JP2002237507A - 処理システム及び処理システムの被処理体の搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 現在処理中の被処理体とは異種の処理を行う
べき被処理体が到来した場合に、迅速且つ効率的に処理
装置まで搬送し、全体としてのスループットを向上させ
る。 【解決手段】 被処理体Ｗに対して互いに異なる種類の
処理を施す複数の処理装置２４Ａ，２４Ｂと、複数の被
処理体待機ポート３６Ａ〜３６Ｃと、複数の処理装置と
複数の被処理体待機ポートとの間で被処理体を搬送する
共通搬送機構４０と、いずれかの処理装置内にて被処理
体に処理が施されている際には、処理中の被処理体の処
理が完了して前記処理装置から搬出可能になるまでの残
存処理時間と、被処理体待機ポートから被処理体を取り
出した後、処理中の処理装置に対する待機位置に被処理
体を搬送するまでに要する全体搬送時間とに基づいて被
処理体待機ポートからの新たな被処理体の搬送を開始す
るように制御する制御部９４とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ（以
下、ウエハという）等に所定の処理を施すための処理シ
ステム及び処理システムの被処理体の搬送方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスを製造する際の
装置としては、多種多様な処理装置が組み合わされてお
り、これらの処理装置同士間及びウエハを多数枚収容す
るカセットと上記処理装置との間などにウエハを自動的
に受け渡しを行なうために搬送機構が設けられている。
この搬送機構は、例えば屈伸、旋回及び昇降自在になさ
れた搬送アーム部を有しており、これを移載位置まで水
平移動してウエハを所定の位置まで搬送して移載ように
なっている。この種の複数種類の処理装置を組み合わせ
た処理システムの一例として、例えば特開平７−１９３
１１２号公報、特開平９−２５２０３９号公報、特開２
０００−１２７０６９号公報等に開示されている。

【０００３】図７は、この種の処理システムの一例を示
す概略構成図である。図示するようにこの処理システム
は横長になされた箱状の共通搬送室２を有しており、こ
の長手方向に沿った一側に複数、図示例では３つの被処
理体待機ポート４Ａ、４Ｂ、４Ｃが設けられ、ここに複
数枚、例えば２５枚程度の未処理のウエハＷを多段に収
容できるカセット容器６を載置して待機させるようにな
っている。また、この待機ポート４Ａ〜４Ｃの対向辺側
には、真空引き可能になされたロードロック室８Ａ、８
Ｂを有する複数、図示例では処理装置１０Ａ、１０Ｂが
設けられており、ここでは上記処理装置１０Ａ、１０Ｂ
は例えば互いに異なる処理を行うようになっている。そ
して、上記各ロードロック室８Ａ、８Ｂ内には、それぞ
れ２つのバッファ用載置台１２Ａ、１２Ｂと個別移載機
構１４Ａ、１４Ｂが設けられており、各処理装置１０
Ａ、１０Ｂと共通搬送室２との間でウエハの橋渡しを行
うようになっている。更に、この共通搬送室２の一端に
は、ウエハのずれ量を補正して位置決めを行うオリエン
タ１６が設けられており、ウエハの位置決めを行うよう
になっている。また、この共通搬送室２内にはその長手
方向（Ｘ方向）へ移動可能になされた共通搬送機構１８
が設けられており、この共通搬送機構１８は、屈伸、旋
回及び昇降可能に独立に制御可能になされた２つの搬送
アーム２０Ａ、２０Ｂを有している。そして、これらの
２本の搬送アーム２０Ａ、２０Ｂを用いてウエハの置き
替えを行い得るようになっている。

【０００４】上記処理システムにあっては、まず共通搬
送機構１８の一方の搬送アーム、例えば２０Ａにより各
被処理体待機ポート４Ａ〜４Ｃのカセット容器６から搬
送された未処理のウエハＷは、オリエンタ１６へ搬送さ
れ、他方の空の搬送アーム、例えば２０Ｂを用いてここ
で先の位置決めがなされたウエハと置き替えが行われ、
そして、位置決めが先になされたウエハを所望する処理
を行うために所定の処理装置、例えば１０Ａのロードロ
ック室８Ａまで搬送して行く。また、ロードロック室８
Ａ内に、先に処理装置１０Ａ内で処理された処理済みの
ウエハが搬出されてくると、この処理済みのウエハと上
記搬送されてきた未処理のウエハとをロードロック室８
Ａにて置き替えを行い、未処理のウエハは処理装置１０
Ａへ搬入されて所定の処理が行われると共に、処理済み
のウエハはこの共通搬送機構１８により元のカセット容
器６内へ収容されることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
処理システムにおいて、一般的にはスループットの向上
の見地より、できるだけ未処理のウエハを処理装置１０
Ａ或いは１０Ｂに接近させて待機させることが望ましい
ことから、カセット容器６からは順次未処理のウエハが
搬送されて、これらがオリエンタ１６内、共通搬送機構
１８のいずれか一方の搬送アーム上（他方の搬送アーム
はウエハ入れ替えのために空き状態となっている）、及
びロードロック室８Ａ内の処理装置１０Ａ側に近いバッ
ファ用載置台１２Ａ上に、それぞれ待機されている。そ
して、１枚のウエハの処理が完了すると、処理済みのウ
エハは直ちにカセット容器内へ収容され、上記各待機中
の未処理のウエハが順送りされて次の未処理のウエハを
直ちに処理工程へ移行するようになっている。

【０００６】ところで、このような状況下において、例
えば上記処理装置１０Ａ内の処理とは別の処理を、他方
の処理装置１０Ｂ内で行うために、新たな未処理のウエ
ハを収容したカセット容器が空き状態だった被処理体待
機ポート、例えば４Ｃに設置された場合、上記他方の処
理装置１０Ｂが未稼働であるにもかかわらず、すでに共
通搬送機構１８の一方の搬送アーム２０Ａ或いは２０Ｂ
は位置決め後のウエハを保持しているので、更には、オ
リエンタ１６内にもウエハが載置されているので、この
待機ポート４Ｃ上に設置された新たなウエハについて
は、上記一方の処理装置１０Ａでの処理が完了するまで
処理を開始することはできず、この場合、他方の処理装
置１０Ｂの稼働率が低下してスループットを向上できな
くなる、といった問題が発生していた。

【０００７】この問題を解決するために、現在処理中の
ウエハが処理済みとなってロードロック室８Ａから搬送
可能になるまで、カセット容器６からの未処理のウエハ
の搬送を見送るようにしてウエハ搬送経路中には何ら未
処理のウエハを待機させないようにすることも考えられ
るが、この場合には、未処理のウエハをオリエンタ１６
にて位置合わせを行って、これを処理装置１０Ａの直前
まで搬送するに多くの時間を要してしまい、これでは逆
に処理装置１０Ａにおけるスループットが大きく低下し
てしまう。このように、別処理を行うべきウエハがその
処理を行うべく仕掛けられても、共通搬送機構１８及び
オリエンタ１６にて先行して行われている処理を行うべ
きウエハにより占有されているので、別処理用のウエハ
の搬送はできず、全体のスループットを低下させてしま
っていた。特に、最近のように、少量多品種の処理をウ
エハに行うことが必要な状況下では、上記した問題点の
早期解決が望まれている。本発明は、以上のような問題
点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたもので
ある。本発明の目的は、現在処理中の被処理体の残存処
理時間を管理することにより異種の処理を行うべき被処
理体が到来した場合に、これを迅速且つ効率的に処理装
置まで搬送することができ、これにより全体としてのス
ループットを向上させることができる処理システム及び
処理システムの被処理体の搬送方法を提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
被処理体に対して互いに異なる種類の処理を施す複数の
処理装置と、処理すべき被処理体を待機させる複数の被
処理体待機ポートと、前記複数の処理装置と前記複数の
被処理体待機ポートとの間で前記被処理体を搬送する共
通搬送機構とを有する処理システムの被処理体の搬送方
法において、前記いずれかの処理装置内にて被処理体に
処理が施されている際には、前記処理中の被処理体の処
理が完了して前記処理装置から搬出可能になるまでの残
存処理時間と、前記被処理体待機ポートから被処理体を
取り出した後、前記処理中の処理装置に対する待機位置
に被処理体を搬送するまでに要する全体搬送時間とに基
づいて前記被処理体待機ポートからの新たな被処理体の
搬送を開始するようにしたことを特徴とする処理システ
ムの被処理体の搬送方法である。

【０００９】これによれば、現在処理中の被処理体が、
その処理が完了して搬送可能になるまでに要する残存処
理時間と、その処理装置まで新たな未処理の被処理体を
搬送するまでに要する搬送時間とを考慮して、新たな未
処理の被処理体の搬送開始を決定するようにしたので、
共通搬送機構が未処理の被処理体を保持したまま待機す
る無駄な時間がほとんどなくなり、全体としてのスルー
プットを大幅に向上させることが可能となる。請求項２
に係る発明は、被処理体に対して互いに異なる種類の処
理を施す複数の処理装置と、前記被処理体の位置決めを
行う位置決め装置と、処理すべき被処理体を待機させる
複数の被処理体待機ポートと、前記複数の処理装置と前
記位置決め装置と前記複数の被処理体待機ポートとの間
で前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、を有する処
理システムの被処理体の搬送方法において、前記いずれ
かの処理装置内にて被処理体に処理が施されている際に
は、前記処理中の被処理体の処理が完了して前記処理装
置から搬出可能になるまでの残存処理時間と、前記被処
理体待機ポートから被処理体を取り出して該被処理体を
前記位置決め装置へ搬送し、位置決め後の被処理体を前
記処理中の処理装置に対する待機位置に被処理体を搬送
するまでに要する全体搬送時間とに基づいて前記被処理
体待機ポートからの新たな被処理体の搬送を開始するよ
うにしたことを特徴とする処理システムの被処理体の搬
送方法である。

【００１０】また、例えば請求項３に規定するように、
前記共通搬送機構は、独立して屈伸及び旋回可能になさ
れた複数の搬送アームを有し、前記全体搬送時間には、
前記搬送アームを用いて前記位置決め装置において被処
理体を入れ替えるために要する入れ替え時間が含まれ
る。また、請求項４に規定するように、前記全体搬送時
間には、前記被処理体待機ポートにおいて被処理体待機
ポートから被処理体を取り出して搬出するために要する
搬出時間が含まれる。

【００１１】また、請求項５に規定するように、前記被
処理体待機ポートに、処理すべき被処理体がなくなって
前記位置決め装置内に処理すべき被処理体が待機してい
る場合には、前記残存処理時間と、前記位置決め装置か
ら前記処理装置の待機位置へ前記被処理体を搬送するた
めに要する部分搬送時間とに基づいて、前記位置決め装
置からの新たな被処理体の搬送を開始する。この場合に
は、位置決め装置内の最後の一枚の被処理体を搬送する
場合にも、新たに仕掛けられる可能性のある未処理の被
処理体に対してスループット向上のための搬送開始管理
を行うことが可能となる。また、例えば請求項６に規定
するように、前記残留処理時間は、前記位置決め装置内
に被処理体が有る場合には該被処理体に処理を施すべき
処理装置の残留処理時間であり、前記位置決め装置内に
被処理体が無い場合には、前記被処理体待機ポートから
搬出される被処理体に処理を施すべき処理装置の残留処
理時間である。

【００１２】また、例えば請求項７に規定するように、
前記位置決め装置内に被処理体が無い場合には、前記全
体搬送時間には、前記位置決め装置から最も遠い被処理
体待機ポートまで前記共通搬送機構が移動する時間が含
まれる。また、例えば請求項８に規定するように、前記
複数の処理装置及び前記複数の被処理体待機ポートは、
それぞれ処理装置毎に残留処理時間が管理され、また、
それぞれ被処理体待機ポート毎に全体搬送時間が管理さ
れる。

【００１３】請求項９に係る発明は、上記搬送方法を実
施するための装置発明である処理システムの発明であ
り、すなわち、被処理体に対して互いに異なる種類の処
理を施す複数の処理装置と、処理すべき被処理体を待機
させる複数の被処理体待機ポートと、前記複数の処理装
置と前記複数の被処理体待機ポートとの間で前記被処理
体を搬送する共通搬送機構と、前記いずれかの処理装置
内にて被処理体に処理が施されている際には、前記処理
中の被処理体の処理が完了して前記処理装置から搬出可
能になるまでの残存処理時間と、前記被処理体待機ポー
トから被処理体を取り出した後、前記処理中の処理装置
に対する待機位置に被処理体を搬送するまでに要する全
体搬送時間とに基づいて前記被処理体待機ポートからの
新たな被処理体の搬送を開始するように制御する制御部
とを備えたことを特徴とする処理システムである。

【００１４】請求項１０に係る発明は、被処理体に対し
て互いに異なる種類の処理を施す複数の処理装置と、前
記被処理体の位置決めを行う位置決め装置と、処理すべ
き被処理体を待機させる複数の被処理体待機ポートと、
前記複数の処理装置と前記位置決め装置と前記複数の被
処理体待機ポートとの間で前記被処理体を搬送する共通
搬送機構と、前記いずれかの処理装置内にて被処理体に
処理が施されている際には、前記処理中の被処理体の処
理が完了して前記処理装置から搬出可能になるまでの残
存処理時間と、前記被処理体待機ポートから被処理体を
取り出して該被処理体を前記位置決め装置へ搬送し、位
置決め後の被処理体を前記処理中の処理装置に対する待
機位置に被処理体を搬送するまでに要する全体搬送時間
とに基づいて前記被処理体待機ポートからの新たな被処
理体の搬送を開始するように制御する制御部と、を備え
たことを特徴とする処理システムである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る処理システ
ム及び処理システムの被処理体の搬送方法の一実施例を
添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る被処
理体の処理システムを示す概略構成図、図２は位置決め
装置を示す側面図、図３は位置決め装置へ被搬送体を載
置した状態を示す平面図、図４及び図５は搬送経路途中
の個々の工程に要する時間を定義するための図である。
ここでは被処理体としてウエハを用いた場合について説
明する。

【００１６】まず、図１を参照して被処理体を処理する
ための処理システムについて説明する。この処理システ
ム２２は、被処理体としてのウエハＷに対して成膜処
理、エッチング処理等の各種の処理を行なう処理ユニッ
ト２４と、この処理ユニット２４に対してウエハＷを搬
入、搬出させる搬送ユニット２６とにより主に構成され
る。また、この搬送ユニット２６は、ウエハＷを搬送す
る際に共用される共通搬送室２８を有している。上記処
理ユニット２４は、２つの処理装置２４Ａ、２４Ｂより
なり、各処理装置２４Ａ、２４Ｂは、それぞれ処理室３
２Ａ、３２Ｂと、これらのそれぞれに連設される真空引
き可能になされたロードロック室３０Ａ、３０Ｂを有し
ており、各処理室３２Ａ、３２Ｂにおいて互いに異なる
異種の処理をウエハＷに対して施すようになっている。
各処理室３２Ａ、３２Ｂ内には、ウエハＷを載置するた
めの載置台３４Ａ、３４Ｂがそれぞれ設けられる。尚、
このロードロック室及び処理室よりなる処理装置は２つ
に限定されず、更に追加して設けるようにしてもよい。

【００１７】一方、搬送ユニット２６の共通搬送室２８
は、例えばＮ₂ ガス等の不活性ガスや清浄空気が循環さ
れる横長の箱体により形成されており、この横長の一側
には、複数の、図示例では３台のカセット容器を載置す
る被処理体待機ポートとしてのカセット台３６Ａ、３６
Ｂ、３６Ｃが設けられ、ここにそれぞれ１つずつカセッ
ト容器３８Ａ〜３８Ｃを載置できるようになっている。
図示例では右端のカセット台３６Ｃ上にはカセット容器
１８Ｃが一点鎖線で示されており、空き状態となってい
ることを表している。各カセット容器３８Ａ〜３８Ｃに
は、最大例えば２５枚のウエハＷを等ピッチで多段に載
置して収容できるようになっており、内部は例えばＮ２
ガス雰囲気で満たされた密閉構造となっている。そし
て、共通搬送室２８内へは、ゲートバルブ３９Ａ〜３９
Ｃを介してウエハを搬出入可能になされている。

【００１８】共通搬送室２８内には、ウエハＷをその長
手方向に沿って搬送する共通搬送機構４０が設けられ
る。この共通搬送機構４０は、基台４８上に固定されて
おり、この基台４８は共通搬送室２８内の中心部を長さ
方向に沿って延びるように設けた案内レール４２上にス
ライド移動可能に支持されている。この基台４８と案内
レール４２には、それぞれリニアモータの可動子と固定
子とが設けられている。従って、この案内レール４２の
端部に設けたリニアモータ駆動機構５０を駆動すること
により、上記共通搬送機構４０は案内レール４２に沿っ
てＸ方向へ移動することになる。

【００１９】また、共通搬送室２８の他端には、ウエハ
の位置決めを行なう位置決め装置としてのオリエンタ５
２が設けられ、更に、共通搬送室２８の長手方向の途中
には、前記２つの処理室３２Ａ、３２Ｂとの間を連結す
るために真空引き可能になされた先の２つのロードロッ
ク室３０Ａ、３０Ｂがそれぞれ開閉可能になされたゲー
トバルブ５４Ａ、５４Ｂを介して設けられる。各ロード
ロック室３０Ａ、３０Ｂ内には、それぞれウエハＷを一
時的に載置して待機させる一対のバッファ用載置台５６
Ａ、５８Ａ及び５６Ｂ、５８Ｂが設けられる。ここで共
通搬送室２８側のバッファ用載置台５６Ａ、５６Ｂを第
１バッファ用載置台とし、反対側のバッファ用載置台５
８Ａ、５８Ｂを第２バッファ用載置台とする。そして、
両バッファ用載置台５６Ａ、５８Ａ間及び５６Ｂ、５８
Ｂ間には、屈伸、旋回及び昇降可能になされた多関節ア
ームよりなる個別移載機構６０Ａ、６０Ｂが設けられて
おり、その先端に設けたフォーク６１Ａ、６１Ｂを用い
て第１、第２の両バッファ用載置台５６Ａ、５８Ａ及び
５６Ｂ、５８Ｂ間でウエハＷの受け渡し移載を行い得る
ようになっている。そして、各ロードロック室３０Ａ、
３０Ｂの他端は、開閉可能になされたゲートバルブ６２
Ａ、６２Ｂを介してそれぞれ上記処理室３２Ａ、３２Ｂ
へ連結されている。尚、処理室３２Ａ、３２Ｂ内へのウ
エハの搬入搬出は、それぞれに対応させて設けた個別移
載機構６０Ａ、６０Ｂを用いる。

【００２０】また、上記オリエンタ５２は、図２及び図
３にも示すように駆動モータ７０によって回転される基
準台７２を有しており、この上にウエハＷを載置した状
態で回転するようになっている。基準台７２の外周に
は、ウエハＷの周縁部を検出するための光学センサ８４
が設けられる。この光学センサ８４は基準台７２の半径
方向に沿って配置した所定の長さのライン状の発光素子
８４Ａと、ウエハ周縁部を挟んでこれと対応するように
配置した受光素子８４Ｂとよりなり、カーテン状のレー
ザ光Ｌをウエハ端部に照射してこの変動を検出できるよ
うになっている。そして、検出演算部８６ではウエハＷ
の偏心量、偏心方向及びウエハＷに形成されている切り
欠き目印としての例えばノッチ８８の回転位置、すなわ
ち方位を認識できるようになっている。図３中におい
て、Ｏ１は基準台７２の中心（回転中心）であり、Ｏ２
はウエハＷの中心である。従って、偏心量は、Δｒとな
る。尚、切り欠き目印は、３００ｍｍウエハではノッチ
８８となるが、８インチ、或いは６インチウエハではノ
ッチまたはオリエンテーションフラットになる。

【００２１】また、図１に戻って上記共通搬送機構４０
は、上下２段に配置された多関節形状になされた２つの
搬送アーム９０、９２を有している。この各搬送アーム
９０、９２の先端にはそれぞれ２股状になされたフォー
ク９０Ａ、９２Ａを取り付けており、このフォーク９０
Ａ、９２Ａ上にそれぞれウエハＷを直接的に保持するよ
うになっている。従って、各搬送アーム９０、９２は、
この中心より半径方向へ向かうＲ方向へ屈伸自在になさ
れており、また、各搬送アーム９０、９２の屈伸動作は
個別に制御可能になされている。上記搬送アーム９０、
９２の各回転軸は、それぞれ基台４８に対して同軸状に
回転可能に連結されており、各回転軸は、例えば基台４
８に対する旋回方向であるθ方向へ一体的に回転できる
ようになっている。更に、この各回転軸は、基台４８を
中心として、上下方向へ、すなわちＺ方向へも例えば一
体的に移動可能になっている。従って、全ての位置座標
は、Ｘ、Ｚ、Ｒ、θの座標として表される。各軸の座標
は、例えばエンコーダ等によって認識できるようになっ
ているのは勿論である。尚、この共通搬送機構４０の構
成としては、上下２段に重なるようにして搬送アーム９
０、９２が設けられる構造に限定されない。

【００２２】上記オリエンタ５２、共通搬送機構４０及
び各個別移載機構６０Ａ、６０Ｂの動作制御も含めてこ
の処理システム全体の動作を制御するために、例えばマ
イクロコンピュータ等よりなる制御部９４が設けられ
る。そして、この制御部９４には各種のデータ等を記憶
するメモリ９６が並設されている。そして、この制御部
９４からの指令により、後述するようにウエハの開始の
タイミングが測られることになる。

【００２３】次に、以上のような処理システム２２を用
いて行なわれる本発明の搬送方法について、図４及び図
５も参照して説明する。図４はカセット容器からウエハ
を搬送する際の各工程における所要時間を定義するため
の説明図、図５はオリエンタ５２からウエハを搬送する
際の各工程における所要時間を定義するための説明図で
ある。尚、図５に示される搬送は、どのカセット容器に
もウェハが存在しないときにのみ行なわれる。まず、あ
る特定のキャリア容器内のウエハ搬送中に、新たなキャ
リア容器が載置されて別処理を行うウエハがセットされ
てこの搬送を仕掛けた場合、オリエンタ５２や共通搬送
機構４０が搬送中のウエハによって占有されていると、
処理中のウエハの処理が完了するまで上記別処理のウエ
ハの搬出ができないので、その分、この処理が遅れてし
まう。

【００２４】そこで、本発明の搬送方法では、現在処理
中のウエハの処理が完了して処理装置、ここではロード
ロック室からの搬出が可能になるまでに要する残存処理
時間と、次の未処理のウエハをこのロードロック室まで
搬送するために要する全搬送時間とを考慮して、カセッ
ト容器またはオリエンタ５２からのウエハの搬出の開始
タイミングを決定するようにしている。すなわち、スル
ープットを低下させない範囲内で時間的に可能な限り、
カセット容器またはオリエンタ５２からのウエハの搬出
の開始動作を遅延させるようになっている。尚、残存処
理時間を上述のように定義した結果、これには、処理室
内でウエハに対して実際に処理が行われる残り時間の外
に、処理室内をロードロック室に対して圧力調整して処
理済みのウエハをロードロック室へ移載する時間、及び
このロードロック室を密閉した後にこのロードロック室
内を共通搬送室２８（略大気圧）に対して圧力調整して
この処理済みのウエハを共通搬送室２８内へ移載できる
までに要する時間等を含む。ここで、ウエハに対する処
理時間は予め定められているので、この残存処理時間
は、上記制御部９４内で計測されており、この時間は、
時々刻々処理の進行に従って減少して行くことになる。
また、カセット容器またはオリエンタ５２からのウエハ
の搬出の開始タイミング決定のための判定は、上記制御
部９４内に格納されたプログラムにより所定の間隔毎
に、例えば１秒ごとに行なわれる。

【００２５】さて、ここで図４及び図５を参照してウエ
ハの搬送途中の各工程における所要時間を定義する。こ
の説明では、図４中の最も左側の被処理体待機ポートで
あるカセット台３６Ａ上のカセット容器３８Ａから未処
理のウエハＷを取り出し、これをオリエンタ５２で位置
決めした後、図中左側のロードロック室３０Ａまで搬送
して処理装置２４Ａにて処理を行う場合を例にとって説
明する。図４及び図５において共通搬送機構４０の現在
位置を”ｘ”とする。

【００２６】＜各時間の定義（図４）＞ Ｔ（ｘ−ｌｐ）：現在位置ｘ→カセット台（ロードポ
ート）３６Ａまでの移動時間。 Ｔ（ｌｐ−ｏｒｔ）：カセット台３６Ａ→オリエンタ
５２までの移動時間（位置決め搬送時間）。 Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ）：オリエンタ５２→ロードロッ
ク室（ロードロックモジュール）３０Ａ（待機位置）ま
での移動時間（部分搬送時間）。 Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ）：カセット台３６Ａでウエハを取
り出して搬出するために要する搬出時間。 Ｔ（ｏｒｔ）：オリエンタ５２にて位置決め済みのウ
エハと位置決め前のウエハとを搬出入させて入れ替える
ために要する入れ替え時間。 Ｔ（ｏｒｔ−ｉｎ）：オリエンタ５２に位置決め前の
ウエハを搬入するために要する搬入時間。 Ｔ（ｏｒｔ−ｌｐｍａｘ）：オリエンタ５２→最も遠
いカセット台（ここでは３６Ｃ）までの移動時間。

【００２７】＜各時間の定義（図５）＞ Ｔ（ｘ−ｏｒｔ）：現在位置ｘ→オリエンタ５２まで
の移動時間。 Ｔ（ｏｒｔ−ｏｕｔ）：オリエンタ５２にて位置決め
済みのウエハを搬出するために要する搬出時間。 Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ）：オリエンタ５２→ロードロッ
ク室３０Ａ（待機位置）までの移動時間（部分搬送時
間）。尚、これは図４中のＴ（ｏｒｔ−ｌｌｍ）と同じ
である。 尚、上記各時間の値は、共通搬送室２８の長さにもよる
が、例えば数秒〜十数秒程度の範囲内であり、これらの
値は予め制御部９４のメモリ９６（図１参照）に記憶さ
れている。また、上記時間の定義は、他のカセット台３
６Ｂ、３６Ｃや他の処理装置２４Ｂのロードロック室３
０Ｂに対しても、同様になされてメモリ９６に記憶され
ている。そして、各処理室３２Ａ、３２Ｂにおける処理
時間は、処理内容にもよるが、通常は数分程度である。

【００２８】本実施例では、共通搬送機構４０の搬送ア
ーム９０或いは９２がウエハを保持した状態で長時間待
機中の状態に陥ることを極力避けるようにするものであ
る。その理由は、前述したように搬送アーム９０或いは
９２がウエハを保持して待機している時に、新しいカセ
ット容器が載置されて別処理のウエハがセットされるこ
とによりこのウエハの搬送が仕掛けられても、これに迅
速に対応することができないからである。具体的なウエ
ハＷの流れは、前述したように、まず、未処理のウエハ
がカセット容器からオリエンタ５２に搬送されて位置決
めされ、この位置決めされたウエハをロードロック室に
搬送し、これに対応する処理室にて所定の処理を行う
が、共通搬送機構４０の一般的な動作としては、オリエ
ンタ５２では空き状態の一方の搬送アーム、例えば搬送
アーム９０で位置決め済みのウエハを取り出し、そし
て、他方の搬送アーム９２に保持していた位置決めを行
っていないウエハをオリエンタ５２に載置するように、
ウエハの入れ替えを行う。同様に、ロードロック室にお
いても、一方の空き状態の搬送アーム、例えば搬送アー
ム９２で処理済みのウエハを保持し、そして、他方の搬
送アーム９０に保持していた位置決め済みのウエハをロ
ードロック室に載置するように、ウエハの入れ替えを行
う。

【００２９】さて、カセット容器内からウェハを搬送す
る場合には、オリエンタ５２内にウエハが存在するとき
と、オリエンタ５２内にウエハが存在しないで空き状態
になっているときとがある。従って、カセット容器内か
らウエハの搬送を開始するか否かを、オリエンタ５２が
空き状態（ウエハ無し）の場合とオリエンタ５２がウエ
ハ有りの場合とに分けて判定する。

【００３０】＜オリエンタ内にウエハ有りの場合の全体
搬送時間Ｔｒ＞オリエンタ内にウェハが有る場合とは、
例えば同一のカセット容器内のウエハが順次連続的に処
理が行われているような状況、または複数のカセット容
器内のウェハを並列に処理している状況、例えばカセッ
ト容器３８Ａのウエハを処理装置２４Ａで、カセット容
器３８Ｂのウェハを処理装置２４Ａまたは２４Ｂで処理
している状況であって、且つ先に搬送されたウエハがす
でにオリエンタ５２内で位置決めされて待機しているよ
うな場合である。この場合の全体搬送時間は、カセット
台３６Ａから搬出するウエハをオリエンタ内まで搬送
し、且つ位置決め後のウエハをオリエンタからロードロ
ック室３０Ａまで搬送するために要する時間である。こ
の全体搬送時間Ｔｒ（図４参照）は以下の式１のように
なる。 Ｔｒ＝Ｔ（ｘ−ｌｐ）＋Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ）＋Ｔ（ｌｐ−ｏｒｔ）＋Ｔ（ｏｒ ｔ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ） … （１） すなわち、上記全体搬送時間Ｔｒは、共通搬送機構４０
が現在の位置からカセット台３６Ａまで移動し（Ｔ（ｘ
−ｌｐ））、カセット台３６Ａで未処理のウエハを取り
出して搬出し（Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ）、このウエハを保持
したままオリエンタ５２まで移動し（Ｔ（ｌｐ−ｏｒ
ｔ））、オリエンタ５２にてこのウエハと位置決め済み
のウエハを入れ替え（Ｔ（ｏｒｔ））、そして、この位
置決め済みのウエハをロードロック室３６Ａまで搬送す
る（Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ））、という一連の動作をする
に要する時間である。

【００３１】＜オリエンタ内にウエハ無しの場合の全体
搬送時間Ｔｒ＞オリエンタ内にウエハがない場合とは、
例えば以前にセットされたカセット容器の最後のウエハ
が処理装置で処理されている状況、または最後のウエハ
の処理が完了してカセット容器に戻されている状況であ
って、且つ新たなカセット容器がカセット台にセットさ
れた場合である。この場合の全体搬送時間は、オリエン
タ５２内にウエハが無いため、新たなカセット容器（図
４の実施形態ではカセット容器３８Ａ）から搬出するウ
エハをオリエンタ５２内まで搬送し、次に、オリエンタ
５２から最も遠い位置のカセット台のカセット容器（図
４の実施形態ではカセット容器３８Ｃ）からウエハをオ
リエンタ５２に搬送し、且つ位置決め後のウエハをロー
ドロック室３０Ａに搬送するために要する時間である。

【００３２】ここで、オリエンタ５２から最も遠い位置
のカセット台のカセット容器３８Ｃからウエハを搬出す
ることを考慮した理由について述べる。もし、カセット
容器３８Ｃではなくカセット容器３８Ａからウエハを搬
出するとして全体搬送時間Ｔｒを求めて、前述のように
全体搬送時間と残存処理時間とを比較してカセット容器
からのウエハの搬出のタイミングが決定され、２枚のウ
エハが共にカセット容器３８Ａから搬出された直後に別
の新たなカセット容器３８Ｃがセットされる場合があ
る。カセット容器３８Ｃのウエハが他の処理装置２４Ｂ
で処理されるものであり、且つ処理装置２４Ｂが空き状
態であるときは、本来そのウエハは直ちに処理装置２４
Ｂで処理可能であるにも拘わらず、カセット容器３８Ａ
から搬出された２枚目のウエハが処理装置２４Ａに搬入
されるまでは、そのウエハは処理待ちとなってしまう。
かかる問題を回避するために、別の新たなカセット容器
がセットされる可能性を考慮して、オリエンタ５２から
最も遠い位置のカセット台のカセット容器３８Ｃからウ
エハを搬出するための時間を全体搬送時間Ｔｒに含め
る。また、「最も遠い位置」としたのは、ウエハをカセ
ット容器から搬出するタイミング決定の判定をする時点
では、どのカセット台に別の新たなカセットがセットさ
れるか判らないからである。尚、実際にカセット容器３
８Ａからウエハを搬出する時点で別の新たなカセットが
セットされていない場合には、２枚目のウエハもカセッ
ト容器３８Ａから搬出される。

【００３３】この全体搬送時間Ｔｒ（図４参照）は以下
の式２のようになる。 Ｔｒ＝Ｔ（ｘ−ｌｐ）＋Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ）＋Ｔ（ｌｐ−ｏｒｔ）＋Ｔ（ｏｒ ｔ−ｉｎ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｌｐｍａｘ）＋Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｌ ｐｍａｘ）＋Ｔ（ｏｒｔ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ） … （２） すなわち、上記全体搬送時間Ｔｒは、共通搬送機構４０
が現在位置からカセット台まで移動し（Ｔ（ｘ−ｌ
ｐ））、カセット台で未処理のウエハを取り出し（Ｔ
（ｌｐ−ｏｕｔ）、このウエハを保持したままオリエン
タ５２まで移動し（Ｔ（ｌｐ−ｏｒｔ）、このウエハを
オリエンタ５２内に搬入し（Ｔ（ｏｒｔ−ｉｎ））、そ
の後、共通搬送機構４０がオリエンタ５２から最も遠い
カセット台３６Ｃまで移動し（Ｔ（ｏｒｔ−ｌｐｍａ
ｘ））、このカセット台３６Ｃで未処理のウエハを取り
出し（Ｔ（ｌｐ−ｏｕｔ））、このウエハを保持したま
まオリエンタ５２まで移動し（Ｔ（ｏｒｔ−ｌｐｍａ
ｘ））、オリエンタ５２にてこのウエハと位置決め済み
のウエハとを入れ替え（Ｔ（ｏｒｔ））、そして、この
位置決め済みのウエハをロードロック室まで搬送する
（Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ））、という一連の動作を行うに
要する時間である。

【００３４】次に、上記全体搬送時間Ｔｒの判定につい
て説明する。 ＜判定＞ここで上記全体搬送時間Ｔｒが次の式３を満た
す時には、カセット容器から次のウエハを搬送しない。 残存処理時間−全体搬送時間（Ｔｒ）＞設定時間 … （３） ここで残存処理時間は、前述したように、現在処理中の
ウエハの処理が完了して処理装置から搬出が可能になる
までの時間であり、処理が進むに従って時々刻々短くな
くなって行く。また、オリエンタ内にウエハが有る場合
は、そのウエハが搬入される処理装置の残存処理時間が
式３の残存処理時間となる。オリエンタ内にウエハが無
い場合は、カセット容器から搬出されるウエハが搬入さ
れる処理装置の残存処理時間が式３の残存処理時間とな
る。設定時間は、共通搬送機構４０が位置決め済みのウ
エハを保持したまま対応するロードロック室の直前で待
機している時間であり、オペレータが任意に設定する。
通常は、この設定時間は−３秒〜１０秒程度の範囲内に
設定する。尚、以上説明した各態様で、新たなカセット
容器がセットされて、そのカセット容器内のウエハが空
き状態にある別の処理装置で処理される場合には、この
新たなカセット容器内のウエハの搬出が待たされるの
は、オリエンタ内のウエハが搬入される処理装置の残存
処理時間のみとなる。従って、共通搬送機構４０が処理
装置（ロードロック室）の前で当該処理装置で次に処理
されるウエハを保持した状態で当該処理装置が搬入可能
となるまで待ってしまうという問題を回避できる。

【００３５】上述のように、残存処理時間と全体搬送時
間との差が設定時間よりも大きい場合には、この状態で
新たな未処理のウエハ搬送を開始すると共通搬送機構４
０は、未処理のウエハを保持した状態でロードロック室
の直前で長時間待つことになってしまうので、搬送を開
始せずに空き状態のままで前工程で移動した最終位置に
停止している。従って、万一この時に、新しいカセット
容器が載置されて別処理のウエハがセットされてこのウ
エハの搬送が仕掛けられた場合には、直ちに新しいカセ
ット容器からウエハを搬出する動作へ移行することが可
能な状態にある。これに対して、上記全体搬送時間Ｔｒ
が次の式４を満たす時には、カセット容器から次のウエ
ハを搬出する。 残存処理時間−全体搬送時間（Ｔｒ）≦設定時間 … （４） 尚、式４のイコール（＝）は、式３に付してもよい。こ
の場合には、共通搬送機構４０が、未処理のウエハを保
持した状態でロードロック室の直前で待機する時間が、
設定時間よりも小さくなっているので、直ちに次の未処
理のウエハの搬送を開始する。

【００３６】一方、カセット容器内のウエハの処理が進
んで、最後の未処理のウエハがオリエンタ５２内に存在
することになるが、この時のオリエンタ５２内から位置
決め済みのウエハの搬出の開始のタイミングは以下のよ
うに決定する。＜カセット容器内にウエハが無くてオリ
エンタにウエハ有りの場合の全体搬送時間Ｔｒ＞この時
の全体搬送時間Ｔｒは、図５を参照して以下の式５のよ
うになる。 Ｔｒ＝Ｔ（ｘ−ｏｒｔ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｏｕｔ）＋Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ） … （５） すなわち、上記全体搬送時間Ｔｒは、共通搬送機構４０
が現在の位置からオリエンタ５２まで移動し（Ｔ（ｘ−
ｏｒｔ））、オリエンタ５２内から位置決め済みのウエ
ハを取り出し（Ｔ（ｏｒｔ−ｏｕｔ））、そして、この
位置決め済みのウエハをロードロック室まで搬送する
（Ｔ（ｏｒｔ−ｌｌｍ））、という一連の動作をするに
要する時間である。

【００３７】この場合の判定式は、前記式３、式４の場
合と同じであり、式３を満足している間はオリエンタ内
のウエハの搬送を行わず、式４を満足したらオリエンタ
内のウエハの搬送を開始する。尚、オリエンタ内のウエ
ハを搬送する前に新たなカセット容器がセットされた場
合には、全体搬送時間Ｔｒは前記式１から求められ、当
該カセット容器からウエハを搬出するタイミングが決定
される。このように、本実施例では、ウエハを処理中
に、次の未処理のウエハを時間的に可能な限り搬送しな
いようにして共通搬送機構４０がフリーな状態の時間を
長時間確保し、新たに仕掛けられる可能性のある別処理
用のウエハに対して迅速に対応することができるように
なっているので、現在処理中の処理装置での処理のスル
ープットを低下させることもなく、しかも、新しいカセ
ット容器が載置されて別処理のウエハがセットされるこ
とによりこのウエハの搬送が仕掛けられても、これに迅
速に対応することができるので、全体としてのスループ
ットを大幅に向上させることが可能となる。

【００３８】また、ここではカセット台３６Ａ上のカセ
ット容器３８Ａからウエハを搬送して処理装置２４Ａに
て処理を行う場合を主体的に説明したが、全てのカセッ
ト台３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃからそれぞれ搬送したウエ
ハを、それぞれ両処理装置２４Ａ、２４Ｂにて処理する
場合のそれぞれの搬送時間も上述のように設定されて、
メモリ９６に記憶されているのは勿論である。また、上
記実施例では細長い箱状の共通搬送室２８に、ロードロ
ック室３０Ａ、３０Ｂと処理室３２Ａ、３２Ｂを連結し
てなる処理装置２４Ａ、２４Ｂを設け、この共通搬送室
２８内にスライド移動可能に搬送機構４０を設けてなる
処理システムを例にとって説明したが、これに限定され
ず、例えば図６に示すように、多角形、例えば６角形状
の共通搬送室２８内の中心に図１にて示したと同様な搬
送機構４０（Ｘ方向のスライド移動はなし）を設け、こ
の周囲に例えば４つの処理装置２４Ａ〜２４Ｄ及び２つ
のチャンバ状のカセット台３６Ａ、３６Ｂを設けてな
る、いわゆるクラスタツール型の処理システムについて
も本発明を適用することができる。

【００３９】この場合には、６角形状の共通搬送室２８
内の一部に、基準台７２と光学センサ８４とよりなるオ
リエンタ５２を設けている。この場合には、残存処理時
間は、ロードロック室を用いていない分だけ短くなり、
また、２つのカセット台３６Ａ、３６Ｂからそれぞれオ
リエンタ５２へウエハを搬送する時間も互いに等しくな
る。そして、この実施例でも、前述したと同様な作用効
果を発揮することが可能となる。このように、本発明
は、例えば４角形、或いは前述したような６角形などの
多角形の共通搬送室の各辺に複数の処理装置やオリエン
タを接合したような、いわゆるクラスタツール型の処理
システムや、上記共通搬送室内にオリエンタを内蔵した
形式の処理システムについても本発明を適用できるのは
勿論である。

【００４０】また更に、オリエンタ５２を設けていなく
て、ウエハをカセット台から直接に処理装置側へ搬送す
るようにした形式の処理システムにも、およびオリエン
タ５２に代えて共通搬送室の天板および底板にウエハの
位置ずれを検出するための投光器および受光器を夫々設
け、共通搬送機構でウエハをカセット台から処理装置側
へ搬送する途中でウエハの位置ずれを検出するようにし
た形式の処理システムにも本発明を適用することができ
る。更には、ここでは共通搬送機構４０に２本の搬送ア
ーム９０、９２を設けた形式の処理システムについて説
明したが、これに限定されず、共通搬送機構が１本の搬
送アームしか有しない形式の処理システムについても本
発明を適用できる。また、複数の処理装置が稼働中に
は、各稼働中の処理装置毎に残留処理時間が管理され、
また、複数の被処理体待機ポートにカセット容器が載置
されておれば、そのカセット容器が載置されている被処
理体待機ポート毎に全体搬送時間が管理されている。ま
た、ここでは被処理体として半導体ウエハＷを例にとっ
て説明したが、これに限定されず、ガラス基板、ＬＣＤ
基板等にも本発明を適用することができる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シス
テム及び処理システムの被処理体の搬送方法によれば、
次のように優れた作用効果を発揮することができる。請
求項１〜４、６〜１０に係る発明によれば、現在処理中
の被処理体が、その処理が完了して搬送可能になるまで
に要する残存処理時間と、その処理装置まで新たな未処
理の被処理体を搬送するまでに要する搬送時間とを考慮
して、新たな未処理の被処理体の搬送開始を決定するよ
うにしたので、共通搬送機構が未処理の被処理体を保持
したまま待機する無駄な時間がほとんどなくなり、全体
としてのスループットを大幅に向上させることができ
る。請求項５に係る発明によれば、位置決め装置内の最
後の一枚の被処理体を搬送する場合にも、新たに仕掛け
られる可能性のある未処理の被処理体に対してスループ
ット向上のための搬送開始管理を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る被処理体の処理システムを示す概
略構成図である。

【図２】位置決め装置を示す側面図である。

【図３】位置決め装置へ被搬送体を載置した状態を示す
平面図である。

【図４】搬送経路途中の個々の工程に要する時間を定義
するための図である。

【図５】搬送経路途中の個々の工程に要する時間を定義
するための図である。

【図６】本発明の処理システムの他の一例を示す概略構
成図である。

【図７】従来の被処理体の処理システムを示す概略構成
図である。

【符号の説明】

２２ 処理システム ２４ 処理ユニット ２４Ａ，２４Ｂ 処理装置 ２６ 搬送ユニット ２８ 共通搬送室 ３０Ａ，３０Ｂ ロードロック室 ３２Ａ，３２Ｂ 処理室 ３６Ａ〜３６Ｃ カセット台（被処理体待機ポート） ４０ 共通搬送機構 ５２ オリエンタ（位置決め装置） ７２ 基準台 ９４ 制御部 ９６ メモリ Ｗ 半導体ウエハ（被処理体）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 DA01 FA01 FA07 FA11 FA12 FA15 GA02 GA36 GA43 GA47 GA48 GA49 GA50 HA59 JA01 JA03 JA05 JA14 JA15 JA28 JA29 JA32 JA34 JA35 LA08 MA01 MA04 MA13 MA28 MA29 MA32 NA02 NA04 NA05 NA07 PA03

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に対して互いに異なる種類の処
   理を施す複数の処理装置と、 処理すべき被処理体を待機させる複数の被処理体待機ポ
   ートと、 前記複数の処理装置と前記複数の被処理体待機ポートと
   の間で前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、を有す
   る処理システムの被処理体の搬送方法において、 前記いずれかの処理装置内にて被処理体に処理が施され
   ている際には、 前記処理中の被処理体の処理が完了して前記処理装置か
   ら搬出可能になるまでの残存処理時間と、 前記被処理体待機ポートから被処理体を取り出した後、
   前記処理中の処理装置に対する待機位置に被処理体を搬
   送するまでに要する全体搬送時間とに基づいて前記被処
   理体待機ポートからの新たな被処理体の搬送を開始する
   ようにしたことを特徴とする処理システムの被処理体の
   搬送方法。
2. 【請求項２】 被処理体に対して互いに異なる種類の処
   理を施す複数の処理装置と、 前記被処理体の位置決めを行う位置決め装置と、 処理すべき被処理体を待機させる複数の被処理体待機ポ
   ートと、 前記複数の処理装置と前記位置決め装置と前記複数の被
   処理体待機ポートとの間で前記被処理体を搬送する共通
   搬送機構と、 を有する処理システムの被処理体の搬送方法において、 前記いずれかの処理装置内にて被処理体に処理が施され
   ている際には、 前記処理中の被処理体の処理が完了して前記処理装置か
   ら搬出可能になるまでの残存処理時間と、 前記被処理体待機ポートから被処理体を取り出して該被
   処理体を前記位置決め装置へ搬送し、位置決め後の被処
   理体を前記処理中の処理装置に対する待機位置に被処理
   体を搬送するまでに要する全体搬送時間とに基づいて前
   記被処理体待機ポートからの新たな被処理体の搬送を開
   始するようにしたことを特徴とする処理システムの被処
   理体の搬送方法。
3. 【請求項３】 前記共通搬送機構は、独立して屈伸及び
   旋回可能になされた複数の搬送アームを有し、前記全体
   搬送時間には、前記搬送アームを用いて前記位置決め装
   置において被処理体を入れ替えるために要する入れ替え
   時間が含まれることを特徴とする請求項２に記載の処理
   システムの被処理体の搬送方法。
4. 【請求項４】 前記全体搬送時間には、前記被処理体待
   機ポートにおいて被処理体待機ポートから被処理体を取
   り出して搬出するために要する搬出時間が含まれること
   を特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理シ
   ステムの被処理体の搬送方法。
5. 【請求項５】 前記被処理体待機ポートに、処理すべき
   被処理体がなくなって前記位置決め装置内に処理すべき
   被処理体が待機している場合には、前記残存処理時間
   と、前記位置決め装置から前記処理装置の待機位置へ前
   記被処理体を搬送するために要する部分搬送時間とに基
   づいて、前記位置決め装置からの新たな被処理体の搬送
   を開始するようにしたことを特徴とする請求項２乃至４
   のいずれかに記載の処理システムの被処理体の搬送方
   法。
6. 【請求項６】 前記残留処理時間は、前記位置決め装置
   内に被処理体が有る場合には該被処理体に処理を施すべ
   き処理装置の残留処理時間であり、前記位置決め装置内
   に被処理体が無い場合には、前記被処理体待機ポートか
   ら搬出される被処理体に処理を施すべき処理装置の残留
   処理時間であることを特徴とする請求項２乃至５のいず
   れかに記載の処理システムの被処理体の搬送方法。
7. 【請求項７】 前記位置決め装置内に被処理体が無い場
   合には、前記全体搬送時間には、前記位置決め装置から
   最も遠い被処理体待機ポートまで前記共通搬送機構が移
   動する時間が含まれることを特徴とする請求項２乃至６
   のいずれかに記載の処理システムの被処理体の搬送方
   法。
8. 【請求項８】 前記複数の処理装置及び前記複数の被処
   理体待機ポートは、それぞれ処理装置毎に残留処理時間
   が管理され、また、それぞれ被処理体待機ポート毎に全
   体搬送時間が管理されることを特徴とする請求項１乃至
   ７のいずれかに記載の処理システムの被処理体の搬送方
   法。
9. 【請求項９】 被処理体に対して互いに異なる種類の処
   理を施す複数の処理装置と、 処理すべき被処理体を待機させる複数の被処理体待機ポ
   ートと、 前記複数の処理装置と前記複数の被処理体待機ポートと
   の間で前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、 前記いずれかの処理装置内にて被処理体に処理が施され
   ている際には、前記処理中の被処理体の処理が完了して
   前記処理装置から搬出可能になるまでの残存処理時間
   と、前記被処理体待機ポートから被処理体を取り出した
   後、前記処理中の処理装置に対する待機位置に被処理体
   を搬送するまでに要する全体搬送時間とに基づいて前記
   被処理体待機ポートからの新たな被処理体の搬送を開始
   するように制御する制御部と、 を備えたことを特徴とする処理システム。
10. 【請求項１０】 被処理体に対して互いに異なる種類の
    処理を施す複数の処理装置と、 前記被処理体の位置決めを行う位置決め装置と、 処理すべき被処理体を待機させる複数の被処理体待機ポ
    ートと、 前記複数の処理装置と前記位置決め装置と前記複数の被
    処理体待機ポートとの間で前記被処理体を搬送する共通
    搬送機構と、 前記いずれかの処理装置内にて被処理体に処理が施され
    ている際には、前記処理中の被処理体の処理が完了して
    前記処理装置から搬出可能になるまでの残存処理時間
    と、前記被処理体待機ポートから被処理体を取り出して
    該被処理体を前記位置決め装置へ搬送し、位置決め後の
    被処理体を前記処理中の処理装置に対する待機位置に被
    処理体を搬送するまでに要する全体搬送時間とに基づい
    て前記被処理体待機ポートからの新たな被処理体の搬送
    を開始するように制御する制御部と、 を備えたことを特徴とする処理システム。