JP2013143425A - 基板処理システム及び基板位置矯正方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡易な方法でキャリア内の基板の位置ずれを矯正し、装置のダウンタイムを短縮できる基板処理システム及び基板位置矯正方法を提供する。
【解決手段】STEP1では、マッピング装置によりマッピングを行う。STEP2では、マッピング動作で検出されたウエハWの位置情報に基づき、ウエハWの位置が異常状態であるか否か、を判定する。ウエハ位置が異常である(Yes)と判定された場合、STEP3では、フープドア19cを一旦閉じた後、開放するクローズ/オープン動作を行う。STEP4では、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数(つまり、ポートドア62のクローズ/オープン動作の回数)をカウントし、STEP5では、このカウント値が設定値未満であるか否かが判断される。カウント値が設定値未満である(Yes)の場合、再びSTEP1〜STEP5の処理を繰り返す。
【選択図】図5
【解決手段】STEP1では、マッピング装置によりマッピングを行う。STEP2では、マッピング動作で検出されたウエハWの位置情報に基づき、ウエハWの位置が異常状態であるか否か、を判定する。ウエハ位置が異常である(Yes)と判定された場合、STEP3では、フープドア19cを一旦閉じた後、開放するクローズ/オープン動作を行う。STEP4では、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数(つまり、ポートドア62のクローズ/オープン動作の回数)をカウントし、STEP5では、このカウント値が設定値未満であるか否かが判断される。カウント値が設定値未満である(Yes)の場合、再びSTEP1〜STEP5の処理を繰り返す。
【選択図】図5
Description
本発明は、基板処理システム及び該基板処理システムにおいて搬送容器に収容された基板の位置を矯正する基板位置矯正方法に関する。
半導体装置の製造過程では、複数枚の半導体ウエハを多段に収納するカセット、あるいはフープ(Front Opening Unified Pod:FOUP)と呼ばれる搬送容器(キャリア)が用いられている。これらのキャリアは、本体と、本体の開口部に着脱可能に設けられた開閉扉と、を備えている。キャリアの本体の内壁面には、半導体ウエハを支持するための溝が所定間隔で設けられており、そこに半導体ウエハを挿入できるように構成されている。
キャリア内に多段に収容された半導体ウエハの有無や位置を確認するために、キャリアを基板処理システムのロードポートに装着した状態で、マッピングと呼ばれる処理が行われる。通常、マッピングには、光源と受光部とを有する光学センサを用いる。マッピングのためのセンサ機構の改良について、例えば特許文献1では、フープの開閉扉を開閉するためのポートドアの昇降機構部に、センサ進退機構及びセンサ取付部材を設けたフープオープナが提案されている。
ところで、マッピングによって、半導体ウエハが位置ずれ、傾斜などの異常状態で収納されていることが検出された場合、従来の基板処理システムでは、警報を発し、フープによる半導体ウエハの搬入、搬出を行うローダーモジュールにおける処理を停止し、オペレーターが手動で矯正作業を行っていた。この矯正作業は、人手によるものであるため時間がかかり、装置の停止時間が長引くことにより、基板処理システム全体での生産性を低下させる要因になっていた。
キャリア内での半導体ウエハの位置を矯正するために、例えば特許文献2では、キャリアを載置するテーブルを備えたロードポート装置に、該テーブルの載置面に対して突没動作をする可動子を設け、その振動によってキャリア内での半導体ウエハの位置を矯正する技術が提案されている。また、同様の目的で、特許文献3では、カセット内において突出した状態で収容されている半導体ウエハの端面を押圧して、その位置を矯正するウエハ位置補正手段やカセットステージを傾斜させる傾斜駆動手段を設けることが提案されている。
上記特許文献2及び3の提案は、キャリア内での半導体ウエハの位置を矯正する目的で、ローダーモジュールに、専用の複雑な機構を付加的に設けなければならないため、実用性が低いという問題があった。
本発明は、簡易な方法でキャリア内の基板の位置ずれを矯正し、装置のダウンタイムを短縮できる基板処理システム及び基板位置矯正方法を提供することを目的とする。
本発明の基板処理システムは、基板を挿入する開口部及び該開口部を閉じる開閉扉を有し、複数の基板を多段に支持して収容する搬送容器を使用し、基板の搬入と搬出を行うものである。
そして、本発明の基板処理システムは、
前記搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備えている。
前記搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備えている。
本発明の基板処理システムにおいて、前記制御部は、前記マッピング装置からの基板位置情報に基づき、基板位置が正常状態であるか異常状態であるかを判定し、異常状態である場合に、前記開閉装置により前記開閉扉を閉じた後開放するクローズ/オープン動作を行った後、前記マッピング装置により再度のマッピング動作を行うように制御する。
また、本発明の基板処理システムは、前記クローズ/オープン動作と、前記再度のマッピング動作と、を繰り返し行ってもよい。
また、本発明の基板処理システムにおいて、前記制御部は、前記再度のマッピング動作により検出された基板位置が正常状態である場合に、前記クローズ/オープン動作と前記再度のマッピング動作を中止するとともに、最後のマッピング動作で得られた前記正常状態の基板位置情報を前記制御部よりも上位の制御部に送信してもよい。
また、本発明の基板処理システムは、前記クローズ/オープン動作と前記再度のマッピング動作の繰り返し回数が、設定された回数に達した場合に、繰り返しを中止するとともに、最後のマッピング動作で得られた基板位置情報を前記制御部よりも上位の制御部に送信してもよい。
本発明の基板位置矯正方法は、
基板を挿入する開口部及び該開口部を閉じる開閉扉を有し、複数の基板を多段に支持して収容する搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備え、前記搬送容器を使用し、基板の搬入と搬出を行う基板処理システムにおいて前記搬送容器に収容された基板の位置を矯正する基板位置矯正方法である。
基板を挿入する開口部及び該開口部を閉じる開閉扉を有し、複数の基板を多段に支持して収容する搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備え、前記搬送容器を使用し、基板の搬入と搬出を行う基板処理システムにおいて前記搬送容器に収容された基板の位置を矯正する基板位置矯正方法である。
そして、本発明の基板位置矯正方法は、
前記マッピング装置によりマッピング動作を行うステップと、
前記マッピング動作で基板位置が異常状態であることが検出された場合、前記開閉扉を閉じた後開放するクローズ/オープン動作を行うステップと、
前記マッピング装置により再度のマッピング動作を行うステップと、
を有することを特徴とする。
前記マッピング装置によりマッピング動作を行うステップと、
前記マッピング動作で基板位置が異常状態であることが検出された場合、前記開閉扉を閉じた後開放するクローズ/オープン動作を行うステップと、
前記マッピング装置により再度のマッピング動作を行うステップと、
を有することを特徴とする。
本発明の基板位置矯正方法は、前記クローズ/オープン動作を行うステップと、前記再度のマッピング動作を行うステップと、を繰り返してもよい。
本発明の基板位置矯正方法において、前記制御部は、前記再度のマッピング動作により検出された基板位置が正常状態である場合に、前記クローズ/オープン動作を行うステップと前記再度のマッピング動作を行うステップとの繰り返しを中止してもよい。
本発明の基板位置矯正方法は、前記クローズ/オープン動作を行うステップと前記再度のマッピング動作を行うステップとの繰り返し回数が、設定された回数に達した場合に、繰り返しを中止してもよい。
本発明の基板処理システム及び基板位置矯正方法によれば、特別な機構を設けることなく、かつ、人手によらず、搬送容器の開閉扉を利用して搬送容器内での基板の異常状態を迅速に矯正することができる。従って、装置のダウンタイムを極力短くすることが可能であり、生産効率の低下を防ぐことができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
[第1の実施の形態]
まず、図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理システムの構成について説明する。
<基板処理システムの構成>
図1は、本実施の形態に係る基板処理システムの概略の構成を示す平面図である。本実施の形態に係る基板処理システム1は、連続する複数の動作を伴って、例えば半導体デバイス製造用の半導体基板(以下、「ウエハ」と記す)Wに対して、成膜処理、拡散処理、エッチング処理等の所定の処理を施す装置である。
まず、図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理システムの構成について説明する。
<基板処理システムの構成>
図1は、本実施の形態に係る基板処理システムの概略の構成を示す平面図である。本実施の形態に係る基板処理システム1は、連続する複数の動作を伴って、例えば半導体デバイス製造用の半導体基板(以下、「ウエハ」と記す)Wに対して、成膜処理、拡散処理、エッチング処理等の所定の処理を施す装置である。
基板処理システム1は、ウエハWに対して所定の処理が行われる複数のプロセスモジュールを備えている。本実施の形態では、基板処理システム1は、4つのプロセスモジュール10A,10B,10C,10Dを備えている。プロセスモジュール10A,10B,10C,10Dは、それぞれ、その内部空間を所定の減圧雰囲気(真空状態)に維持できるように構成されている。
基板処理システム1は、更に、第1の搬送室11と、2つのロードロック室12A,12Bとを備えている。本実施の形態では、第1の搬送室11は、6つの側面を有している。プロセスモジュール10A,10B,10C,10Dとロードロック室12A,12Bは、それぞれ第1の搬送室11の各側面に隣接するように配置されている。図1に示した例では、プロセスモジュール10A,10B,10C,10Dとロードロック室12A,12Bは、第1の搬送室11を囲むように、プロセスモジュール10A,10B,10C,10D及びロードロック室12B,12Aの順に、図1における時計回り方向に並ぶように配置されている。第1の搬送室11は、プロセスモジュール10A,10B,10C,10Dの各処理室と同様に、所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。
ロードロック室12A,12Bは、その内部空間を、大気圧状態と真空状態とに切り替えられるように構成されている。ロードロック室12A内には、ウエハWを載置する基板載置台13Aが配備されている。ロードロック室12B内には、ウエハWを載置する基板載置台13Bが配備されている。
基板処理システム1は、更に、ゲートバルブG1A,G1B,G1C,G1D,G2A,G2Bを備えている。ゲートバルブG1Aは、第1の搬送室11とプロセスモジュール10Aの処理室との間に配置されている。ゲートバルブG1Bは、第1の搬送室11とプロセスモジュール10Bの処理室との間に配置されている。ゲートバルブG1Cは、第1の搬送室11とプロセスモジュール10Cの処理室との間に配置されている。ゲートバルブG1Dは、第1の搬送室11とプロセスモジュール10Dの処理室との間に配置されている。ゲートバルブG2Aは、第1の搬送室11とロードロック室12Aとの間に配置されている。ゲートバルブG2Bは、第1の搬送室11とロードロック室12Bとの間に配置されている。
ゲートバルブG1A〜G1D,G2A,G2Bは、いずれも、隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉する機能を有している。ゲートバルブG1A〜G1Dは、閉状態でプロセスモジュール10A,10B,10C,10Dの各処理室を気密にシールすると共に、開状態で各処理室と第1の搬送室11との間でウエハWの移送を可能にする。ゲートバルブG2A,G2Bは、閉状態で第1の搬送室11の気密性を維持すると共に、開状態で第1の搬送室11とロードロック室12A,12Bとの間でウエハWの移送を可能にする。
基板処理システム1は、更に、基板処理システム1へのウエハWの搬入と基板処理システムからのウエハWの搬出を行うローダーモジュール20を備えている。ローダーモジュール20は、第2の搬送室14、ウエハWの位置合わせを行う装置であるオリエンタ15、及び、複数のロードポート18A,18B,18Cを備えている。第2の搬送室14は、水平方向の断面が一方向(図1における左右方向)に長い矩形形状を有し、第1の搬送室11との間にロードロック室12A,12Bを挟むように配置されている。第2の搬送室14の1つの側面は、ロードロック室12A,12Bに隣接している。第2の搬送室14は、例えば窒素ガスや清浄空気をその内部空間にダウンフローで供給する循環設備を有している。
オリエンタ15は、第2の搬送室14の長手方向の一方の端部に連結されている。オリエンタ15は、図示しない駆動モータによって回転される回転板16と、この回転板16の外周位置に設けられ、ウエハWの周縁部を検出するための光学センサ17とを有している。
図1に示した例では、基板処理システム1は、3つのロードポート18A,18B,18Cを備えている。ロードポート18A,18B,18Cは、ロードロック室12A,12Bに隣接する側面とは反対側の第2の搬送室14の開口14aに隣接して配置されている。ロードポート18A,18B,18Cには、それぞれ、ウエハWの搬送容器であるフープ19を載置できるようになっている。各フープ19内には、ウエハWを、上下に間隔を空けて多段に配置できるようになっている。
基板処理システム1は、更に、ゲートバルブG3A,G3Bを備えている。ゲートバルブG3Aは、ロードロック室12Aと第2の搬送室14との間に配置されている。ゲートバルブG3Bは、ロードロック室12Bと第2の搬送室14との間に配置されている。ゲートバルブG3A,G3Bは、いずれも、隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉する機能を有している。ゲートバルブG3A,G3Bは、閉状態でロードロック室12A,12Bの気密性を維持すると共に、開状態でロードロック室12A,12Bと第2の搬送室14との間でウエハWの移送を可能にする。
基板処理システム1は、更に、第1の搬送室11内に配置された第1の搬送装置21と、第2の搬送室14内に配置された第2の搬送装置25とを備えている。第1の搬送装置21は、プロセスモジュール10A,10B,10C,10Dの各処理室とロードロック室12A,12Bの間でウエハWの搬送を行うための装置である。第2の搬送装置25は、ロードポート18A,18B,18Cの各フープ19と、ロードロック室12A,12Bと、オリエンタ15との間でウエハWの搬送を行うための装置である。
第1の搬送装置21は、基部22と、この基部22に連結され、互いに対向するように配置された一対の搬送アーム部23a,23bと、搬送アーム部23aの先端に設けられたフォーク24aと、搬送アーム部23bの先端に設けられたフォーク24bとを有している。搬送アーム部23a,23bは、それぞれ、基部22の回転軸を中心として、屈伸及び旋回可能に構成されている。フォーク24a,24bは、ウエハWを載置して保持する保持部材として機能する。第1の搬送装置21は、フォーク24a,24bにウエハWを載置した状態で、ウエハWの搬送を行う。
第2の搬送装置25は、第2の搬送室14内に配備されたガイドレール28に沿って、第2の搬送室14の長手方向(図1における左右方向)に移動可能に構成されている。また、第2の搬送装置25は、上下2段に配置された一対の搬送アーム部26a,26bと、搬送アーム部26aの先端に設けられたフォーク27aと、搬送アーム部26bの先端に設けられたフォーク27bとを有している。搬送アーム部26a,26bは、それぞれ、屈伸及び旋回可能に構成されている。フォーク27a,27bは、ウエハWを載置して保持する保持部材として機能する。第2の搬送装置25は、フォーク27a,27bにウエハWを載置した状態で、ウエハWの搬送を行う。
<ローダーモジュール>
次に、図2Aを参照しながら、ローダーモジュール20の構成について詳細に説明する。図2Aは、図1におけるIIA−IIA線における断面図である。まず、第2の搬送室14は、上部に設けられた大気導入部41と、下部に設けられた大気排出部43と、大気導入部41と大気排出部43との間に設けられた第2の搬送装置25と、大気導入部41に隣接して設けられたFFU(Fan Filter Unit)45と、3つのロードポート18A〜18Cにそれぞれ載置された状態のフープ19のフープドア19cを開閉する開閉装置として3つのフープオープナ61(図1では図示を省略)を備えている。
次に、図2Aを参照しながら、ローダーモジュール20の構成について詳細に説明する。図2Aは、図1におけるIIA−IIA線における断面図である。まず、第2の搬送室14は、上部に設けられた大気導入部41と、下部に設けられた大気排出部43と、大気導入部41と大気排出部43との間に設けられた第2の搬送装置25と、大気導入部41に隣接して設けられたFFU(Fan Filter Unit)45と、3つのロードポート18A〜18Cにそれぞれ載置された状態のフープ19のフープドア19cを開閉する開閉装置として3つのフープオープナ61(図1では図示を省略)を備えている。
大気導入部41は、大気導入口41aから外部大気を取り込む。大気排出部43には、排気ファン43aが設けられている。排気ファン43aは、第2の搬送室14の内部の大気を、大気排出部43の底面に設けられた大気排出口43bから第2の搬送室14の外部へ排出する。FFU45は、上側から順に配置されるファンユニット47及びフィルタユニット49を備えている。ファンユニット47には、下方へ向けて大気を送出するファン47aを備えている。フィルタユニット49はファンユニット47を通過した大気中の塵埃を集塵する。FFU45は、大気導入部41を介して第2の搬送室14の内部に流入し、第2の搬送装置25が設けられた基板搬送部を経て大気排出部43から流出する大気のダウンフローを形成する。また、FFU45は、大気中に含まれる塵埃を、集塵し除去する。これにより、第2の搬送室14の内部は清浄な状態に維持される。
第2の搬送装置25の搬送アーム部26a,26bの基端は、第2の搬送装置25の基部51から立設された支柱53に沿って昇降する昇降部55に連結されている。従って、搬送アーム部26a,26bは、それぞれ、Z軸方向に昇降可能に構成されている。また、搬送アーム部26bのフォーク27bの先端には、例えば、レーザ光を発してウエハWの有無や位置を確認するマッピングセンサ57が配置されている。図2Bは、第2の搬送装置25のフォーク27bを拡大して示す平面図である。マッピングセンサ57は、一対の発光部57aと受光部57bを備えている。発光部57aから出力された光線は、受光部57bで受光される。発光部57aと受光部57bとの間にウエハWが介在すると、光線がウエハWによって遮断されるため、ウエハWの存在が認識され、後述するモジュールコントローラ401Aによってその位置情報が取得される。マッピング動作は、各フープ19に収容されているウエハWの位置及び数を認識するために、搬送アーム部26bが途中まで延伸された状態で、該搬送アーム部26bを多段に収容されたウエハWの積層方向に沿ってスキャン(上昇もしくは下降)させる。これによって、フォーク27bの先端のマッピングセンサ57によって、フープ19内におけるウエハWの位置及び枚数を確認する。本実施の形態では、マッピングセンサ57を有するフォーク27b、搬送アーム部26b及び第2の搬送装置25は、マッピング動作を行うマッピング装置でもある。
ここで、載置部であるロードポート18A,18B,18Cに載置されたフープ19は、それぞれ本体19aと、該本体19aに設けられた開口部19bと、該開口部19bを閉塞する着脱可能な開閉扉であるフープドア19cとを備えている。
フープオープナ61は、フープドア19cを保持するポートドア62と、ポートドア62を水平に移動させる進退機構部63と、ポートドア62と進退機構部63とを連結するアーム部64と、ポートドア62がフープドア19cを保持した状態で、ポートドア62を垂直に移動させる昇降機構部65とを備えている。ポートドア62は、図示しない保持機構により、フープドア19cを着脱自在に保持する。ポートドア62は、進退機構部63によって、図2中X方向に進出もしくは退避する。ポートドア62は進出位置において、各フープ19の開口部19bを閉塞しているフープドア19cを保持し、取り外す。ポートドア62は、フープドア19cを保持した状態で退避することによって、フープ19の開口部19bを開放する。また、ポートドア62は、フープドア19cを保持した状態で進出し、フープドア19cをフープ19の開口部19bに装着した後、フープドア19cを脱離した状態で退避することによって、各フープ19の開口部19bをフープドア19cにより閉塞する。
また、ポートドア62は、退避位置において、昇降機構部65によって、フープドア19cを保持した状態で進退機構部63とともに、図2中Z方向に上昇もしくは下降する。ポートドア62は、下降位置において、フープドア19cを第2の搬送室14内に格納する。また、ポートドア62は、上昇位置かつ進出位置において、第2の搬送室14の壁に設けられた開口14aを閉塞する。
<制御系統>
図3及び図4は、基板処理システム1における制御系統の概略構成を示している。基板処理システム1における全体の制御や、プロセスモジュール10、第1の搬送室11及びローダーモジュール20などを構成する各構成部すなわちエンドデバイス201の制御は、制御部70によって行われる。
図3及び図4は、基板処理システム1における制御系統の概略構成を示している。基板処理システム1における全体の制御や、プロセスモジュール10、第1の搬送室11及びローダーモジュール20などを構成する各構成部すなわちエンドデバイス201の制御は、制御部70によって行われる。
図3に示したように、制御部70は、主要な構成として、各モジュールに対応して設けられた個別の制御部であるMC(モジュールコントローラ)401と、基板処理システム1全体を制御する統括制御部であるEC(装置コントローラ)301と、EC301に接続されたユーザーインターフェース501とを備えている。
EC301と各MC401は、システム内LAN(Local Area Network)503により接続されている。システム内LAN503は、スイッチングハブ(HUB)505を有している。このスイッチングハブ505は、EC301からの制御信号に応じてEC301の接続先としてのMC401の切り替えを行う。
EC301は、各MC401を統括して基板処理システム1全体の動作を制御する統括制御部である。EC301は、CPU(中央演算装置)303と、揮発性メモリとしてのRAM305と、記憶部としてのハードディスク装置(HDD)307とを有している。なお、記憶部としては、ハードディスク装置307に限らず、不揮発性メモリ等の他の記憶手段を用いることもできる。
また、EC301は、LAN601を介して基板処理システム1が設置されている工場全体の製造工程を管理するMES(Manufacturing Execution System)としてのホストコンピュータ603に接続されている。ホストコンピュータ603は制御部70と連携して工場における種々の工程に関するリアルタイム情報を基幹業務システム(図示省略)にフィードバックすると共に、工場全体の負荷等を考慮して工程に関する判断を行う。
また、EC301には、ユーザーインターフェース501も接続されている。ユーザーインターフェース501は、工程管理者が基板処理システム1を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、基板処理システム1の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ、EC301に指令を行うメカニカルスイッチ等を有している。
EC301は、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体(以下、単に「記憶媒」体と記す。)507に対して情報を記録し、また記憶媒体507より情報を読み取ることができるようになっている。例えば、制御プログラム及びレシピは、記憶媒体507に格納された状態のものを記憶部としてのハードディスク装置307にインストールすることによって利用することが可能になる。記憶媒体507としては、例えば、CD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリ、DVD等を使用することができる。また、上記のレシピは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用することも可能である。
EC301では、ユーザーインターフェース501においてユーザ等によって指定されたウエハWの処理方法に関するレシピを含むプログラム(ソフトウエア)をCPU303がハードディスク装置307や記憶媒体507から読み出す。そして、EC301から各MC401にそのプログラムを送信することにより、プロセスモジュール10A〜10Dやローダーモジュール20での処理を制御できるように構成されている。
MC401は、各モジュールの動作を制御する個別の制御部として設けられている。図3では、5つのMC401(MC401A,MC401B,MC401C,MC401D、MC401E)を例示している。MC401Aは、ローダーモジュール20を制御するものであり、図3では一部のエンドデバイス201との接続を示している。ここで、ローダーモジュール20におけるエンドデバイス201としては、例えばマッピングセンサ57を含む第2の搬送装置25、フープオープナ61などを挙げることができる。また、MC401B,401C,401D、401Eは、それぞれプロセスモジュール10A,10B,10C,10Dを制御する。なお、MC401は、ローダーモジュール20やプロセスモジュール10だけでなく、例えば、第1の搬送室11、ロードロック室12A,12Bなどにも配備することが可能であり、これらもEC301の下で統括されるが、図3では図示を省略する。
MC401Aは、例えば図4に示したように、CPU403と、RAMなどの揮発性メモリ部405Aと、不揮発性メモリ部405Bと、カウンタ部407と、I/O制御部409と、スイッチ部(SW)410とを有している。MC401Aの不揮発性メモリ部405Bは、例えばSRAM、MRAM、EEPROM、フラッシュメモリなどの不揮発性メモリにより構成されている。不揮発性メモリ部405Bには、MC401Aによって制御されるローダーモジュール20における種々の履歴情報や、種々の設定値などが保存される。カウンタ部407は、後述するように、本実施の形態の基板位置矯正方法におけるフープドア19cのクローズ/オープン動作の回数(つまり、ポートドア62のクローズ/オープン動作の回数)をカウントする。MC401AのI/O制御部409は、後述するI/Oモジュール413に種々の制御信号を送出したり、I/Oモジュール413から各エンドデバイス201に関するステータス情報などの信号を受け取ったりする。
各MC401によるエンドデバイス201の制御は、I/O(入出力)モジュール413を介して行われる。I/Oモジュール413は、各エンドデバイス201への制御信号及びエンドデバイス201からの入力信号の伝達を行う。各MC401は、ネットワーク411を介してそれぞれI/Oモジュール413に接続されている。各MC401に接続されるネットワーク411は、例えばチャンネルCH0,CH1,CH2のような複数の系統を有している。
I/Oモジュール413は、プロセスモジュール10A〜10Dを構成する各エンドデバイス201に接続された複数のI/Oボード415(図3では3つのみ図示)を有している。I/Oモジュール413におけるデジタル信号、アナログ信号及びシリアル信号の入出力の制御は、これらのI/Oボード415において行われる。なお、図3では、説明の便宜上、一部のエンドデバイス201とI/Oボード415との接続のみを代表的に図示している。
I/Oボード415において管理される入出力情報は、デジタル・インプット情報DI、デジタル・アウトプット情報DO、アナログ・インプット情報AI、アナログ・アウトプット情報AOの4種を含んでいる。デジタル・インプット情報DIは、制御系統の下位に位置する各エンドデバイス201から制御系統の上位に位置するMC401へインプットされるデジタル情報に関する。デジタル・アウトプット情報DOは、制御系統の上位に位置するMC401から制御系統の下位に位置する各エンドデバイス201へアウトプットされるデジタル情報に関する。アナログ・インプット情報AIは、各エンドデバイス201からMC401へインプットされるアナログ情報に関する。アナログ・アウトプット情報AOは、MC401から各エンドデバイス201へアウトプットされるアナログ情報に関する。デジタル・インプット情報DI及びアナログ・インプット情報AIには、例えば各エンドデバイス201のステータスに関する情報が含まれている。デジタル・アウトプット情報DO及びアナログ・アウトプット情報AOには、例えば各エンドデバイス201への指令(コマンド)が含まれている。
以上の構成を有する制御部70では、複数のエンドデバイス201に接続されたI/Oボード415がモジュール化されてI/Oモジュール413を構成している。そして、このI/Oモジュール413がそれぞれMC401及びスイッチングハブ505を介してEC301に接続されている。このように、複数のエンドデバイス201がEC301に直接接続されることなく、I/Oモジュール413及びMC401を介在させて接続した構成によって、制御系統の階層化が実現されている。
次に、上記構成を有する基板処理システム1において、フープ19内における基板位置矯正方法について説明する。図5は、本実施の形態に係る基板位置矯正方法の手順の概要を示すフローチャートである。図6A,図6Bは、フープドア19cのクローズ/オープン動作によって、ウエハWの矯正が行われる原理を示す説明図である。図5に示したように、本実施の形態に係る基板位置矯正方法は、STEP1〜STEP5の手順を含んでいる。
まず、STEP1では、マッピング装置により、フープ19に収容されたウエハWのマッピングを行う。上記のとおり、基板処理システム1においては、マッピングセンサ57を有するフォーク27bを備えた第2の搬送装置25によってマッピング装置が構成されている。マッピングを実行するタイミングとしては、例えば基板処理システム1の任意のプロセスモジュール10における処理が終了した所定枚数のウエハWを、第2の搬送装置25によって、フープ19に収容する作業が完了した直後などである。従って、STEP1のマッピングの開始時には、フープドア19cが開放された状態となっている。
次に、STEP2では、マッピング動作で検出されたウエハWの位置情報に基づき、ウエハWの位置が異常状態であるか否か、を判定する。この判定は、例えば、正常状態のウエハWの位置を基準にして予め設定されている所定のマージンの範囲内に入っていれば正常状態、外れていれば異常状態と判定する。この判定は、MC401Aがマッピングセンサ57からの位置情報を取得して行う。
STEP2で、ウエハ位置が異常である(Yes)と判定された場合、次にSTEP3では、フープドア19cを一旦閉じた後、開放するクローズ/オープン動作を行う。具体的には、まず、フープオープナ61のポートドア62を、フープドア19cを保持した状態で、下降位置から上昇位置へ、さらに退避位置から進出位置へ変位させる。そして、ポートドア62に保持したフープドア19cを、フープ19の本体19aの開口部19bに押し当て、本体19aと係合させることにより、開口部19bを閉塞する。ここまでがクローズ動作である。次に、ポートドア62によって、フープドア19cを保持して、フープ19の本体19aから取り外し、ポートドア62を進出位置から退避位置へ、さらに上昇位置から下降位置へ変位させて、第2の搬送室14内に格納する。ここまでがオープン動作である。
ここで、図6Aは、ウエハWの位置が異常である場合に、フープドア19cを閉じる直前のフープ19内の状態を示している。また、図6Bは、図6Aの状態からフープドア19cを閉じた後のフープ19内の状態を示している。図6Aでは、例えば10枚のウエハWが層状に整列して収容されている。ただし、図6Aでは、太い矢印で示す上から5枚目のウエハWが、傾斜した状態で開口部19b側に向けて突出している。つまり、当該5枚目のウエハWの位置は、前下がりの異常状態となっている。図6Aのような状態から、ポートドア62を、フープドア19cを保持した状態で、退避位置から進出位置へ変位させることにより、フープドア19cを、フープ19の本体19aの開口部19bに押し当て、該開口部19bを閉塞する。このフープドア19cのクローズ動作によって、フープドア19cの壁面が、前傾姿勢で突出した異常状態のウエハWの端部に当接し、これを本体19aの奥側へ向けて押し込むことができる。このクローズ動作により、上から5枚目のウエハWについて、位置の異常状態が解消され、正常状態となる。このように、本実施の形態では、特別な矯正装置を必要とせずに、フープドア19cのクローズ/オープン動作を利用して、フープ19内でのウエハWの位置異常を素早く矯正できる。なお、図示は省略するが、例えばフープドア19cの内側の壁面に、フープ19内でのウエハWの収容間隔と同じピッチで山谷形の溝を設け、谷の部分がウエハWの端部に当接するようにしておくことにより、異常状態のウエハWの位置の矯正を容易にすることができる。なお、ウエハWが前上がりに傾斜している異常状態の場合も、同様に矯正が可能である。
次に、STEP4では、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数(つまり、ポートドア62のクローズ/オープン動作の回数)がカウントされる。このクローズ/オープン動作の回数のカウントは、例えばMC401Aのカウンタ部407において行われる。カウント値は、本処理手順の開始により0クリアされ、本処理手順を繰り返す間、積算されていく。本処理手順における最初のクローズ/オープン動作の動作については、例えば「1」がカウントされる。従って、カウント値が2以上である場合は、本処理手順を繰り返すリトライ中であることを意味し、リトライ回数は、カウント値−1となる。
次に、STEP5では、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が設定値未満であるか否かが判断される。この設定値は、例えば、本処理手順を繰り返すリトライ回数の上限に「1」を加算した数値を意味する。つまり、設定値−1の値が、本処理手順のリトライ回数の上限に相当する。例えば、設定値が「5」である場合、リトライ回数の上限は4であり、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が「5」に達するまで本処理手順が繰り返される。フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が設定値未満であるか否かの判断は、MC401Aが行う。設定値は、例えばMC401Aの不揮発性メモリ部405Bに保存しておくことができる。
STEP5で、フープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が設定値未満である(Yes)の場合、再びSTEP1に戻り、STEP1〜STEP5の処理を繰り返す。ただし、次回以降の繰り返しにおいて、STEP1のマッピングは、本処理手順に基づき行われる「再度のマッピング」である。
一方、STEP2で、ウエハ位置が異常でない(No)と判定された場合、ウエハ位置は正常状態であるため、STEP3以降の処理を中止し、本処理手順を終了する。正常にウエハWが収容されたフープ19は、例えば、基板処理システム1内で別の処理を行うために待機してもよいし、フープオープナ61によってフープドア19cを閉じ、別の基板処理システムへ搬送してもよい。また、STEP2で、ウエハ位置が異常でない(No)と判定された場合、マッピングによって検出された当該フープ19内の各ウエハWの位置情報を、MC401Aから、該MC401Aよりも上位の制御部であるEC301に送信する。これにより、当該フープ19内のウエハWの位置情報や収容枚数の情報が、フープ19の管理番号等の他の情報とともに、EC301内のハードディスク装置307、記憶媒体507あるいは、EC301よりもさらに上位の制御部であるホストコンピュータ603の記憶部(図示せず)に保存される。このように、本実施の形態では、STEP1〜STEP5の手順を繰り返す間、最終的にウエハ位置が異常状態でない(正常状態である)と判定されたときに初めてMC401AからEC301へフープ19に関する情報を送信するため、あるフープ19について確定した位置情報や枚数の情報のみがEC301へ伝達されることになる。従って、基板処理システム1における無駄な情報のやり取りをなくし、情報処理の負荷を軽減できる。
また、STEP1〜STEP5の手順を繰り返す間に、STEP5でフープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が設定値未満ではない(No)、すなわち、設定値に達したと判断された場合は、リトライ回数が既に上限に達していることを意味している。例えば、リトライ回数の上限が4回であり、設定値が「5」であれば、カウント値が5に達したときに設定値未満ではない(No)と判断される。この場合は、フープドア19cのクローズ/オープン動作ではウエハ位置の矯正が困難であるため、それ以降の繰り返しを中止し、本処理手順を終了する。そして、例えばアラームによる警告を行ったり、ユーザーインターフェース501のディスプレイにエラーを表示したりすることができる。また、最後のマッピング動作(STEP1)で検出された異常状態であるウエハWの位置情報は、MC401Aから、該MC401Aよりも上位の制御部であるEC301に送信する。これにより、当該フープ19内のウエハWの位置情報や枚数の情報が、フープ19の管理番号等の他の情報とともに、EC301内のハードディスク装置307、記憶媒体507あるいは、EC301よりもさらに上位の制御部であるホストコンピュータ603の記憶部(図示せず)に保存される。このように、本実施の形態では、最終的にウエハ位置が異常状態である(正常状態でない)と判定されたときに初めてそのフープ19に関する情報を送信するため、あるフープ19について確定した位置情報や枚数の情報のみが伝達されることになる。従って、基板処理システム1における無駄な情報のやり取りをなくし、情報処理の負荷を軽減できる。
以上のように、本実施の形態の基板処理システム1及び基板位置矯正方法では、特別な機構を設けることなく、かつ、人手によらず、自動的にフープ19のフープドア19cのクローズ/オープン動作を利用してフープ19内でのウエハWの異常状態を迅速に矯正することができる。従って、基板処理システム1のローダーモジュール20におけるダウンタイムを極力短くすることが可能であり、半導体装置の生産効率の低下を防ぐことができる。
[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理システム及び基板位置矯正方法について説明する。本実施の形態の基板処理システムの構成は、図1〜図4に示した第1の実施の形態の基板処理システム1と同様であるため、重複した説明を省略する。図7は、本実施の形態の基板位置矯正方法の手順の概要を示すフローチャートである。本実施の形態の基板位置矯正方法は、第1の実施の形態の基板位置矯正方法の変形例であり、STEP11〜STEP16の手順を含んでいる。本実施の形態の基板位置矯正方法は、例えば、フープ19内に処理対象のウエハWが多段に収容され、フープドア19cが閉じられた状態で、フープ19が、他の基板処理システムから基板処理システム1に搬送されてきた場合に好ましく適用できる。また、本実施の形態の基板位置矯正方法は、例えば、基板処理システム1内で、何等かの事情で処理を中断し、ウエハWをフープ19内に収容してフープドア19cを閉じて待機させていた後で、処理を再開する場合などにも好ましく適用できる。
次に、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理システム及び基板位置矯正方法について説明する。本実施の形態の基板処理システムの構成は、図1〜図4に示した第1の実施の形態の基板処理システム1と同様であるため、重複した説明を省略する。図7は、本実施の形態の基板位置矯正方法の手順の概要を示すフローチャートである。本実施の形態の基板位置矯正方法は、第1の実施の形態の基板位置矯正方法の変形例であり、STEP11〜STEP16の手順を含んでいる。本実施の形態の基板位置矯正方法は、例えば、フープ19内に処理対象のウエハWが多段に収容され、フープドア19cが閉じられた状態で、フープ19が、他の基板処理システムから基板処理システム1に搬送されてきた場合に好ましく適用できる。また、本実施の形態の基板位置矯正方法は、例えば、基板処理システム1内で、何等かの事情で処理を中断し、ウエハWをフープ19内に収容してフープドア19cを閉じて待機させていた後で、処理を再開する場合などにも好ましく適用できる。
まず、STEP11では、ロードポート18A,18B,18Cのいずれかに載置された、対象となるフープ19のフープドア19cをオープンする。すなわち、ポートドア62によって、フープドア19cを保持し、フープ19の本体19aから脱離させ、ポートドア62を進出位置から退避位置へ、さらに上昇位置から下降位置へ変位させて、第2の搬送室14内に格納する。
次に、STEP12では、マッピングを行う。このSTEP12以降、STEP16までの手順は、図5のSTEP1〜STEP5の各処理と同じであるため、個別の説明を省略する。すなわち、STEP12は図5のSTEP1に相当し、STEP13は同STEP2に相当し、STEP14は同STEP3に相当し、STEP15は同STEP4に相当し、STEP16は同STEP5に相当する。
本実施の形態では、フープ19内にウエハWを収容した状態から、フープドア19cをオープンした場合に、必ずSTEP12のマッピングを行うようにした。また、STEP12のマッピングの結果に基づき、次のSTEP13でウエハ位置が異常である(Yes)と判定された場合、フープドア19cのクローズ/オープン動作(STEP14)を行う。そして、クローズ/オープン回数をカウントし(STEP15)、設定値未満であるか否かの判定を行う(STEP16)。その後、再度のマッピング(STEP12)を行って、上記実施の形態と同様にSTEP16までの処理を繰り返す。このように本実施の形態では、フープドア19cをオープンした際に、まずマッピングを行い、さらに必要によりウエハ位置を矯正する手順を実行するので、対象となるフープ19内でのウエハWの位置情報や枚数の情報を確実に把握できる。従って、フープドア19cをオープンした場合に、いきなり第2の搬送装置25によってフープ19からウエハWを取り出す場合に比べ、ウエハWの破損事故や脱落事故などの発生確率を低減することができる。このように、本実施の形態の基板処理システム及び基板位置矯正方法によれば、ローダーモジュール20において、対象となるフープ19からのウエハWの搬入・搬出動作を確実かつ安全に行うことができる。
本実施の形態における他の構成及び効果は、上記第1の実施の形態と同様であるため、説明を省略する。
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはない。例えば、基板処理システム1で処理対象とする基板としては、半導体ウエハWに限らず、例えばフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、太陽電池パネル製造用の基板等でもよい。
また、上記実施の形態では、4つのプロセスモジュール10とローダーモジュール20を備えた基板処理システムを例示して説明をしたが、基板処理システムの構成は任意であり、他の構成の基板処理システムにも適用できる。
また、上記実施の形態では、STEP2(又はSTEP13)でウエハ位置が異常でない(No)と判定された場合や、STEP5(又はSTEP16)でフープドア19cのクローズ/オープン動作の回数のカウント値が設定値未満ではない(No)と判定された場合に、MC401Aから、上位の制御部であるEC301へウエハWに関する位置情報を送信することとした。つまり、STEP1〜STEP5(又はSTEP12〜STEP16)の手順を繰り返す間、最終的にウエハ位置が正常状態又は異常状態であると判定されたときに、初めてEC301への通知が行われる。しかし、別の実施の形態においては、マッピング動作を行う毎に、ウエハWに関する位置情報を含むフープ19に関する情報を、MC401AからEC301へ送信するようにしてもよい。
1…基板処理システム、10,10A,10B,10C,10D…プロセスモジュール、11…第1の搬送室、12A,12B…ロードロック室、14…第2の搬送室、21…第1の搬送装置、25…第2の搬送装置、W…ウエハ
Claims (8)
- 基板を挿入する開口部及び該開口部を閉じる開閉扉を有し、複数の基板を多段に支持して収容する搬送容器を使用し、基板の搬入と搬出を行う基板処理システムであって、
前記搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備えており、
前記制御部は、前記マッピング装置からの基板位置情報に基づき、基板位置が正常状態であるか異常状態であるかを判定し、異常状態である場合に、前記開閉装置により前記開閉扉を閉じた後開放するクローズ/オープン動作を行った後、前記マッピング装置により再度のマッピング動作を行うように制御することを特徴とする基板処理システム。 - 前記クローズ/オープン動作と、前記再度のマッピング動作と、を繰り返し行う請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記制御部は、前記再度のマッピング動作により検出された基板位置が正常状態である場合に、前記クローズ/オープン動作と前記再度のマッピング動作を中止するとともに、最後のマッピング動作で得られた前記正常状態の基板位置情報を前記制御部よりも上位の制御部に送信する請求項1又は2に記載の基板処理システム。
- 前記クローズ/オープン動作と前記再度のマッピング動作の繰り返し回数が、設定された回数に達した場合に、繰り返しを中止するとともに、最後のマッピング動作で得られた基板位置情報を前記制御部よりも上位の制御部に送信する請求項2に記載の基板処理システム。
- 基板を挿入する開口部及び該開口部を閉じる開閉扉を有し、複数の基板を多段に支持して収容する搬送容器が装着される載置部と、
前記載置部に装着された前記搬送容器の開閉扉を保持して開閉動作を行う開閉装置と、
前記開閉扉が開放された状態でマッピング動作を実施し、前記搬送容器に収容された基板位置を検出し、基板位置情報として取得するマッピング装置と、
前記開閉装置及び前記マッピング装置を制御する制御部と、
を備え、前記搬送容器を使用し、基板の搬入と搬出を行う基板処理システムにおいて前記搬送容器に収容された基板の位置を矯正する基板位置矯正方法であって、
前記マッピング装置によりマッピング動作を行うステップと、
前記マッピング動作で基板位置が異常状態であることが検出された場合、前記開閉扉を閉じた後開放するクローズ/オープン動作を行うステップと、
前記マッピング装置により再度のマッピング動作を行うステップと、
を有することを特徴とする基板位置矯正方法。 - 前記クローズ/オープン動作を行うステップと、前記再度のマッピング動作を行うステップと、を繰り返す請求項5に記載の基板位置矯正方法。
- 前記制御部は、前記再度のマッピング動作により検出された基板位置が正常状態である場合に、前記クローズ/オープン動作を行うステップと前記再度のマッピング動作を行うステップとの繰り返しを中止する請求項6に記載の基板位置矯正方法。
- 前記クローズ/オープン動作を行うステップと前記再度のマッピング動作を行うステップとの繰り返し回数が、設定された回数に達した場合に、繰り返しを中止する請求項6に記載の基板位置矯正方法。
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