JP3697478B2 - 基板の移送方法及びロードポート装置並びに基板移送システム - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板の移送方法及びロードポート装置並びに基板移送システムに関するものである。
また、具体的な適用としては、基板を収納した基板収納容器のドアを開く際に、基板収納容器の外気を基板収納容器内に巻き込むことを防止できるようにした基板の移送方法及び基板移送システムの使用、構造、に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この発明は、典型例としては、半導体装置及び液晶表示装置等の製造時に基板を収納して、運搬するための密閉式の基板収納容器及び内部に収納した基板を、基板処理装置内部に取り込むロードポート装置に関するものであり、以下、半導体装置の製造の場合を例にして説明する。
【０００３】
図８は、半導体装置の製造時に用いられる既知の横ドア一体型の基板収納容器を説明するための斜視図である。
これは、例えば、ＦＬＵＯＲＯＷＡＲＥ（フルオロウエア）社製カタログに記載されているものである。このタイプのものは、ＳＥＭＩ規格でＦＯＵＰと呼ばれている。ＦＯＵＰとは、フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド（Front Opening unified pod）の略である。詳細な寸法などの情報は、ＳＥＭＩ規格 Ｅ６２、Ｅ１．９、Ｅ４７．１等に記載されている。
【０００４】
図８において、１００は、基板収納容器であるウェーハキャリアであり、ここでは、上述したＳＥＭＩ規格のＦＯＵＰを用いて説明する。なお、図８において、２は、表面の一部を切り欠いた状態のキャリアドアを示す。
また、ウェーハキャリア１００は、キャリアシェル１及びキャリアドア２を有し、このキャリアドア２から、内部に収納された基板を出し入れすることができる。
【０００５】
ウェーハキャリア１００内部において基板は、キャリアシェルの内側に備えられたウェーハティース１０と、キャリアドア２に備えられたリテーナ１１に支えられている。
また、キャリアドア２の閉じられた状態では、ウェーハキャリア１００内部は密閉空間であり、したがって、基板は、大気中の異物や、化学的な汚染から防御される。
【０００６】
一方、基板を基板処理装置に移送して、基板に必要な処理を行うためには、ウェーハキャリア１００内部に収納された基板を取り出して、基板処理装置内に取り込むための機構を有するロードポート装置が必要である。例えば、上述のＦＯＵＰに対しては、ＳＥＭＩ規格で規定されたＦＩＭＳ面を持つロードポート装置がある。
ＦＩＭＳは、フロント−オープニング・インターフェース・メカニカル・スタンダード（Front-Opening Interface Mechanical Standard）の略である。
【０００７】
図９は、基板処理装置に備えられたロードポート装置３００に、ウェーハキャリア１００が載置された状態を示す断面模式図である。
ロードポート装置３００は、ロードポート装置の台部３０でウェーハキャリア１００を一定位置に置くためのキネマティックピン３１Ａと、キャリアドアとドッキングしてドア開閉作動を行うロードポートドア（ＦＩＭＳドア）３２を備えている。
【０００８】
このシステムでは、基板１９を収納したウェーハキャリア１００が、ロードポート装置３００に載置された後、ロードポートドア（ＦＩＭＳドア）３２と、ウェーハキャリアのキャリアドア２とが、ドッキングして、キャリアドア２が開かれる。この際、ドッキングしたロードポートドア３２とキャリアドア２は、基板処理装置内の所定の場所に収納される。
【０００９】
このようなシステムを用いた場合、キャリアドア開閉の際に、ウェーハキャリア外気が、ウェーハキャリアの内部に入り込む。この際、外気に混ざって、異物等がウェーハキャリア内部に入り込み、ウェーハキャリア内部に収納された基板に付着する。このような異物等の付着は、パターンの欠陥等を発生させる可能性があるため問題であり、何らかの対策が必要である。
【００１０】
従って、これに対して、例えば、ロードポート装置側では、寸法精度とクリアランスが、どのＦＯＵＰでも問題ないように互換性が保たれる寸法設計と、センタリングが行われている。これによって、載置されたウェーハキャリアが、前後左右あるいは上下にずれて、異物が発生するのを防止する。
【００１１】
また、ドア開時の開閉速度を遅くしたり、ドア開時の速度や加速度を変更して緩やかにドアを開閉できるようにしたり、カムやバネを用いて機械的に緩やかな開閉を実現したりする。これによって、パッキンやドアの擦れにより発生する異物を含んだ外気のウェーハキャリア内部への流入を防止している。
【００１２】
さらに、基板の有無や高さの位置を測定するためのマッパ−等の可動部から異物が発生した場合にも、この異物を基板に付着させないために、可動部の配置を基板の上方から基板の下方に変更したロードポート装置もある。
【００１３】
また、基板処理装置内部を、外気より高圧に保ち、ロードポート装置から絶えず、吹き出しが行え、巻き込みが多少あっても外気はウェーハキャリア内に巻きこまない構成をとっているものもある。
【００１４】
ところで、ウェーハキャリアのキャリアドアは引き抜かれ、あるいは押し込まれることにより、開閉する。これについて図１０を用いて説明する。
図１０は、ウェーハキャリアドアを開閉する際の状態を示す図である。図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、キャリアドアを閉める際の状態を示す図であり、図１０（ｃ）及び図１０（ｄ）は、キャリアドアを開ける際の状態を示す図である。
【００１５】
図１０（ａ）に示すように、キャリアドア２を閉める際には、キャリアドア２は、矢印に示す方向に押し込まれる。通常、キャリアドア２と、キャリアシェル１のキャリアドア２と対向する部分１Ａとの間隔は狭くなっているため、キャリアドア２を閉じる動作が始まるとウェーハキャリア１００内の雰囲気が外へは逃げにくくなる。従って、ウェーハキャリア１００内部は、押し込まれたキャリアドア２の体積分だけ加圧されることになる。
【００１６】
この場合には、図１０（ｂ）に示すように、キャリアドア２を押し込む際、キャリアシェル１のキャリアドア２と対向する部分１Ａを外側に開くことができるようにして、ウェーハキャリア１００内部の雰囲気を外部に逃がす対策をとることができる。このようにすれば、キャリアドア閉時に異物が発生しても、キャリア内部から外部へ逃げる雰囲気の流れに乗って、ウェーハキャリア内部に入り込むことを防止することができる。
【００１７】
一方、図１０（ｃ）に示すように、キャリアドア２を開く際には、キャリアドア２は、矢印に示す方向に引き抜かれる。この場合にも通常、キャリアシェル１の部分１Ａとキャリアドア２との間隔は狭くなっているために、ウェーハキャリア１００内部は、引き抜かれたキャリアドア２の体積分だけ減圧されることになる。
【００１８】
この場合、減圧されたキャリア内部よりも外気は陽圧になっているため、図１０（ｄ）に矢印で示すように、外気がウェーハキャリア１００内に入り込む流れができる。たとえば、図１０（ｄ）に示すように、キャリアドア２が多少ずれたりして、異物が発生した場合、この異物は、ウェーハキャリア１００内へ流れ込む外気の流れにのって、ウェーハキャリア内に入り込むことになる。このようにしてウェーハキャリア１００内に入り込んだ異物が、基板１９に付着すれば、パターンの欠陥等を招くこととなるため問題であり、何らかの対策が必要である。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明したように、ウェーハキャリアのキャリアドアを開く際には、ウェーハキャリアの内部が、引き抜かれるドアの体積分だけ減圧されるため、外気が内部に流れ込むことになる。従って、ウェーハキャリア自体のシール材部分やドアにおいて、擦れ等で異物が発生すると、その異物はそのまま、内部に流れ込む外気の流れにのって、ウェーハキャリア内に入り込み、基板に付着してしまうことになる。
【００２０】
従って、この発明は、異物のウェーハキャリア内部への侵入を防ぐことを目的として、ウェーハキャリア内部に外気が流れ込む現象を抑えることを可能にした基板の移送手段を提案するものであり、これによって、製品の異物による欠陥等の不良を低減し、高歩留りを達成することができる。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
この発明の基板の移送方法は、基板処理装置のロードポート装置に、基板を収納してドアで封じた基板収納容器を載置して、前記ロードポート装置のロードポートドアと前記基板収納容器のドアとを対向させてドッキングさせ、前記基板収納容器のドアを開放して内部に収納された前記基板を前記基板処理装置内に移送する基板の移送方法において、
前記ドアを開放する前に、前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの空気流通路を介して、前記基板収納容器の外側から加圧気体を導入することにより、前記基板収納容器の内部を加圧するものである。
【００２２】
即ち、この発明は、基板収納容器のドアを開く際に、基板収納容器の内部を、何らかの方法で加圧しておくことに特徴を有するものである。
【００２４】
また、この発明の基板の移送方法は、前記加圧気体の導入量を、緩やかに変化させながら導入するものである。
【００２５】
また、この発明の基板の移送方法は、前記加圧を、前記基板収納容器のドア開放動作と連動して行うものである。
【００２６】
また、この発明の基板の移送方法は、前記加圧を、前記ロードポートドアと前記基板収納容器のドアとがドッキングした直後から前記基板収納容器のドアが開き終わるまでの間に行うものである。
【００２７】
また、この発明の基板の移送方法は、前記加圧を、前記ロードポート装置の台部に、前記基板収納容器が載置された直後から前記基板収納容器のドアが開き終わるまでの間に行うものである。
【００２８】
また、この発明の基板の移送方法は、前記加圧により、前記基板処理装置内のエンクロージャー内圧より所定レベル高い圧力とするものである。
【００２９】
次に、この発明のロードポート装置は、基板処理装置に設けられ、基板収納容器を載置する台部と、
前記基板収納容器のドアを開放して、前記基板収納容器の内部に収納された基板を、前記基板処理装置の内部に移送する機構を有するロードポート装置であって、
前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの気体流通路から前記基板収納容器の内部に、加圧気体を供給する気体供給手段を備えたものである。
【００３１】
また、この発明のロードポート装置は、前記気体供給手段が、前記台部に備えられたものである。
【００３２】
また、この発明のロードポート装置は、前記気体供給手段が、前記加圧気体の導入量を制御する制御手段を含むものである。
【００３３】
また、この発明のロードポート装置は、前記気体供給手段が、前記加圧気体の圧力を測る圧力センサを含み、
前記制御手段が、この圧力センサの出力に応じて、前記加圧気体の導入を制御するものである。
【００３４】
また、この発明のロードポート装置は、前記制御手段が、前記基板収納容器のドアの開放動作と連動して、前記加圧気体の導入を制御するものである。
【００３５】
更にまた、この発明の基板移送システムは、気体流通路と、開閉可能なドアとを有する基板収納容器と、
基板処理装置に設けられ加圧気体を供給する気体供給手段を備えたロードポート装置とを含み、
前記基板収納容器を前記ロードポート装置に載置して前記基板収納容器のドアと前記ロードポートドアとを対向させてドッキングさせ、前記基板収納容器のドアを開放して前記基板収納容器の内部に収納された基板を前記基板処理装置の内部に移送するときに、
前記ロードポート装置の前記気体供給手段により前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの気体流通路を介して前記基板収納容器の内部に加圧気体を供給することができるようにしたものである。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。なお、各図において、同一または相当する部分には同一符号を付してその説明を省略ないし簡略化する。
【００３７】
実施の形態１．
まず、この実施の形態１の概要を説明すると、この実施の形態１は、ドアがロードポート装置の台部に載置された後、基板収納容器のドアを開くまでの間に、基板収納容器の内部を加圧しておいて、その状態でドアを開くようにするものである。これによって、基板収納容器のドアが開く際に、外気が、基板収納容器の内部に入り込むことを防ぐことができ、異物の混入を抑えることができる。
【００３８】
図１は、この発明の実施の形態１において使用する基板収納容器を示す図である。
図１において、１００は、基板収納容器としてのウェーハキャリアであり、この実施の形態１では、SEMI規格のFOUPを使用する。
また、１は、キャリアシェル、２は、キャリアドアを示す。このキャリアドアを開閉することにより、ウェーハキャリア１００内部に基板を収納することができる。また、３は、ロボットフランジ、６は、マニュアルハンドル、７は、ウェーハキャリア１００の移送を行うためのサイドレールを示し、これらは、キャリアシェル１の外部に備えられている。
【００３９】
また、キャリアドア２において、４Ａは、フィルタの設けられたパージポート、４は、レジストレーションピン穴、５は、ラッチキー穴を示す。パージポート４Ａは、ウェーハキャリア内部の雰囲気をパージするために用いられるものである。また、レジストレーションピン穴４は、ロードポート装置側にあるレジストレーションピン３３Ａが挿入された状態で、キャリアドア２とロードポートドアとがドッキングする際の位置決めに用いられるものであり、ラッチキー穴５は、ロードポート装置側にあるラッチキー３３（機械的開閉機構）が挿入された状態でキャリアドア２の開閉を行うためのものである。
【００４０】
図２は、ウェーハキャリア１００のドアを開いた状態を示す斜視図である。ただし、ここでは、キャリアドア２は、キャリアシェル１から分離して、ドアの内側を表している。また、図３は、ウェーハキャリア１００内で、基板１９が支持されている状態を示す図であり、図３（ａ）は、断面図、図３（ｂ）は、上面からの透視図を示す。
【００４１】
図２において、８は、シール材（パッキン）、９は、クランピング機構の係合片を示す。シール材８は、キャリアドア２がキャリアシェル１に当接する面に設けられ、キャリアシェル１との間の密閉性を保つためのものである。また、クランピング機構の係合片９はキャリアシェル１の係合穴（図示せず）に係合してキャリアドア２をキャリアシェル１に嵌合状態で固定するためのものである。
【００４２】
また、１０は、キャリアシェル１の内壁に備えられたウェーハティースを、１１は、キャリアドア２の内側に備えられたリテーナを示す。ウェーハキャリア１００内部に収納された複数の基板１９は、棚のような形状のウェーハティース１０及びリテーナ１１によって、図３に示すような状態で支持される。
【００４３】
図４は、ウェーハキャリア１００を示す概念図であり、図４（ａ）は、ウェーハキャリア１００の一部断面図を含む側面図、図４（ｂ）は、ウェーハキャリア１００の底面図である。
【００４４】
図４において、１２は、ウェーハキャリア１００の底部であるベースプレートを示し、１３は、ベースプレートに備えられたV溝を示す。V溝１３は、ウェーハキャリア１００の位置決めのために使用される。なお、図４（ａ）では、ベースプレート１２の部分を断面図で示している。
【００４５】
また、１４は、ベースプレート１２に設けられたフィルタを示す。フィルタ１４は、従来から、ウェーハキャリア内に、異物が混入することを防止するために備えられているものであるが、ここでは、ウェーハキャリア１００内に高圧気体を導入する手段と接続する導入口としての役割をも果たす。
【００４６】
図５は、複数の基板処理装置が設置された生産現場におけるウェーハキャリア１００の自動移送方法を説明するための概略図である。
【００４７】
図５において、２０は、ＯＨＴを示す。ＯＨＴとは、オーバーヘッド・ホイスト・トランスポート（Overhead Hoist Transport）の略で、これによって、各基板処理装置に、ウェーハキャリア１００を自動移送する。
また、２１は、基板処理装置を示し、２２は、ホイスト機構を示す。また、３０は、後に説明するロードポート装置に備えられたロードポート装置の台部を示す。
【００４８】
ＯＨＴ２０は、半導体工場のベイ内でのウェーハキャリア１００の代表的な自動移送機器である。列設された複数の基板処理装置２１のそれぞれにはロードポート装置の台部３０が設けられており、ＯＨＴ２０を用いて移送されるウェーハキャリア１００が載置されるように構成されている。
【００４９】
図６は、基板処理装置に備えられたロードポート装置に、ウェーハキャリア１００が載置された状態を示す断面模式図である。
図６において、３００は、基板処理装置２１に備えられたロードポート装置を示す。
【００５０】
３０Ａは、ロードポート基台を示す。また、３１は、ロードポート基台３０Ａの上に備えられたキネマ面を示し、３１Ａは、キネマ面に突出するキネマティックピンを示す。このキネマティックピン３１Ａと、ウェーハキャリア１００に備えられたＶ溝１３とが嵌まりあって、ウェーハキャリア１００がロードポート装置３００に載置される際の位置を決定する。
【００５１】
また、ロードポート基台３０Ａ、キネマ面３１、キネマティックピン３１Ａを含んで、ロードポート装置３００の台部３０が構成される。
【００５２】
３２は、ロードポートドアを示す。このロードポートドア３２は、基板処理装置２１の壁面の一部を構成する。また、この実施の形態では、基板処理装置２１の壁面はＳＥＭＩ規格のＦＯＵＰに対応するＦＩＭＳ面の一部を構成する。
【００５３】
３３は、ラッチキーであり、ロードポートドア３２の表面上に設けられている。ラッチキー３３は、キャリアドア２の開閉を行うためのラッチキー穴５に挿入された状態でキャリアドア２を開閉するために用いられる。
また、３４は、マッパーを示し、ウェーハキャリア内の基板の有無や、基板の高さや位置を測定するために用いられる。
【００５４】
図７は、ロードポート装置３００に備えられた、ウェーハキャリア１００内部を加圧するための気体供給手段の概念を示すための図である。
【００５５】
１５は、ウェーハキャリア１００内部を加圧するためのクリーンな乾燥高圧気体の供給源に接続されたバルブ、例えば電磁弁である。このバルブ１５が開くことにより、供給源から、ウェーハキャリア１００内部に乾燥高圧気体が供給される。また、このバルブ１５に並列に、減圧弁１５Ａが備えられており、これによって気体の供給量を調節することができる。
【００５６】
また、１６は、導入する気体の圧力を測定するための圧力センサを示し、１７は、気体の導入開始や、終了、あるいは、導入量を制御する信号をバルブ１５に与える制御手段を示す。この制御手段１７は、キネマ面３１にウェーハキャリア１００がドッキングしたのを感知し、また圧力センサによる測定結果を受け取って、それに応じて制御を行う。
【００５７】
また、１８は、ウェーハキャリア１００に備えられた導入口１４に接続される接続部を示す。この接続部は、ウェーハキャリア１００がキネマ面３１に載置されると、これに連動して自動的に導入口１４に接続されるようになっている。
【００５８】
バルブ１５、圧力センサ１６、制御手段１７、接続部１８を含めて、気体供給手段４００が構成される。
なお、この気体供給手段４００は、ロードポート装置３００に備えられているものであるが、図６においては、図示を省略してある。
【００５９】
次に、基板の移送方法について説明する。半導体工場内では、各種処理を受ける基板はウェーハキャリア１００に収納された状態で各基板処理装置２１間を移動する。３００ｍｍ径クラスの基板を収納したウェーハキャリア１００は８ｋｇ以上の重量であるため、安全上人手での移送は考えにくく、ＯＨＴ部２０等の自動移送機器を使用することになる。
【００６０】
まず、ウェーハキャリア１００のキャリアドア２を開いて、処理すべき基板をウェーハキャリア１００内部に収納し、ウェーハキャリア１００のキャリアドア２を閉じる。ウェーハキャリア１００内部で、基板は、図３に示すように、ウェーハティース１０と、リテーナ１１によって支持されている。
【００６１】
ＯＨＴ２０は、キャリアシェル１に備えられたロボットフランジ３を把持して、内部に基板が収納されたウェーハキャリア１００を釣り上げる。釣り上げられたウェーハキャリア１００は、そのままＯＨＴ２０で基板処理装置２１まで運ばれる。
【００６２】
次いで、ウェーハキャリア１００を、ホイスト機構２２を用いて、基板処理装置２１に備えられたロードポート基台３０A上のキネマ面３１上へ降ろして所定位置にセットする。ウェーハキャリア１００は、そのベースプレート面１２に設けられたＶ溝１３に、キネマ面３１の上面に設けられたキネマティックピン３１Ａが嵌まることにより、ロードポート基台３０Ａの上の適切な位置に載置される。
【００６３】
キネマ面３１に、ウェーハキャリア１００が載置されると、これに連動して、図７（ｂ）に示すように、気体供給手段４００の接続部１８が、フィルタの備えられた導入口１４に接続される。
一方、制御手段１７は、ウェーハキャリアが載置されたことを感知し、バルブ１５を開き、気体の導入を開始する。
【００６４】
また、ホイスト機構２２を、ウェーハキャリア１００から外し、ウェーハキャリア１００をロードポート基台３０A上に残す。その後、ウェーハキャリア１００を前進させて、キャリアドア２と、ロードポートドア３２をドッキングさせる。ウェーハキャリア１００は前進し、ロードポートドア３２のＦＩＭＳシール面に押し当てられる。
【００６５】
この間、ウェーハキャリア１００内部への気体の導入は、少なくとも引き抜かれるキャリアドア２の体積分を補うまでは続けられる。
【００６６】
また、この気体導入の際には、圧力センサ１６によって、加圧気体の気圧が測られている。この測定結果は、制御手段１７に伝えられ、制御手段１７は、測定結果に応じて、バルブ１５及び減圧弁１５Aを制御し、ウェーハキャリア１００の内部の圧力が、外気に対して、陽圧になるまで加圧される。また、基板処理装置２１のエンクロージャー内と外部との差圧がある場合には、ウェーハキャリア１００内も、この差圧分、外気に対して陽圧にして、エンクロージャー内と同程度あるいはそれ以上の陽圧となるようにする。この場合、差圧は１０Ｐａ以下でよい。
【００６７】
以上のように、ウェーハキャリア１００内部の圧力が調整された状態で、キャリアドア１を以下のようにして開く。まず、ラッチキー３３を回転させることにより、キャリアドア２のドアクランピング機構（図示せず）の係合片９をキャリアシェル１から外すとともに、キャリアドア２をロードポートドア３２に固定する。次いで、キャリアドア２は、キャリアシェル１から完全に取り外され、基板処理装置２１内下部へ移動させる。
【００６８】
このとき、ウェーハキャリア１００では、キャリアドアが引き抜かれるため、キャリアドア２の体積分、負圧となる。しかし、乾燥高圧気体をウェーハキャリア１００に導入することで、ウェーハキャリア１００の内部は、予め高圧にされているために、この負圧によって、外気がウェーハキャリア１００内に流入するのを防ぐことができる。このようにして、キャリアドア２の開放時に、ウェーハキャリア１００内が負圧となって、巻き込みが発生することを防止できる。
【００６９】
また、外気に対して、エンクロージャー内部が陽圧である場合にも、その圧力差の分以上、ウェーハキャリア１００内も陽圧にしてあるため、外気あるいは、エンクロージャー内からの気体の流入を防止することができる。
【００７０】
以上説明したように、気体供給手段４００においては、ロードポート装置２００の台部３０に、ウェーハキャリア１００が載置されるのに連動し、接続口１８がフィルタ１４に接続される。また、制御手段１７は、ウェーハキャリアの載置に連動して、バルブ１５を開き、気体の供給を開始する。更に、制御手段１７は、キャリアドア２開放の動作を感知し、これに連動させて、キャリアドア２開放までに、ウェーハキャリア１００内を加圧しておく。
【００７１】
このようにして、気体供給手段２００は、制御手段１７、バルブ１５及び減圧弁１５Ａなどを用いることにより、キャリアドア２の開放動作に連動させて、ウェーハキャリア１００内部を加圧する。
しかし、この発明においては、加圧を、キャリアドア２の開放動作に連動できる場合に限るものではなく、キャリアドア２の解放前にウェーハキャリア１００内部を加圧できるものであればよい。
【００７２】
また、ドア開放の際には、すでにウェーハキャリア１００内部は、加圧されているため、気体の供給を止めるものであってもよい。また、ドア開放中も、気体を導入し続けるものであってもよい。これによって、ウェーハキャリア１００内部への異物混入をいっそう抑えることができる。
【００７３】
なお、気体の導入方法としては、一定の量で、気体の導入を続けるものでもよく、また、パルス状に量を変動させて導入するものでもよい。また、段階的に、導入量を増やしてゆくものであってもよい。
【００７４】
更に、量の増加を緩やかに変動させて導入する方法、例えば、縦軸に、気体の導入量を、横軸に、時間をとってグラフ気体の導入量の変化をグラフに表した場合に、Ｓ字波状になるような導入方法等であってもよい。このようにすれば、ゆっくりと加圧することができ、気体を導入することによるウェーハキャリア１００内部での巻き上げをも抑え、異物の付着を抑えることができる。
【００７５】
また、この実施の形態では、気体導入口として、従来からウェーハキャリア１００のベースプレート１２にあるフィルタ１４を用いたが、これに限るものではなく、気体導入のために特別に設けたものであってもよい。また、導入口が２つある場合には、２つの導入口からのガスの導入量に差を設けてもよいし、一方を塞いで、他方のみから導入してもよい。
【００７６】
また、この実施の形態で、気体供給手段は、バルブ１５、減圧弁１５Ａ、圧力センサ１６、制御手段１７及び接続部１８を含んで構成される。しかし、これに限るものでもなく圧力センサの備えられていないものや、制御弁１５Ａ、制御手段１７の備えられていないものであってもよい。
【００７７】
実施の形態２．
この発明の実施の形態２で用いられるウェーハキャリア１００、ＯＨＴ２０及びロードポート装置３００は、図１から図６に示したものと構造的には同じである。
【００７８】
ただし、気体供給手段４００の備えられる場所が異なっている。即ち、実施の形態１では、気体供給手段４００は、ロードポート装置３００の台部３０に備えられている。しかし、この実施の形態においては、気体供給手段４００は、ロードポート装置３００のロードポートドア２側に備えられる。
【００７９】
また、実施の形態１では、気体供給手段４００は、ウェーハキャリア１００のベースプレート１２に設けられたフィルタ１４を導入口としてこれに接続された。しかし、実施の形態２では、ウェーハキャリア１００のキャリアドア２に設けられているパージポート４を導入口として用いる。このパージポート４は、ウェーハキャリア１００内の気体をパージするために用いられるものであり、フィルタが設けられている。
【００８０】
気体供給手段４００においては、ロードポートドア２に、キャリアドア２がドッキングされるのに連動し、接続口１８がパージポート４に接続される。また、制御手段１７は、キャリアドア２のドッキングに連動して、バルブ１５を開き、気体の供給を開始する。更に、制御手段１７は、キャリアドア２開放の動作を感知し、これに連動させて、キャリアドア２開放までに、ウェーハキャリア１００内を加圧しておく。
【００８１】
このようにして、気体供給手段２００は、バルブ１５、制御手段１７などを用いることにより、キャリアドア２がロードポートドアにドッキングした後、開放されるまでの動作に連動させて、ウェーハキャリア１００内部を加圧する。
しかし、この発明においては、加圧を、キャリアドア２の開放動作に連動できる場合に限るものではなく、キャリアドア２の解放前にウェーハキャリア１００内部を加圧できるものであればよい。
【００８２】
また、この実施の形態においては、導入口として、ウェーハキャリアに備えられたパージポートを利用したが、これに限るものではなく、気体供給手段を接続する専用の導入口を設けてもよい。また、この導入口にはフィルタを設けるとよい。
その他の部分は実施の形態１と同様であるから説明を省略する。
【００８３】
このようにすれば、ウェーハキャリア１００内部を陽圧に保つことができ、ドア開時の外気あるいはエンクロージャー内の気体の巻き込み発生を防止することができる。
【００８４】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、ウェーハキャリアのキャリアドアを開放する前あるいは開放する動作中継続して、ウェーハキャリア内部に、外部に対して陽圧になるように圧力を加える。従って、ウェーハキャリアのキャリアドアを開く際に、外気をウェーハキャリア内に巻き込むことを抑えることができ、外気に含まれる異物が基板に付着するのを防止することができる。
【００８５】
また、この発明は従来使用しているウェーハキャリア、ＯＨＴ及びロードポート装置になんら改良を加えることなく、ロードポート装置に何らかの気体供給手段を加えるだけでよい。また、気体供給手段についても、圧力センサ、バルブ、制御手段及び接続口などを有すればよく、特殊な機構を必要としない。
したがって、特に半導体製造において、低コストで、確実な製造を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ウェーハキャリアの外観を示す斜視図である。
【図２】 ウェーハキャリアのキャリアドアを開いた状態を示す斜視図である。
【図３】 ウェーハキャリアで、基板が指示されている状態を示す図であり、図３（ａ）は、断面図、図３（ｂ）は、上面からの透視図を示す。
【図４】 ウェーハキャリアの外観を説明するための概念図であり、図４（ａ）は、ウェーハキャリアの一部断面図を含む側面図、図４（ｂ）は、ウェーハキャリアの底面図である。
【図５】 複数の基板処理装置が設置された生産現場におけるウェーハキャリアの自動移送方法を説明するための概略図である。
【図６】 基板処理装置に備えられたロードポート装置に、ウェーハキャリアが載置された状態を示す断面模式図である。
【図７】 ロードポート装置に備えられた、ウェーハキャリア内部を加圧するための気体供給手段の概念を説明するための図である。
【図８】 既知の横ドア一体型のウェーハキャリアを説明するための斜視図である。
【図９】 ロードポート装置に、ウェーハキャリアが載置された状態を示す断面模式図である。
【図１０】 ウェーハキャリアのドアを開閉する際の状態を示す図である。
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、キャリアドアを閉める際の状態を示す図であり、図１０（ｃ）及び図１０（ｄ）は、キャリアドアを開ける際の図である。
【符号の説明】
１００ ウェーハキャリア（基板収納容器）
３００ ロードポート装置
４００ 気体供給手段
１ キャリアシェル
２ キャリアドア
３ ロボットフランジ
４ レジストレーションピン穴
４Ａ パージポート
５ ラッチキー穴
６ マニュアルハンドル
７ サイドレール
８ シール材
９ クランピング機構の係合片
１０ ウェーハティース
１１ リテーナ
１２ ベースプレート
１３ Ｖ溝
１４ 導入口（フィルタ）
１５ バルブ
１５Ａ 減圧弁
１６ 圧力センサ
１７ 制御手段
１８ 接続口
１９ 基板
２０ ＯＨＴ
２１ 基板処理装置
２２ ホイスト機構
３０ 台部
３０Ａ ロードポート基台
３１ キネマ面
３１Ａ キネマティックピン
３２ ロードポートドア
３３ ラッチキー
３３Ａ レジストレーションピン
３４ マッパー

Claims (12)

  1. 基板処理装置のロードポート装置に、基板を収納してドアで封じた基板収納容器を載置して、前記ロードポート装置のロードポートドアと前記基板収納容器のドアとを対向させてドッキングさせ、前記基板収納容器のドアを開放して内部に収納された前記基板を前記基板処理装置内に移送する基板の移送方法において、
    前記ドアを開放する前に、前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの空気流通路を介して、前記基板収納容器の外側から加圧気体を導入することにより、前記基板収納容器の内部を加圧することを特徴とする基板の移送方法。
  2. 前記加圧気体の導入量を、緩やかに変化させながら導入することを特徴とする請求項１に記載の基板の移送方法。
  3. 前記加圧は、前記基板収納容器のドア開放動作と連動して行うことを特徴とする請求項１または２に記載の基板の移送方法。
  4. 前記加圧は、前記ロードポートドアと前記基板収納容器のドアとがドッキングした直後から前記基板収納容器のドアが開き終わるまでの間に行われることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の基板の移送方法。
  5. 前記加圧は、前記ロードポートの台部に、前記基板収納容器が載置された直後から前記基板収納容器のドアが開き終わるまでの間に行われることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の基板の移送方法。
  6. 前記加圧は、前記基板処理装置内のエンクロージャー内圧より所定レベル高い圧力とすることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の基板の移送方法。
  7. 基板処理装置に設けられ、基板収納容器を載置する台部と、
    前記基板収納容器のドアを開放して、前記基板収納容器の内部に収納された基板を、前記基板処理装置の内部に移送する機構を有するロードポート装置であって、
    前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの気体流通路から前記基板収納容器の内部に、加圧気体を供給する気体供給手段を備えたことを特徴とするロードポート装置。
  8. 前記気体供給手段は、前記台部に備えられたことを特徴とする請求項７に記載のロードポート装置。
  9. 前記気体供給手段は、前記加圧気体の導入量を制御する制御手段を含むことを特徴とする請求項７または８に記載のロードポート装置。
  10. 前記気体供給手段は、前記加圧気体の圧力を測る圧力センサを含み、
    前記制御手段は、この圧力センサの出力に応じて、前記加圧気体の導入を制御することを特徴とする請求項９に記載のロードポート装置。
  11. 前記制御手段は、前記基板収納容器のドアの開放動作と連動して、前記加圧気体の導入を制御することを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のロードポート装置。
  12. 気体流通路と、開閉可能なドアとを有する基板収納容器と、
    基板処理装置に設けられ加圧気体を供給する気体供給手段を備えたロードポート装置とを含み、
    前記基板収納容器を前記ロードポート装置に載置して前記基板収納容器のドアと前記ロードポートドアとを対向させてドッキングさせ、前記基板収納容器のドアを開放して前記基板収納容器の内部に収納された基板を前記基板処理装置の内部に移送するときに、
    前記ロードポート装置の前記気体供給手段により、前記基板収納容器の底部に設けられたフィルタ付きの気体流通路を介して前記基板収納容器の内部に加圧気体を供給することができるようにしたことを特徴とする基板移送システム。
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