JP2016192496A - ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パージ対象容器2が設置されたテーブル14がアンドック位置まで移動していることを検出し、且つ、清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、パージノズル28を、パージポート5から引き離す方向に移動させる。
【選択図】図5A
Description
パージポートを有するパージ対象容器の内部に清浄化ガスを前記パージポートを通して吹き込むことが可能になっているガスパージ装置であって、
前記清浄化ガスを吹き出すノズル口を持つパージノズルと、
前記パージ対象容器が着脱自在に設置されるテーブルと、
前記テーブル上で前記パージ対象容器が相対移動しないように固定することができると共に、当該固定を解除することが可能な固定機構と、
前記パージノズルを、前記パージポートに向けて移動させることが可能であると共に、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させることが可能なノズル駆動機構と、
前記パージ対象容器が設置された前記テーブルを、アンドック位置まで移動させるテーブル移動機構と、
前記パージノズルおよび前記パージポートを通して、前記パージ対象容器の内部に清浄化ガスを送り込む動作と、その清浄化ガスの送り込みを停止させる動作とを制御するガス送り込み機構と、
前記テーブルがアンドック位置まで移動していることを検出し、且つ、前記ガス送り込み機構による前記清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、前記ノズル駆動機構を制御して、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させる制御手段と、を有する。
パージポートを有するパージ対象容器の内部に清浄化ガスを前記パージポートを通して吹き込むガスパージ方法であって、
パージノズルのノズル口を前記パージポートに接触させて前記清浄化ガスを前記パージ対象容器の内部に吹き出す工程と、
前記パージ対象容器を、アンドック位置まで移動させる工程と、
前記パージ対象容器が前記アンドック位置まで移動していることを検出し、且つ、前記パージ対象容器の内部への清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させる工程と、を有する。
前記パージ対象容器が前記テーブルの所定位置に載置されていることを検出する位置検出センサをさらに有し、
前記位置検出センサにより、前記パージ対象容器が、前記テーブルの所定位置に載置されていることを検出した正規位置検出信号に基づき、前記制御手段は、前記固定機構を駆動して、前記パージ対象容器を前記テーブルに固定する。
前記パージ対象容器が前記テーブルの上に存在するか否かを検出する在荷センサをさらに有し、
前記在荷センサにより、前記パージ対象容器が前記テーブルの上に存在することを検出した在荷信号に基づき、前記制御手段は、前記位置検出センサからの検出信号を確認する。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係るロードポート装置10は、半導体処理装置60に連結してある。ロードポート装置10は、設置台12と、その設置台12に対して、X軸方向に移動可能な可動テーブル14とを有する。なお、図面において、X軸が可動テーブル14の移動方向を示し、Z軸が鉛直方向の上下方向を示し、Y軸がこれらのX軸およびZ軸に垂直な方向を示す。
本実施形態に係るガスパージ装置を有するロードポート装置10およびガスパージ方法では、以下に示す事項が、前述した第1実施形態と異なるのみであり、以下に示す事項以外は、前述した第1実施形態と同様な構成および作用効果を有する。
本実施形態に係るガスパージ装置を有するロードポート装置10およびガスパージ方法では、以下に示す事項が、前述した第1実施形態と異なるのみであり、以下に示す事項以外は、前述した第1実施形態と同様な構成および作用効果を有する。
2… 密封搬送容器
2a… ケーシング
2b… 開口
2c… 開口縁部
3… 位置決め部
4… 蓋
5… パージポート
5a… パージ口
10… ロードポート装置
11… 壁部材
12… 設置台
13… 受渡口
14… 可動テーブル
16… 位置決めピン
18… ドア
20… ガスパージユニット(ノズル駆動機構付き)
22… 給気流路
24… 給気部材
26… ノズル口
28… パージノズル
30… シリンダ
32… ピストン室
34… ピストン流路
36… シール部材
40… 位置検出センサ
42… 固定検出センサ
44a,44b… 在荷センサ
50… クランプ機構
52… フック
52a… 係合凸部
54… Z軸駆動機構
56… X軸駆動機構
60… 半導体処理装置
70… 底面板
72… 係合用端縁
80… 制御手段
Claims (8)
- パージポートを有するパージ対象容器の内部に清浄化ガスを前記パージポートを通して吹き込むことが可能になっているガスパージ装置であって、
前記清浄化ガスを吹き出すノズル口を持つパージノズルと、
前記パージ対象容器が着脱自在に設置されるテーブルと、
前記テーブル上で前記パージ対象容器が相対移動しないように固定することができると共に、当該固定を解除することが可能な固定機構と、
前記パージノズルを、前記パージポートに向けて移動させることが可能であると共に、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させることが可能なノズル駆動機構と、
前記パージ対象容器が設置された前記テーブルを、アンドック位置まで移動させるテーブル移動機構と、
前記パージノズルおよび前記パージポートを通して、前記パージ対象容器の内部に清浄化ガスを送り込む動作と、その清浄化ガスの送り込みを停止させる動作とを制御するガス送り込み機構と、
前記テーブルがアンドック位置まで移動していることを検出し、且つ、前記ガス送り込み機構による前記清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、前記ノズル駆動機構を制御して、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させる制御手段と、
を有するガスパージ装置。 - 前記制御手段は、前記固定機構による前記パージ対象容器の固定が解除された検出信号を受けた後であって、且つ前記ガス送り込み機構による前記清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、前記ノズル駆動機構を制御して、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載のガスパージ装置。
- 前記制御手段は、前記ガス送り込み機構による前記清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後であって、且つ前記固定機構による前記パージ対象容器の固定が解除された検出信号を受けた後に、前記ノズル駆動機構を制御して、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載のガスパージ装置。
- 前記制御手段は、前記ノズル駆動機構を制御して、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させた後に、前記固定機構を制御して、前記パージ対象容器の固定を解除することを特徴とする請求項1に記載のガスパージ装置。
- 前記パージ対象容器が前記テーブルの所定位置に載置されていることを検出する位置検出センサをさらに有し、
前記位置検出センサにより、前記パージ対象容器が、前記テーブルの所定位置に載置されていることを検出した正規位置検出信号に基づき、前記制御手段は、前記固定機構を駆動して、前記パージ対象容器を前記テーブルに固定する請求項1〜4のいずれかに記載のガスパージ装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載のガスパージ装置を有するロードポート装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のガスパージ装置を有するパージ対象容器の設置台。
- パージポートを有するパージ対象容器の内部に清浄化ガスを前記パージポートを通して吹き込むガスパージ方法であって、
パージノズルのノズル口を前記パージポートに接触させて前記清浄化ガスを前記パージ対象容器の内部に吹き出す工程と、
前記パージ対象容器を、アンドック位置まで移動させる工程と、
前記パージ対象容器が前記アンドック位置まで移動していることを検出し、且つ、前記パージ対象容器の内部への清浄化ガスの送り込みの停止を検出した後に、前記パージノズルを、前記パージポートから引き離す方向に移動させる工程と、を有するガスパージ方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015071659A JP6451453B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015071659A JP6451453B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
Publications (2)
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---|---|
JP2016192496A true JP2016192496A (ja) | 2016-11-10 |
JP6451453B2 JP6451453B2 (ja) | 2019-01-16 |
Family
ID=57247091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015071659A Active JP6451453B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-03-31 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9895723B2 (ja) |
JP (1) | JP6451453B2 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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