤及びそれらの使用方法は、国際特許出願PCT/US2012/042850(その内容は、参照として本明細書に組み込まれる)に開示されている。国際特許出願PCT/US2012/042850は、クメンヒドロペルオキシドなどの外因性ヒドロペルオキシドゲル変性剤又は外因性阻害剤の使用を開示する。一般に、ヒドロペルオキシドは、ゲル状態の開始を遅延するのに有効な任意の有機ヒドロペルオキシドであり得るが、ヒドロペルオキシドは、典型的には、アルキル、例えばC2〜C24アルキル、アリール、例えばC5〜C24アリール、アラルキル又はアルカリル、例えば、C6〜C24アルカリル、ヒドロペルオキシド、とりわけ第二級又は第三級の脂肪族又は芳香族ヒドロペルオキシドである。使用に適したより特定的なヒドロペルオキシドには、tert−ブチルヒドロペルオキシド、tert−アミルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、(2,5−ジヒドロペルオキシ)−2,5−ジメチルヘキサン、シクロヘキシルヒドロペルオキシド、トリフェニルメチルヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド(例えば、Glidox(登録商標)500;LyondellBasell)及びパラメンタンヒドロペルオキシド(例えば、Glidox(登録商標)300;LyondellBasell)が含まれる。より好ましくは、使用に適したヒドロペルオキシドには、tert−ブチルヒドロペルオキシド及びクメンヒドロペルオキシドが含まれる。ゲル変性添加剤を、溶媒の不在下で又は有機若しくは水性の溶液として反応混合物に添加することができる。単一のヒドロペルオキシド化合物を、ゲル変性添加剤として使用することができる又は2つ以上の異なるヒドロペルオキシド化合物の組み合わせを、使用することができる。
以下の実施例では、使用される数値(例えば、量、温度など)に関して正確性を確実にする努力がなされてきたが、幾らかの実験誤差及び偏差が考慮されるべきである。特に指示のない限り、温度は摂氏であり、圧力は大気圧又は近大気圧であり、粘度はセンチポアズ(cP)である。
全てのガラス器具をオーブン乾燥し、反応を、特に示されない限り、周囲条件下で実施した。全ての溶媒及び試薬は、商業供給者から購入し、特に示されない限り、受け取ったままで使用した。
粘度測定:
例1〜24のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(1S〜10S、23S〜29S、35S〜41S)(4.0グラム)を、樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定は、Brookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表5に示す。
例1〜23のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(1S〜10S、23S〜29S、35S〜40S)(0.4グラム)を、樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表5に示す。
例1〜23のそれぞれにおいて、ROMP組成物のピーク発熱温度までの時間を、上記に記載されたゲル硬度測定を行うために調製された試料によって測定した。ピーク発熱温度を、Type K熱電対を取り付けたOmega Data Logger Thermometer(HH309A型)の使用により測定し、熱電対は、アルミニウムパンの底部に取り付けられていた。ピーク発熱温度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物がピーク発熱温度に達するまでに必要な時間と定義する。ピーク発熱温度までの時間を表5に示す。
粘度測定:
例25〜42のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(11S〜18S、30S〜32S、42S〜48S)(4.0グラム)を、樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定は、Brookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表6に示す。
例25〜42のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(11S〜18S、30S〜32S、42S〜48S)(0.4グラム)を、樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表6に示す。
例25〜42のそれぞれにおいて、ROMP組成物のピーク発熱温度までの時間を、上記に記載されたゲル硬度測定を行うために調製された試料により測定した。ピーク発熱温度を、Type K熱電対を取り付けたOmega Data Logger Thermometer(HH309A型)の使用により測定し、熱電対は、アルミニウムパンの底部に取り付けられていた。ピーク発熱温度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物がピーク発熱温度に達するまでに必要な時間と定義する。ピーク発熱温度までの時間を表6に示す。
粘度測定:
例43〜50のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(19S〜22S、33S〜34S、49S〜50S)(4.0グラム)を、樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定は、Brookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表7に示す。
例43〜50のそれぞれにおいて、樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。適切な触媒懸濁液(19S〜22S、33S〜34S、49S〜50S)(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表7に示す。
例43〜50のそれぞれにおいて、ROMP組成物のピーク発熱温度までの時間を、上記に記載されたゲル硬度測定を行うために調製された試料により測定した。ピーク発熱温度を、Type K熱電対を取り付けたOmega Data Logger Thermometer(HH309A型)の使用により測定し、熱電対は、アルミニウムパンの底部に取り付けられていた。ピーク発熱温度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物がピーク発熱温度に達するまでに必要な時間と定義する。ピーク発熱温度までの時間を表7に示す。
表5、6及び7のデータを比較すると、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物が、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒よりも、環状オレフィン(例えば、ジシクロペンタジエン)の重合に対してより大きな制御を可能にすることが分かる。例えば、下記の表8のデータは、表5、6及び7に提示されたいくつかのデータのまとめであり、個別の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747、C713及びC771)を使用して、(i)2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747/C771、C713/C771)及び(ii)3つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747/C713/C771)を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を調製した。個別の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747、C713及びC771)は、それぞれ総モノマーと触媒との比の45,000:1を有した。2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747/C771、C713/C771)を含むオレフィンメタセシス触媒組成物は、それぞれ総モノマーと触媒との比の45,000:1を有した。3つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(例えば、C747/C713/C771)を含むオレフィンメタセシス触媒組成物は、それぞれ総モノマーと触媒との比の45,000:1を有した。
粘度測定:
(例51−樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定は、Brookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表11に示す。)
(例52−樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により35℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定は、Brookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、35℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表11に示す。)
(例53−樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により40℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定はBrookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、40℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表11に示す。)
(例51−樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表11に示す。)
(例52−樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより35℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=35℃、(b)35℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表11に示す。)
(例53−樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより40℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=40℃、(b)40℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表11に示す。)
例51〜53のそれぞれにおいて、ROMP組成物のピーク発熱温度までの時間を、上記に記載されたゲル硬度測定を行うために調製された試料により測定した。ピーク発熱温度を、Type K熱電対を取り付けたOmega Data Logger Thermometer(HH309A型)の使用により測定し、熱電対は、アルミニウムパンの底部に取り付けられていた。ピーク発熱温度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物がピーク発熱温度に達するまでに必要な時間と定義する。ピーク発熱温度までの時間を表11に示す。
粘度測定:
(例54−樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定はBrookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表12に示す。)
(例55−トリフェニルホスフィン(0.025phr)を含有する樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定はBrookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表12に示す。)
(例56−トリフェニルホスフィン(0.05phr)を含有する樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定はBrookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表12に示す。)
(例57−トリフェニルホスフィン(1.0phr)を含有する樹脂組成物(A)(204.0グラム)を、250mLのプラスチックボトルに加えた。樹脂組成物を加熱浴により30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(4.0グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物の粘度測定はBrookfield Viscometer(DV−II+Pro型)、スピンドル(Code S62型)を150RPMの速度で使用して、30℃で得た。30cPの粘度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が30cPの粘度に達するまでに必要な時間と定義する。30cPの粘度までの時間を表12に示す。)
(例54−樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表12に示す。)
(例55−トリフェニルホスフィン(0.025phr)を含有する樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表12に示す。)
(例56−トリフェニルホスフィン(0.05phr)を含有する樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表12に示す。)
(例57−トリフェニルホスフィン(1.0phr)を含有する樹脂組成物(A)(20.4グラム)を、標準的な実験室オーブンにより30℃+/−0.5℃で平衡にした。触媒懸濁液5S(0.4グラム)を樹脂組成物と合わせて、ROMP組成物を形成した。ROMP組成物をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に加えた。触媒作用の直後に、以下のオーブン温度プロファイルを開始した((a)初期温度=30℃、(b)30℃で3時間の保持、(c)3時間後に、0.5℃/分で120℃に昇温、(d)120℃で2時間の保持及び(e)周囲温度への冷却)。ポリマーゲルの硬度を、Albuquerque Industrial Inc.の硬度計(HP−10F−M型)の使用により周期的に測定した。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計10〜29のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計30〜39のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計30〜39のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物が硬度計40〜70のゲル硬度に達するまでに必要な時間と定義する。硬度計10〜29のゲル硬度までの時間、硬度計30〜39のゲル硬度までの時間、硬度計40〜70のゲル硬度までの時間を、表12に示す。)
例54〜57のそれぞれにおいて、ROMP組成物のピーク発熱温度までの時間を、上記に記載されたゲル硬度測定を行うために調製された試料により測定した。ピーク発熱温度を、Type K熱電対を取り付けたOmega Data Logger Thermometer(HH309A型)の使用により測定し、熱電対は、アルミニウムパンの底部に取り付けられていた。ピーク発熱温度までの時間を、樹脂組成物が触媒作用を受けた後に、ROMP組成物がピーク発熱温度に達するまでに必要な時間と定義する。ピーク発熱温度までの時間を表12に示す。
この例58の複合積層(composite laminate)を以下のように構築した(図1)。複合積層の底層を、36”×36”の寸法を有するアルミニウム製の密封及び離型処理成形型表面(10)から構成した。3つの熱電対(11a、11b、11c)を、成形型表面(10)に取り付けた。各プライが12.5”×20”の寸法を有する50枚のプライから構成される一方向ガラス繊維強化材料(Vectorply E−LT1800)の第1層(12a)を、成形型表面(10)の上に位置させた。1つの熱電対(11b)を、一方向ガラス繊維強化材料の第1層(12a)の上面に取り付けた。各プライが12.5”×20”の寸法を有する50枚のプライから構成される一方向ガラス繊維強化材料(Vectorply E−LT1800)の第2層(12b)を、熱電対(11d)が一方向ガラス繊維強化材料の第1と第2層(12a、12b)の間に位置するように、一方向ガラス繊維強化材料の第1層(12a)の上に位置させた。2つの熱電対(11e、11f)を、一方向ガラス繊維強化材料の第2層(12b)の上面に取り付けた。剥離プライ(Richmond Aircraft ProductsのA8888ポリアミド)(13)を、一方向ガラス繊維強化材料(12a、12b)の100プライを覆って配置した。6”×12.5”の寸法を有する樹脂流制御構造(Nidacore Matline 400)の第1片(14)を、樹脂流制御構造(14)の一端が、一方向ガラス繊維強化材料(12a、12b)の一端の近くに位置するように、剥離プライ(13)の上に配置した。12”×32”の寸法を有する一次樹脂分布媒体(Colbond Enkafusion 7001)(15)を、複合積層の上に配置した。6”×12.5”の寸法を有する樹脂流制御構造(Nidacore Matline 400)の第2片(16)を、一次樹脂分布媒体(15)の上に配置し、樹脂流制御構造の第2片(16)が樹脂流制御構造の第1片(14)の上に積み重なり、一次樹脂分布媒体(15)が樹脂流制御構造の第1と第2片(14、16)の間に位置するように、整列させた。2”×12”の寸法を有する第2樹脂分布媒体(Colbond Enkachannel)(17a、17b)を、入口(18)及び出口(19)それぞれの位置に対応する複合積層の反対端において、一次樹脂分布媒体(15)の上に位置させた。真空バッグ(Richmond Air Craft Products Stretch−Vac−2000)(図示せず)を、完成した積層を覆って配置した。入口(18)及び出口(19)を、真空バッグ(図示せず)を介して設置し、それぞれの二次樹脂分布媒体(17a、17b)の上に位置させた。真空バッグ(図示せず)を、密封テープ(Airtech AT200−Yテープ)を使用して成形型表面に取り付け、真空を出口(19)に適用して、積層から空気を排気した。
例58の手順に従って、複合積層(図1)を調製し、熱電対(11a〜11f)により測定して、35℃で平衡にした。樹脂組成物(B)(8.368グラム)を、懸濁液の形態の単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(160グラム)と合わせ、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 70FG)に懸濁したC771(モノマーと触媒の比が45,000:1)であり、触媒懸濁液は、総モノマーと触媒の比の45,000:1を有した。樹脂組成物(8.368グラム)及び触媒懸濁液(160グラム)は、混合の直前は、周囲温度(20〜25℃)であった。触媒作用を受けた樹脂組成物を、予備成形物(積層)の完全な含浸を有する複合積層に導入した。触媒作用を受けた樹脂組成物の一部(20グラム)をアルミニウムパン(直径6cm×深さ1.5cm)に配置し、アルミニウムパンを加熱台に配置して、耐燃ブランケットで覆った。触媒作用の115分後(成形型温度35℃)、20グラムの触媒された樹脂組成物は、紐状ゲルであり、したがって硬質ポリマーゲルを形成しなかった。触媒作用の115分後(成形型温度35℃)、加熱台温度を、1分間当たり0.5℃の速度で35℃から120℃に増加し、続いて120℃の温度で2時間保持した。2時間後に、加熱台の電源を切り、成形複合積層を、周囲温度(20〜25℃)に冷まし、続いて成形型から取り出した。成形複合積層の外面を、構造的欠陥及び不備(例えば、空隙、気泡及び/又は樹脂の基板剥離、不十分な樹脂強化界面など)について目視検査した。目視検査によると、例59により得られた成形複合積層の上面は、白化外観形成の欠陥を、そのような欠陥を有さなかった例58により得られた成形複合積層と比較して有した。理論に束縛されることなく、この白色又は外観(すなわち、欠陥)は、樹脂マトリックスとガラス強化剤との適合性の減少を示しており、最終的には、望ましい特性とは言えないものをもたらす。理論に束縛されることなく、この種類の欠陥(例えば、白化表面外観/色)は、液体環状オレフィンモノマー(例えば、DCPD)がROMP組成物の発熱の際に揮発することによって、特に液体環状オレフィンモノマーが、ROMP組成物が発熱し始める前に、成形型の異なる領域/区域の全体にわたって又はROMP組成物の全体にわたって均一に形成された硬質ポリマーゲルに達しなかった場合にもたらされると考えられる。
3Mから入手可能なK25中空ガラス球(254グラム)を、樹脂組成物(C)(847グラム)に加えて、充填樹脂組成物を形成し、それを混合し、続いて真空下で脱ガスした。充填樹脂組成物(1101グラム)を、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含む触媒組成物(16.5グラム)と合わせ、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 70FG)に懸濁したC848(モノマーと触媒の比が120,000:1)及びC827(モノマーと触媒の比が120,000:1)であり、触媒懸濁液は、総モノマーと触媒の比の60,000:1を有した。充填樹脂組成物及び触媒懸濁液は、混合の直前は、周囲温度(20〜25℃)であった。触媒された樹脂組成物を、円筒アルミニウム成形型(内径4”及び高さ9”)の中に注ぎ、成形型は、周囲温度(20〜25℃)であった。触媒作用の90分後、アルミニウム成形型を、加熱ブランケットの使用により加熱した。触媒された樹脂組成物は、触媒作用後に103分間の発熱時間を有した。成形品を周囲温度に冷まし、続いて成形型から取り出した。成形品の写真が図2に示されており、成形品に欠陥が不在であることを示している。
3Mから入手可能なK25中空ガラス球(254グラム)を、樹脂組成物(C)(847グラム)に加えて、充填樹脂組成物を形成し、それを混合し、続いて真空下で脱ガスした。充填樹脂組成物(1101グラム)を、懸濁液の形態の単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒(16.5グラム)と合わせ、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 70FG)に懸濁したC827(モノマーと触媒の比が60,000:1)であり、触媒懸濁液は、総モノマーと触媒の比の60,000:1を有した。充填樹脂組成物及び触媒懸濁液は、混合の直前は、周囲温度(20〜25℃)であった。触媒された樹脂組成物を、円筒アルミニウム成形型(内径4”及び高さ9”)の中に注ぎ、成形型は、周囲温度(20〜25℃)であった。触媒作用の90分後、アルミニウム成形型を、加熱ブランケットの使用により加熱した。触媒された樹脂組成物は、触媒作用後に101分間の発熱時間を有した。成形品を周囲温度に冷まし、続いて成形型から取り出した。成形品の写真が図3に示されており、成形品に欠陥が存在することを示している。理論に束縛されることなく、これらの欠陥は、液体環状オレフィンモノマー(例えば、DCPD)がROMP組成物の発熱の際に揮発することによって、特に液体環状オレフィンモノマーが、ROMP組成物が発熱し始める前に、成形型の異なる領域/区域の全体にわたって又はROMP組成物の全体にわたって均一に形成された硬質ポリマーゲルに達しなかった場合にもたらされると考えられる。
約880lbの重量を有する電解槽カバーを、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒により重合された樹脂組成物から成形した。(i)Ultrene(登録商標)99 Polymer Grade DCPD(6%のトリシクロペンタジエンを含有)、(ii)2phrのEthanox(登録商標)4702及び(iii)4phrのKraton(登録商標)G1651Hを含む樹脂組成物。単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 500FG)に懸濁されたルテニウム触媒C827(モノマーと触媒の比が60,000:1)であった。電解槽カバーを複合成型により成形した。成形型は、1つが電解槽カバーの内部(コア)を確定する雄セクションであり、1つが電解槽カバーの内部(キャビティー)を確定する雌セクションである、2つの複合セクションを含んだ。成形型の雄及び雌セクションの両方とも、成形型の温度を制御する液体(水/プロピレングリコール混合物)の循環用加熱/冷却チャンネルを含有した。成形型は、約5フィートの幅、約8フィートの長さ及び約4フィートの高さを有した。2つの成形型セクション(雄及び雌)を、一連のラッチ作用手動クランプにより一緒に保持した。成形型を、電解槽カバーの上部が確定されている底部でゲートさせ、複数のベント(4つ)を、電解槽カバーのフランジ付き底面が確定されている成形型上部に分布させた。樹脂組成物を、100:2の体積比(樹脂組成物:触媒懸濁液)で単一のミックスヘッド(mix head)により触媒懸濁液と合わせ、3構成要素反応射出成形(RIM)機の使用によって、800〜1200psigの射出圧力により約131.6lb/分の連続的な速度で成形型に射出した。触媒懸濁液を、800〜1200psigの射出圧力により約2.7lb/分の連続的な速度で反応射出成形(RIM)機から射出させた。成形型を10度未満の化合物角度で傾けた。成形型の雌セクション(キャビティー)は93°Fであり、成形型の雄セクション(コア)は73°Fであった。樹脂組成物は、射出の直前は、デイタンク(day tank)中で70°Fであった。触媒懸濁液は、射出の直前は、触媒分配タンク中で90°Fであった。成形型を、6分30秒(短時間)で充填した。反応性配合物の発熱までの時間(煤煙時間)は、42分34秒で観察された。成形電解槽カバーを、57分0秒後に成形型から取り出し、周囲温度に冷ました。手持式携帯光源を使用して、半透明成形電解槽カバーを、構造的欠陥及び不備、表面(外側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)及び基材(内側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)について目視検査した。構造的不備、表面(外側)不備又は基材(内側)不備は、観察されなかった。
例62の一般的手順の後、約880lbの重量を有する電解槽カバーを、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含む環状オレフィン触媒組成物により重合された樹脂組成物から成形した。樹脂組成物は、(i)Ultrene(登録商標)99 Polymer Grade DCPD(6%のトリシクロペンタジエンを含有)、(ii)2phrのEthanox(登録商標)4702及び(iii)4phrのKraton(登録商標)G1651Hであった。環状オレフィン触媒組成物は、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の混合物であり、触媒組成物は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 500FG)に懸濁したC827(モノマーと触媒の比が60,000:1)及びC848(モノマーと触媒の比が500,000:1)を含んだ。樹脂組成物を、800〜1200psigの射出圧力で約127.8lb/分の連続的な速度により成形型に射出し、触媒懸濁液を、800〜1200psigの射出圧力により約2.5lb/分の連続的な速度で射出した。成形型の雌セクション(キャビティー)は95°Fであり、成形型の雄セクション(コア)は94°Fであった。樹脂組成物は、射出の直前は、デイタンク中で76°Fであった。触媒懸濁液は、射出の直前は、触媒分配タンク中で78°Fであった。成形型を、6分26秒(短時間)で充填した。反応性配合物の発熱までの時間(煤煙時間)は、23分0秒で観察された。成形電解槽カバーを、49分0秒後に成形型から取り出し、周囲温度に冷ました。手持式携帯光源を使用して、半透明成形電解槽カバーを、構造的欠陥及び不備、表面(外側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)及び基材(内側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)について目視検査した。構造的不備、表面(外側)不備又は基材(内側)不備は、観察されなかった。類似した成形条件下において、同じ環状オレフィン樹脂組成物の使用によって、物品(例えば、電解槽カバー)を作製するために必要な時間は、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の代わりに使用したときに低減されることが注目される。この時間の低減(サイクル時間の低減)は、より多く物品(例えば、電解槽カバー)が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の代わりに使用したときと同じ時間(例えば、8時間の労働時間)で作製されうるという点において、経済的な利点を提供する。
例62の一般的手順の後、約880lbの重量を有する電解槽カバーを、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含む環状オレフィン触媒組成物により重合された樹脂組成物から成形した。樹脂組成物は、(i)Ultrene(登録商標)99 Polymer Grade DCPD(6%のトリシクロペンタジエンを含有)、(ii)2phrのEthanox(登録商標)4702及び(iii)4phrのKraton(登録商標)G1651Hであった。環状オレフィン触媒組成物は、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の混合物であり、触媒組成物は、2phrのCab−o−sil TS610を含有する鉱油(Crystal Plus 500FG)に懸濁したC827(モノマーと触媒の比が60,000:1)及びC848(モノマーと触媒の比が500,000:1)を含んだ。樹脂組成物を、800〜1200psigの射出圧力で約127.8lb/分の連続的な速度により成形型に射出し、触媒懸濁液を、800〜1200psigの射出圧力により約2.5lb/分の連続的な速度で射出した。成形型の雌セクション(キャビティー)は95°Fであり、成形型の雄セクション(コア)は94°Fであった。樹脂組成物は、射出の直前は、デイタンク中で76°Fであった。触媒懸濁液は、射出の直前は、触媒分配タンク中で78°Fであった。成形型を、6分26秒(短時間)で充填した。反応性配合物の発熱までの時間(煤煙時間)は、23分0秒で観察された。成形電解槽カバーを、49分0秒後に成形型から取り出し、周囲温度に冷ました。手持式携帯光源を使用して、半透明成形電解槽カバーを、構造的欠陥及び不備、表面(外側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)及び基材(内側)不備(例えば、気泡又は不要な空隙)について目視検査した。構造的不備、表面(外側)不備又は基材(内側)不備は、観察されなかった。類似した成形条件下において、同じ環状オレフィン樹脂組成物の使用によって、物品(例えば、電解槽カバー)を作製するために必要な時間は、2つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の代わりに使用したときに低減されることが注目される。この時間の低減(サイクル時間の低減)は、より多く物品(例えば、電解槽カバー)が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、単一の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の代わりに使用したときと同じ時間(例えば、8時間の労働時間)で作製されうるという点において、経済的な利点を提供する。
以下、特願2015−560322の出願当初の特許請求の範囲の内容を記載する。
[請求項1]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、ROMP組成物。
[請求項2]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物と組み合わせて、ROMP組成物を形成し、ROMP組成物を重合するのに有効な条件にROMP組成物を曝すことを含む、ROMP組成物を重合する方法。
[請求項3]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物と組み合わせて、ROMP組成物を形成し、ROMP組成物を重合するのに有効な条件にROMP組成物を曝すことを含む、物品を製造する方法。
[請求項4]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、製造品。
[請求項5]
ポリマー物品を調製するためのROMP組成物の使用であって、ROMP組成物が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、上記使用。
[請求項6]
ポリマー複合体を調製するためのROMP組成物の使用であって、ROMP組成物が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィン及び少なくとも1種の基材材料を含む樹脂組成物とを含む、上記使用。
[請求項7]
樹脂組成物を重合するためのオレフィンメタセシス触媒組成物の使用であって、オレフィンメタセシス触媒組成物が少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含み、樹脂組成物が少なくとも1種の環状オレフィンを含む、上記使用。
[請求項8]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、オスミウムカルベンオレフィンメタセシス触媒、ルテニウムカルベンオレフィンメタセシス触媒、又はこれらの混合物から選択される、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
[請求項9]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、式(I)の構造を有する錯体から選択される、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用
[化1]
[式中、
Mは、第8族遷移金属であり、
L 1 、L 2 及びL 3 は、独立に、中性電子供与体配位子から選択され、
nは、0又は1であり、したがってL 3 は存在しても存在しなくてもよく、
mは、0、1又は2であり、
kは、0又は1であり、
X 1 及びX 2 は、独立に、アニオン性配位子であり、
R 1 及びR 2 は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
X 1 、X 2 、L 1 、L 2 、L 3 、R 1 及びR 2 の任意の2つ以上は、一緒になって、1つ又は複数の環式基を形成することができ、さらに、X 1 、X 2 、L 1 、L 2 、L 3 、R 1 及びR 2 の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]。
[請求項10]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の少なくとも1種が、L 1 が式(II)の構造を有するカルベン配位子である錯体から選択される、請求項9に記載の組成物、方法、製造品及び使用。
[化2]
[式中、
X及びYは、独立に、C、N、O、S及びPから選択され、
Xが、O又はSである場合、pは0であり、Xが、N又はPである場合、pは1であり、
Yが、O又はSである場合、qは0であり、Yが、N又はPである場合、qは1であり、
Q 1 、Q 2 、Q 3 及びQ 4 は、独立に、ヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、及び−(CO)−から選択され、さらに、Q内の隣接する原子上の2つ以上の置換基は、連結して、追加の環式基を形成することができ、
w、x、y及びzは、独立に、0又は1であり、
R 3 、R 3A 、R 4 及びR 4A は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルから選択され、
X 1 、X 2 、L 2 、L 3 、R 1 、R 2 、R 3 、R 3A 、R 4 、R 4A 、Q 1 、Q 2 、Q 3 及びQ 4 の任意の2つ以上は、一緒になって、環式基を形成することができ、さらに、X 1 、X 2 、L 2 、L 3 、Q 1 、Q 2 、Q 3 、Q 4 、R 1 、R 2 、R 3 、R 3A 、R 4 及びR 4A の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]。
[請求項11]
少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の少なくとも1種が、L 1 、L 2 及びL 3 の少なくとも1つがN−複素環式カルベン配位子である錯体から選択される、請求項9に記載の組成物、方法、製造品及び使用。
[請求項12]
少なくとも1種の環状オレフィンが、歪みを有する環状オレフィン、歪みを有していない環状オレフィン、又はこれらの組合せから選択され、環状オレフィンが、官能基を含有することができ、又はハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロカルビル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルカリールオキシ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボナト、アリールカルボナト、カルボキシ、カルボキシラト、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、ハロアルキル置換カルバモイル、アリール置換カルバモイル、チオカルバモイル アルキル置換チオカルバモイル、アリール置換チオカルバモイル、カルバミド、シアノ、シアナト、チオシアナト、ホルミル、チオホルミル、アミノ、アルキル置換アミノ、アリール置換アミノ、アルキルアミド、アリールアミド、イミノ、アルキルイミノ、アリールイミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホ、スルホナト、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、アリールスルホニル、ボリル、ボロノ、ボロナト、ホスホノ、ホスホナト、ホスフィナト、ホスホ、ホスフィノ若しくはこれらの組合せから選択される基で置換されていてもよい、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
[請求項13]
樹脂組成物が、少なくとも1種の外因性阻害剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2又は3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
[請求項14]
樹脂組成物が、少なくとも1種の接着促進剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
[請求項15]
樹脂組成物が、少なくとも1種の基材材料をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
[請求項16]
ROMP組成物を、少なくとも1種の基材材料と接触させることをさらに含む、請求項2又は3に記載の方法。
[請求項17]
少なくとも1種の基材材料が、強化材料、ガラス繊維、ガラス生地、炭素繊維、炭素生地、アラミド繊維、アラミド生地、ポリオレフィン繊維、ポリオレフィン生地、ポリマー繊維、ポリマー生地、金属密度調節剤、微粒子密度調節剤、又はマクロ粒子密度調節剤から選択される、請求項16に記載の方法。
[請求項18]
請求項3に記載の方法によって調製された、物品。
Claims (18)
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、ROMP組成物。
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物と組み合わせて、ROMP組成物を形成し、ROMP組成物を重合するのに有効な条件にROMP組成物を曝すことを含む、ROMP組成物を重合する方法。
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物を、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物と組み合わせて、ROMP組成物を形成し、ROMP組成物を重合するのに有効な条件にROMP組成物を曝すことを含む、物品を製造する方法。
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、製造品。
- ポリマー物品を調製するためのROMP組成物の使用であって、ROMP組成物が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィンを含む樹脂組成物とを含む、上記使用。
- ポリマー複合体を調製するためのROMP組成物の使用であって、ROMP組成物が、少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含むオレフィンメタセシス触媒組成物と、少なくとも1種の環状オレフィン及び少なくとも1種の基材材料を含む樹脂組成物とを含む、上記使用。
- 樹脂組成物を重合するためのオレフィンメタセシス触媒組成物の使用であって、オレフィンメタセシス触媒組成物が少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を含み、樹脂組成物が少なくとも1種の環状オレフィンを含む、上記使用。
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、オスミウムカルベンオレフィンメタセシス触媒、ルテニウムカルベンオレフィンメタセシス触媒、又はこれらの混合物から選択される、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
- 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、式(I)の構造を有する錯体から選択される、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用
[式中、
Mは、第8族遷移金属であり、
L1、L2及びL3は、独立に、中性電子供与体配位子から選択され、
nは、0又は1であり、したがってL3は存在しても存在しなくてもよく、
mは、0、1又は2であり、
kは、0又は1であり、
X1及びX2は、独立に、アニオン性配位子であり、
R1及びR2は、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の2つ以上は、一緒になって、1つ又は複数の環式基を形成することができ、さらに、X1、X2、L1、L2、L3、R1及びR2の任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]。 - 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の少なくとも1種が、L1が式(II)の構造を有するカルベン配位子である錯体から選択される、請求項9に記載の組成物、方法、製造品及び使用。
[式中、
X及びYは、独立に、C、N、O、S及びPから選択され、
Xが、O又はSである場合、pは0であり、Xが、N又はPである場合、pは1であり、
Yが、O又はSである場合、qは0であり、Yが、N又はPである場合、qは1であり、
Q1、Q2、Q3及びQ4は、独立に、ヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、及び−(CO)−から選択され、さらに、Q内の隣接する原子上の2つ以上の置換基は、連結して、追加の環式基を形成することができ、
w、x、y及びzは、独立に、0又は1であり、
R3、R3A、R4及びR4Aは、独立に、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルから選択され、
X1、X2、L2、L3、R1、R2、R3、R3A、R4、R4A、Q1、Q2、Q3及びQ4の任意の2つ以上は、一緒になって、環式基を形成することができ、さらに、X1、X2、L2、L3、Q1、Q2、Q3、Q4、R1、R2、R3、R3A、R4及びR4Aの任意の1つ又は複数は、担体に結合していてもよい]。 - 少なくとも2種の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の少なくとも1種が、L1、L2及びL3の少なくとも1つがN−複素環式カルベン配位子である錯体から選択される、請求項9に記載の組成物、方法、製造品及び使用。
- 少なくとも1種の環状オレフィンが、歪みを有する環状オレフィン、歪みを有していない環状オレフィン、又はこれらの組合せから選択され、環状オレフィンが、官能基を含有することができ、又はハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロカルビル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルカリールオキシ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボナト、アリールカルボナト、カルボキシ、カルボキシラト、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、ハロアルキル置換カルバモイル、アリール置換カルバモイル、チオカルバモイル アルキル置換チオカルバモイル、アリール置換チオカルバモイル、カルバミド、シアノ、シアナト、チオシアナト、ホルミル、チオホルミル、アミノ、アルキル置換アミノ、アリール置換アミノ、アルキルアミド、アリールアミド、イミノ、アルキルイミノ、アリールイミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホ、スルホナト、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、アリールスルホニル、ボリル、ボロノ、ボロナト、ホスホノ、ホスホナト、ホスフィナト、ホスホ、ホスフィノ若しくはこれらの組合せから選択される基で置換されていてもよい、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
- 樹脂組成物が、少なくとも1種の外因性阻害剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2又は3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
- 樹脂組成物が、少なくとも1種の接着促進剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
- 樹脂組成物が、少なくとも1種の基材材料をさらに含む、請求項1に記載の組成物、請求項2若しくは3に記載の方法、請求項4に記載の製造品、又は請求項5、6若しくは7に記載の使用。
- ROMP組成物を、少なくとも1種の基材材料と接触させることをさらに含む、請求項2又は3に記載の方法。
- 少なくとも1種の基材材料が、強化材料、ガラス繊維、ガラス生地、炭素繊維、炭素生地、アラミド繊維、アラミド生地、ポリオレフィン繊維、ポリオレフィン生地、ポリマー繊維、ポリマー生地、金属密度調節剤、微粒子密度調節剤、又はマクロ粒子密度調節剤から選択される、請求項16に記載の方法。
- 請求項3に記載の方法によって調製された、物品。
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