TWI756361B - 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體 - Google Patents

基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體 Download PDF

Info

Publication number
TWI756361B
TWI756361B TW107104484A TW107104484A TWI756361B TW I756361 B TWI756361 B TW I756361B TW 107104484 A TW107104484 A TW 107104484A TW 107104484 A TW107104484 A TW 107104484A TW I756361 B TWI756361 B TW I756361B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
cover
attaching
cassette
sensor
abnormality
Prior art date
Application number
TW107104484A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201842614A (zh
Inventor
松本昭博
松下道明
村田晃
田代稔
Original Assignee
日商東京威力科創股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商東京威力科創股份有限公司 filed Critical 日商東京威力科創股份有限公司
Publication of TW201842614A publication Critical patent/TW201842614A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI756361B publication Critical patent/TWI756361B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67373—Closed carriers characterised by locking systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67775—Docking arrangements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

提供可以確認在用以收納基板之卡匣中蓋部是否適當地被安裝之基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體。

基板收納處理裝置(100)具備：載置部(11)，其被配置卡匣，該卡匣具有能夠對開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構(30)，其進行蓋部對被配置於載置部(11)之卡匣之開口部之裝卸，被設置成能夠在與被配置在開口部之位置的蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在開口部之位置的蓋部接觸之退避位置移動；蓋保持感測器部(32c)，其係用以檢測蓋部是否藉由蓋裝卸機構(30)被保持；及控制部(60)，其係根據上述蓋保持感測器部(32c)之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常。

Description

基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體
本發明係關於用以適當地搬運收納基板之卡匣之基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體。
在進行半導體晶圓等之基板之處理的處理系統中，藉由使用被稱為晶圓傳送盒(FOUP：Front Opening Pod)之機密性高的卡匣，可以提升基板搬運時之機密保持性及安全性。在該晶圓傳送盒之卡匣本體設置有用以取出放入基板之開口部，在該開口部以能夠拆卸之方式安裝有藉由閂鎖機構能夠上鎖的蓋部(參照例如專利文獻1)。
在上述處理系統中，藉由蓋部封閉開口部之狀態之卡匣被載置於載置台，藉由具有鑰匙之蓋部裝卸機構開鎖卡匣之蓋部而開放開口部。而且，在開口部開放之狀態下，從卡匣內取出基板，進行基板之處理。處理後之基板再次被收納至卡匣內，之後，藉由蓋裝卸機構，卡匣之開口部藉由蓋部再次被封閉而上鎖。經由該些一連串之處理而被密封之卡匣在收納處理後之基板的狀態下從載置台被搬出。
在上述處理系統中，在對收納基板之卡匣本 體不適當地安裝及上鎖之情況，之後卡匣搬運時，有基板飛出至卡匣外而落下之虞。
不適當地進行蓋部對卡匣本體的安裝及上鎖係因各種原因所引起。例如，應該在封閉卡匣本體之開口部的位置被上鎖而從蓋裝卸機構被分離的蓋部，由於被設置在卡匣之上鎖機構等的故障，有無法從蓋裝卸機構分離，而與蓋裝卸機構一起移動至退避位置之情形。在此情況，因成為原本藉由蓋部被封閉之卡匣本體的開口部被開放之狀態，故在之後的卡匣搬運時有基板飛出的可能性。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2001-358197號公報
本發明係鑒於上述情形而創作出，其目的在於提供可以確認在用以收納基板之卡匣中蓋部是否適當地被安裝之基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體。
本發明之一態樣係一種基板收納處理裝置，具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡 匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行蓋部對被配置於載置部之卡匣之開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在開口部之位置的蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在開口部之位置的蓋部接觸之退避位置移動；蓋保持感測器部，其係用以檢測蓋部是否藉由蓋裝卸機構被保持；及控制部，其係根據蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與蓋部之裝卸有關的異常。
本發明之其他態樣一種基板收納處理方法，其係在基板收納處理裝置中判定有無與蓋部之裝卸有關的異常的基板收納處理方法，該基板收納處理裝置具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；和蓋裝卸機構，其係進行蓋部對被配置於載置部之卡匣之開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在開口部之位置的蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在開口部之位置的蓋部接觸之退避位置移動；該基板收納處理方法包含：藉由蓋保持感測器部檢測蓋部是否藉由蓋裝卸機構被保持之工程；及根據蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與蓋部之裝卸有關的異常之工程。
本發明之其他態樣係關於電腦可讀取之記錄謀體，其係記錄有用以實行上述基板收納處理處理方法之程式的電腦可讀取之記錄媒體，其係記錄有使電腦下述步驟的程式：藉由藉由蓋保持感測器部檢測蓋部是否藉由蓋 裝卸機構被保持之步驟；和根據蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與蓋部之裝卸有關的異常之步驟。
若藉由本發明時，可以確認在用以收納基板之卡匣中，蓋部是否被適當地安裝。
10:卡匣
10b:開口部
10c:蓋部
11:載置部
30:蓋裝卸機構
32c:壓力感測器
39a、39b:異常檢測感測器
60:控制部
W:晶圓
圖1為表示與本發明之一實施型態有關之處理系統之一例的概略俯視圖。
圖2為表示圖1之處理系統具備的基板收納處理裝置之重要部位的概略構成圖。
圖3為表示卡匣之開口部藉由蓋部不被關閉之狀態的剖面圖。
圖4為表示卡匣之開口部藉由蓋部不被關閉之狀態的剖面圖。
圖5為卡匣之概略斜視圖。
圖6為蓋裝卸機構之概略斜視圖。
圖7係簡略地表示在蓋裝卸異常判定中之正常狀態之卡匣及蓋裝卸機構的剖面圖，(a)表示蓋裝卸機構被配置在裝卸位置的狀態，(b)表示蓋裝卸機構被配置在退避位置之狀態。
圖8係簡略地表示在蓋裝卸異常判定中之異常狀態之 卡匣及蓋裝卸機構的剖面圖，(a)表示蓋裝卸機構被配置在裝卸位置的狀態，(b)表示蓋裝卸機構被配置在退避位置之狀態。
圖9A為與第1實施型態有關之基板收納處理方法之流程圖。
圖9B為與第1實施型態有關之基板收納處理方法之流程圖。
圖10為與第1實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
圖11為表示在正常狀態下進行蓋裝卸異常判定之情況的蓋裝卸機構、關閉感測器及異常檢測感測器之配置關係的概略圖，(a)表示在退避位置配置有蓋裝卸機構之狀態，(b)表示在退避位置和裝卸位置之間配置有蓋裝卸機構之狀態，(c)表示在裝卸位置配置有蓋裝卸機構之狀態。
圖12為表示在異常狀態下進行蓋裝卸異常判定之情況的蓋裝卸機構、關閉感測器及異常檢測感測器之配置關係的概略圖，(a)表示在退避位置配置有蓋裝卸機構之狀態，(b)表示在退避位置和裝卸位置之間配置有蓋裝卸機構之狀態，(c)表示在裝卸位置配置有蓋裝卸機構之狀態。
圖13為與第2實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
圖14為與第3實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
圖15為簡略地表示與第4實施型態有關之卡匣及蓋裝 卸機構的剖面圖。
圖16為簡略地表示與第5實施型態有關之卡匣及蓋裝卸機構的剖面圖。
圖17為簡略地表示與第6實施型態有關之卡匣及蓋裝卸機構的剖面圖，(a)表示正常狀態，(b)表示異常狀態。
以下，針對本發明之實施型態，參照附件圖面予以說明。
本發明係能夠適用於系統全體，該系統係可以將蓋部安裝成能夠對收納基板之卡匣的開口部進行裝卸。在以下之實施型態中，對於進行收納處理前之複數基板的卡匣之搬入、從卡匣取出的基板之處理、處理後之基板對卡匣之再收納，及收納處理後之複數基板的卡匣之搬出的處理系統，適用本發明之情形，舉例說明。
圖1為表示與本發明之一實施型態有關之處理系統之一例的概略俯視圖。圖2為表示圖1之處理系統具備的基板收納處理裝置100之重要部位的概略構成圖。
圖1所示之處理系統具備配置收納複數片(例如25片)之半導體晶圓W(以下，稱為晶圓W)之卡匣10的卡匣站1、對從卡匣站1取出之晶圓W施予處理的處理單元2。
圖1所示之處理單元2包含施予阻劑塗佈及顯像處理等之處理的第1處理部2a，和在晶圓W之表面形成 光穿透的液層之狀態下，對晶圓W之表面進行浸潤式曝光之第2處理部2b，和在第1處理部2a和第2處理部2b之間進行晶圓W之收授的介面部2c。但是，處理單元2之具體構成並不特別限定，處理單元2能夠對晶圓W施予任意的處理。
卡匣站1具有載置部11、區隔壁13及基板搬運機構20。
在載置部11設置複數(例如4個)卡匣站12，在各卡匣站12載置卡匣10。被配置在卡匣站12上之卡匣10藉由無圖示之夾持機構被夾持能夠裝卸。區隔壁13區劃載置部11和基板搬運機構20之配置部6，同時具有大於卡匣10之開口部10b的開口13a。開口13a設置與卡匣站12相同數量，被設置在被配置於對接(dock)位置的卡匣站12上之卡匣10之開口部10b對應之位置。基板搬運機構20係從被配置在卡匣站12上之卡匣10搬出晶圓W，同時將結束處理之晶圓W搬入至被配置在卡匣站12上之卡匣10。晶圓W對卡匣10之搬出及搬入，經被形成在卡匣10之開口部10b及被形成在區隔壁13之開口13a被進行。
卡匣站12具有被設置成沿著在被鋪設於載置部11之Y軸方向延伸的導軌11a滑動自如的可動基座12c，且被設置成藉由與可動基座12c連結之移動機構14能夠在Y軸方向移動。各卡匣站12可以在使卡匣10抵接於區隔壁13之對接位置，和從區隔壁13後退之解除對接(undock)位置之間，沿著導軌11a而進退移動。
如圖2所示般，在卡匣站12之上面中央設置有定位銷12a，在定位銷12a之附近配置有感測器12b。當卡匣10被載置於卡匣站12上時，定位銷12a嵌合於卡匣10之底部之凹處(無圖示)而定位卡匣10。當卡匣10被載置於卡匣站12時，感測器12b感測卡匣10，將其感測訊號發送至控制部60。
圖3為表示卡匣10之開口部10b不藉由蓋部10c被關閉之狀態的剖面圖。圖4為表示卡匣10之開口部10b藉由蓋部10c被關閉之狀態的剖面圖。圖5為卡匣10之概略斜視圖。
卡匣10具備能夠收納複數片(例如25片)之晶圓W之卡匣本體10a，和進行晶圓W對卡匣本體10a的搬入及搬出之時使晶圓W通過之開口部10b，和能夠裝卸地被安裝於開口部10b之蓋部10c。在蓋部10c之表面部之左右2處設置有鑰匙孔部10d。在蓋部10c之上下端部之左右兩處(合計4處)以能夠突出縮入之方式設置有閂鎖器10f。藉由該些閂鎖器10f與被設置在卡匣本體10a之開口部10b中之內側面(尤其上下面)之左右兩處(計4處)的卡合孔10e嵌合，進行蓋部10c之上鎖。
即是，鑰匙部31卡合於鑰匙孔部10d，藉由與鑰匙部10d卡合的鑰匙部31，閂鎖部10f被配置在上鎖位置及開鎖位置。更具體而言，當卡合於鑰匙孔部10d之鑰匙部31被轉動90度時，位於蓋部10c之內方的閂鎖器10f同時上下突出，閂鎖器10f嵌合於卡止孔10e。因此，從開口 部10b被拆下的蓋部10c(參照圖3)中，閂鎖器10f基本上位於蓋部10c之內方側。另外，在蓋部10c被安裝於開口部10b(參照圖4)，使鑰匙部31卡合於鑰匙孔部10d之狀態下，當鑰匙部31被轉動90度時，閂鎖器10f突出至蓋部10c之上下方向而卡合於卡止孔10e，蓋部10c相對於開口部10d被上鎖。
接著，針對蓋裝卸機構30進行說明，該蓋裝卸機構30係進行蓋部對被配置在載置部11之卡匣站12的卡匣10之開口部10b的裝卸。
圖6為蓋裝卸機構30之概略斜視圖。從開口部10b拆下蓋部10c之情況，蓋裝卸機構30係藉由卡合於鑰匙孔部10d之鑰匙部31而將閂鎖器10f配置在開鎖位置，藉由吸附保持部32保持蓋部10c。另外，在開口部10b安裝蓋部10c之情況，蓋裝卸機構30係在將蓋部10c配置在開口部10b之位置之狀態下，藉由卡合於鑰匙孔部10d之鑰匙部31將閂鎖器10f配置在上鎖位置。
更具體而言，蓋裝卸機構30如圖2及圖6所示般具備閘門板33。在閘門板33之表面部，於左右兩處突出設置鑰匙部31，同時在兩處設置有墊片狀之吸附保持部32。閘門板33藉由支持構件35被支持，支持構件35被設置成藉由升降機構34(參照圖2)能夠升降。再者，閘門板33係藉由Y軸驅動機構37(參照圖2)，經由線性導件36在蓋部10c之安裝及拆下方向(即是Y軸方向)移動。具體而言，蓋裝卸機構30被設置成能夠移動至與被配置在開口部10b之 位置的蓋部10c接觸的安裝位置，和不與被配置在開口部10b之位置的蓋部10c接觸的退避位置。
吸附保持部32係用以吸附保持蓋部10c之保持手段。吸附保持部32係如圖2所示般，經由配管32a被連接於產生吸附用之負壓的負壓手段之真空泵32b，藉由吸引可以保持蓋部10c。在配管32a設置有測量吸附保持部32之吸引壓的壓力感測器32c，壓力感測器32c之測量結果被發送至控制部60。如此一來，壓力感測器32c係作為測量於吸附保持部32保持蓋部10c之時作用於該蓋部10c之吸引壓的吸引壓感測器而發揮功能。
再者，蓋裝卸機構30係如圖2所示般，設置有關閉感測器38a及開啟感測器38b。關閉感測器38a係被設置在藉由吸附保持部32被吸附保持之蓋部10c被配置在卡匣10之開口部10b之位置的狀態下可以感測蓋裝卸機構30的位置。開啟感測器38b被設置在不感測被配置於裝卸位置之蓋裝卸機構30，但是感測被配置在退避位置之蓋裝卸機構30的位置。關閉感測器38a及開啟感測器38b之檢測訊號被送至控制部60。
再者，如圖2所示般，在區隔壁13之開口13a之上下緣設置有異常檢測感測器39a、39b。異常檢測感測器39a、39b不僅可以檢測從卡匣10突出之狀態之晶圓W，亦可以檢測從開口部10b突出之蓋部10c，檢測晶圓W及蓋部10c是否適當地被配置。例如，在開口部10b藉由蓋部10c被覆蓋之狀態下，於使蓋裝卸機構30後退至開啟感測 器38b檢測之情況，有蓋部10c傾斜，開口部10b成為半開啟的狀態。在此情況，藉由傾斜之蓋部10c藉由異常檢測感測器39a、39b被檢測，可以檢測出蓋部10c在異常狀態。如此一來，因應異常檢測感測器39a、39b之檢測結果，可以確認蓋部10c是否被適當配置。另外，異常檢測感測器39a、39b之檢測訊號被送至控制部60。
上述移動機構14、鑰匙部31之上鎖操作及開鎖操作、升降機構34、Y軸驅動機構37及真空泵32b藉由控制部60被驅動控制。
控制部60除運算部61之外，包含儲存用以實行各處理工程之程式及資料的控制程式儲存部62、讀取部63及記憶部64。再者，控制部60包含用以根據各種感測器之檢測訊號通知異常狀態的顯示部67，和被插裝於讀取部63之記錄媒體68，亦即記憶有使控制部60實行控制程式之軟體的電腦可讀取之記錄媒體68。控制部60連接有輸入部65，和顯示處理工程畫面之監視部66。具有上述構成之控制部60係根據控制程式而對上述各部輸出控制訊號。
另外，運算部61係藉由硬體及軟體之組合能夠實現。例如，作為硬體，可以使用通用電腦，作為軟體，可以使用用以使該通用電腦動作之程式。軟體即使被儲存於藉由硬體能夠讀取之任意之記錄媒體68(即是，非暫時性之電腦可讀取的記錄媒體)亦可。即是，即使軟體被儲存於故定性地被設置在電腦之硬碟驅動器等之記錄媒體68亦可，或是軟體被儲存於光碟、快閃記憶體、軟碟或 記憶卡等之能夠裝卸地被設置在電腦的記錄媒體68亦可。被儲存於記錄媒體68之控制程式被安裝於控制部60而被使用。因此，即使在記錄媒體68記錄有用以使電腦實行在以下說明之基板收納處理方法中被進行的各步驟的程式。
(基板收納處理裝置及基板收納處理方法)
在具有上述構成之處理系統中，設置有具備蓋保持感測器部及異常判定部之基板收納處理裝置100。蓋保持感測器部能夠藉由各種感測器構成，直接性或間接性地檢測是否藉由蓋裝卸機構30保持蓋部10c。異常判定部係藉由控制部60被構成，進行根據蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與蓋部10c之裝卸有關之異常(即是，蓋裝卸異常判定)。以下，針對如此之基板收納處理裝置100之代表性的實施型態進行說明。
[第1實施型態]
在本實施型態中，壓力感測器32c作為蓋保持感測器部而動作。即是，控制部60(即是，異常判定部)係根據壓力感測器32c之測量結果，進行與蓋部10c之裝卸有關之蓋裝卸異常判定。
圖7係簡略地表示在蓋裝卸異常判定中之正常狀態之卡匣10及蓋裝卸機構30的剖面圖，(a)表示蓋裝卸機構30被配置在裝卸位置的狀態，(b)表示蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態。圖8係簡略地表示在蓋裝卸異 常判定中之異常狀態之卡匣10及蓋裝卸機構30的剖面圖，(a)表示蓋裝卸機構30被配置在裝卸位置的狀態，(b)表示蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態。
在卡匣10及蓋裝卸機構30正常作動之情況，藉由鑰匙部31將閂鎖器10f配置在上鎖位置之後，蓋裝卸機構30從安裝位置(參照圖7(a))移動至退避位置(參照圖7(b))時，蓋部10c被安裝於開口部10b之狀態下，僅蓋裝卸機構30移動至退避位置。即是，被配置在退避位置之蓋裝卸機構30不保持蓋部10c。
另外，卡匣10及/或蓋裝卸機構30之作動有異常之情況，即使鑰匙部31進行用以將閂鎖器10f配置在上鎖位置之上鎖動作，實際上也有閂鎖器10f也不被配置在上鎖位置，蓋部10c不被適當地安裝在開口部10b之情形。在此情況，有當蓋裝卸機構30從安裝位置(參照圖8(a))移動至退避位置(參照圖8(b))時，蓋部10c與蓋裝卸機構30同時移動至退避位置的情形。即是，蓋裝卸機構30係在保持蓋部10c之狀態下，從安裝位置移動至退避位置，與蓋部10c同時被配置在退避位置。
藉由控制部60進行的上述蓋裝卸異常判定係用以檢測出圖8(a)及(b)所示之異常舉動的判定。即是，藉由檢測原本蓋部10c被安裝在開口部10b之狀態下僅有蓋裝卸機構30應移動至退避位置之時，蓋裝卸機構30是否與蓋部10c同時移動至退避位置，判定有無蓋裝卸異常。
在本實施型態中，蓋裝卸機構30被配置在退 避位置之狀態下，真空泵32b作動而藉由壓力感測器32c進行測量，取得表示藉由吸附保持部32所帶來的吸引壓之配管32a的壓力。而且，控制部60根據從壓力感測器32c之測量結果導出之「被配置在退避位置之蓋裝卸機構30是否保持蓋部10c」之推定，進行蓋裝卸異常判定。
在以下中，在進行與上述蓋裝卸異常判定不同的第1異常判定(參照圖9A之S14)及第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)之異常判定處理中，針對一起進行上述蓋裝卸異常判定之例進行說明。第1異常判定係判定有無與蓋部10c之裝卸有關的異常，其係蓋部10c被設置在開口部10b之位置，並且閂鎖器10f被配置在上鎖位置之狀態下，使蓋裝卸機構30從裝卸裝置朝向退避位置移動之後，根據異常檢測感測器39a、39b之檢測結果而被進行。第2異常判定係判定有無與蓋部10c之裝卸有關的異常，其係使蓋裝卸機構30朝向安裝位置移動之後，根據在實行用以將蓋部10c保持在吸附保持部32之吸引的狀態下執行的壓力感測器32c之測量結果而被進行。但是，上述蓋裝卸異常判定即使不與第1異常判定/或第2異常判定同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨地進行亦可。
圖9A及圖9B為與第1實施型態有關之基板收納處理方法之流程圖。
如上述般，根據來自控制部60之控制訊號，處理後之晶圓W被收納在被配置在對接位置之卡匣10內， 使保持於蓋裝卸機構30之蓋部10c移動至卡匣10之開口部10b而藉由蓋部10c關閉開口部10b，蓋部10c藉由閂鎖器10f被上鎖(圖9A之步驟S11)。該狀態係若使蓋裝卸機構30及/或載置部11後退時，能夠從鑰匙孔部10d拔出鑰匙部31之狀態。
接著，使蓋裝卸機構30從裝卸位置後退至退避位置(S12)。此時，蓋部10c藉由閂鎖器10f被上鎖，若鑰匙部31和鑰匙孔部10d之間無干擾，在蓋裝卸機構30不保持蓋部10c之狀態下移動。
而且，藉由開啟感測器38b檢測蓋裝卸機構30是否被配置在退避位置。被配置在退避位置之蓋裝卸機構30藉由開啟感測器38b被檢測到之情況(S13之Y)，處理前進至下一個步驟S14。另外，蓋裝卸機構30藉由開啟感測器38b不被檢測之情況(S13之N)，推定蓋裝卸機構30不被配置在退避位置。在此情況，藉由控制部60輸出錯誤(蓋裝卸機構開啟錯誤)之訊號被輸出(參照圖13之「錯誤輸出(a)」)，控制部60之記憶部64記憶錯誤資訊，處理前進至下一個步驟S14。
在步驟S14中，藉由異常檢測感測器39a、39b，檢測有無蓋部10c從開口部10b之位置飛出，或晶圓W從卡匣本體10a飛出這樣的異常，進行判定(即是第1異常判定)收納晶圓W之卡匣10是否在確實地關蓋的狀態(S14)。當異常檢測感測器39a、39b幾次都無檢測到之情況(S14之N)下，判定無異常，處理前進至下一個步驟 S15。另外，異常檢測感測器39a、39b檢測到物體之情況(S14之Y)，判定在蓋部10c之狀態有異常。在此情況，藉由控制部60輸出蓋裝卸機構關閉錯誤之訊號而產生警報(S14-1)，告知操作員異常。被告知異常的操作員於將晶圓W適當地收納至卡匣本體10a而在適當的位置配置蓋部10c之後，處理前進至下一個步驟S15。
在步驟S15中，進行蓋裝卸異常判定。在本實施型態中，如上述般，根據壓力感測器32c之測量結果，進行蓋裝卸異常判定。
圖10為與第1實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
在本實施型態之蓋裝卸異常判定處理中，首先，在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態下，開始吸附保持部32對蓋部10c之吸附處理，真空泵32b係以使配管32a成為負壓之方式被作動。在該狀態下，藉由壓力感測器32c進行測量，測量結果被送至控制部60(圖10之S15-1)。控制部60在壓力感測器32c之測量值在適當之壓力範圍之情況(S15-2Y)，判定無蓋裝卸異常(S15-3)，在壓力感測器32c之測量值不在適當之壓力範圍之情況(S15-2N)，判定有蓋裝卸異常(S15-4)。
另外，在此所稱的「適當的壓力範圍」係指假設吸附保持部32不保持蓋部10c之情況的吸附保持部32之吸引壓(即是，配管32a之負壓)的範圍。在上述蓋裝卸異常判定中，認為在正常狀態下，被配置在退避位置之蓋裝 卸機構30不保持蓋部10c(參照圖7(b))，但在異常狀態下，被配置在退避位置之蓋裝卸機構30保持蓋部10c(參照圖8(b))。因此，配管32a在吸附保持部32能夠保持蓋部10c之程度的負壓之狀態的情況，被推定吸附保持部32保持蓋部10c，被判定蓋裝卸機構30及蓋部10c在異常狀態。另外，配管32a不在吸附保持部32能夠保持蓋部10c之程度的負壓之狀態的情況，被推定吸附保持部32不保持蓋部10c，被判定蓋裝卸機構30及蓋部10c在正常狀態。
在上述蓋裝卸異常判定處理中判定無異常之情況(圖9A之S16之N)，處理前進至下一個步驟S17。另外，在上述蓋裝卸異常判定處理中判定具有異常之情況(S16之Y)，藉由控制部60輸出錯誤之訊號(參照圖9A之「參照錯誤輸出(b)」，控制部60之記憶部64記憶錯誤資訊，處理前進至下一個步驟S17。
在步驟S17中，使在退避位置之蓋裝卸機構30朝向安裝位置移動，且以使蓋裝卸機構30之鑰匙部31插入至蓋部10c之鑰匙孔部10d之方式，使蓋裝卸機構30前進。而且，進行藉由關閉感測器38a檢測蓋裝卸機構30。在關閉感測器38a檢測出蓋裝卸機構30被配置在安裝位置之情況(S18之Y)，控制部60推定鑰匙部31正常地卡合於鑰匙孔部10d，判定無異常，處理前進至下一個步驟S19。另外，在關閉感測器38a不檢測蓋裝卸機構30被配置在安裝位置之情況(S18之N)，控制部60推定鑰匙部31無適當地卡合於鑰匙孔部10d，判定具有異常。在此情況，藉由控制 部60輸出錯誤之訊號被輸出(參照圖9A之「錯誤輸出(c)」)，控制部60之記憶部64記憶錯誤資訊，處理前進至下一個步驟S19。
在步驟S19中，因藉由吸附保持部32吸附保持蓋部10c，故將真空泵32b設為ON以使配管32a成為負壓，在該狀態下，藉由壓力感測器32c進行測量，測量結果被送至控制部60。控制部60係在壓力感測器32c之測量值在適當之壓力範圍的情況(S20之Y)，推定蓋部10c藉由吸附保持部32被適當保持，判定無與蓋部10c之裝卸有關的異常，處理前進至下一個步驟S21(參照圖9B)。另外，控制部60係在壓力感測器32c之測量值不在適當的壓力範圍之情況(S20之N)，推定蓋部10c不藉由吸附保持部32被適當保持，判定具有與蓋部10c之裝卸有關的異常。在此情況，藉由控制部60輸出錯誤之訊號被輸出(參照圖9A之「錯誤輸出(d)」)，控制部60之記憶部64記憶錯誤資訊，處理前進至下一個步驟S21。
另外，在此所稱的「適當的壓力範圍」係指假設吸附保持部32保持蓋部10c之情況的吸附保持部32之吸引壓(即是，配管32a之負壓)的範圍。在該異常判定(即是，第2異常判定)中，在正常狀態下，被配置在安裝位置之蓋裝卸機構30對被配置在開口部10b之位置的蓋部10c適當地接觸，蓋部10c藉由蓋裝卸機構30適當地被吸附保持。另外，在異常狀態下，蓋裝卸機構30在安裝位置並無與蓋部10c適當地接觸，作為如此之異常狀態，可舉出例 如鑰匙部31並無適當地卡合於鑰匙孔部10d之情況(例如，鑰匙孔部10d之方向不適當之情況或蓋裝卸機構30傾斜而無與蓋部10c適當地接觸之情況等)，或在開口部10b無配置蓋部10c之情況等。
接著，為了從藉由吸附保持部32進行的吸附保持釋放蓋部10c，使真空泵32b成為OFF解除配管32a之負壓。在該狀態下，藉由壓力感測器32c進行測量，該測量之結果被送至控制部60(S21)。控制部60係在壓力感測器32c之測量值在適當的壓力範圍之情況(S22之Y)，推定蓋部10c從吸附保持適當地被釋放，判定無異常，處理前進至下一個步驟S23。另外，在壓力感測器32c之測量值不在適當的壓力範圍之情況(S22之N)，控制部60推定蓋部10c不從吸附保持適當地被釋放，判定具有異常。在此情況，藉由控制部60輸出錯誤訊號而產生警報(S22-1)，告知操作員異常。被告知異常之操作員解除配管32a之負壓狀態及吸附保持部32所致的蓋部10c之吸附保持之後，處理前進至下一個步驟S23。
配管32a之負壓狀態及吸附保持部32所致的蓋部10c之吸附保持被解除之後，驅動移動機構14而使被載置於卡匣站12之卡匣10後退至解除對接位置(S23)。
將卡匣10配置在解除對接位置之後，控制部60判斷在上述一連串之確認動作中有無異常。在上述一連串確認動作中無異常之情況(S24之N)，因蓋部10c適當地封閉開口部10b而被上鎖，故卡匣10從卡匣站12被解除夾 持，藉由無圖示之卡匣搬運機構從載置部11被搬出(S25)。
另外，在上述一連串確認動作中有異常之情況(S24之Y)，為了確認，對卡匣站12上之卡匣10進行解除夾持(S26)，控制部60係將被記憶於記憶部64之錯誤資訊顯示於顯示部67(S27)。藉由該顯示，可以確認(a)蓋裝卸機構開啟錯誤(參照S13之N)，(b)蓋裝卸錯誤(參照S16之Y)，(c)蓋裝卸機構關閉錯誤(參照S18之N)，及(d)VAC ON錯誤(參照S20)。
操作員係根據錯誤資訊，進行卡匣10之確認及卡匣10之適當化，將適當之狀態的卡匣10載置於卡匣站12(S28)。之後，在錯誤資訊之顯示被解除(S29)，蓋部10c適當地封閉開口部10b而被上鎖之狀態下，卡匣10從卡匣站12被解除夾持，藉由無圖示之卡匣搬運機構從載置部11被搬出(S30)。
如上述般，控制部60係在第1異常判定中，判定有無與蓋部10c之裝卸有關的異常，其係蓋部10c被設置在開口部10b之位置的狀態下，使蓋裝卸機構30從裝卸裝置朝向退避位置移動之後，根據異常檢測感測器39a、39b之檢測結果而進行。再者，在第2異常判定中，判定有無與蓋部之裝卸有關的異常，其係在第1異常判定之後，亦即使蓋裝卸機構30朝向安裝位置移動之後，根據在實行用以將蓋部10c保持在吸附保持部32之吸引的狀態下執行的壓力感測器32c之測量結果而進行。而且，控制部60係 根據壓力感測器32c之測量的結果，根據蓋裝卸機構30是否保持蓋部10c，進行蓋裝卸異常判定。如此一來，藉由進行兩次第1異常判定和第2異常判定這樣的蓋裝卸異常判定，可以以非常高之可靠性確認蓋部10c在收納晶圓W之卡匣10中被適當地安裝。
另外，在上述基板收納處理裝置100及基板收納處理方法中，雖然在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態下進行蓋裝卸異常判定，但是即使在蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置移動之期間進行上述蓋裝卸異常判定亦可。再者，即使蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動之期間進行上述蓋裝卸異常判定亦可。即是，若為正常狀態時，即使在蓋裝卸機構30不接觸於被配置在開口部10b之蓋部10c的位置及時序(即是，蓋裝卸機構30被配置在安裝位置以外之位置及安裝位置以外之位置的時序)，壓力感測器32c進行測量，根據該測量之結果進行蓋裝卸異常判定亦可。
[第2實施型態]
在本實施型態中，對與上述第1實施型態相同或類似之構成賦予相同之符號，省略其詳細說明。
在本實施型態中，關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b作為蓋保持感測器部而動作，控制部60(即是，異常判定部)係根據關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b之檢測結果，判定與蓋部10c之裝卸有關的 蓋裝卸異常判定。
異常檢測感測器39a、39b係檢測在蓋裝卸機構30之路徑中，安裝位置和退避位置之間的特定位置有無物體的感測器。另外，關閉感測器38a係檢測有無蓋裝卸機構30的感測器，雖然檢測被配置在安裝位置之蓋裝卸機構30，但不檢測被配置在退避位置之蓋裝卸機構30。在圖2所示之裝置中，藉由持有柱體狀之殼體的Y軸驅動機構37，調整作為蓋裝卸機構30之一部分而被設置的活塞從該殼體突出的突出量，使蓋裝卸機構30全體在Y軸方向驅動。在該裝置構成中，藉由關閉感測器38a，檢測出在Y軸驅動機構37之殼體內蓋裝卸機構30之活塞之前端位置，檢測蓋裝卸機構30是否被配置在安裝位置。
圖11為表示在正常狀態下進行蓋裝卸異常判定之情況的蓋裝卸機構30、關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b之配置關係的概略圖，(a)表示在退避位置配置有蓋裝卸機構30之狀態，(b)表示在退避位置和裝卸位置之間配置有蓋裝卸機構30之狀態，(c)表示在裝卸位置配置有蓋裝卸機構30之狀態。圖12為表示在異常狀態下進行蓋裝卸異常判定之情況的蓋裝卸機構30、關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b之配置關係的概略圖，(a)表示在退避位置配置有蓋裝卸機構30之狀態，(b)表示在退避位置和裝卸位置之間配置有蓋裝卸機構30之狀態，(c)表示在裝卸位置配置有蓋裝卸機構30之狀態。
在蓋裝卸異常判定中，因正常狀態之蓋裝卸 機構30不保持蓋部10c，故在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之期間，異常檢測感測器39a、39b不檢測物體，異常檢測感測器39a、39b之檢測訊號成為OFF(參照圖11(a))。而且，在蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動之途中，異常檢測感測器39a、39b檢測蓋裝卸機構30(參照圖11(b))，因應其檢測時序，表示檢測ON之檢測訊號從異常感檢測感測器39a、39b被送至控制部60。而且，蓋裝卸機構30到達至安裝位置時，關閉感測器38a檢測蓋裝卸機構30之活塞30a(參照圖11(c))，因應其檢測時序，表示檢測ON之檢測訊號從關閉感測器38a被發送至控制部60。
另外，在蓋裝卸異常判定中，即使蓋裝卸機構30保持蓋部10c，蓋裝卸機構30在異常狀態之情況，蓋裝卸機構30被配置在退避位置之期間，異常檢測感測器39a、39b不檢測物體(參照圖12(a))，在蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動之途中，異常感測感測器39a、39b檢測蓋部10c(參照圖12(b))，因應其檢測時序，表示檢測ON之檢測訊號從異常檢測感測器39a、39b被發送至控制部60。如此一來，蓋裝卸機構30在異常狀態之情況，異常檢測感測器39a、39b在蓋裝卸機構30之前檢測蓋部10c。因此，在以蓋裝卸機構30從退避位置開始移動之時序為基準之情況，圖12(b)所示之異常檢測感測器39a、39b之檢測時序，較圖11(b)所示之異常檢測感測器39a、39b之檢測時序早。
而且，蓋裝卸機構30到達至安裝位置時，關 閉感測器38a檢測蓋裝卸機構30之活塞30a(參照圖12(c))，因應其檢測時序，表示檢測ON之檢測訊號從關閉感測器38a被發送至控制部60。如此一來，圖2(c)所示之關閉感測器38a如圖11(c)所示般，與關閉感測器38a同樣，檢測蓋裝卸機構30之活塞30a。因此，在以蓋裝卸機構30從退避位置開始移動之時序為基準之情況，圖12(c)所示之關閉感測器38a之檢測時序，與圖11(c)所示之關閉感測器38a之檢測時序相同。
因此，從異常檢測感測器39a、39b之檢測時序，到關閉感測器38a之檢測時序為止之時間(即是，兩檢測時序之時間差)，係蓋裝卸機構30在異常狀態之情況(參照圖12)，較蓋裝卸機構30在正常狀態之情況(參照圖11)長。
於是，本實施型態之控制部60(即是，異常判定部)係於蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動之時，根據異常檢測感測器39a、39b在退避位置和安裝位置之間之特定位置檢測到物體之時序，和關閉感測器38a檢測到蓋裝卸機構30之時序的時間差，進行蓋裝卸異常判定。
圖13為與第2實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
在本實施型態之蓋裝卸異常判定處理中，首先蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置開始移動(圖13之S41)。而且，控制部60取得異常檢測感測器39a、39b成 為檢測ON之時序(S42)，再者取得關閉感測器38a成為檢測ON之時序(S43)，取得異常檢測感測器39a、39b成為檢測ON之時序和關閉感測器38a成為檢測ON之時序的時間差(S44)。而且，控制部60係該時間差在適當的時間範圍之情況(S45之Y)，判定無蓋裝卸異常(S46)，在該時間差不在適當的時間範圍之情況(S45之N)，判定成有蓋裝卸異常(S47)。另外，在此所稱的「適當的時間範圍」係指假設在吸附保持部32不保持蓋部10c之情況的上述時間差之範圍。該「適當的時間範圍」雖然會因蓋裝卸機構30之移動速度、蓋裝卸機構30及蓋部10c之尺寸，及異常檢測感測器39a、39b及關閉感測器38a之檢測位置等之各種原因而變動，但典型上，將0.5秒~1.5秒程度之時間範圍設為「適當的時間範圍」。
另外，圖13所示之本實施型態之蓋裝卸異常判定即使與上述第1異常判定(參照圖9A之S14)及/或第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨進行亦可。在圖9A及圖9B所示之處理中，進行蓋裝卸異常判定之情況，雖然上述第1實施型態之蓋裝卸異常判定(參照圖9A之S15)係於蓋裝卸機構30從安裝位置後退至退避位置(參照圖9A之S12)之後被進行，但是本實施型態之蓋裝卸異常判定以在蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置前進之時(參照圖9A之S17)被進行為佳。
[第3實施型態]
在本實施型態中，對與上述第2實施型態相同或類似之構成賦予相同之符號，省略其詳細說明。
在本實施型態中，與上述第2實施型態相同，關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b作為蓋保持感測器部而動作，控制部60(即是，異常判定部)係根據關閉感測器38a及異常檢測感測器39a、39b之檢測結果，判定與蓋部10c之裝卸有關的蓋裝卸異常判定。
但是，本實施型態之控制部60(即是，異常判定部)係於蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置移動之時，根據關閉感測器38a不再檢測蓋裝卸機構30之時序，和異常檢測感測器39a、39b在安裝位置和退避位置之間之特定位置不再檢測物體之時序的時間差，進行蓋裝卸異常判定。
以蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置開始移動之時序為基準之情況，異常檢測感測器39a、39b不再檢測物體之時序(即是，檢測OFF時序)，係蓋裝卸機構30不保持蓋部10c之情況較蓋裝卸機構30保持蓋部10c之情況更早。另外，以蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置開始移動之時序為基準之情況，關閉感測器38a不再檢測蓋裝卸機構30(即是，活塞30a)之時序(即是，檢測OFF時序)，係蓋裝卸機構30保持蓋部10c之情況與蓋裝卸機構30不保持蓋部10c之情況相同。
因此，從關閉感測器38a之檢測OFF之時序 到異常檢測感測器39a、39b之檢測OFF之時序為止之時間(即是，兩檢測OFF時序之時間差)，係蓋裝卸機構30保持蓋部10c而在異常狀態之情況，較蓋裝卸機構30不保持蓋部10c而在正常狀態之情況更長。
圖14為與第3實施型態有關之蓋裝卸異常判定處理之流程圖。
在本實施型態之蓋裝卸異常判定處理中，首先蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置開始移動(圖14之S51)。而且，控制部60取得關閉感測器38a成為檢測OFF之時序(S52)，再者取得異常檢測感測器39a、39b成為檢測OFF之時序(S53)，取得關閉感測器38a成為檢測OFF之時序和異常檢測感器39a、39b成為檢測OFF之時序的時間差(S54)。而且，控制部60係該時間差在適當的時間範圍之情況(S55之Y)，判定無與蓋部10c之裝卸有關的異常(S56)，在該時間差不在適當的時間範圍之情況(S55之N)，判定成有與蓋部10c之裝卸有關的異常(S57)。另外，在此所稱的「適當的時間範圍」係指假設在吸附保持部32不保持蓋部10c之情況的上述時間差之範圍。
另外，圖14所示之本實施型態之蓋裝卸異常判定即使與上述第1異常判定(參照圖9A之S14)及/或第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨進行亦可。在圖9A及圖9B所示之處理中，進行本實施型態之蓋裝卸異常判定之情況，以在蓋裝卸機構30從安裝位置後退至退避位置之期間 (參照圖9A之S12)進行蓋裝卸異常判定為佳。
[第4實施型態]
在本實施型態中，對與上述第1實施型態相同或類似之構成賦予相同之符號，省略其詳細說明。
圖15為簡略地表示與第4實施型態有關之卡匣10及蓋裝卸機構30的剖面圖。
在本實施型態中，在卡匣站12上設置有重量感測器70。重量感測器70測量被配置在載置部11之卡匣站12之卡匣10之重量，將測量結果發送至控制部60。
本實施型態之控制部60(即是異常判定部)根據重量感測器70之測量結果，進行蓋裝卸異常判定。在蓋部10c被配置在開口部10b之位置而被上鎖之情況，卡匣10之重量也包含蓋部10c之重量。另外，在蓋部10c不被配置在開口部10b之位置而被上鎖之情況，卡匣10之重量不包含蓋部10c之重量。因此，蓋裝卸機構30保持蓋部10c而在異常狀態之情況(參照圖8(b)，較蓋裝卸機構30不保持蓋部10c而在正常狀態之情況(參照圖7(b))，藉由重量感測器70被測量的卡匣10之重量輕。
因此，本實施型態之控制部60取得蓋裝卸機構30從安裝位置離開之期間被進行的重量感測器70之測量的結果，在該測量結果在適當的重量範圍之情況，判定無蓋裝卸異常，該測量結果不在適當的重量範圍之情況，判定有蓋裝卸異常。另外，在此所稱的「適當的重量範圍」 係指假設在蓋裝卸機構30不保持蓋部10c之情況的卡匣10之重量，即是收納處理後之晶圓W而藉由蓋部10c被密閉之卡匣10之重量的範圍。
另外，本實施型態之蓋裝卸異常判定即使與上述第1異常判定(參照圖9A之S14)及/或第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨進行亦可。在圖9A及圖9B所示之處理中，進行本實施型態之蓋裝卸異常判定之情況，以在蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置開始移動之後(參照圖9A之S12)，亦即蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動(參照圖9A之S17)，蓋裝卸機構30被配置在安裝位置之前，進行蓋裝卸異常判定為佳。即是，本實施型態之蓋裝卸異常判定以在蓋裝卸機構30被配置在安裝位置以外之位置之期間被進行為佳。
另外，雖然圖15所示之重量感測器70直接性地測量卡匣10之重量，但是即使將間接性地測量卡匣10之重量之感測器作為重量感測器使用亦可。例如，即使使用側量卡匣10及卡匣站12之重量的重量感測器亦可。
[第5實施型態]
在本實施型態中，對與上述第1實施型態相同或類似之構成賦予相同之符號，省略其詳細說明。
圖16為簡略地表示與第5實施型態有關之卡匣10及蓋裝卸機構30的剖面圖。
在本實施型態中，設置有與被配置在卡匣站12上之卡匣10之內部(即是，卡匣本體10a內)連通之氣體流入路72及氣體流出路73，和檢測氣體流出路73之壓力而將檢測結果發送至控制部60之壓力感測器74。在卡匣10之內部，氣體從氣體供給部75經由氣體流入路72被送出，卡匣10之內部之氣體流出至氣體流出部73。
另外，雖然從氣體流入路72被送至卡匣10之內部的氣體並不特別限定，但是典型上係氮等之惰性氣體從氣體流入路72被送至卡匣10之內部。再者，從氣體流入路72朝卡匣10之內部的氣體流入量，及從卡匣10之內部朝氣體流出路73的氣體流出量並不特別限定。但是，依據卡匣10藉由蓋部10c被封閉之狀態下，使氣體從氣體流入路72流入至卡匣10之內部，可以使卡匣10之內部之氣壓及氣體流出路73內之氣壓上升之方式，構成各要素。
再者，卡匣10之內部之氣壓和氣體流出路73之氣壓不一定要一致，但藉由壓力感測器74被檢測的氣體流出路73之氣壓與卡匣10之內部之氣壓具有相關。因此，雖然壓力感測器74直接性地測量氣體流出路73之氣壓，但是間接性地測量卡匣10之內部的氣壓。
如此一來，在本實施型態中，設置有對被在設置載置部11之卡匣站12的卡匣10內供給氣體之氣體供給部75，和測量卡匣10內之氣壓的壓力感測器74。而且，本實施型態之控制部60(即是，異常判定部)係根據氣體供給部75對卡匣10內供給氣體之期間或供給之後的壓力感測器 74之測量結果，進行蓋裝卸異常判定。
在蓋部10c被配置在開口部10b之位置而適當地被上鎖之情況，卡匣10被密閉，藉由從氣體供給部75朝卡匣10內供給氣體，卡匣10內之氣壓上升。另外，蓋部10c不被適當地配置在開口部10b之位置之情況，因開口部10b之一部分或全部被開放，故即使氣體從氣體供給部75被供給至卡匣10內，卡匣10內之氣壓不上升或該氣壓僅些許上升。
因此，本實施型態之控制部60取得蓋裝卸機構30從安裝位置離開之期間被進行的重量感測器74之測量的結果，在該測量結果在適當的重量範圍之情況，判定無蓋裝卸異常，該測量結果不在適當的重量範圍之情況，判定有蓋裝卸異常。另外，在此所稱的「適當的氣壓範圍」係指假設在卡匣10藉由蓋部10c被密閉之狀態，氣體從氣體供給部75被供給至卡匣10內之情況的卡匣10內之氣壓的範圍。
另外，本實施型態之蓋裝卸異常判定即使與上述第1異常判定(參照圖9A之S14)及/或第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨進行亦可。在圖9A及圖9B所示之處理中，進行本實施型態之蓋裝卸異常判定之情況，以在蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置開始移動之後(參照圖9A之S12)，亦即蓋裝卸機構30從退避位置朝向安裝位置移動(參照圖9A之S17)，蓋裝卸機構30被配置在安裝位置 之前被進行為佳。即是，本實施型態之蓋裝卸異常判定以在蓋裝卸機構30被配置在安裝位置以外之位置之期間被進行為佳。
[第6實施型態]
在本實施型態中，對與上述第1實施型態相同或類似之構成賦予相同之符號，省略其詳細說明。
圖17為簡略地表示與第6實施型態有關之卡匣10及蓋裝卸機構30的剖面圖，(a)表示正常狀態，(b)表示異常狀態。
在本實施型態中，設置有直接檢測藉由被配置在退避位置之蓋裝卸機構30而被保持之蓋部10c的蓋檢測感測器80以作為蓋保持感測器部，蓋檢測感測器80之測量結果被發送至控制部60。
本實施型態之控制部60(即是異常判定部)根據蓋檢測感測器80之檢測結果，進行蓋裝卸異常判定。在蓋裝卸異常判定中，認為在正常狀態下，被配置在退避位置之蓋裝卸機構30不保持蓋部10c(參照圖7(b))，但在異常狀態下，被配置在退避位置之蓋裝卸機構30保持蓋部10c(參照圖8(b))。在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態下，蓋裝卸機構30不保持蓋部10c之情況，蓋檢測感測器80不檢測物體，在檢測OFF之狀態(參照圖17(a))。另外，在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態下，蓋裝卸機構30保持蓋部10c之情況下，蓋檢測感測器80檢測蓋部 10c，表示檢測ON之檢測訊號從蓋檢測感測器80被送至控制部60(參照圖17(b))。
因此，本實施型態之控制部60在蓋裝卸機構30被配置在退避位置之狀態下，不從蓋檢測感測器80接收表示檢測ON之檢測訊號之情況，判定無蓋裝卸異常，從蓋檢測感測器80接收到表示感測ON之檢測訊號之情況，判定具有蓋裝卸異常。
另外，本實施型態之蓋裝卸異常判定即使與上述第1異常判定(參照圖9A之S14)及/或第2異常判定(參照圖9A之S18~S20)同時進行亦可，即使與第1異常判定及第2異常判定無關係單獨進行亦可。在圖9A及圖9B所示之處理中，進行本實施型態之蓋裝卸異常判定之情況，以在蓋裝卸機構30從安裝位置朝向退避位置移動(參照圖9A之S12)，蓋裝卸機構30被配置退避位置之期間，進行蓋裝卸異常判定為佳。
[變形例]
本發明並不限定於上述實施型態及變形例，也可以包含加上該發明所屬技術領域中具有通常知識者能思及的各種變形的各種態樣，藉由本發明能達到的效果並不限定於上述事項。因此，在不脫離本發明之技術思想及主旨的範圍，能夠對申請專利範圍及說明書所記載之各要素進行各種追加、變更及部分性刪除。
例如，即使組合上述實施型態之2以上，根 據複數方式進行蓋裝卸異常判定亦可。
再者，在上述實施型態中，雖然對進行阻劑塗佈及顯像處理等之處理的處理單元2，適用與本發明之實施型態有關之基板收納處理裝置及基板收納處理方法，但是本發明即使對進行其他處理之裝置及方法亦可以適用。例如，即使對進行基板之洗淨處理及蝕刻處理等之半導體處理的處理裝置及處理方法，亦能夠適用本發明。
11:載置部
12:卡匣站
12a:定位銷
12b:感測器
12c:可動基座
13:區隔壁
13a:開口
14:移動機構
30:蓋裝卸機構
31:鑰匙部
32:吸附保持部
32a:配管
32b:真空泵
32c:壓力感測器
33:閘門板
34:升降機構
37:Y軸驅動機構
38a:關閉感測器
38b:開啟感測器
39a、39b:異常檢測感測器
60:控制部
61:運算部
62:控制程式儲存部
63:讀取部
64:記憶部
65:輸入部
66:監視部
67:顯示部
68:記錄媒體
100:基板收納處理裝置

Claims (11)

  1. 一種基板收納處理裝置，具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行上述蓋部對被配置於上述載置部之上述卡匣之上述開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸之退避位置移動；蓋保持感測器部，其係用以檢測蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持；及控制部，其係根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常，上述蓋保持感測器部具有：異常檢測感測器，其係檢測在上述安裝位置和上述退避位置之間的特定位置有無物體；和關閉感測器，其係檢測有無上述蓋裝卸機構的關閉感測器，且該關閉感測器係檢測被配置在上述安裝位置之上述蓋裝卸機構，但不檢測被配置在上述退避位置之上述蓋裝卸機構，上述控制部係根據上述異常檢測感測器及上述關閉感測器之檢測結果，判定有無上述異常。
  2. 一種基板收納處理裝置，具備： 載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行上述蓋部對被配置於上述載置部之上述卡匣之上述開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸之退避位置移動；蓋保持感測器部，其係用以檢測蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持；及控制部，其係根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常，上述蓋保持感測器部具有重量感測器，該重量感測器測量被配置在上述載置部之上述卡匣之重量，上述控制部係根據上述重量感測器之測量結果，判定有無上述異常。
  3. 一種基板收納處理裝置，具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行上述蓋部對被配置於上述載置部之上述卡匣之上述開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸之退避位置移動； 蓋保持感測器部，其係用以檢測蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持；及控制部，其係根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常；及氣體供給部，該氣體供給部係對被配置在上述載置部之上述卡匣內供給氣體，上述蓋保持感測器部具有壓力感測器，該壓力感測器係測量上述卡匣內之氣壓，上述控制部係根據上述氣體供給部對上述卡匣內供給上述氣體之期間或供給之後的上述壓力感測器之測量結果，判定有無上述異常。
  4. 如請求項1至3中之任一項所記載之基板收納處理裝置，其中上述蓋裝卸機構具有保持部，該保持部係藉由吸引保持上述蓋部，上述蓋保持感測器部具有吸引壓感測器，該吸引壓感測器係測量上述保持部保持上述蓋部之時作用於該蓋部的吸引壓，上述控制部係根據上述吸引壓感測器之測量結果，判定有無上述異常。
  5. 如請求項4所記載之基板收納處理裝置，其中上述吸引壓感測器係在上述蓋裝卸機構被配置在上述 安裝位置以外之位置的狀態，測量上述吸引壓，上述控制部係根據上述蓋裝卸機構是否保持上述蓋部之推定，判定有無上述異常，且該推定係從上述吸引壓感測器之測量結果被導出。
  6. 如請求項1所記載之基板收納處理裝置，其中上述控制部係上述蓋裝卸機構從上述退避位置朝向上述安裝位置移動之時，根據上述異常檢測感測器在上述特定位置檢測到物體之時序，和上述關閉感測器檢測到上述蓋裝卸機構之時序的時間差，判定有無上述異常。
  7. 如請求項1所記載之基板收納處理裝置，其中上述控制部係上述蓋裝卸機構從上述安裝位置朝向上述退避位置移動之時，根據上述關閉感測器不再檢測上述蓋裝卸機構之時序，和上述異常檢測感測器在上述特定位置不再檢測上述物體之時序的時間差，判定有無上述異常。
  8. 一種基板收納處理裝置，具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行上述蓋部對被配置於上述載置部之上述卡匣之上述開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸的 裝卸位置，和不與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸之退避位置移動；蓋保持感測器部，其係用以檢測蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持；及控制部，其係根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常上述蓋裝卸機構具有：鑰匙部；和保持部，其係保持上述蓋部，上述蓋部具有：鑰匙孔部；和閂鎖器，其係藉由與該鑰匙孔部卡合之上述鑰匙部被配置在上鎖位置及開鎖位置，上述保持部藉由吸引保持上述蓋部，上述蓋保持感測器部具有：異常檢測感測器，其係檢測在上述安裝位置和上述退避位置之間的特定位置有無物體；和吸引壓感測器，其係於上述保持部保持上述蓋部之時，測量作用於該蓋部的吸引壓，上述控制部係在上述蓋部被配置在上述開口部之位置，並且上述閂鎖器被配置在上述上鎖位置之狀態，使上述蓋裝卸機構從上述安裝位置朝向上述退避位置移動之後，根據上述異常檢測感測器之檢測結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第1異常判定，使上述蓋裝卸機構朝向上述裝卸位置移動之後，在實行用以在上述保持部保持上述蓋部之吸引的狀態下被進行 的上述吸引壓感測器之測量的結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第2異常判定。
  9. 如請求項1至3中之任一項所記載之基板收納處理裝置，其中上述蓋保持感測器部具有蓋檢測感測器，其係檢測藉由被配置在上述退避位置之上述蓋裝卸機構而被保持之上述蓋部，上述控制部係根據上述重量感測器之測量結果，判定有無上述異常。
  10. 一種基板收納處理方法，其係在基板收納處理裝置中判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常的基板收納處理方法，該基板收納處理裝置具備：載置部，其被配置卡匣，該卡匣係收納基板的卡匣，具有開口部和能夠對該開口部裝卸之蓋部；蓋裝卸機構，其係進行上述蓋部對被配置於上述載置部之上述卡匣之上述開口部之裝卸的蓋裝卸機構，被設置成能夠在與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸的裝卸位置，和不與被配置在上述開口部之位置的上述蓋部接觸之退避位置移動，該基板收納處理方法之特徵在於，包含：藉由蓋保持感測器部檢測上述蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持之工程；及根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上 述蓋部之裝卸有關的異常之工程，上述蓋裝卸機構具有：鑰匙部；和保持部，其係保持上述蓋部，上述蓋部具有：鑰匙孔部；和閂鎖器，其係藉由與該鑰匙孔部卡合之上述鑰匙部被配置在上鎖位置及開鎖位置，上述保持部藉由吸引保持上述蓋部，上述蓋保持感測器部具有：異常檢測感測器，其係檢測在上述安裝位置和上述退避位置之間的特定位置有無物體；和吸引壓感測器，其係於上述保持部保持上述蓋部之時，測量作用於該蓋部的吸引壓，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常之工程包含下述步驟：在上述蓋部被配置在上述開口部之位置，並且上述閂鎖器被配置在上述上鎖位置之狀態，使上述蓋裝卸機構從上述安裝位置朝向上述退避位置移動之後，根據上述異常檢測感測器之檢測結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第1異常判定；和使上述蓋裝卸機構朝向上述裝卸位置移動之後，在實行用以在上述保持部保持上述蓋部之吸引的狀態下被進行的上述吸引壓感測器之測量的結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第2異常判定。
  11. 一種電腦可讀取之記錄媒體，其記錄有用以實行如請 求項10所記載之基板收納處理方法之程式，該電腦可讀取之記錄媒體之特徵在於，記錄有用以使電腦實行下述程序的程式：藉由蓋保持感測器部檢測上述蓋部是否藉由上述蓋裝卸機構被保持之程序；和根據上述蓋保持感測器部之檢測結果，判定有無與上述蓋部之裝卸有關的異常之程序，該程序包含下述步驟：在上述蓋部被配置在上述開口部之位置，並且上述閂鎖器被配置在上述上鎖位置之狀態，使上述蓋裝卸機構從上述安裝位置朝向上述退避位置移動之後，根據上述異常檢測感測器之檢測結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第1異常判定；和使上述蓋裝卸機構朝向上述裝卸位置移動之後，在實行用以在上述保持部保持上述蓋部之吸引的狀態下被進行的上述吸引壓感測器之測量的結果，進行判定有無與上述蓋部之裝卸有關之異常的第2異常判定。
TW107104484A 2017-02-22 2018-02-08 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體 TWI756361B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-031476 2017-02-22
JP2017031476 2017-02-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201842614A TW201842614A (zh) 2018-12-01
TWI756361B true TWI756361B (zh) 2022-03-01

Family

ID=63253636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107104484A TWI756361B (zh) 2017-02-22 2018-02-08 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11699608B2 (zh)
JP (1) JP6816249B2 (zh)
KR (1) KR102456286B1 (zh)
CN (1) CN110326098B (zh)
TW (1) TWI756361B (zh)
WO (1) WO2018155312A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7228759B2 (ja) * 2018-10-09 2023-02-27 シンフォニアテクノロジー株式会社 ロードポート及びロードポートのｆｏｕｐ蓋異常検知方法
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
US20220044950A1 (en) * 2020-08-05 2022-02-10 Changxin Memory Technologies, Inc. Storage system, query system and storage method for reticles, and computer device
US20220293440A1 (en) * 2021-03-11 2022-09-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Load port and methods of operation
TWI769737B (zh) * 2021-03-12 2022-07-01 旭東機械工業股份有限公司 盒蓋裝卸機構及盒蓋檢測方法
CN113363184A (zh) * 2021-05-28 2021-09-07 上海华力微电子有限公司 半导体加工机台、半导体加工系统及晶圆搬运方法
JP2024072356A (ja) * 2022-11-16 2024-05-28 シンフォニアテクノロジー株式会社 ロードポート、及び蓋の傾き検知方法
JP2024072951A (ja) * 2022-11-17 2024-05-29 シンフォニアテクノロジー株式会社 ロードポート、及び蓋の閉止状態判定方法
CN116666284B (zh) * 2023-06-28 2024-06-21 江苏圣创半导体科技有限公司 一种晶圆载入机

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001077177A (ja) * 1999-06-28 2001-03-23 Tokyo Electron Ltd ウェハキャリア用蓋体の着脱装置、及びロードポート装置
TW200415091A (en) * 2002-10-17 2004-08-16 Daihachikasei Kk Storage container for receiving precision substrates such as wafers
JP2014138011A (ja) * 2013-01-15 2014-07-28 Tokyo Electron Ltd 基板収納処理装置及び基板収納処理方法並びに基板収納処理用記憶媒体

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11354622A (ja) * 1998-06-12 1999-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd カセットボックス扉開閉装置及びカセットボックス扉開閉方法
JP2001358197A (ja) 2000-06-16 2001-12-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP3697478B2 (ja) * 2001-08-20 2005-09-21 ソニー株式会社 基板の移送方法及びロードポート装置並びに基板移送システム
JP4303773B1 (ja) * 2008-06-27 2009-07-29 Ｔｄｋ株式会社 密閉容器の蓋開閉システム及び蓋開閉方法
JP5532861B2 (ja) * 2008-11-28 2014-06-25 Ｔｄｋ株式会社 密閉容器の蓋閉鎖方法及び密閉容器の蓋開閉システム
JP2013143425A (ja) * 2012-01-10 2013-07-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム及び基板位置矯正方法
JP6206126B2 (ja) * 2012-12-04 2017-10-04 Tdk株式会社 密閉容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法
JP5935676B2 (ja) * 2012-12-07 2016-06-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板装置の運用方法及び記憶媒体
JP6415220B2 (ja) * 2014-09-29 2018-10-31 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001077177A (ja) * 1999-06-28 2001-03-23 Tokyo Electron Ltd ウェハキャリア用蓋体の着脱装置、及びロードポート装置
TW200415091A (en) * 2002-10-17 2004-08-16 Daihachikasei Kk Storage container for receiving precision substrates such as wafers
JP2014138011A (ja) * 2013-01-15 2014-07-28 Tokyo Electron Ltd 基板収納処理装置及び基板収納処理方法並びに基板収納処理用記憶媒体
TW201440162A (zh) * 2013-01-15 2014-10-16 Tokyo Electron Ltd 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及基板收納處理用記憶媒體

Also Published As

Publication number Publication date
JP6816249B2 (ja) 2021-01-20
KR20190117551A (ko) 2019-10-16
US20200058531A1 (en) 2020-02-20
WO2018155312A1 (ja) 2018-08-30
US11699608B2 (en) 2023-07-11
CN110326098A (zh) 2019-10-11
JPWO2018155312A1 (ja) 2019-12-12
CN110326098B (zh) 2023-05-05
KR102456286B1 (ko) 2022-10-18
TW201842614A (zh) 2018-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI756361B (zh) 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及記錄媒體
TWI536484B (zh) 基板收納處理裝置、基板收納處理方法及基板收納處理用記憶媒體
US8591163B2 (en) FOUP opener and operating method thereof
US10128138B2 (en) Substrate transfer method and storage medium
JP6697984B2 (ja) 基板処理方法及び基板処理システム
US9696262B2 (en) Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium
JP4863985B2 (ja) 基板処理装置
WO2007136066A1 (ja) 基板の変形検出システムおよび変形検出方法
KR102465561B1 (ko) 기판의 위치 어긋남 검출 방법 및 기판의 위치 어긋남 검출 장치
JP7336877B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
TWI676583B (zh) 教示夾具、基板處理裝置及教示方法
TW202010032A (zh) 晶圓載體處理裝置
JP2009200200A (ja) 密閉容器の蓋閉鎖方法及び密閉容器の蓋開閉システム
JP2003092328A (ja) ロードポート装置
KR20070115083A (ko) 밀폐형 웨이퍼 카세트 로딩/언로딩 장치
KR20070049454A (ko) 기판 처리 장치 및 그 제어방법
JP2021197553A (ja) 基板処理装置、リフトピン高さ偏差の測定方法、及びコンピュータ読出し可能な処理プログラムを記録した記録媒体
KR20070019387A (ko) 웨이퍼 감지 장치 그 방법
KR20060108082A (ko) 웨이퍼 트랜스퍼의 웨이퍼 안착상태 검출장치