JP2017224666A5 - - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DFJQEGUNXWZVAH-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)titanium Chemical compound [Si]=[Ti]=[Si] DFJQEGUNXWZVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 2
- 230000001681 protective Effects 0.000 claims 2
- RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N Nickel silicide Chemical compound [Ni]=[Si]=[Ni] RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910021334 nickel silicide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N Silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N Silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- FZTWZIMSKAGPSB-UHFFFAOYSA-N phosphide(3-) Chemical compound [P-3] FZTWZIMSKAGPSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
図2に示すように、メモリセル領域1Aには、X方向に延在する複数のフィンFAが、Y方向に等間隔に配置されている。X方向およびY方向は、半導体基板SBの主面に沿う方向であり。X方向はY方向に対して直交している。フィンFAは、例えば、半導体基板SBの主面から選択的に突出した直方体の突出部(凸部)であり、壁状(板状)の形状を有している。フィンFAの下端部分は、半導体基板SBの主面を覆う素子分離膜EIで囲まれている。フィンFAは、半導体基板SBの一部であり、半導体基板SBの活性領域である。平面視において、隣り合うフィンFA同士の間は、素子分離膜EIで埋まっており、フィンFAの周囲は、素子分離膜EIで囲まれている。フィンFAは、メモリセルMCを形成するための活性領域である。
各フィンFAには、X方向に並ぶ複数のメモリセルMCが形成されている。各メモリセルMCのドレイン領域MDは、メモリセルMC上に形成された層間絶縁膜(図示しない)を貫通するコンタクトホール内に形成されたプラグ(コンタクトプラグ)PG1を介して、X方向に延在する配線MWからなるソース線SLに電気的に接続されている。また、Y方向に配列された複数のメモリセルMCのソース領域MSは、Y方向に延在する配線MWからなるビット線BLに電気的に接続されている。
また、nMIS領域1Bには、例えば、X方向に延在するフィンFBが形成されている。フィンFBは、フィンFAと同様に半導体基板SBの一部であり、半導体基板SBの主面上に突出した壁状(板状)の形状を有している。また、フィンFBは、半導体基板SBの活性領域であり、フィンFBの下端部分は、半導体基板SBの主面を覆う素子分離膜EIで囲まれている。フィンFB上には、Y方向に延在するゲート電極G1が配置され、ゲート電極G1を挟むように、フィンFBの上面にはドレイン領域LD1およびソース領域LS1が形成されている。ドレイン領域LD1およびソース領域LS1は、n型の半導体領域である。
n型トランジスタQNは、ゲート電極G1、ドレイン領域LD1およびソース領域LS1を有する。ゲート電極G1、ドレイン領域LD1およびソース領域LS1は、それぞれ、コンタクトホール内に形成されたプラグPGを介して、配線MWに電気的に接続されている。フィンFBは、n型トランジスタQNを形成するための活性領域である。
次に、図26に示すように、半導体基板SB上に、例えばCVD法を用いて、絶縁膜IF5を形成する。絶縁膜IF5は、例えば窒化シリコン膜からなり、半導体膜SI3の上面を覆い、かつ、絶縁膜IF4の側壁および上面を、絶縁膜ONを介して覆っている。
次に、図33に示すように、エピタキシャル成長法を用いて、nMIS領域1Bのダミーゲート電極DGおよびサイドウォールSWを含むパターンの横に露出するフィンFBの上面および側壁を覆うエピタキシャル層EP1を形成する。エピタキシャル層EP1は、例えばSi(シリコン)からなる。また、ここでは例えばSiP(リン化シリコン)膜またはSiC(炭化シリコン)膜からなるエピタキシャル層EP1を形成してもよい。
次に、メモリセル領域のフィンFAに形成されたソース・ドレイン領域を覆うシリサイド層を形成する。ここでは、まず、図41に示すスパッタリング装置SDを用いて、図42に示すように、フィンFAを覆う金属膜MS1を形成する。図41に示すスパッタリング装置SDは、ロードポートLP、チャンバCH1〜CH5、ロボットアームRA1、RA2を有し、スパッタリング装置SDが含む各チャンバCH1〜CH5のそれぞれは、密閉することが可能である。また、各チャンバCH1〜CH5と、ロボットアームRA1およびRA2のそれぞれが配置されている搬送室とのそれぞれの内部は、いずれも真空ポンプなどを用いて所望の気圧および温度に保つことが可能である。
ここでは、コンタクトホールCHのような細い開口部内にスパッタリング法に金属膜を形成することが困難であるため、CVD法により上記金属膜を形成している。ただし、Ni(ニッケル)膜はCVD法で形成することが困難であるため、ここではCVD法により形成することが容易なTi(チタン)膜を当該金属膜として形成している。したがって、シリサイド層S3は、TiSi2(チタンシリサイド)膜からなる。すなわち、シリサイド層S3は、シリサイド層S1、S2とは異なる材料からなる。なお、シリサイド層S3の形成工程において、Ti(チタン)膜がメモリセル領域1Aのシリサイド層S1の直上のコンタクトホールCHの底部に残ってもよい。
書込み方式は、いわゆるSSI(Source Side Injection:ソースサイド注入)方式と呼ばれる、ソースサイド注入によるホットエレクトロン注入で書込みを行う書込み方式(ホットエレクトロン注入書込み方式)を用いることができる。例えば図55の「書込」の欄に示されるような電圧を、書込みを行う選択メモリセルの各部位に印加し、選択メモリセルの絶縁膜ON中の窒化シリコン膜中に電子を注入することで書込みを行う。
この際、ホットエレクトロンは、2つのゲート電極(メモリゲート電極MGおよび制御ゲート電極CG)間の下のチャネル領域(ソース、ドレイン間)で発生し、メモリゲート電極MGの下の絶縁膜ON中の電荷蓄積部である窒化シリコン膜にホットエレクトロンが注入される。注入されたホットエレクトロン(電子)は、絶縁膜ON中の窒化シリコン膜中のトラップ準位に捕獲され、その結果、メモリトランジスタのしきい値電圧が上昇する。すなわち、メモリトランジスタは書込み状態となる。
消去方法は、いわゆるBTBT方式と呼ばれる、BTBT(Band-To-Band Tunneling:バンド間トンネル現象)によるホットホール注入により消去を行う消去方式(ホットホール注入消去方式)を用いることができる。すなわち、BTBT(バンド間トンネル現象)により発生したホール(正孔)を電荷蓄積部(絶縁膜ON中の窒化シリコン膜NF)に注入することにより消去を行う。例えば図55の「消去」の欄に示されるような電圧を、消去を行う選択メモリセルの各部位に印加し、BTBT現象によりホール(正孔)を発生させ電界加速することで選択メモリセルの絶縁膜ON中の窒化シリコン膜中にホールを注入し、それによってメモリトランジスタのしきい値電圧を低下させる。すなわち、メモリトランジスタは消去状態となる。
次に、図56に示すように、ハードマスクHM3を除去し、続いて、メモリセル領域1Aを露出し、nMIS領域1BおよびpMIS領域1Cを覆うハードマスクHM4を、半導体基板SB上に形成する。その後、当該ハードマスクHM4をマスクとして用いてエッチングを行うことにより、ダミーゲート電極である制御ゲート電極CGおよびメモリゲート電極MGを除去することで、制御ゲート電極CGおよびメモリゲート電極MGが形成されていた領域のそれぞれに溝を形成する。
Claims (15)
- 主面に沿って並ぶ第1領域および第2領域を有する半導体基板と、
前記第1領域の前記半導体基板の一部分であって、前記半導体基板の上面から突出し、前記半導体基板の前記主面に沿う第1方向に延在する第1突出部と、
前記第1突出部の上面上に第1絶縁膜を介して形成され、前記第1方向に直交する第2方向に延在する第1ゲート電極と、
前記第1突出部の前記上面上に電荷蓄積部である第2絶縁膜を介して形成され、前記第1ゲート電極の一方の側壁に前記第2絶縁膜を介して隣接し、前記第2方向に延在する第2ゲート電極と、
前記第1ゲート電極および前記第2ゲート電極からなるパターンを前記第1方向において挟むように前記第1突出部の前記上面に形成された第1ソース・ドレイン領域と、
前記第2領域の前記半導体基板の一部分であって、前記半導体基板の前記上面から突出し、前記第1方向に延在する第2突出部と、
前記第2突出部の上面上に第3絶縁膜を介して形成され、前記第2方向に延在する第3ゲート電極と、
前記第3ゲート電極を前記第1方向において挟むように前記第2突出部の前記上面に形成された第2ソース・ドレイン領域と、
前記第1ソース領域・ドレイン領域のそれぞれの上面および側壁を覆い、前記第1突出部に接する第1シリサイド層と、
前記第2ソース・ドレイン領域のそれぞれの上面および側壁を覆い、前記第2突出部に接する半導体層と、
を有し、
前記第1ゲート電極、前記第2ゲート電極および前記第1ソース・ドレイン領域は、不揮発性記憶素子を構成し、
前記第3ゲート電極および前記第2ソース・ドレイン領域は、トランジスタを構成する、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体層の上面の位置は、前記第1シリサイド層の上面の位置よりも高い、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体基板上に形成され、前記不揮発性記憶素子および前記トランジスタを覆う第4絶縁膜と、
前記第4絶縁膜を貫通し、前記第1シリサイド層を介して、前記第1ソース・ドレイン領域に電気的に接続された第1接続部と、
前記第4絶縁膜を貫通し、前記第2ソース・ドレイン領域に電気的に接続された第2接続部と、
をさらに有し、
前記第2接続部の底面の位置は、前記第1接続部の底面の位置よりも高い、半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記第1接続部と前記第1シリサイド層とは、互いに接しており、
前記第2接続部は、前記第2接続部および前記半導体層の間に形成された第2シリサイド層と前記半導体層とを介して前記第2突出部内の前記第2ソース・ドレイン領域に接続されている、半導体装置。 - 請求項4記載の半導体装置において、
前記第2接続部の横の前記半導体層の前記上面は、前記第2シリサイド層から露出している、半導体装置。 - 請求項4記載の半導体装置において、
前記第1シリサイド層は、ニッケルシリサイドからなり、前記第2シリサイド層は、チタンシリサイドからなる、半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記第1接続部と前記第1シリサイド層との間には、チタンを含む第1金属膜が介在しており、
前記第2接続部は、前記第2接続部および前記半導体層の間に形成された第2シリサイド層と前記半導体層とを介して前記第2突出部内の前記第2ソース・ドレイン領域に接続されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体層は、前記第2ソース・ドレイン領域の一部を構成している、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第3ゲート電極は、第2金属膜を含む、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1ゲート電極は、第3金属膜を含み、前記第2ゲート電極は、第4金属膜を含む、半導体装置。 - (a)半導体基板を準備する工程、
(b)前記半導体基板の上面の一部を後退させることで、前記半導体基板の一部分であって、前記半導体基板の前記上面から突出し、前記第1方向に延在する第1突出部と、前記半導体基板の前記上面から突出し、前記第1方向に延在する第2突出部とを形成する工程、
(c)前記第1突出部および前記第2突出部の間の溝内を埋め込む素子分離膜を形成する工程、
(d)前記(c)工程の後、前記第1突出部の直上に第1絶縁膜を介して第1ゲート電極を形成し、前記第1ゲート電極の一方の側壁に電荷蓄積部である第2絶縁膜を介して隣接する領域の前記第1突出部の直上に前記第2絶縁膜を介して第2ゲート電極を形成し、前記第2突出部の直上に第3絶縁膜を介して第3ゲート電極を形成する工程、
(e)前記第3ゲート電極の横の前記第2突出部の上面および側壁を覆うエピタキシャル層を形成する工程、
(f)前記第3ゲート電極の横の前記第2突出部の上面に第2ソース・ドレイン領域を形成する工程、
(g)前記第1ゲート電極および前記第2ゲート電極からなるパターンの横の前記第1突出部の上面に第1ソース・ドレイン領域を形成する工程、
(h)前記(g)工程の後、前記第2突出部を保護膜により覆った状態で、前記パターンの横の前記第1ソース・ドレイン領域のそれぞれの上面および側壁を覆う第1シリサイド層を形成する工程、
を有し、
前記第1ゲート電極、前記第2ゲート電極および前記第1ソース・ドレイン領域は、不揮発性記憶素子を構成し、
前記第3ゲート電極および前記第2ソース・ドレイン領域は、トランジスタを構成する、半導体装置の製造方法。 - 請求項11記載の半導体装置の製造方法において、
前記半導体層の上面の位置は、前記第1シリサイド層の上面の位置よりも高い、半導体装置の製造方法。 - 請求項11記載の半導体装置の製造方法において、
前記(h)工程は、
(h1)前記第2突出部を保護膜により覆う工程、
(h2)前記(h1)工程の後、第1熱処理を行って前記第1突出部を加熱した状態で、前記第1突出部を覆う金属膜を形成することで、前記金属膜と前記第1突出部の表面とを反応させ、これにより前記金属膜と前記第1突出部の表面との間に第3シリサイド層を形成する工程、
(h3)前記(h2)工程の後、第2熱処理を行うことで、前記金属膜と前記第1突出部の表面とを反応させ、これにより前記第1シリサイド層を形成する工程、
を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項13記載の半導体装置の製造方法において、
前記(h2)工程では、前記第1突出部の側壁を覆う前記金属膜は、前記側壁に沿う方向において互いに離間して並ぶ複数の膜からなる、半導体装置の製造方法。 - 請求項13記載の半導体装置の製造方法において、
前記(h2)工程は、
(h4)熱処理用チャンバ内で前記第1熱処理を行う工程、
(h5)前記(h4)工程の後、前記半導体基板を、前記熱処理用チャンバ内から成膜用チャンバ内まで真空状態が維持された経路を通って搬送する工程、
(h6)前記(h5)工程の後、前記成膜用チャンバ内でスパッタリング法により前記金属膜の形成を行う工程、
を有する、半導体装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117617A JP6652451B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | 半導体装置およびその製造方法 |
US15/482,239 US9899403B2 (en) | 2016-06-14 | 2017-04-07 | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
CN201710356508.9A CN107507864B (zh) | 2016-06-14 | 2017-05-19 | 半导体器件及其制造方法 |
TW106118450A TW201810677A (zh) | 2016-06-14 | 2017-06-05 | 半導體裝置及其製造方法 |
US15/879,257 US10229925B2 (en) | 2016-06-14 | 2018-01-24 | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117617A JP6652451B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017224666A JP2017224666A (ja) | 2017-12-21 |
JP2017224666A5 true JP2017224666A5 (ja) | 2018-12-27 |
JP6652451B2 JP6652451B2 (ja) | 2020-02-26 |
Family
ID=60574221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016117617A Active JP6652451B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9899403B2 (ja) |
JP (1) | JP6652451B2 (ja) |
CN (1) | CN107507864B (ja) |
TW (1) | TW201810677A (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10163901B1 (en) * | 2017-06-23 | 2018-12-25 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Method and device for embedding flash memory and logic integration in FinFET technology |
JP2019117913A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2019117855A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP6920192B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2021-08-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US10515954B2 (en) * | 2018-03-18 | 2019-12-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor device having fin structures of varying dimensions |
US10312247B1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-06-04 | Silicon Storage Technology, Inc. | Two transistor FinFET-based split gate non-volatile floating gate flash memory and method of fabrication |
JP6998267B2 (ja) * | 2018-05-08 | 2022-01-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP7053388B2 (ja) * | 2018-06-28 | 2022-04-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN110828380B (zh) * | 2018-08-14 | 2022-06-17 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 静态存储单元的形成方法及静态存储单元 |
CN110828460B (zh) * | 2018-08-14 | 2022-07-19 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 半导体器件及其形成方法 |
US11195923B2 (en) * | 2018-12-21 | 2021-12-07 | Applied Materials, Inc. | Method of fabricating a semiconductor device having reduced contact resistance |
JP7232081B2 (ja) * | 2019-03-01 | 2023-03-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP7200054B2 (ja) * | 2019-06-24 | 2023-01-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2021027096A (ja) * | 2019-08-01 | 2021-02-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
KR102624201B1 (ko) * | 2019-09-06 | 2024-01-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 저항 변화 메모리층을 구비하는 비휘발성 메모리 장치 |
CN112490128A (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-12 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 半导体器件及其形成方法 |
US20220051905A1 (en) * | 2020-08-12 | 2022-02-17 | Tokyo Electron Limited | Formation of low-temperature and high-temperature in-situ doped source and drain epitaxy using selective heating for wrap-around contact and vertically stacked device architectures |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7335945B2 (en) * | 2003-12-26 | 2008-02-26 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Multi-gate MOS transistor and method of manufacturing the same |
KR100532353B1 (ko) * | 2004-03-11 | 2005-11-30 | 삼성전자주식회사 | 핀 전계 효과 트랜지스터 및 그 제조방법 |
JP2006041354A (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2006066564A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
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- 2016-06-14 JP JP2016117617A patent/JP6652451B2/ja active Active
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- 2017-04-07 US US15/482,239 patent/US9899403B2/en active Active
- 2017-05-19 CN CN201710356508.9A patent/CN107507864B/zh active Active
- 2017-06-05 TW TW106118450A patent/TW201810677A/zh unknown
-
2018
- 2018-01-24 US US15/879,257 patent/US10229925B2/en active Active
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