WO2022201953A1 - 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 - Google Patents

基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2022201953A1
WO2022201953A1 PCT/JP2022/005467 JP2022005467W WO2022201953A1 WO 2022201953 A1 WO2022201953 A1 WO 2022201953A1 JP 2022005467 W JP2022005467 W JP 2022005467W WO 2022201953 A1 WO2022201953 A1 WO 2022201953A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
dummy
substrate
carrier
processing
unit
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/005467
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
康将 酒井
Original Assignee
株式会社Screenホールディングス
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社Screenホールディングス filed Critical 株式会社Screenホールディングス
Priority to CN202280022131.2A priority Critical patent/CN117083701A/zh
Priority to KR1020237024000A priority patent/KR20230119200A/ko
Publication of WO2022201953A1 publication Critical patent/WO2022201953A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67173Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • H01L21/67178Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers vertical arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67766Mechanical parts of transfer devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus, system and method for processing substrates.
  • Substrates to be processed include, for example, semiconductor wafers, FPD (Flat Panel Display) substrates such as liquid crystal display devices and organic EL (Electroluminescence) display devices, optical disk substrates, magnetic disk substrates, and magneto-optical disk substrates. , photomask substrates, ceramic substrates, solar cell substrates, and the like.
  • This substrate processing apparatus includes a carrier holding section that holds a carrier that accommodates substrates, a plurality of processing units that process the substrates, a transport unit that transports the substrates between the carrier and the processing units, and a control unit. .
  • the control device requests the host device to load the dummy carrier holding the dummy substrate.
  • the transport unit transports the dummy substrate from the dummy carrier to the processing unit. The dummy substrate is used to clean the processing unit.
  • the transport unit includes an indexer robot and a main transport robot, and a delivery unit is arranged between them.
  • the indexer robot transports substrates between the carrier and the transfer unit.
  • the main transport robot transports substrates between the delivery unit and the processing units.
  • the indexer robot takes out the dummy substrate from the dummy carrier and transports it to the transfer unit.
  • the dummy substrate is transferred from the transfer unit to the processing unit by the main transfer robot.
  • the main transport robot takes out the dummy substrate from the processing unit and transports it to the transfer unit.
  • the dummy substrate is transported from the transfer unit to the dummy carrier by the indexer robot.
  • the dummy substrate is introduced from the outside of the substrate processing apparatus, transported to the processing unit along the same route as the product substrate, and is transported out of the processing unit and accommodated in the dummy carrier. Therefore, both the indexer robot and the main transfer robot are used to transfer the dummy substrates, and the dummy substrates are transferred through the transfer unit. As a result, it interferes with the transportation of the product substrates, and the transportation efficiency of the product substrates deteriorates. As a result, the improvement of productivity is hindered.
  • the transport load of the indexer robot and the main transport robot is heavy, and reducing this load is the key to improving productivity. hold
  • the dummy carrier is loaded into the carrier holding portion, the dummy substrate is transferred from there to the processing unit, and the dummy carrier holds the carrier holding portion until the dummy substrate is housed in the carrier after finishing the processing in the processing unit. occupy. Therefore, since the carrier holding portion continues to be occupied by the dummy carrier, there is a possibility that a waiting time will be required before the product substrates are brought in. Therefore, from this point of view as well, improvement in productivity is hindered.
  • one embodiment of the present invention provides a substrate processing apparatus, a substrate processing system, and a substrate processing method capable of performing processing using a dummy substrate in a processing unit while reducing the influence on the transportation of product substrates.
  • I will provide a.
  • An embodiment of the present invention comprises a carrier holding part holding a carrier containing a substrate or a dummy substrate, a processing unit processing the substrate and performing processing using the dummy substrate, and a dummy substrate containing the dummy substrate. section, a substrate placement section on which a substrate is placed, the processing unit, the dummy substrate accommodation section, and the substrate placement section, and the substrate can be placed between the processing unit and the substrate placement section. a first transport unit for transporting and transporting dummy substrates between the processing unit, the dummy substrate accommodation part and the substrate rest; and the carrier holding part and the substrate rest.
  • a second transport unit that transports the substrate between the holding part and the substrate mounting part; a storage part that stores usage history information of the dummy substrate accommodated in the dummy substrate accommodation part; a use-expiration notification unit that notifies use-expiration information of the dummy substrate accommodated in the dummy substrate accommodation unit based on usage history information; and a transfer schedule for substrates or dummy substrates by the first transfer unit and the second transfer unit.
  • a substrate processing apparatus comprising: a transport control unit that controls transport of substrates or dummy substrates by the first transport unit and the second transport unit according to a transport schedule created by a schedule creation unit.
  • the substrate processing apparatus is provided with the dummy substrate storage section, when the need arises to use the dummy substrate in the processing unit, the dummy substrate storage section and the processing can be performed without involvement of the second transfer unit. Dummy substrates can be transported between units. Therefore, since the transfer load of the second transfer unit can be reduced, the process using the dummy substrate can be performed while reducing the influence on the transfer of the product substrate. Moreover, unlike the case of Patent Document 1, the carrier holding portion is not occupied for a long time by the dummy carrier that accommodates the dummy substrate. As a result, it is possible to suppress waiting time from being carried in the carrier containing substrates for products, thereby contributing to an improvement in productivity.
  • the usage history information of the dummy substrate accommodated in the dummy substrate accommodation portion is stored in the storage portion, and based on this, the expiration date information of the dummy substrate is notified. Further, a transfer schedule (recovery transfer schedule) for transferring and recovering the dummy substrates notified of the expiration date information from the dummy substrate storage unit to the carrier holding unit is created.
  • a transfer schedule recovery transfer schedule
  • the dummy substrates to which the expiration date information has been notified are transported from the dummy substrate storage unit to the carrier holding unit and collected. Thus, when the dummy substrate reaches the expiration date, the dummy substrate can be automatically discharged.
  • the expiration date information notification may be a notification that the dummy board has become unusable, or a notification that the dummy board is expected to become unusable soon.
  • Notification of expiration date information may take the form of a dummy substrate replacement request requesting replacement of the dummy substrate.
  • the dummy substrate replacement request may include a dummy substrate recovery request requesting recovery of the used dummy substrate.
  • the dummy substrate collection request may be a dummy substrate collection reservation that designates the collection time of the used dummy substrate.
  • the dummy substrate exchange request may include a dummy substrate supply request for requesting supply of an unused dummy substrate.
  • the dummy substrate supply request may be a dummy substrate supply reservation specifying the supply timing of unused dummy substrates.
  • the storage unit stores at least one information of the number of times the dummy substrate is used, the usage time, and the consumption state as the usage history information.
  • the storage unit stores the usage history information and expiration date threshold information corresponding to the usage history information.
  • the dummy substrate storage unit stores a plurality of dummy substrates, and the storage unit stores the usage history information and the expiration date threshold information for each dummy substrate. With this configuration, it is possible to manage the expiration date for each of the plurality of dummy substrates.
  • a plurality of processing units are provided, correspondence relationships between the plurality of dummy substrates and the plurality of processing units are determined in advance, and the storage section stores the correspondence relationships. store the information it represents.
  • a plurality of dummy substrates and a plurality of processing units are associated one-to-one. Accordingly, since the dummy substrate is not shared by a plurality of processing units, it is possible to prevent the plurality of processing units from influencing each other through the dummy substrate. For example, even if the processing environment in one processing unit is contaminated, the contamination can be prevented from being brought into other processing units via the dummy substrate.
  • the expiration date notification unit compares the usage history information and the expiration date threshold information, and notifies the expiration date information of the dummy substrate based on the comparison result.
  • the substrate processing apparatus notifies a user of expiration date information of the dummy substrate accommodated in the dummy substrate accommodation unit based on the usage history information stored in the storage unit. Further includes units. With this configuration, it is possible to appropriately notify the user of the expiration date information of the dummy substrate and call the attention of the user.
  • An embodiment of the present invention comprises a substrate processing apparatus having the characteristics described above, a carrier transport unit for transporting a recovery dummy carrier for storing used dummy substrates into the carrier holding portion, and the expiration date.
  • the carrier transport unit plans recovery dummy carrier transport for carrying the recovery dummy carrier into the carrier holding part, and based on the plan, the carrier transport unit
  • a substrate processing system comprising: a host computer that loads a dummy carrier for recovery into the carrier holding portion and instructs the substrate processing apparatus to recover and transport the dummy substrate.
  • the host computer is notified of the expiration date information from the substrate processing apparatus. Then, the host computer plans the operation of the carrier transport unit and controls the carrier transport unit according to the plan, thereby placing the recovery dummy carrier for recovering the used dummy substrate in the carrier holding portion of the substrate processing apparatus. bring in. Therefore, the recovery dummy carrier can be supplied to the substrate processing apparatus at an appropriate time based on the notification of expiration date information from the substrate processing apparatus to the host computer. That is, since the recovery dummy carrier is automatically and timely supplied, the downtime of the substrate processing apparatus can be shortened and the productivity thereof can be improved.
  • the substrate processing apparatus since the host computer instructs the substrate processing apparatus to recover and transport the dummy substrate, the substrate processing apparatus appropriately recovers and transports the dummy substrate. Transfers to dummy carriers can be planned and executed. In other words, the loading of the recovery dummy carrier and the start of recovery transport of the dummy substrate in the substrate processing apparatus can be matched. As a result, the time for which the recovery dummy carrier occupies the carrier holding portion can be shortened, so that the carrier holding portion can be quickly vacated for the carrier that accommodates the product substrate. As a result, unprocessed product substrates can be efficiently loaded into the substrate processing apparatus, and processed product substrates can be efficiently collected, thereby improving productivity.
  • matching does not necessarily mean matching in time, but means that the corresponding event occurs within a predetermined time allowed from the standpoint of productivity.
  • the host computer obtains information about recovery of the dummy substrates to the recovery dummy carrier from the substrate processing apparatus, and accommodates the used dummy substrates by the carrier transport unit.
  • a recovery dummy carrier is planned to be carried out from the carrier holding section, and the carrier carrying unit carries out the recovery dummy carrier from the carrier holding section based on the plan.
  • the substrate processing apparatus provides the host computer with information regarding the recovery of the dummy substrates to the recovery dummy carrier, and the host computer plans the unloading of the recovery dummy carrier by the carrier transport unit accordingly. , controls the carrier transport unit according to its plan. Therefore, the recovery dummy carrier is automatically and timely unloaded from the carrier holding portion of the substrate processing apparatus. Specifically, the dummy carrier for recovery can be unloaded from the carrier holding portion at a timing that matches the completion of loading of the dummy substrate into the dummy carrier for recovery. As a result, the recovery dummy carrier for recovering the dummy substrate can occupy the carrier holding portion for a short period of time, and the carrier holding portion can be quickly vacated for the carrier holding the product substrate. As a result, unprocessed product substrates can be efficiently loaded into the substrate processing apparatus, and processed product substrates can be efficiently collected, thereby improving productivity.
  • the schedule creation section further creates a transfer schedule for transferring usable dummy substrates from the carrier holding section to the dummy substrate accommodation section
  • the carrier transfer unit comprises: and a supply dummy carrier containing usable dummy substrates is carried into the carrier holding section, and the host computer carries the supply dummy carrier into the carrier holding section by means of the carrier carrying unit. carrying the dummy carrier for supply into the carrier holding section by the carrier carrying unit based on the plan, and supplying usable dummy substrates to the substrate processing apparatus. Order transportation.
  • the host computer creates a plan for transporting the supply dummy carrier containing the usable dummy substrates to the carrier holding section of the substrate processing apparatus by the carrier transport unit, and according to the plan, the carrier transport unit controls the behavior of As a result, the supply dummy carrier is automatically and timely supplied to the substrate processing apparatus.
  • a transfer schedule for transferring the dummy substrates from the supply dummy carrier to the dummy substrate storage unit is created, and the dummy substrates are transferred according to the transfer schedule.
  • usable dummy substrates are transported from the dummy carrier for supply to the dummy substrate housing section by the first and/or second transport unit.
  • the dummy substrates can be automatically and timely supplied to the substrate processing apparatus, thereby reducing the downtime of the substrate processing apparatus caused, for example, by the shortage of available dummy substrates. Thereby, it can contribute to the improvement of productivity.
  • the substrate processing apparatus supplies and transports dummy substrates in a timely manner. Transfers to substrate receptacles can be planned and executed. Therefore, it is possible to start supplying and transporting the dummy substrates in the substrate processing apparatus in synchronization with the loading of the dummy carrier for supply. As a result, the time for which the dummy carrier for supply occupies the carrier holding portion can be shortened, so that the carrier holding portion can be quickly vacated for the carrier that accommodates the product substrate. As a result, unprocessed product substrates can be efficiently loaded into the substrate processing apparatus, and processed product substrates can be efficiently collected, thereby improving productivity.
  • the host computer obtains from the substrate processing apparatus information relating to unloading of dummy substrates from the dummy supply carrier, and causes the carrier transport unit to hold the dummy substrate for supply. Carrying-out from the part is planned, and based on the plan, the carrier carrying unit carries out the dummy carrier for supply from the carrier holding part.
  • the substrate processing apparatus provides the host computer with information regarding the unloading of the dummy substrates from the dummy carrier for supply, and based on this information, the host computer plans the unloading of the dummy carrier for supply, and follows the plan. Activate the carrier transport unit.
  • the supply dummy carrier can be unloaded from the carrier holding portion at a timing that matches the completion of unloading of the dummy substrate from the supply dummy carrier.
  • the supply dummy carrier can be automatically and timely unloaded from the carrier holder of the substrate processing apparatus.
  • the dummy carrier for supplying the dummy substrates can occupy the carrier holding portion for a short period of time, and the carrier holding portion can be quickly vacated to hold the carrier containing the product substrate.
  • unprocessed product substrates can be efficiently loaded into the substrate processing apparatus, and processed product substrates can be efficiently collected, thereby improving productivity.
  • the carrier transport unit transports recovery dummy carriers or supply dummy carriers between the carrier holding portion and a dummy carrier storage place different from the carrier holding portion.
  • An embodiment of the present invention includes the steps of transporting a substrate by a first transport unit between a processing unit and a substrate platform, and processing the substrate transported by the first transport unit in the processing unit. a step of transporting a dummy substrate by the first transport unit between the processing unit and the dummy substrate housing section; and a dummy using the dummy substrate transported by the first transport unit in the processing unit. a step of carrying out a process; a step of carrying a substrate by a second carrying unit between the carrier held by the carrier holding portion and the substrate mounting portion; recording usage history information; judging the expiration date of the dummy substrate based on the usage history information; and storing the dummy substrate that has reached the expiration date based on the determination of the expiration date.
  • a collecting and conveying step for conveying and collecting the dummy substrate from the unit to the carrier holding unit; and based on the determination of the expiration date, a dummy carrier for collecting the used dummy substrate is held by the carrier conveying unit. and a recovery dummy carrier carrying-in step of carrying the dummy carrier into a part.
  • the recovery from the carrier holding section is performed by the carrier transport unit at a timing that matches the completion of loading of the dummy substrate into the recovery dummy carrier in the recovery transport step. It further includes the step of unloading the dummy carrier.
  • the substrate processing method includes supplying a supply dummy substrate containing usable dummy substrates into the carrier holding unit by the carrier transport unit based on the determination of the expiration date. a dummy carrier loading step; and a supplying and conveying step of conveying usable dummy substrates from the carrier holding portion to the dummy substrate accommodating portion based on the determination of the expiration date.
  • the supply from the carrier holding section is performed by the carrier transport unit at a timing that matches completion of unloading of the dummy substrate from the dummy carrier for supply in the supply transport step. It further includes the step of unloading the dummy carrier.
  • a plurality of the processing units are provided, and the dummy substrate accommodation section accommodates a plurality of dummy substrates having a predetermined correspondence relationship with the plurality of processing units.
  • FIG. 1 is an illustrative plan view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view seen from the II-II line of FIG.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view seen from line III--III in FIG.
  • FIG. 4 is an illustrative elevation view showing the internal configuration of the processing block as seen from direction IV in FIG.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining a configuration example of the substrate platform.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining a configuration example of a dummy substrate accommodating portion.
  • FIG. 7 is an illustrative cross-sectional view for explaining a configuration example of the processing unit.
  • FIG. 1 is an illustrative plan view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view seen from the II-II line of FIG.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view seen
  • FIG. 8 is a block diagram for explaining a configuration relating to control of the substrate processing apparatus.
  • FIG. 9 is a flowchart for explaining the operation of the controller related to dummy processing.
  • FIGS. 10A and 10B are flowcharts for explaining the process for replacing the dummy substrate in the substrate processing apparatus.
  • FIG. 11 is a time chart for explaining an example of a specific operation of dummy substrate replacement.
  • FIG. 12 is an illustrative longitudinal sectional view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to another embodiment of the invention.
  • FIG. 13 is an illustrative longitudinal sectional view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to still another embodiment of the invention.
  • FIG. 14 is an illustrative plan view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to still another embodiment of the invention.
  • FIG. 1 is an illustrative plan view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view seen from the II-II line of FIG.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view seen from line III--III in FIG.
  • FIG. 4 is an illustrative elevation view showing a part of the internal configuration as seen from direction IV in FIG.
  • the substrate processing apparatus 1 includes an indexer block 2 and a processing block 3 adjacent to the indexer block 2 in the lateral direction (first horizontal direction X).
  • the indexer block 2 includes a plurality (four in this embodiment) of carrier holding portions 25 (load ports) and an indexer robot 26 .
  • the side of the carrier holding portion 25 with respect to the first horizontal direction X may be defined as the front side, and the opposite side may be defined as the rear side.
  • the plurality of carrier holding parts 25 are arranged along the second horizontal direction Y orthogonal to the first horizontal direction X.
  • Each carrier holding portion 25 is configured to receive and hold a carrier C automatically conveyed by a carrier conveying mechanism 300 (an example of a carrier conveying unit) provided in the factory.
  • Each carrier holding portion 25 is configured to hold one carrier C.
  • the carrier C is a substrate container that accommodates substrates W (product substrates) to be processed.
  • An example of a carrier C is a FOUP (Front Opening Unified Pod).
  • the carrier C is configured to hold a plurality of (for example, 25) substrates W in a stacked state.
  • the carrier C is configured to be able to hold a plurality of substrates W in a horizontal posture in a stacked state along the vertical direction Z when held by the carrier holding portion 25 .
  • the carrier holding portion 25 is an example of a container holding portion that holds the carrier C, which is a substrate container.
  • the substrate W is, for example, a semiconductor wafer.
  • the indexer robot 26 is an example of a second transport unit.
  • the indexer robot 26 accesses the carriers C respectively held by the plurality of carrier holding units 25 , loads and unloads the substrates W, and transfers the substrates W between the carrier holding units 25 and the processing block 3 . It is configured.
  • indexer robot 26 is an articulated arm robot with articulated arm 27 .
  • the indexer robot 26 supports a multi-joint arm 27 connecting a plurality of arms 28, one or more hands 29 coupled to the tip of the multi-joint arm 27, and moves up and down while supporting the multi-joint arm 27. and a base portion 30 that moves.
  • a plurality of arms 28 and hands 29 that constitute the articulated arm 27 are capable of swinging about a vertical swing axis set at each base end.
  • a separate actuator (typically an electric motor) is provided for rocking.
  • the processing block 3 includes a plurality of processing block layers BL and BU stacked in the vertical direction Z.
  • the processing blocks 3 are composed of a first layer (lower layer) of processing blocks (hereinafter referred to as “first processing block layer BL”) and a second layer (upper layer) of processing blocks stacked thereabove. layer (hereinafter referred to as "second processing block layer BU").
  • first processing block layer BL lower layer
  • second processing block layer BU second processing block layer
  • the components of the first processing block layer BL will be referred to by reference numerals having the English letter “L” at the end.
  • reference numerals having the English letter “U” at the end are used. The same applies to reference numerals in the attached drawings.
  • the internal configuration in plan view of the first processing block layer BL and the second processing block layer BU are substantially the same. Therefore, in FIG. 1, it should be noted that the configuration of the first processing block layer BL (arrangement in plan view) is expressed by replacing the English letter "U" at the end of the reference numerals with the English letter "L". want to be
  • the first processing block layer BL includes a plurality (12 in this embodiment) of processing units 11L-13L, 21L-23L, 31L-33L, and 41L-43L (hereinafter collectively referred to as the processing units of the first processing block layer BL). (hereinafter referred to as "processing units 11L-43L”), which constitute a first processing unit group.
  • the first processing block layer BL further includes a substrate placement section 6L, a dummy substrate accommodation section 7L, and a main transfer robot 8L.
  • a plurality of processing units 11L-43L perform processing on the substrate W.
  • each of the processing units 11L-43L is a single-wafer type processing unit that processes substrates W one by one.
  • the substrate platform 6L is a unit for temporarily holding the substrate W transferred between the indexer robot 26 and the first processing block layer BL.
  • the dummy substrate storage unit 7L is a unit for holding the dummy substrates DW usable in the processing units 11L-43L inside the substrate processing apparatus 1, and provides a standby place for the dummy substrates DW.
  • the main transfer robot 8L is configured to be able to access the substrate placement section 6L, the processing units 11L-43L and the dummy substrate accommodation section 7L.
  • the main transport robot 8L transports substrates W between the substrate platform 6L and the processing units 11L-43L, and transports dummy substrates DW between the dummy substrate storage unit 7L and the processing units 11L-43L. This is an example of one transport unit.
  • the dummy substrate DW is a substrate having the same shape (for example, circular shape) and size as the substrate W.
  • the dummy substrate DW is different from the substrate W for the product supplied from the carrier C and is not used for manufacturing the actual product.
  • the dummy substrate DW is introduced into the processing unit 11L-43L in order to perform preprocessing (preparation processing) for preparing the environment in the processing unit 11L-43L, unit cleaning processing for cleaning the inside of the processing unit 11L-43L, and the like. is used. Processing using the dummy substrate DW in this manner is hereinafter referred to as “dummy processing”.
  • the aforementioned pretreatment and unit cleaning treatment are maintenance treatments for maintenance of the treatment units 11L-43L, and the dummy treatment includes such maintenance treatments.
  • the plurality of processing units 11L-43L are arranged on both sides of the transport space 52L along the transport space 52L that provides the transport path 51L along which the substrate W is transported by the main transport robot 8L, and face the transport space 52L.
  • the transfer space 52L has a constant width in the second horizontal direction Y and linearly extends in the first horizontal direction X in a direction away from the indexer block 2 in plan view.
  • the transfer space 52L has a height in the vertical direction Z substantially equal to the height of the first processing block layer BL.
  • a first liquid supply section 91, a first processing unit stack S1L, a first exhaust section 101, a second liquid supply section 92, a second A two-processing unit stack S2L and a second exhaust section 102 are arranged along the transport path 51L.
  • a third exhaust section 103, a third processing unit stack S3L, a third liquid supply section 93, a fourth exhaust section 104, and a fourth processing unit stack S4L. and a fourth liquid supply unit 94 are arranged along the transport path 51L. These are arranged so as to partition a substantially rectangular parallelepiped transfer space 52L.
  • Each of the first to fourth processing unit stacks S1L-S4L includes a plurality of stages (three stages in this embodiment) of processing units 11L-13L, 21L-23L, 31L-33L, and 41L-43L stacked in the vertical direction Z. including.
  • the third processing unit stack S3L faces the first processing unit stack S1L across the transport space 52L.
  • the fourth processing unit stack S4L faces the second processing unit stack S2L across the transport space 52L. Therefore, the plurality of processing units 31L to 33L forming the third processing unit stack S3L face the plurality of stages of processing units 11L to 13L forming the first processing unit stack S1L with the transport space 52L interposed therebetween.
  • the plurality of stages of processing units 41L to 43L forming the fourth processing unit stack S4L face the plurality of stages of processing units 21L to 23L forming the second processing unit stack S2L across the transport space 52L.
  • the first processing block layer BL includes 12 processing units 11L-13L, 21L-23L, 31L-33L, 41L-43L, which are arranged in 3 processing unit stacks S1L-S4L. are arranged separately.
  • the transfer space 52L is partitioned from above by intermediate partitions 16 arranged at positions aligned with the top surfaces of the uppermost processing units 13L, 23L, 33L, and 43L of each of the processing unit stacks S1L-S4L, and the lowermost processing unit. It is partitioned from below by a lower partition wall 15 arranged at a position aligned with the lower surfaces of 11L, 21, 31L, and 41L. All of the processing units 11L-43L have a substrate loading/unloading port 37 that opens at a position facing the transport space 52L.
  • the main transport robot 8L transports the substrate W and the dummy substrate DW through the transport space 52L, and loads/loads the substrate W and the dummy substrate DW to/from each of the processing units 11L to 43L via the substrate loading/unloading port 37. Carry out.
  • the substrate platform 6L is arranged between the indexer robot 26 and the main transfer robot 8L. More specifically, the substrate platform 6L is arranged at the end of the transfer space 52L on the indexer robot 26 side in plan view.
  • the substrate mounting section 6L is positioned between the first liquid supply section 91 and the third exhaust section 103.
  • the substrate mounting portion 6L is arranged at a height between the middle partition 16 and the lower partition 15 in the vertical direction Z. As shown in FIG. In this embodiment, the substrate mounting portion 6L is arranged near the middle height of the height range from the middle partition 16 to the upper partition 17 .
  • the vertical position of the substrate platform 6L must be within a height range accessible by the indexer robot 26 and within a height range accessible by the main transfer robot 8L.
  • the substrate platform 6L includes an unprocessed substrate platform 61 on which an untreated substrate W is placed, and a processed substrate platform 62 on which a processed substrate W is placed.
  • the unprocessed substrate mounting part 61 and the processed substrate mounting part 62 are stacked in the vertical direction Z. As shown in FIG. It is preferable that the unprocessed substrate mounting part 61 is arranged on the processed substrate mounting part 62 .
  • an unprocessed substrate platform 61 and a processed substrate platform 62 are arranged along the first horizontal direction X on both the indexer robot 26 side and the main transfer robot 8L side.
  • boxes 63,64 open to the outside and substrate holding shelves 65,66 located inside the boxes 63,64.
  • the substrate holding shelves 65 and 66 have a plurality of (for example ten) substrate supporting members 67 and 68 arranged in the vertical direction Z.
  • Each of the substrate support members 67 and 68 is configured to support the peripheral portion of the lower surface of one substrate W from below and hold the substrate W in a horizontal posture.
  • the unprocessed substrate platform 61 and the processed substrate platform 62 hold a plurality of (for example, 10) substrates W on their substrate holding shelves 65 and 66 in the vertical direction Z in a horizontal posture. It can be held in a state of being laminated with a space therebetween.
  • a window 4L corresponding to the substrate platform 6L is formed so as to penetrate the rear partition 2a of the indexer block 2 and the front partition 3a of the processing block 3, that is, the adjacent partitions. It is The indexer robot 26 can access the substrate platform 6L through the window 4L to load/unload the substrate W onto/from the substrate platform 6L.
  • the dummy substrate housing portion 7L is provided at a height different from that of the substrate mounting portion 6L, and is arranged below the substrate mounting portion 6L in the transfer space 52L in this embodiment.
  • substrate accommodating parts are provided so that it may overlap with the board
  • the dummy substrate accommodation section 7L is arranged between the lower partition 15 and the middle partition 16, and is arranged within a height range accessible by the main transfer robot 8L.
  • a rear partition wall 2a of the indexer block 2 and a front partition wall 3a of the processing block 3, that is, adjacent partition walls thereof, are located in front of the dummy substrate housing portion 7L, that is, on the indexer block 2 side. These partition walls are not provided with windows corresponding to the dummy substrate housing portions 7L. Therefore, in this embodiment, the indexer robot 26 cannot access the dummy substrate accommodation portion 7L.
  • the configuration of the dummy substrate holding shelf 71 may be substantially the same as the configuration of the substrate holding shelves 65 and 66 of the substrate mounting portion 6L. However, the number of dummy substrates DW that can be held by the dummy substrate holding shelf 71 does not need to be equal to the number of substrates that the substrate holding shelves 65 and 66 can hold.
  • the dummy substrate holding shelf 71 has a plurality of (for example, 12) dummy substrate supporting members 72 arranged in the vertical direction. Each dummy substrate supporting member 72 is configured to support the peripheral portion of the lower surface of one dummy substrate DW from below and hold the dummy substrate DW in a horizontal posture.
  • the dummy substrate housing portion 7L can hold a plurality of (for example, 12) dummy substrates DW on the dummy substrate holding shelf 71 in a state of being stacked in the vertical direction Z at intervals in a horizontal posture.
  • the dummy substrate housing portion 7L is composed of a plurality of stages (in this embodiment, the processing units provided in the first processing block layer BL) stacked in the vertical direction so as to house each one dummy substrate DW in a horizontal posture. ) slots (hereinafter referred to as “dummy substrate slots DL1 to DL12”).
  • a dummy substrate sensor may be provided for detecting the presence or absence of the dummy substrate DW in each of the dummy substrate slots DL1-DL12.
  • the dummy substrate housing portion 7L does not have a box surrounding the dummy substrate DW. Of course, there is no problem even if such a box is provided.
  • the main transfer robot 8L is arranged within the transfer space 52L.
  • the main transport robot 8L includes a hand 81 that holds one substrate in a horizontal posture, and a hand drive mechanism 82 that drives the hand 81 .
  • a plurality of (for example, two) hands 81 may be provided.
  • the hand driving mechanism 82 can move the hand 81 in the horizontal directions X and Y and the vertical direction Z, and rotate the hand 81 around the vertical rotation axis.
  • the hand driving mechanism 82 includes two support columns 83 , a vertical moving section 84 , a horizontal moving section 85 , a rotating section 86 and an advancing/retreating section 87 .
  • a hand 81 is coupled to the advance/retreat portion 87 .
  • the two struts 83 are spaced apart along the first horizontal direction X and fixed to the side walls of the transfer space 52L.
  • the two struts 83 extend along the vertical direction Z and function as rails that guide the vertical movement of the vertical movement section 84 .
  • the vertical moving part 84 has the form of a rail extending in the first horizontal direction X across the two posts 83 and having both ends coupled to the two posts 83 .
  • the vertical moving part 84 is configured to move vertically with respect to the two columns 83 while being guided by the columns 83 .
  • the horizontal moving part 85 is supported on the vertical moving part 84 and configured to move in the first horizontal direction X with respect to the vertical moving part 84 while being guided by the vertical moving part 84 .
  • a rotating portion 86 is supported by the horizontal moving portion 85 .
  • the rotating portion 86 is configured to rotate about a vertical axis of rotation on the horizontal moving portion 85 .
  • a retractable portion 87 is coupled to the rotating portion 86 .
  • the advance/retreat portion 87 advances/retreats in the horizontal direction with respect to the rotation axis, thereby causing the hand 81 to advance/retreat in the horizontal direction.
  • the main transport robot 8L can transfer the substrate W to and from the substrate platform 6L by allowing the hand 81 to access the substrate platform 6L.
  • the main transfer robot 8L further accesses any processing unit 11L-43L in the first processing block layer BL with the hand 81 to transfer the substrate W or the dummy substrate DW to and from the processing unit 11L-43L. It can be carried out.
  • the main transfer robot 8L can access the dummy substrate housing portion 7L with the hand 81 to transfer the dummy substrate DW to and from the dummy substrate housing portion 7L.
  • the main transfer robot 8L moves the substrate W or the dummy substrate DW held by the hand 81 between the substrate platform 6L, the processing units 11L to 43L, and the dummy substrate accommodation portion 7L in the first processing block layer BL. can be transported.
  • the configuration of the second processing block layer BU is almost the same as the configuration of the first processing block layer BL, so below, duplicate descriptions will be omitted as much as possible, and different configurations will be mainly described.
  • the configuration of the elements with the same names as in the case of the first processing block layer BL is substantially the same.
  • the second processing block layer BU includes a plurality of (12 in this embodiment) processing units 11U-13U, 21U-23U, 31U-33U, 41U-43U (hereinafter collectively referred to as the processing units of the second processing block layer BU). (hereinafter referred to as "processing units 11U-43U"), which constitute a second processing unit group.
  • the second processing block layer BU further includes a substrate placement section 6U, a dummy substrate accommodation section 7U, and a main transfer robot 8U.
  • the first to fourth liquid supply units 91-94 and the first to fourth exhaust units 101-104 are arranged to extend in the vertical direction Z across the first processing block layer BL and the second processing block layer BU.
  • the arrangement of the plurality of processing units 11U-43U in the second processing block layer BU is substantially the same as the arrangement of the plurality of processing units 11L-43L in the first processing block layer BL.
  • the second processing block layer BU includes first to fourth processing unit stacks S1U-S4U, each of which is stacked in the vertical direction Z with multiple stages (three stages in this embodiment) processing units 11U-13U, 21U- 23U, 31U-33U, 41U-43U.
  • the first to fourth processing unit stacks S1U to S4U of the second processing block layer BU are arranged to overlap the first to fourth processing unit stacks S1L to S4L of the first processing block layer BL, respectively.
  • the first processing unit stacks S1L and S1U of the first and second processing block layers BL and BU are stacked in the vertical direction Z to form a plurality of stages (six stages in this embodiment) of processing units 11L, 12L
  • a first tower T1 is formed by stacking 13L, 11U, 12U, and 13U.
  • the second processing unit stacks S2L and S2U of the first and second processing block layers BL and BU are stacked in the vertical direction Z to form a plurality of (six in this embodiment) processing units 21L and 22L.
  • 23L, 21U, 22U, and 23U are stacked to form a second tower T2.
  • the third processing unit stacks S3L and S3U of the first and second processing block layers BL and BU are stacked in the vertical direction Z to form a plurality of stages (six stages in this embodiment) of processing units 31L, 32L
  • a third tower T3 is formed by stacking 33L, 31U, 32U, and 33U.
  • the fourth processing unit stacks S4L and S4U of the first and second processing block layers BL and BU are stacked in the vertical direction Z to form a plurality of stages (six stages in this embodiment) of processing units 41L,
  • a fourth tower T4 is formed by stacking 42L, 43L, 41U, 42U, and 43U.
  • the transfer space 52U in the second processing block layer BU is partitioned from below by the middle partition 16 and partitioned from above by the upper partition 17 .
  • the upper partition wall 17 is arranged at a height aligned with the upper surfaces of the uppermost processing units 13U, 23U, 33U, 43U of the first to fourth towers T1-T4.
  • the arrangement of the substrate mounting portion 6U in plan view is the same as in the case of the first processing block layer BL. That is, the substrate platform 6U is arranged between the indexer robot 26 and the main transfer robot 8U, and is arranged at the end of the transfer space 52U on the indexer robot 26 side.
  • the substrate mounting portion 6U of the second processing block layer BU is arranged so as to overlap with the substrate mounting portion 6L of the first processing block layer BL in plan view.
  • the substrate mounting portion 6U is arranged at a height between the intermediate partition wall 16 and the upper partition wall 17 in the vertical direction Z. As shown in FIG. In this embodiment, the substrate mounting portion 6U is arranged below the middle height of the height range from the middle partition wall 16 to the upper partition wall 17 .
  • the substrate platform 6U is arranged at the highest position within a height range accessible by the indexer robot 26. As shown in FIG. The vertical position of the substrate platform 6U must be within a height range accessible by the indexer robot 26 and within a height range accessible by the main transfer robot 8U.
  • the substrate platform 6U includes an unprocessed substrate platform 61 on which an unprocessed substrate W is placed and an unprocessed substrate platform 61 on which a processed substrate W is placed. and a substrate mounting portion 62 .
  • the configurations of the unprocessed substrate mounting portion 61 and the processed substrate mounting portion 62 are the same as those of the substrate mounting portion 6L of the first processing block layer BL (see FIG. 5).
  • a window 4U corresponding to the substrate platform 6U is formed so as to penetrate the rear partition 2a of the indexer block 2 and the front partition 3a of the processing block 3, that is, the adjacent partitions.
  • the indexer robot 26 can access the substrate platform 6U through the window 4U to load/unload the substrate W onto/from the substrate platform 6U.
  • the dummy substrate housing portion 7U is provided at a height different from that of the substrate mounting portion 6U, and is arranged above the substrate mounting portion 6U in the transfer space 52U in this embodiment.
  • the dummy substrate housing portion 7U is provided so as to overlap with the substrate mounting portion 6U in plan view. More specifically, when the substrate W is held by the substrate mounting portion 6U and the dummy substrate DW is held by the dummy substrate housing portion 7U, the substrate W and the dummy substrate DW are arranged to overlap each other in plan view.
  • a dummy substrate housing portion 7U is arranged.
  • Overlapping of the substrate W and the dummy substrate DW in a plan view may be a partial overlapping or an overall overlapping, that is, the dummy substrate DW may overlap the substrate W almost entirely.
  • the dummy substrate housing portion 7U is arranged at a height between the upper partition 17 and the middle partition 16, and is arranged within a height range accessible by the main transfer robot 8U.
  • a rear partition wall 2a of the indexer block 2 and a front partition wall 3a of the processing block 3, that is, adjacent partition walls thereof, are arranged in front of the dummy substrate accommodating portion 7U, that is, on the indexer block 2 side.
  • These partition walls 2a and 3a are not provided with windows corresponding to the dummy substrate housing portions 7U. Therefore, the indexer robot 26 cannot access the dummy substrate accommodation section 7U.
  • the configuration of the dummy substrate accommodation portion 7U may be substantially the same as the configuration of the dummy substrate accommodation portion 7L of the first processing block layer BL (see FIG. 6).
  • the dummy substrate housing portion 7U has a plurality of stages (in this embodiment, the number of processing units provided in the second processing block layer BU) stacked in the vertical direction so as to house each one dummy substrate DW in a horizontal posture. ) slots (hereinafter referred to as “dummy substrate slots DU1 to DU12”).
  • a dummy substrate sensor may be provided for detecting the presence or absence of the dummy substrate DW in each of the dummy substrate slots DU1-DU12.
  • the main transport robot 8U is arranged within the transport space 52U.
  • the main transport robot 8U includes a hand 81 that holds one substrate in a horizontal posture, and a hand drive mechanism 82 that drives the hand 81 .
  • the hand drive mechanism 82 includes two posts 83 , a vertical movement section 84 , a horizontal movement section 85 , a rotation section 86 and an advance/retreat section 87 . These configurations are the same as those of the main transfer robot 8L of the first processing block layer BL.
  • the main transfer robot 8U is configured to be able to access the substrate placement section 6U, the processing units 11U to 43U and the dummy substrate accommodation section 7U.
  • the main transport robot 8U transports substrates W between the substrate platform 6U and the processing units 11U-43U, and transports dummy substrates DW between the dummy substrate storage unit 7U and the processing units 11U-43U. This is an example of one transport unit.
  • the first processing block layer BL and the second processing block layer BU are separated by an intermediate partition wall 16, and the product substrate W or the dummy substrate DW cannot be transported over the intermediate partition wall 16.
  • the main transfer robot 8L on the first processing block layer BL cannot access any of the processing units 11U to 43U, the dummy substrate storage unit 7U, and the substrate platform 6U on the second processing block layer BU. It is configured.
  • the main transfer robot 8U of the second processing block layer BU cannot access any of the processing units 11L to 43L, the dummy substrate accommodation portion 7L, and the substrate placement portion 6L of the first processing block layer BL. It has become.
  • the liquid supply units 91-94 define a liquid piping space for accommodating piping for supplying the processing liquid used in the processing units 11L-43L; 11U-43U.
  • a liquid piping space defined by each of the liquid supply units 91 to 94 penetrates in the vertical direction Z through the first processing block layer BL and the second processing block layer BU.
  • Each of the liquid supply units 91-94 has six processing units 11L, 12L, 13L, 11U, 12U, 13U; , 22L, 23L, 21U, 22U, 23U; 31L, 32L, 33L, 31U, 32U, 33U; 41L, 42L, 43L, 41U, 42U, 43U.
  • the liquid supply units 91 to 94 further accommodate processing liquid-related equipment such as valves, a flow meter, a tank for temporarily storing the processing liquid, and a pump for feeding the liquid, which are provided in the piping. may be
  • the exhaust units 101 to 104 define an exhaust piping space that accommodates piping for exhausting the atmosphere inside the processing unit.
  • the exhaust piping space defined by each of the exhaust sections 101 to 104 penetrates in the vertical direction Z through the first processing block layer BL and the second processing block layer BU.
  • Each of the exhaust units 101-104 has six processing units 11L, 12L, 13L, 11U, 12U, 13U; , 22L, 23L, 21U, 22U, 23U; 31L, 32L, 33L, 31U, 32U, 33U;
  • An exhaust pipe 76 is accommodated.
  • the exhaust units 101 to 104 may further accommodate a switching mechanism 77 for switching the exhaust pipe 76 according to the type of processing (more specifically, the type of processing liquid) in the processing unit.
  • the exhaust section 101 includes actuators that drive the switching mechanism 77 .
  • the carrier transport mechanism 300 (see FIG. 1) carries the carrier C containing the unprocessed product substrates W into the carrier holding part 25, and carries out the carrier C containing the processed product substrates W from the carrier holding part 25. works like Further, the carrier transport mechanism 300 loads the supply dummy carrier DC containing the unused dummy substrates DW into the carrier holding unit 25, and after the unused dummy substrates DW are discharged from the supply dummy carrier DC, , to carry out the dummy carrier DC from the carrier holding portion 25 . Further, the carrier transport mechanism 300 carries the recovery dummy carrier DC for recovering the used dummy substrate DW into the carrier holding unit 25, and the used dummy substrate DW is accommodated in the recovery dummy carrier DC. Later, the recovery dummy carrier DC is carried out from the carrier holding portion 25 .
  • the dummy carrier DC may have substantially the same configuration as the carrier C for the product substrates W;
  • the carrier transport mechanism 300 typically includes an overhead hoist transport (OHT).
  • OHT overhead hoist transport
  • the carrier transport mechanism 300 transports the carrier C between the carrier storage space 350 and the carrier holding section 25 (load port). Also, the carrier transport mechanism 300 transports the dummy carrier DC between the dummy carrier storage place 351 and the carrier holding section 25 .
  • the carrier transport mechanism 300 is controlled by the host computer 150 and transports the carrier C and the dummy carrier DC.
  • the host computer 150 is communicably connected to the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 via a communication line 170 .
  • the controller 110 controls the indexer robot 26 and the main transport robots 8L and 8U to transport the substrate W and the dummy substrate DW. Further, the controller 110 controls each part of the processing units 11L-43L and 11U-43U to execute substrate processing and dummy processing using the dummy substrate DW in the processing units 11L-43L and 11U-43U.
  • FIG. 7 is an illustrative cross-sectional view for explaining a configuration example of the processing units 11L-43L; 11U-43U (hereinafter collectively referred to as "processing units 11L-43U").
  • the processing units 11L-43U include a unit partition 36 forming a processing chamber 35 (chamber), a processing cup 39 arranged in the unit partition 36, a spin chuck 40 arranged in the processing cup 39, and a spin chuck 40 and a nozzle 55 for supplying the processing liquid to the substrate W or the dummy substrate DW held in the substrate.
  • the unit partition wall 36 includes, for example, a side wall 36a that is substantially rectangular in plan view, a ceiling wall 36b that partitions the upper portion, and a bottom wall 36c that partitions the lower portion.
  • One surface of the side wall 36a faces the transfer space 52U, extends along the first horizontal direction X and the vertical direction Z, and has a substrate loading/unloading port 37 for loading/unloading the substrate W and the dummy substrate DW. is doing.
  • the substrate loading/unloading port 37 may have a slot shape extending in the first horizontal direction X.
  • a shutter 38 for opening and closing the substrate loading/unloading port 37 is arranged.
  • the substrate W and the dummy substrate DW are loaded from a substrate loading/unloading port 37 formed in the unit partition 36 and transferred to the spin chuck 40 .
  • the spin chuck 40 includes a spin base 45 that holds one substrate W or dummy substrate DW in a horizontal posture, and a spin motor 46 that rotates the spin base 45 around a vertical rotation axis.
  • the spin chuck 40 may be of a vacuum type that holds the lower surface of the substrate W or the dummy substrate DW by suction on the upper surface of the spin base 45 .
  • the spin base 45 has a circular planar shape corresponding to the substrate W and the dummy substrate DW, and has three or more holding pins provided at intervals in the circumferential direction on the periphery thereof.
  • a mechanical chuck that grips the substrate W or the dummy substrate DW with pins may be configured.
  • the processing unit 11L-43U includes one or more nozzles 55 for supplying the processing liquid to the substrate W held by the spin chuck 40 or the dummy substrate DW.
  • multiple nozzles 55 are provided. These multiple nozzles 55 may include multiple chemical liquid nozzles that are used to eject multiple types of chemical liquids, respectively.
  • a processing liquid is supplied from the nozzle 55 to the surface of the substrate W or the dummy substrate DW held and rotated by the spin chuck 40 .
  • Nozzle 55 is coupled to processing liquid tubing 56 that is routed through liquid supplies 91-94.
  • the processing liquid pipe 56 is routed through liquid supplies 91 - 94 and connected to the processing liquid supply source 54 .
  • a valve 59 for opening and closing the flow path is interposed in the middle of the treatment liquid pipe 56 .
  • a pump 60 for sending the processing liquid toward the nozzle 55 is interposed in the middle of the processing liquid pipe 56 .
  • Valves 59 and pumps 60 are located at liquid supplies 91-94.
  • the processing liquid supply source 54 supplies a chemical liquid such as an etchant and a rinse liquid such as pure water (deionized water).
  • multiple processing liquid lines 56 and corresponding multiple nozzles 55 may be provided.
  • Some or all of the plurality of nozzles 55 may have the form of moving nozzles that move along the upper surface of the substrate W or the dummy substrate DW above the substrate W or the dummy substrate DW.
  • the movable nozzle has a structure in which the base end of a horizontal nozzle arm 57 is supported by a swing shaft 58 arranged on the side of the spin chuck 40, and the swing shaft 58 is rotated around the vertical axis. (see Figure 1).
  • Some or all of the plurality of nozzles 55 may be fixed nozzles whose relative positions to the spin chuck 40 remain unchanged.
  • the atmosphere inside the unit partition 36 is exhausted through the exhaust connection pipe 75 penetrating the unit partition 36 .
  • the exhaust connection pipe 75 is connected to an exhaust pipe 76 arranged in the exhaust sections 101-104.
  • the exhaust connection pipe 75 may be connected to a plurality of exhaust pipes 76 via a switching mechanism 77 .
  • the switching mechanism 77 switches the exhaust gas from the exhaust connection pipe 75 to an exhaust gas pre-associated with the type of processing liquid in accordance with the type of processing liquid (for example, the type of chemical liquid) discharged from the plurality of nozzles 55 . It operates to lead to piping 76 .
  • FIG. 8 is a block diagram for explaining the control configuration of the substrate processing apparatus 1.
  • the substrate processing apparatus 1 has a controller 110 .
  • Controller 110 may be a computer including processor 111 (CPU) and memory 112 (storage unit).
  • Processor 111 executes program 120 stored in memory 112 .
  • the controller 110 functions as a schedule creating unit that creates a transport schedule for the substrate transport operation of transporting the substrate W and the dummy substrate DW by the indexer robot 26 and the main transport robots 8L and 8U. It also functions as a transport control unit that controls the transport of the substrate W and the dummy substrate DW based on the transport schedule.
  • the controller 110 has a function as a substrate processing control section that realizes a substrate processing operation for processing the substrate W by the processing units 11L-43U.
  • the controller 110 further has a function as a dummy processing control section that realizes a dummy processing operation of executing dummy processing using the dummy substrates DW in the processing units 11L-43U.
  • the controller 110 controls various control objects provided in the substrate processing apparatus 1 for these substrate transport operations, substrate processing operations, and dummy processing operations.
  • the objects to be controlled include the drive units provided in the indexer robot 26, the main transfer robots 8L and 8U, the processing units 11L-43U, and the like.
  • objects controlled by the controller 110 include the valves 59 and the pumps 60 arranged in the liquid supply units 91-94, and actuators arranged in the exhaust units 101-104.
  • the data 130 includes product recipes 131 for processing substrates W for production and dummy processing recipes 132 for dummy processing using dummy substrates DW.
  • the product recipe 131 is data that defines the transport operation of the substrate W and the processing details for the substrate W.
  • the dummy processing recipe 132 is data that defines the transfer operation of the dummy substrate DW and the processing content using the dummy substrate DW.
  • the controller 110 controls the controlled object according to the product recipe 131 when processing the substrate W, and controls the controlled object according to the dummy processing recipe 132 when executing the dummy processing.
  • the product recipe 131 may be provided by data communication from a host computer 150 communicatively connected to the controller 110 and stored in the memory 112 .
  • Dummy processing recipes 132 may likewise be communicated from host computer 150 and stored in memory 112 .
  • these recipes 131 and 132 may be input or edited by an operator using a user interface 140 connected to the controller 110 .
  • the dummy processing recipe 132 may be automatically generated by the controller 110 according to the content of the product recipe 131 .
  • Both product recipes 131 and dummy process recipes 132 need not be of one type, and multiple product recipes 131 or multiple dummy process recipes 132 may be stored in memory 112 .
  • User interface 140 includes, for example, an input device and a display device.
  • the user interface 140 is an example of a notification unit that alerts the user in various ways. For example, the user interface 140 notifies the user by displaying a warning message or the like when the dummy board DW reaches its expiration date and needs to be replaced.
  • the dummy processing recipe 132 includes a preprocessing recipe that prescribes preprocessing for performing the same processing on the dummy substrate DW as on the product substrate W.
  • the pretreatment recipe may be a recipe obtained by replacing the product substrate W with the dummy substrate DW in the product recipe 131 as the substrate to be carried into the processing unit 11L-43U.
  • Such a pretreatment recipe may be automatically generated by controller 110 based on product recipe 131 . For example, when a process of supplying a high-temperature processing liquid to the substrate W is performed, the high-temperature processing liquid can be guided to the nozzle 55 by performing preprocessing, and the high-temperature processing liquid can be applied to the pipe 56 and the processing chamber. The interior of unit 11L-43U can be heated.
  • the processing liquid at an appropriate temperature can be supplied to the product substrate W in an environment in which the temperature is appropriately controlled.
  • the pretreatment is an example of preparatory processing for preparing the processing environment of the processing units 11L-43U so as to properly process the substrate W for the product.
  • the dummy processing recipe 132 includes a unit cleaning recipe for cleaning the inside of the processing units 11L-43U while holding the dummy substrate DW on the spin chuck 40.
  • FIG. In the unit cleaning process performed according to the unit cleaning recipe, the spin chuck 40 holds and rotates the dummy substrate DW, and in this state, a cleaning liquid (chemical or pure water) is supplied to the dummy substrate DW. As a result, the cleaning liquid subjected to centrifugal force on the dummy substrate DW scatters around the spin chuck 40 and cleans the inside of the processing cup 39 .
  • a cleaning liquid chemical or pure water
  • the incident position of the cleaning liquid on the inner wall surface of the processing cup 39 changes up and down, so that the inner wall surface of the processing cup 39 can be cleaned efficiently.
  • the dummy substrate DW is arranged above the upper end of the processing cup 39 by the vertical movement of the processing cup 39 or the vertical movement of the spin chuck 40, and the cleaning liquid is supplied to the inside of the processing chamber 35 outside the processing cup 39 to perform processing.
  • the interior of chamber 35 can also be cleaned.
  • the data 130 stored in the memory 112 further includes a dummy board table 133 that associates the plurality of processing units 11L-43U with the dummy board slots DL1-DL12, DU1-DU12 of the dummy board storage units 7L, 7U.
  • a unique dummy board slot number (dummy board slot identification information) is assigned to each of the plurality of dummy board slots DL1 to DL12 and DU1 to DU12.
  • One dummy substrate slot number is associated with each processing unit 11L-43U.
  • the dummy substrate table 133 includes a plurality of (12 in this embodiment) processing units 11L-43U of the first processing block layer BL and a plurality of (12 in this embodiment) dummy substrate housing portions 7L of the first processing block layer BL. 12) dummy substrate slot numbers are associated one-to-one.
  • the dummy substrate table 133 includes a plurality of (12 in this embodiment) processing units 11L-43U of the second processing block layer BU and a plurality of (in this embodiment, 12) dummy substrate storage units 7U of the second processing block layer BU. 12 in the form) are associated one-to-one with the dummy board slot numbers.
  • the dummy substrate table 133 includes a plurality of (24 in this embodiment) processing units 11L to 43U provided in the substrate processing apparatus 1 and a plurality of (24 in this embodiment) slots of the dummy substrate storage units 7L and 7U. numbers are associated one-to-one.
  • the data 130 stored in the memory 112 further includes dummy board history data 134 .
  • the dummy board history data 134 is data representing the usage history of the dummy boards DW accommodated in the dummy board slots DL1 to DL12 and DU1 to DU12 corresponding to the plurality of dummy board slot numbers of the dummy board accommodation units 7L and 7U. historical information).
  • the usage history includes the number of times the dummy substrate DW was used for processing in the processing units 11L-43U (cumulative count), the usage time (cumulative time) during which the dummy substrate DW was used for processing in the processing units 11L-43U, It is preferable that the dummy substrate DW contains at least one history of processing details received in the processing units 11L-43U.
  • the history of the processing content can be information representing the consumption state of the dummy substrate DW.
  • the number of times of use and the time of use may also be information representing the consumption state of the dummy substrate DW.
  • Another example of information representing the consumption state of the dummy substrate DW is the thickness of the dummy substrate DW.
  • the thickness of the dummy substrate DW can be calculated from usage history information, and can also be detected by arranging dummy substrate thickness sensors in the dummy substrate housing portions 7L and 7U, for example.
  • the data 130 stored in the memory 112 includes threshold data 136 (use-by date threshold information) to be compared with dummy board history data 134 (usage history information in particular).
  • the threshold data 136 may include a number of uses threshold to compare with the number of uses and may include a duration of use threshold to compare with the hours of use.
  • the threshold data 136 may also include a wear state threshold to be compared with the wear state of the dummy substrate DW. For example, it is possible to calculate the consumption state information of the dummy substrate DW based on the usage history information of the dummy substrate DW, compare the consumption state information with the consumption state threshold value, and determine the expiration date of the dummy substrate DW.
  • the consumption state information of the dummy substrate DW may be the thickness of the dummy substrate DW.
  • the data 130 stored in the memory 112 further includes unit usage history data 135 representing the unit usage history of each of the processing units 11L-43U.
  • the unit usage history data 135 preferably includes the number of substrates processed by each processing unit 11L-43U and the non-use duration representing the continuous time during which each processing unit 11L-43U is not used for substrate processing. Since the internal environment of the processing units 11L-43U gradually deteriorates as substrate processing is repeated, it is preferable to set an appropriate upper limit for the number of substrates that can be processed continuously without requiring maintenance. Further, the internal environment of the processing unit 11L-43U gradually deteriorates as the time during which the substrate W is not processed increases.
  • the chemical liquid adhering to the inner wall or the like of the processing cup 39 may dry and crystallize, causing particles.
  • the temperature of the pipe 56 or the nozzle 55 decreases when the flow of the processing liquid is interrupted for a long time due to continued non-use. Therefore, when the processing liquid is discharged next time, the heat of the processing liquid is taken away by the pipe 56 or the nozzle 55, and the temperature of the processing liquid immediately after the discharge may not be appropriate. Therefore, it is preferable to set an appropriate upper limit for the duration of non-use as well. By comparing the unit usage history data 135 (the number of processed substrates, duration of non-use, etc.) with corresponding set values, it is possible to determine whether or not maintenance is required for the processing units 11L-43U.
  • FIG. 9 is a flowchart for explaining the operation of the controller 110 related to dummy processing. Controller 110 executes the processing of FIG. 9 in parallel or sequentially for each of the plurality of processing units 11L-43U.
  • the controller 110 determines whether or not the product substrate W is being processed in the target processing unit 11L-43U (step A1).
  • the controller 110 controls the processing unit 11L-43U.
  • the unit usage history data 135 it is determined whether or not the number of processed substrates has reached the set value (step A2).
  • the controller 110 determines that the unit cleaning execution condition (an example of the maintenance execution condition) is satisfied, and cleans the processing units 11L-43U.
  • unit cleaning processing (an example of maintenance processing) is executed according to the unit cleaning recipe (step A3). Further, the controller 110 resets the substrate processing number of the processing unit to an initial value (for example, 0) and updates the unit usage history data 135 (step A4).
  • the unit cleaning process is an example of the dummy process, and includes a transfer schedule creation step A30, a dummy substrate loading step A31, a dummy processing step A32, and a dummy substrate accommodation step A33.
  • the transfer schedule creation step A30 is a step of creating a transfer plan (transfer schedule) for dummy processing.
  • the dummy substrate loading step A31 is a step of controlling the main transport robots 8L and 8U according to the created transport schedule. As a result, the main transport robots 8L and 8U unload the dummy substrates DW from the corresponding dummy substrate slots DL1-DL12 and DU1-DU12, transport them to the processing units 11L-43U, and load them into the processing units.
  • the dummy processing step A32 is a step of executing processing using the dummy substrate DW in the processing unit, and here, cleaning processing of the inside of the processing unit.
  • the dummy substrate accommodation step A33 is a step of carrying out the dummy substrate DW from the processing unit after cleaning the inside of the processing unit and transporting the dummy substrate DW to the original dummy substrate slots DL1 to DL12 and DU1 to DU12 according to the transportation schedule.
  • the controller 110 refers to the dummy substrate table 133, identifies the dummy substrate slots DL1 to DL12 and DU1 to DU12 corresponding to the processing units 11L to 43U, and performs the dummy substrate loading step A31 and the dummy substrate accommodating step A33. create a delivery schedule for
  • the controller 110 determines whether or not preprocessing is necessary to prepare the processing environment (processing conditions) of the processing units 11L-43U (steps A5 and A6). Specifically, the controller 110 checks whether a processing request (processing reservation) for a product substrate has been given from the host computer 150 (step A5). When a product substrate processing request is given (step A5: YES), the controller 110 determines whether the non-use duration of the processing unit 11L-43U has reached a set value (step A6).
  • step A6 determines that pretreatment is necessary, that is, pretreatment execution conditions (an example of maintenance execution conditions) are satisfied.
  • the controller 110 executes preprocessing according to the preprocessing recipe (step A7). Specifically, the controller 110 refers to the dummy substrate table 133 to identify the dummy substrate slots DL1 to DL12 and DU1 to DU12 corresponding to the processing units 11L to 43U, and based thereon, to perform preprocessing. A transportation schedule is created (transportation schedule creation step A70). Then, the controller 110 controls the main transport robots 8L and 8U according to the created transport schedule to carry out the dummy substrate DW from the specified dummy substrate slot, and transports the dummy substrate DW to the processing unit 11L-43U. (dummy substrate loading step A71).
  • the host computer 150 executes the same processing as the product substrate W on the dummy substrate DW in the processing unit 11L-43U (dummy processing step A72). After completion of the processing, the host computer 150 controls the main transfer robots 8L and 8U according to the transfer schedule to take out the dummy substrate DW from the processing units 11L to 43U, transfer it to the original dummy substrate slot, and transfer the dummy substrate DW to the original dummy substrate slot. The slot accommodates the dummy substrate DW (dummy substrate accommodation step A73). After executing the preprocessing in this manner, the controller 110 resets the non-use duration time to the initial value (for example, 0) and updates the unit usage history data 135 (step A8).
  • the initial value for example, 0
  • the controller 110 executes preprocessing.
  • the preprocessing includes transportation of the dummy substrate DW (step A71) and dummy processing using it (step A72). Therefore, the carrier C containing the product substrates W is held by the carrier holding unit 25, and the indexer robot 26 picks up the substrates W to be processed from the carrier C and transports them to the substrate mounting units 6L and 6U.
  • preprocessing dummy substrate loading step A71 and/or dummy processing step A72
  • the indexer robot 26 is not involved in transporting the dummy substrate DW. Therefore, the dummy substrates DW are transported inside the processing block 3 and the preprocessing is executed without interfering with the transportation of the product substrates W by the indexer robot 26 .
  • FIG. 9 shows the loading step A20 of the product substrate W by the indexer robot 26, but it does not mean that the relationship with the pretreatment step A7 is as illustrated.
  • the product substrate loading step A20 can be performed (started) prior to or in parallel with the preprocessing step A7, and the product substrate loading step A20 is performed after the preprocessing step A7. It may be started (started).
  • the pretreatment recipe defines the pretreatment to be performed on the dummy substrate DW, which should be performed on the product substrate W. Therefore, the dummy substrate DW is consumed by performing the pretreatment on the dummy substrate DW. Specifically, the surface of the dummy substrate DW is etched and the thickness of the dummy substrate DW is reduced by subjecting the dummy substrate DW to pretreatment using a chemical solution having an etching action. Therefore, when the pretreatment recipe is executed, the controller 110 updates the dummy substrate history data 134 of the dummy substrate slots DL1-DL12, DU1-DU12 associated with the processing units 11L-43U (step A9). For example, if the dummy substrate history data 134 includes usage count data, the usage count data is incremented.
  • the controller 110 executes control according to the product recipe (step A12). Specifically, the controller 110 creates a transport schedule for product substrate processing (transport schedule creation step A120), and controls the indexer robot 26 and the main transport robots 8L and 8U according to the transport schedule. Then, the indexer robot 26 picks up the product substrate W from the carrier C and places it on the substrate platforms 6L and 6U. Then, the main transport robots 8L and 8U take out the substrates W from the substrate platforms 6L and 6U and transport them to the processing units 11L-43U (substrate loading step A121).
  • transport schedule creation step A120 transport schedule for product substrate processing
  • the indexer robot 26 picks up the product substrate W from the carrier C and places it on the substrate platforms 6L and 6U.
  • the main transport robots 8L and 8U take out the substrates W from the substrate platforms 6L and 6U and transport them to the processing units 11L-43U (substrate loading step A121).
  • processing step A122 processing using a processing liquid (chemical liquid, rinse liquid, etc.) is performed on the substrate W (processing step A122).
  • the main transport robots 8L and 8U take out the processed substrates W according to the transport schedule and transport them to the substrate platforms 6L and 6U.
  • C substrate accommodation step A123.
  • step A5 determines whether the duration of the standby state, that is, the non-use duration has reached a set value (step A15). ). If the non-use continuation time has not reached the set value, it will be in a standby state. When the non-use duration time reaches the set value (step A15: YES), the controller 110 executes preset maintenance processing (step A16).
  • the maintenance process may be a unit cleaning process. As in the case of step A3, this unit cleaning process may be a process using the dummy substrate DW (a type of dummy process), or may be a process without using the dummy substrate DW.
  • the maintenance process may be a process similar to the pre-process. Also, the maintenance process may be another process.
  • the maintenance process is mainly a process for maintaining the environment in the processing chamber 35 of the processing units 11L-43U in a state suitable for processing the product substrates W, and is set in advance by the user of the substrate processing apparatus 1. It may be processing.
  • the maintenance processing includes a transfer schedule creation step A160 for creating a transfer plan (transfer schedule) for the processing, and a corresponding dummy substrate according to the transfer plan.
  • step A7 When there is no processing request (processing reservation) from the host computer 150, the controller 110 cannot automatically plan preprocessing similar to the product recipe 131. Therefore, even if maintenance processing (step A16) is executed as needed, when there is a processing request (processing reservation) from host computer 150, preprocessing (step A7) corresponding to the product processing can be executed. preferable.
  • the dummy substrates DW are previously introduced into the substrate processing apparatus 1 and accommodated in the dummy substrate accommodation units 7L and 7U.
  • the supply dummy carrier DC containing the dummy substrate DW is delivered to the carrier holding unit 25 by the carrier transport mechanism 300 (see FIG. 1) provided in the factory.
  • the indexer robot 26 takes out the dummy substrate DW from the supply dummy carrier DC and transports it to the substrate platforms 6L and 6U.
  • the main transfer robot 8L of the first processing block layer BL transfers and accommodates the dummy substrate DW from the substrate placement section 6L to the dummy substrate accommodation section 7L.
  • the main transport robot 8U of the second processing block layer BU transports and stores the dummy substrate DW from the substrate platform 6U to the dummy substrate storage unit 7U.
  • the controller 110 creates a transfer schedule (supply transfer schedule) for introducing the dummy substrates DW, and controls the indexer robot 26 and the main transfer robots 8L and 8U according to the transfer schedule, thereby performing the transfer operation as described above. Achieve.
  • the controller 110 When a new dummy board DW is introduced and accommodated in the dummy board accommodation units 7L and 7U, the controller 110 initializes the dummy board history data 134 corresponding to the dummy board slot in which the new dummy board DW is accommodated. reset to
  • the main transfer robots 8L and 8U and the indexer robot 26 move the dummy substrates DW from the dummy substrate storage units 7L and 7U to the recovery dummy carrier DC held by the carrier holding unit 25.
  • a substrate DW is transported. Specifically, when the dummy substrate DW to be replaced is accommodated in the dummy substrate accommodation portion 7L of the first processing block layer BL, the main transfer robot 8L moves from the dummy substrate accommodation portion 7L to the substrate placement portion 6L. and the dummy substrate DW.
  • the main transfer robot 8U transfers the dummy substrate DW from the dummy substrate accommodation portion 7U to the substrate platform 6U. to convey.
  • the indexer robot 26 transports the dummy substrates DW placed on the substrate placement units 6L and 6U to the recovery dummy carrier DC held by the carrier holding unit 25 and accommodates them therein. Similar operations are repeated when a plurality of dummy substrates DW are to be replaced.
  • the controller 110 creates a transfer schedule (recovery transfer schedule) for exchanging (discharging) the dummy substrates DW, and controls the indexer robot 26 and the main transfer robots 8L and 8U according to the transfer schedule, thereby performing the above-described operations. Accomplish the transport action.
  • FIGS. 10A and 10B are flowcharts for explaining the process of replacing dummy substrates in the substrate processing apparatus.
  • 10A shows a processing example of the controller 110 of the substrate processing apparatus 1
  • FIG. 10B shows a processing example of the host computer 150.
  • FIG. 10A shows a processing example of the controller 110 of the substrate processing apparatus 1
  • FIG. 10B shows a processing example of the host computer 150.
  • the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 plans dummy processing (for example, cleaning of a processing unit using the dummy substrate DW, dummy cleaning) (step S1), and updates the dummy substrate history data 134 in the memory 112 (step S1). S2).
  • the controller 110 further compares the dummy substrate history data 134 and the threshold data 136 to determine whether the dummy substrate DW has reached its expiration date (step S3).
  • the dummy board history data 134 is created for each slot of the dummy board housing portions 7L and 7U, that is, for each dummy board DW, as described above, and represents the use history of each dummy board DW.
  • the plurality of processing units and the plurality of slots of the plurality of dummy substrate housing portions 7L and 7U are associated in a one-to-one correspondence. Used for dummy processing. Therefore, when the controller 110 plans dummy processing (step S1), it updates the dummy substrate history data 134 (step S2). It is determined whether or not (step S3).
  • the dummy substrate history data 134 may include usage count data of the dummy substrate DW.
  • step S1 When the controller 110 plans a dummy process for a certain processing unit (step S1), the controller 110 increments and updates the usage count data of the dummy substrate DW associated with the processing unit (step S2). Then, when the usage count data reaches a predetermined usage count threshold (an example of the threshold data 136), the controller 110 determines that the dummy substrate DW has reached its expiration date (step S3: YES).
  • a predetermined usage count threshold an example of the threshold data 136
  • step S3 YES
  • the controller 110 plans to replace the dummy board DW (step S4). Further, the controller 110 displays on the user interface 140 that the dummy substrate DW has reached its expiration date, and notifies the user of the fact (step S5). If the dummy board DW has not reached the expiration date (step S3: NO), the plan for replacement of the dummy board (step S4) and the notification for calling attention (step S5) are omitted.
  • the controller 110 controls the transfer of the dummy substrate DW and the processing in the processing unit according to the dummy processing plan (step S6). Specifically, the controller 110 controls the main transport robots 8L and 8U to transport the dummy substrates DW from the dummy substrate storage units 7L and 7U to the processing units, and controls the processing units to transport the dummy substrates DW. to perform a process (eg, a chamber cleaning process).
  • a process eg, a chamber cleaning process
  • step S7 When the replacement of the dummy substrate DW is required (step S7: YES), that is, when the replacement of the dummy substrate DW is planned (step S4), the controller 110 transmits a dummy substrate replacement request to the host computer 150 ( Step S8: function as a use-time limit notification section of the controller 110). If there is no plan to replace the dummy board (step S7: NO), no dummy board replacement request is sent.
  • step S12 determines whether to start replacing the dummy board DW (step S12). For example, when there is a process for a product substrate W to be prioritized over the replacement of the dummy substrate DW, this determination becomes negative and the dummy substrate replacement request is suspended. If it is determined that the replacement of the dummy substrates DW should be started (step S12: YES), the host computer 150 removes the recovery dummy carrier DC and the supply dummy carrier DC from the dummy carrier storage place 351 to the carrier holding of the substrate processing apparatus 1.
  • a carrier transport mechanism 300 is controlled for transport to section 25 .
  • the host computer 150 determines whether or not there is a collecting dummy carrier DC in the dummy carrier storage area 351 (step S13), and if not, performs processing for preparing the collecting dummy carrier DC (step S13). step S14). This processing may be warning processing (notification to the effect that a dummy carrier DC for collection is necessary) prompting the user to prepare a dummy carrier DC for collection.
  • the host computer 150 plans the transport of the recovery dummy carrier DC by the carrier transport mechanism 300, and instructs the carrier transport mechanism 300 to carry out the plan (step S15). If the dummy carrier DC for recovery is present in the dummy carrier storage place 351 (step S13: YES), the process of step S14 is omitted.
  • the host computer 150 also determines whether or not there is a supply dummy carrier DC in the dummy carrier storage area 351 (step S16), and if not, performs processing for preparing a supply dummy carrier DC (step S17). This processing may be warning processing (notification to the effect that a dummy carrier DC for supply is required) prompting the user to prepare the dummy carrier DC for supply. After this process, the host computer 150 plans the transport of the supply dummy carrier DC by the carrier transport mechanism 300, and instructs the carrier transport mechanism 300 to execute it (step S18). If there is a dummy carrier DC for supply in the dummy carrier storage place 351 (step S16: YES), the process of step S17 is skipped.
  • the dummy substrate replacement plan (step S4) by the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 is to place the expired dummy substrate DW in the dummy substrate housing portion when the recovery dummy carrier DC is held in the carrier holding portion 25.
  • the controller 110 controls the main transfer robots 8L, 8U and the indexer robot 26 according to this collection transfer schedule.
  • the main transport robots 8L and 8U transport the expired dummy substrates DW from the dummy substrate storage units 7L and 7U to the substrate placement units 6L and 6U, and the indexer robot 26 transfers the dummy substrates DW to the substrates. It is transported from the mounting units 6L and 6U to the recovery dummy carrier DC.
  • the dummy substrate replacement plan (step S4) by the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 is to replace the unused dummy substrate DW with the supply dummy carrier DC when the carrier holding unit 25 holds the supply dummy carrier DC. to the dummy substrate housing units 7L and 7U.
  • the controller 110 controls the indexer robot 26 and the main transfer robots 8L and 8U according to this supply transfer schedule. As a result, the indexer robot transfers the unused dummy substrate DW from the supply dummy carrier DC to the substrate platforms 6L and 6U, and the main transfer robots 8L and 8U transfer the dummy substrates DW to the substrate platform 6L. , 6U to the dummy substrate storage units 7L and 7U.
  • the operation of collecting the used dummy substrates DW and the operation of supplying the unused dummy substrates DW may be performed separately in terms of time, or part or all of these operations may overlap in terms of time.
  • FIG. 11 is a time chart for explaining an example of specific operations.
  • the dummy processing operations represented by grid-patterned blocks in FIG. 11 are as follows.
  • the dummy substrates DW corresponding to the processing units to be subjected to the dummy processing are taken out from the dummy substrate storage units 7L and 7U by the main transfer robots 8L and 8U and carried into the target processing units.
  • the processing (dummy processing) using the dummy substrate DW in the processing unit is completed, the dummy substrate DW is taken out by the main transfer robots 8L and 8U and stored in the dummy substrate storage units 7L and 7U.
  • the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 plans the dummy processing, for example, when the dummy substrate DW is discharged from the dummy substrate storage units 7L and 7U. , a dummy board replacement request (expiration date information) is transmitted to the host computer 150 (time t1). Triggered by this, the dummy substrate recovery operation indicated by the horizontally striped blocks in FIG. 11 is performed.
  • the dummy substrate DW reaches the expiration date by being used for one more dummy process. In other words, the expiration date is reached through the dummy processing that is performed after time t1.
  • the host computer 150 Upon receiving the dummy substrate replacement request, the host computer 150 plans and executes transportation of the recovery dummy carrier DC while the substrate processing apparatus 1 is performing dummy processing. That is, upon receiving a dummy substrate replacement request at time t1, the host computer 150 executes a process for preparing a recovery dummy carrier DC (see step S14 in FIG. 10B) during a period T1, and collects it in the dummy carrier storage space 351. At time t2 after the dummy carrier DC for recovery is placed, the carrier transport mechanism 300 is commanded to transport the dummy carrier DC for recovery.
  • the carrier transport mechanism 300 transports the recovery dummy carrier DC from the dummy carrier storage place 351 to the carrier holding unit 25 of the substrate processing apparatus 1 during the period T2 from the time t2. That is, the carrier transport mechanism 300 takes out the recovery dummy carrier DC from the dummy carrier storage place 351, transports it to the substrate processing apparatus 1, and places it in the carrier holding part LP1, which is one of the plurality of carrier holding parts 25, for recovery. Load the dummy carrier DC. When the recovery dummy carrier DC is loaded into the carrier holding unit 25, the host computer 150 commands the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 to recover and transport the dummy substrate DW at time t3.
  • the dummy processing operation is completed during the period T2 described above.
  • the host computer 150 controls the recovery dummy carrier DC by the carrier transport mechanism 300 so that the recovery dummy carrier DC is transported to the carrier holding portion LP1 while the dummy processing operation is being performed in the substrate processing apparatus 1. It is preferable to plan the transport of dummy carriers DC. Then, almost in synchronism with the end of the dummy processing operation (accommodation of the dummy substrate DW to be replaced in the dummy substrate accommodation portions 7L and 7U), the carrying-in of the collecting dummy carrier DC into the carrier holding portion 25 is completed. is preferred.
  • the controller 110 instructed to collect and transport the dummy substrates DW collects the used dummy substrates DW after the dummy substrates DW that have been used for dummy processing and have reached the expiration date are stored in the dummy substrate storage units 7L and 7U.
  • a recovery transfer schedule for transferring from the storage units 7L and 7U to the recovery dummy carrier DC is created, and the transfer of the dummy substrate DW is executed according to the recovery transfer schedule.
  • the main transfer robots 8L and 8U take out the used dummy substrates DW from the dummy substrate storage units 7L and 7U, and It is placed on the placement portions 6L and 6U.
  • the used dummy substrate DW is taken out by the indexer robot 26 and carried into the recovery dummy carrier DC held by the carrier holding part LP1.
  • the controller 110 notifies the host computer 150 at time t5 that the recovery dummy carrier DC is ready for unloading.
  • the host computer 150 instructs the carrier transport mechanism 300 to transport the recovery dummy carrier DC.
  • the carrier transport mechanism 300 unloads the collecting dummy carrier DC from the carrier holding unit 25 and transports it to the dummy carrier storage place 351 .
  • the dummy substrate supply operation is performed to supply unused dummy substrates DW to be replaced with the used dummy substrates DW.
  • the operation of supplying dummy substrates is indicated by hatched blocks.
  • the host computer 150 plans and executes the supply of unused dummy substrates DW to the substrate processing apparatus 1 .
  • the host computer 150 creates a plan for transporting the supply dummy carrier DC containing the unused dummy substrates DW from the dummy carrier storage place 351 to the carrier holding section 25 of the substrate processing apparatus 1, and
  • the carrier transport mechanism 300 is instructed to transport the supply dummy carrier DC.
  • the carrier transport mechanism 300 takes out the supply dummy carrier DC from the dummy carrier storage place 351, transports it to the substrate processing apparatus 1, and carries it into one carrier holding part LP2 of the plurality of carrier holding parts 25.
  • the host computer 150 commands the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 to supply and transport the dummy substrate DW at time t6.
  • FIG. 11 shows an example in which the recovery dummy carrier DC and the supply dummy carrier DC are held by different carrier holding portions LP1 and LP2. may be carried in, the supply dummy carrier DC may be carried into the carrier holding portion LP1 from which the recovery dummy carrier DC was carried out.
  • the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 that has received the supply/conveyance command of the dummy substrates DW creates a supply/conveyance schedule for conveying the unused dummy substrates DW from the supply dummy carrier DC to the dummy substrate accommodation units 7L and 7U, and supplies the dummy substrates DW.
  • the indexer robot 26 and main transfer robots 8L and 8U are controlled according to the transfer schedule. Therefore, the indexer robot 26 takes out the unused dummy substrate DW from the supply dummy carrier DC and carries it into the substrate platforms 6L and 6U. After that, the main transport robots 8L, 8U transport the unused dummy substrates DW from the substrate placement units 6L, 6U to the dummy substrate accommodation units 7L, 7U.
  • the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 informs the host computer 150 that the supply dummy carrier DC is ready for unloading. to notify you.
  • host computer 150 instructs carrier transport mechanism 300 to transport the supply dummy carrier DC (time t8).
  • the carrier transport mechanism 300 unloads the supply dummy carrier DC from the carrier holding unit 25 of the substrate processing apparatus 1 and transports it to the dummy carrier storage place 351 .
  • communication between the controller 110 of the substrate processing apparatus 1 and the host computer 150 allows the recovery dummy carrier DC and the supply dummy carrier DC to be transferred to the carrier holding section 25 of the substrate processing apparatus 1 by the carrier transport mechanism 300. are carried in and out in a timely manner. As a result, replacement of the dummy substrate DW can be performed automatically and without delay.
  • the carrier holding portion 25 can be used for holding the carrier C containing the product substrate W for a long time. Thereby, productivity can be improved.
  • the dummy substrates DW may be replaced one by one, or a plurality of dummy substrates DW may be replaced at once. In that case, a plurality of used dummy substrates DW are carried into one recovery dummy carrier DC. Also, the supply dummy carrier DC accommodating a plurality of unused dummy substrates DW is carried into the carrier holding portion 25, and the plurality of dummy substrates DW are introduced from the supply dummy carrier DC into the dummy substrate accommodation portions 7L and 7U. be done.
  • the processing block 3 laterally adjacent to the indexer block 2 is configured by stacking a plurality of processing block layers BL and BU in the vertical direction Z.
  • Dummy substrate housing portions 7L and 7U for housing dummy substrates DW are provided in the respective processing block layers BL and BU. Since the dummy substrates DW can be accommodated inside the processing block layers BL, BU, when it becomes necessary to use the dummy substrates DW in the processing units 11L-43U, the dummy substrate accommodation units 7L, 7U can be stored without the involvement of the indexer robot 26. and the processing unit 11L-43U.
  • the transport load of the indexer robot 26 can be reduced, processing using the dummy substrates DW can be performed while reducing the influence on the transport of the product substrates W.
  • the transport load of the indexer robot 26 that transports the substrate W between the plurality of processing block layers BL, BU each having the plurality of processing units 11L-43L, 11U-43U and the carrier holder 25 is extremely large. Therefore, by reducing the transport load of the indexer robot 26, the transport efficiency of the product substrates W is improved, and the productivity can be improved accordingly.
  • the main transport robots 8L and 8U of the processing block layers BL and BU are in charge of transporting the substrates W within the processing block layers BL and BU, so the transport load is smaller than that of the indexer robot 26. Therefore, the fact that the main transport robots 8L and 8U are in charge of transporting the dummy substrates DW inside the processing block layers BL and BU is not a big problem from the viewpoint of production efficiency.
  • the transfer of the dummy substrate DW between the dummy substrate storage units 7L and 7U and the processing units 11L-43U is performed by the indexer robot 26 and the processing unit 11L-43U. This can be done without going through the substrate mounting parts 6L, 6U for transferring the substrate to and from the block layers BL, BU. Therefore, interference between the transportation of the dummy substrates DW and the transportation of the product substrates W can be reduced, so that the transportation efficiency of the product substrates W is improved, and accordingly the productivity can be improved.
  • the carrier holding portion 25 is not occupied for a long time by the dummy carrier DC that accommodates the dummy substrate DW. As a result, it is possible to suppress the waiting time for carrying in the carrier C containing the substrates W for products, so that it is possible to contribute to the improvement of productivity.
  • the plurality of processing units 11L-43L and 11U-43U are arranged along the transport paths 51L and 51U along which the substrates W are transported by the main transport robots 8L and 8U. , are arranged on both sides of the transport paths 51L and 51U, and are stacked in the vertical direction Z and arranged. Therefore, the arrangement of the plurality of processing units 11L-43U in the processing block layers BL, BU is designed so that the main transfer robots 8L, 8U can efficiently transfer substrates. Thereby, it can contribute to improvement in productivity.
  • the substrate placement units 6L, 6U and the dummy substrate storage units 7L, 7U are both arranged between the indexer robot 26 and the main transfer robots 8L, 8U.
  • substrates W can be efficiently transferred between the indexer robot 26 and the main transfer robots 8L, 8U via the substrate platforms 6L, 6U.
  • the dummy substrate storage units 7L and 7U can be arranged at positions that do not interfere with the transport of the substrates W by the indexer robot 26 and the transport of the substrates W by the main transport robots 8L and 8U. Therefore, the dummy substrates DW can be held in the processing block layers BL and BU without affecting the transportation of the substrates W for products.
  • the dummy substrate housing portions 7L, 7U and the substrate placement portions 6L, 6U are arranged three-dimensionally with mutually different heights.
  • the spaces in the processing block layers BL, BU can be effectively used, and the dummy substrate housing portions 7L, 7U can be appropriately arranged in the processing block layers BL, BU.
  • the arrangement of the dummy substrate housing portions 7L and 7U that does not hinder the transportation of the product substrate W is realized.
  • the dummy substrate housing portions 7L and 7U are arranged so as to overlap the substrate mounting portions 6L and 6U in plan view.
  • the dummy substrate housing portions 7L and 7U are arranged using the space above or below the substrate mounting portions 6L and 6U.
  • the dummy substrate housing portions 7L and 7U are arranged so as not to hinder the transportation of the product substrate W, and the spaces in the processing block layers BL and BU are effectively used to effectively store the dummy substrate housing portions 7L and 7U. 7U has been placed.
  • the arrangement in which the dummy substrate housing portions 7L and 7U overlap the substrate mounting portions 6L and 6U in a plan view is, specifically, part or The arrangement may be such that all of them overlap the substrates W held on the substrate rests 6L and 6U.
  • the second processing block layer BU (upper processing block layer) is laminated on the first processing block layer BL (lower processing block layer).
  • the dummy substrate housing portion 7L is positioned below the substrate mounting portion 6L.
  • the dummy substrate housing portion 7U is positioned below the substrate mounting portion 6U.
  • the dummy substrate housing portions 7L, 7U of each of the processing block layers BL, BU have the same number of processing units 11L to 43L, 11U to 43U included in the processing block layers BL, BU. It includes dummy board slots DL1-DL12, DU1-DU12. Each dummy substrate slot DL1-DL12, DU1-DU12 is configured to hold one dummy substrate DW. As a result, the same number of dummy substrates DW as the processing units 11L to 43L and 11U to 43U can be held in each of the processing block layers BL and BU.
  • the main transfer robots 8L and 8U quickly load the dummy substrate DW into the processing unit and can be processed. Since the indexer robot 26 is not involved in the loading of the dummy substrates DW, it is possible to suppress or prevent the transportation of the product substrates W from being affected.
  • the plurality of processing units 11L-43L, 11U-43U of each processing block layer BL, BU and the plurality of dummy substrate slots DL1-DL12, DU1-DU12 of the processing block layer are one-to-one. is mapped to Then, the main transfer robots 8L, 8U transfer the dummy substrates DW between the corresponding dummy substrate slots DL1-DL12, DU1-DU12 and the processing units 11L-43L, 11U-43U.
  • the dummy substrate DW held in the dummy substrate slot can be a dedicated dummy substrate for the corresponding processing unit. This facilitates management of the usage history of the dummy substrate DW.
  • the controller 110 controls the main transfer robots 8L and 8U when dummy processing conditions (unit cleaning execution conditions, pretreatment execution conditions, maintenance execution conditions) are satisfied, and The dummy substrates DW are transported from 7L, 7U to the processing units 11L-43L, 11U-43U, and dummy processing is executed in the processing units.
  • dummy processing can be started by transporting the dummy substrate DW within the processing block layers BL and BU, so that the dummy processing can be started quickly while suppressing or preventing the influence on the transportation of the product substrate W. .
  • the controller 110 controls each part of the substrate processing apparatus 1 to perform the following steps. That is, in each of the processing block layers BL and BU, the main transfer robots 8L and 8U transfer the dummy substrates DW accommodated in the dummy substrate accommodation units 7L and 7U in the processing block layer to a plurality of processing units in the processing block layer.
  • a dummy substrate carrying-in process (steps A31, A71, A161) is carried out to carry in one of 11L-43L and 11U-43U.
  • the dummy processing steps steps A32, A72, A162 are performed in the processing unit to perform dummy processing using the loaded dummy substrate DW.
  • the main transfer robots 8L, 8U take out the dummy substrates DW from the processing units and carry them to the dummy substrate storage units 7L, 7U (steps A33, A73, A163).
  • the wafers W placed on the substrate platforms 6L, 6U of the processing block layers BL, BU are carried into any of the plurality of processing units 11L-43L, 11U-43U of the processing block layers BL, BU.
  • a process is performed (step A121).
  • a step of processing the loaded substrate W in the processing unit is executed (step A122).
  • the processing using the dummy substrate DW can be performed in the processing units 11L-43L and 11U-43U of the processing block layers BL and BU while reducing the transport load of the indexer robot 26.
  • FIG. Thereby, production efficiency can be improved.
  • a substrate carrying-in step In parallel with step A20), or prior to the substrate loading step (step A20), the aforementioned dummy substrate loading step (step A71) may be performed.
  • the indexer robot 26 carries the product substrates W into the processing block layers BL and BU, while the dummy substrates DW are carried into the processing units 11L-43L and 11U-43U in the respective processing block layers BL and BU. be able to. Since the indexer robot 26 does not have to be involved in the loading of the dummy substrate DW, it is possible to perform the processing within the processing block layers BL and BU without waiting for the transport of the substrate W by the indexer robot 26 or in parallel with the transport of the substrate. Transfer of the dummy substrate DW can be performed. Therefore, the transport load of the indexer robot 26 can be reduced, and the dummy substrate DW can be quickly transported to the processing units in the processing block layers BL and BU.
  • the above-described dummy processing step (step A72) may be performed.
  • the transport load of the indexer robot 26 can be reduced, and dummy processing can be started quickly in the processing block layers BL and BU.
  • the transfer of the dummy substrate DW and subsequent dummy processing can be started at an appropriate time.
  • the environment in the processing units 11L-43L and 11U-43U can be adjusted at an appropriate time, so that when the carrier C housing the product substrate W is carried into the carrier holding section 25, the Processing of the substrate W can begin. This can contribute to improvement in productivity.
  • usage history information (dummy board history data 134) of the dummy board DW accommodated in the dummy board accommodation units 7L and 7U is stored in the memory 112 of the controller 110, and based on this, the dummy board replacement request is issued. is sent to the host computer 150 (notification of expiration date information). Further, a recovery transfer schedule for transferring and recovering the dummy substrate DW to be replaced from the dummy substrate accommodation units 7L and 7U to the carrier holding unit 25 is created. By controlling the main transfer robots 8L and 8U and the indexer robot 26 based on this collection transfer schedule, the dummy substrate DW to be replaced is transferred from the dummy substrate accommodation units 7L and 7U to the carrier holding unit 25 for collection. Collected in the dummy carrier DC. In this way, when the dummy substrate DW reaches the expiration date, the dummy substrate DW can be automatically ejected.
  • the dummy board replacement request is an example of notification of expiration date information, and this dummy board replacement request indicates that the dummy board DW has become unusable or is expected to become unusable soon. This is to inform you that
  • the dummy substrate replacement request is a dummy substrate recovery request that requests recovery of the used dummy substrate DW. More precisely, the dummy substrate replacement request is a dummy substrate recovery reservation that specifies the recovery time of the used dummy substrate DW, since it requests recovery of the used dummy substrate DW after completion of the last dummy processing. can also Further, in this embodiment, the dummy substrate replacement request is also a dummy substrate supply request for requesting supply of unused dummy substrates DW.
  • the dummy substrate replacement request requests the supply of unused dummy substrates DW to replace the used dummy substrates DW after completion of the last dummy processing. It can also be said that this is a dummy substrate supply reservation that designates the DW supply timing.
  • the threshold data 136 can also be set so that the dummy substrate DW reaches the usage limit by performing the dummy processing a predetermined number of times, which is two or more, instead of judging the expiration date by the remaining dummy processing.
  • the host computer 150 can be requested (reserved) to replace the dummy substrate DW with a margin, so that the used dummy substrate DW recovery plan and the unused dummy substrate DW supply plan can be executed appropriately. can be collected and supplied in a timely manner.
  • the plurality of dummy substrates DW and the plurality of processing units are associated one-to-one. Accordingly, since the dummy substrate DW is not shared by a plurality of processing units, it is possible to prevent the plurality of processing units from influencing each other through the dummy substrate DW. For example, even if the processing environment in one processing unit is contaminated, the contamination can be prevented from being brought into other processing units via the dummy substrate DW.
  • the host computer 150 which has received a dummy substrate replacement request from the substrate processing apparatus 1, plans the operation of the carrier transport mechanism 300 and controls the carrier transport mechanism 300 according to the plan, thereby enabling the use of the substrate.
  • a recovery dummy carrier DC for recovering the completed dummy substrates DW is carried into the carrier holding section 25 of the substrate processing apparatus 1 . Therefore, the recovery dummy carrier DC can be supplied to the substrate processing apparatus 1 at an appropriate time based on a dummy substrate replacement request (notification of expiration date information) from the substrate processing apparatus 1 to the host computer 150 . That is, since the recovery dummy carrier DC is supplied automatically and timely, the downtime of the substrate processing apparatus 1 can be shortened, and the productivity thereof can be improved.
  • the substrate processing apparatus 1 since the host computer 150 instructs the substrate processing apparatus 1 to collect and transport the dummy substrates DW, the substrate processing apparatus 1 timely collects and transports the dummy substrates DW. It is possible to plan and execute the transportation from the substrate storage units 7L and 7U to the recovery dummy carrier DC. In other words, the loading of the recovery dummy carrier DC and the start of recovery transport of the dummy substrates DW within the substrate processing apparatus 1 can be matched. Furthermore, the substrate processing apparatus 1 notifies the host computer 150 of the completion of recovery of the dummy substrates DW to the recovery dummy carrier DC, and in response, the host computer 150 causes the carrier transport mechanism 300 to carry out the recovery dummy carrier DC.
  • the recovery dummy carrier DC is automatically unloaded from the carrier holding section 25 of the substrate processing apparatus 1 in a timely manner.
  • the recovery dummy carrier DC can be unloaded from the carrier holding portion 25 at a timing that matches the completion of loading of the dummy substrate DW into the recovery dummy carrier DC.
  • the time for which the recovery dummy carrier DC occupies the carrier holding portion 25 can be shortened, so that the carrier holding portion 25 can be quickly vacated for the carrier C containing the product substrate W.
  • the unprocessed product substrates W can be efficiently put into the substrate processing apparatus 1, and the processed product substrates W can be efficiently recovered, thereby improving productivity.
  • matching of timing does not necessarily mean coincidence in time, but means that the corresponding event occurs within a predetermined time allowed from the viewpoint of productivity.
  • the predetermined time in this case is, for example, about one minute. The same applies to the following description.
  • the host computer 150 prepares a plan for transferring the supply dummy carrier DC containing the usable dummy substrates DW to the carrier holding unit 25 of the substrate processing apparatus 1 by the carrier transfer mechanism 300, and carries out the carrier transfer according to the plan. It controls the operation of the transport mechanism 300 .
  • the supply dummy carrier DC is automatically and timely supplied to the substrate processing apparatus 1 .
  • a supply transfer schedule is created for transferring the dummy substrates DW from the supply dummy carrier DC to the dummy substrate storage units 7L and 7U, and the dummy substrates DW are transferred according to the supply transfer schedule.
  • the dummy substrates DW can be automatically and timely supplied to the substrate processing apparatus 1, so that downtime of the substrate processing apparatus 1 due to shortage of usable dummy substrates DW can be shortened. Thereby, it can contribute to the improvement of productivity.
  • the substrate processing apparatus 1 since the host computer 150 instructs the substrate processing apparatus 1 to supply and transport the dummy substrates DW, the substrate processing apparatus 1 supplies and transports the dummy substrates DW in a timely manner. Transfer from the supply dummy carrier DC to the dummy substrate housing portions 7L and 7U can be planned and executed. Therefore, the supply and transfer of the dummy substrates DW within the substrate processing apparatus 1 can be started in synchronization with the loading of the supply dummy carrier DC. Further, the substrate processing apparatus 1 notifies the host computer 150 of the completion of unloading of the dummy substrates DW from the supply dummy carrier DC.
  • the carrier transport mechanism 300 is operated according to .
  • the supply dummy carrier DC can be unloaded from the carrier holding portion 25 at a timing that matches the completion of unloading of the dummy substrate DW from the supply dummy carrier DC.
  • the supply dummy carrier DC can be unloaded from the carrier holding section 25 of the substrate processing apparatus 1 automatically and timely.
  • the time for which the dummy carrier DC for supply occupies the carrier holding portion 25 can be shortened, and the carrier holding portion 25 can be quickly vacated to hold the carrier C containing the product substrate W.
  • the unprocessed product substrates W can be efficiently put into the substrate processing apparatus 1, and the processed product substrates W can be efficiently recovered, thereby improving productivity.
  • FIG. 12 is a schematic longitudinal sectional view for explaining the configuration of the substrate processing apparatus according to the second embodiment of the present invention, showing the configuration in a longitudinal section corresponding to the longitudinal section of FIG.
  • the intermediate partition wall 16 separating the first processing block layer BL and the second processing block layer BU is removed.
  • the pillars 83 that guide the vertical movement of the main transfer robots 8L and 8U extend vertically over the first processing block layer BL and the second processing block layer BU.
  • the main transport robots 8L and 8U are configured to be able to move up and down with a larger stroke than in the case of the first embodiment.
  • the controller 110 controls the operations of the main transfer robots 8L and 8U so that they do not interfere with each other.
  • the two substrate mounting portions 6U and 6L in the first embodiment are replaced with one substrate mounting portion 6.
  • the substrate platform 6 is shared by the first processing block layer BL and the second processing block layer BU. That is, the main transfer robot 8L of the first processing block layer BL can access the substrate platform 6, and the product substrates are transferred between the substrate platform 6 and the processing units 11L-43L of the first processing block layer BL. Carry W. Further, the main transport robot 8L transports the dummy substrate DW between the substrate placement section 6, the processing units 11L-43L, and the dummy substrate storage section 7L.
  • the main transfer robot 8U of the second processing block layer BU can access the substrate platform 6 and transfer products between the substrate platform 6 and the processing units 11U-43U of the second processing block layer BU.
  • a substrate W is transported.
  • the main transport robot 8U transports the dummy substrate DW between the substrate platform 6, the processing units 11U to 43U, and the dummy substrate housing portion 7U.
  • the substrate platform 6 includes an unprocessed substrate platform 61 and a processed substrate platform 62 .
  • the substrate placement part 6 is shared by the first and second processing block layers BL and BU, the unprocessed substrate placement part 61 and the processed substrate placement part 62 are the same as those in the first embodiment.
  • the substrate holding shelves 65 and 66 provided on the substrate platform 6 may be arranged such that at least one (that is, some or all) of the slots can be accessed by both of the main transfer robots 8L and 8U. . More specifically, substrate holding shelf 65 (see FIG.
  • unprocessed substrate platform 61 has at least one (that is, some or all) slots accessible by both main transfer robots 8L and 8U. It may be arranged as Similarly, the substrate holding shelf 66 (see FIG. 5) of the processed substrate platform 62 is arranged such that at least one (that is, some or all) slots are accessible by both main transfer robots 8L and 8U. It may be said that
  • the substrate placement section 6 is preferably arranged so that it can be accessed by the indexer robot 26 . More specifically, the indexer robot 26 can access all the slots of the substrate holding shelves 65 and 66 of the substrate platform 6 so that the product substrates W or the dummy substrates DW can be loaded into and unloaded from them. preferably configured.
  • FIG. 13 is a vertical cross-sectional view for explaining the configuration of a substrate processing apparatus according to the third embodiment of the present invention, showing the configuration in a vertical cross section corresponding to the vertical cross section of FIG.
  • adjacent partition walls 2a and 3a of the indexer block 2 and the processing block 3 are provided with windows 4L and 4U corresponding to the substrate mounting portions 6L and 6U, respectively. Corresponding windows are not formed.
  • windows 5L and 5U corresponding to the dummy substrate housing portions 7L and 7U are added to the partition walls 2a and 3a.
  • the indexer robot 26 can directly access the dummy substrate housing portions 7L and 7U to retrieve the dummy substrate DW. can be brought in. Furthermore, when the used dummy substrates DW are unloaded from the processing block layers BL, BU, the indexer robot 26 can directly access the dummy substrate storage units 7L, 7U to unload the dummy substrates. Neither of the main transfer robots 8L, 8U need to be involved in loading/unloading the dummy substrate DW. Therefore, it is possible to reduce the transport load of the main transport robots 8L and 8U and improve productivity.
  • FIG. 14 is an illustrative plan view showing the internal configuration of a substrate processing apparatus according to the fourth embodiment of the invention.
  • the plurality of processing units 11L-43U are divided into a first processing unit group provided in the lower processing block layer BL and a second processing unit group provided in the upper processing block layer BU. with a horizontal intermediate partition 16 between them.
  • the middle partition 16 that vertically partitions the space within the processing block 3 is not provided, and instead a central partition 18 that horizontally partitions the space within the processing block 3 is provided.
  • the central partition wall 18 divides the space inside the processing block 3 into left and right when viewed from the carrier holding portion 25 side in the first horizontal direction X from the front.
  • the center partition 18 is a plate-like partition extending along the first horizontal direction X and the vertical direction Z near the center of the processing block 3 in the second horizontal direction Y (horizontal direction).
  • the central partition wall 18 forms a first processing block portion B1 arranged on one side and a second processing block portion B2 arranged on the other side. That is, the first processing block portion B1 and the second processing block portion B2 are arranged laterally of each other.
  • the plurality of processing units 11L-43U provided in the processing block 3 are divided into a first processing unit group G1 included in the first processing block portion B1 and a second processing unit group G2 included in the second processing block portion B2. are divided. Since the arrangement of the plurality of processing units 11L-43U is similar to that of the first embodiment, in FIG. 14 the plurality of processing units 11L-43U are given the same reference numerals as in FIG.
  • the first processing unit group G1 is composed of a plurality of processing units 11L, 12L, 13L, 11U, 12U, 13U; ing.
  • the second processing unit group G2 is composed of a plurality of processing units 31L, 32L, 33L, 31U, 32U, 33U; ing.
  • a first main transfer robot 8A is provided on one side of the central partition wall 18 corresponding to the first processing unit group G1.
  • the first main transfer robot 8A operates within the first transfer space 53A partitioned between the central partition 18 and the first processing unit group G1, thereby transferring the product substrates W and the dummy substrates DW to the first transfer space. It is transported through space 53A.
  • a second main transfer robot 8B is provided on the other side of the central partition wall 18 corresponding to the second processing unit group G2.
  • the second main transfer robot 8B operates within the second transfer space 53B partitioned between the central partition wall 18 and the second processing unit group G2, thereby transferring the product substrates W and the dummy substrates DW to the second transfer space. Transported through space 53B.
  • the configurations of the first main transfer robot 8A and the second main transfer robot 8B are substantially the same as those of the second embodiment shown in FIG. . However, in this embodiment, the struts 83 that guide vertical movement are fixed to the central partition wall 18
  • a first substrate platform 6A is provided at the end adjacent to the indexer block 2 of the first transfer space 53A corresponding to the first processing unit group G1. Further, the first dummy substrate accommodation portion 7A is arranged above and/or below the first substrate placement portion 6A so as to partially or wholly overlap with the first substrate placement portion 6A in plan view.
  • a second substrate platform 6B is provided at the end adjacent to the indexer block 2 of the second transfer space 53B corresponding to the second processing unit group G2. Further, the second dummy substrate accommodation portion 7B is arranged above and/or below the second substrate placement portion 6B so as to partially or wholly overlap the second substrate placement portion 6B in plan view.
  • the first main transfer robot 8A can access the plurality of processing units that constitute the first processing unit group G1, the first substrate placement section 6A and the first dummy substrate storage section 7A. Thereby, the first main transport robot 8A transports the product substrate W between the plurality of processing units forming the first processing unit group G1 and the first substrate platform 6A. The first main transport robot 8A also transports the dummy substrates DW among the plurality of processing units, the first substrate platform 6A, and the first dummy substrate accommodation portion 7A that make up the first processing unit group G1. In this embodiment, the first main transfer robot 8A cannot access any of the second processing unit group G2, the second substrate platform 6B and the second dummy substrate storage 7B.
  • the second main transfer robot 8B can access the plurality of processing units, the second substrate placement section 6B and the second dummy substrate storage section 7B that make up the second processing unit group G2.
  • the second main transport robot 8B transports the product substrate W between the plurality of processing units forming the second processing unit group G2 and the second substrate platform 6B.
  • the second main transport robot 8B transports the dummy substrates DW among the plurality of processing units, the second substrate placement section 6B and the second dummy substrate storage section 7B that constitute the second processing unit group G2.
  • the second main transfer robot 8B cannot access any of the first processing unit group G1, the first substrate platform 6A and the first dummy substrate storage 7A.
  • the indexer robot 26 can access the carriers C, DC, the first substrate platform 6A and the second substrate platform 6B held by the carrier holding part 25, and the product substrate W and the dummy substrate DW therebetween. to convey.
  • the indexer robot 26 cannot access either the first dummy substrate accommodation portion 7A or the second dummy substrate accommodation portion 7B in this embodiment.
  • the indexer robot 26 cannot access the first processing unit group G1 and the second processing unit group G2.
  • the fourth embodiment is modified according to the second embodiment (see FIG. 12), and the indexer robot 26, the first A substrate platform that can be accessed in common by the main transfer robot 8A and the second main transfer robot 8B may be provided.
  • a notch may be provided at the end of the central partition wall 18 on the indexer block 2 side to dispose a substrate platform shared by the first processing unit group G1 and the second processing unit group G2.
  • the fourth embodiment is modified according to the above-described third embodiment (see FIG. 13) so that the indexer robot 26 can access the first dummy substrate housing portion 7A and the second dummy substrate housing portion 7B.
  • the indexer robot 26 can load/unload the dummy substrates DW into/from the first dummy substrate storage portion 7A and the second dummy substrate storage portion 7B without involvement of the first main transfer robot 8A and the second main transfer robot 8B. can do
  • the present invention can also be implemented in other forms.
  • the configuration of the processing block 3 is configured by stacking two processing block layers BL and BU. Blocks may be constructed.
  • the processing block layers BL and BU are stacked in three stages is shown.
  • the processing units 11L to 43U are arranged on both sides of the transport paths 51L and 51U is shown, but the processing units are arranged on one side of the transport paths 51L and 51U.
  • two processing units are arranged along the transport paths 51L and 51U on one side of the transport paths 51L and 51U, but one processing unit is arranged. may be arranged, and three or more processing units may be arranged.
  • the dummy substrate slots DL1 to DL12 and DU1 which are the same in number as the processing units 11L to 43L and 11U to 43U, are provided in the dummy substrate housing portions 7L and 7U of the respective processing block layers BL and BU.
  • -DU 12 are provided and correspond one-to-one to the processing units 11L-43L and 11U-43U.
  • the number of dummy substrate slots in each processing block layer BL, BU may be made smaller than the number of processing units so that one dummy substrate slot may be associated with a plurality of processing units.
  • a substrate processing apparatus having a configuration in which a plurality of processing units are divided into a plurality of processing unit groups was shown.
  • the present invention can also be applied to a substrate processing apparatus configured to transport dummy substrates DW.
  • the number of processing units may be one.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

基板処理装置は、キャリヤを保持するキャリヤ保持部と、基板を処理し、かつダミー基板を用いる処理を実行する処理ユニットと、ダミー基板収容部と、基板載置部と、処理ユニットおよび基板載置部の間で基板を搬送し、処理ユニット、ダミー基板収容部および基板載置部の間でダミー基板を搬送する第1搬送ユニットと、キャリヤ保持部および基板載置部の間で基板を搬送する第2搬送ユニットと、ダミー基板の使用履歴情報を記憶する記憶部と、使用履歴情報に基づいてダミー基板の使用期限情報を通知する使用期限通知部と、使用期限情報が通知されたダミー基板を回収するための搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部と、搬送スケジュールに従って、第1搬送ユニットおよび第2搬送ユニットによる基板またはダミー基板の搬送を制御する搬送制御部と、を含む。

Description

基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 関連出願
 この出願は、2021年3月23日提出の日本国特許出願2021-049169号に基づく優先権を主張しており、この出願の全内容はここに引用により組み込まれるものとする。
 この発明は、基板を処理する装置、システムならびに方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置および有機EL(Electroluminescence)表示装置等のFPD(Flat Panel Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等が含まれる。
 半導体装置の製造工程においては、半導体ウエハのような基板を処理する基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置の一例は、特許文献1に開示されている。この基板処理装置は、基板を収容するキャリヤを保持するキャリヤ保持部と、基板を処理する複数の処理ユニットと、キャリヤと処理ユニットとの間で基板を搬送する搬送ユニットと、制御ユニットとを含む。処理ユニットの不使用継続時間が所定時間に達すると、制御装置は、ホスト装置に対して、ダミー基板を保持したダミーキャリヤの搬入を要求する。ダミーキャリヤがキャリヤ保持部に搬入されると、搬送ユニットは、ダミーキャリヤから処理ユニットへとダミー基板を搬送する。そのダミー基板を用いて処理ユニットの洗浄が行われる。
 搬送ユニットは、インデクサロボットと、主搬送ロボットとを含み、これらの間に受け渡しユニットが配置されている。インデクサロボットは、キャリヤと受け渡しユニットとの間で基板を搬送する。主搬送ロボットは、受け渡しユニットと処理ユニットとの間で基板を搬送する。
 ダミーキャリヤがキャリヤ保持部に置かれると、インデクサロボットはダミーキャリヤからダミー基板を取り出して受け渡しユニットまで搬送する。そのダミー基板は、主搬送ロボットによって、受け渡しユニットから処理ユニットへと搬送される。ダミー基板を用いたユニット洗浄処理が終了すると、主搬送ロボットは、ダミー基板を処理ユニットから取り出して受け渡しユニットへと搬送する。そのダミー基板は、インデクサロボットによって、受け渡しユニットからダミーキャリヤへと搬送される。全てのダミー基板がダミーキャリヤに収容されると、ダミーキャリヤがキャリヤ保持部から搬出される。
特開2017-41506号公報
 このように、ダミー基板が基板処理装置の外部から導入され、製品基板と同じ経路を通って処理ユニットに搬送され、かつ処理ユニットから搬出されてダミーキャリヤに収容される。したがって、ダミー基板の搬送のためにインデクサロボットおよび主搬送ロボットの両方が用いられ、かつ受け渡しユニットを通ってダミー基板が搬送される。それにより、製品基板の搬送と干渉し、製品基板の搬送効率が悪くなり、結果として、生産性の向上が妨げられる。
 とりわけ、処理ユニットの数を増やして多数枚の製品基板を並行処理するように構成された基板処理装置においては、インデクサロボットおよび主搬送ロボットの搬送負荷が大きく、その軽減が生産性向上の鍵を握る。
 また、ダミーキャリヤがキャリヤ保持部に搬入され、そこからダミー基板が処理ユニットへと搬送され、処理ユニットでの処理を終えて当該ダミー基板がキャリヤに収容されるまで、ダミーキャリヤがキャリヤ保持部を占有する。したがって、ダミーキャリヤによるキャリヤ保持部の占有が続くので、製品基板の搬入に待機時間が生じるおそれがある。したがって、この観点からも、生産性の向上が妨げられている。
 そこで、この発明の一実施形態は、製品用の基板の搬送への影響を軽減しながら、ダミー基板を用いた処理を処理ユニット内で行うことができる基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法を提供する。
 この発明の一実施形態は、基板またはダミー基板を収容するキャリヤを保持するキャリヤ保持部と、基板を処理し、かつダミー基板を用いる処理を実行する処理ユニットと、ダミー基板を収容するダミー基板収容部と、基板が載置される基板載置部と、前記処理ユニット、前記ダミー基板収容部および前記基板載置部にアクセス可能であり、前記処理ユニットおよび前記基板載置部の間で基板を搬送し、前記処理ユニット、前記ダミー基板収容部および前記基板載置部の間でダミー基板を搬送する第1搬送ユニットと、前記キャリヤ保持部および前記基板載置部にアクセス可能であり、前記キャリヤ保持部および前記基板載置部の間で基板を搬送する第2搬送ユニットと、前記ダミー基板収容部に収容されるダミー基板の使用履歴情報を記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶された使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板収容部に収容されたダミー基板の使用期限情報を通知する使用期限通知部と、前記第1搬送ユニットおよび前記第2搬送ユニットによる基板またはダミー基板の搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部であって、前記使用期限情報が通知されたダミー基板を前記ダミー基板収容部から前記キャリヤ保持部に搬送して回収するための搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部と、前記スケジュール作成部によって作成された搬送スケジュールに従って、前記第1搬送ユニットおよび前記第2搬送ユニットによる基板またはダミー基板の搬送を制御する搬送制御部と、を含む、基板処理装置を提供する。
 この構成によれば、基板処理装置内にダミー基板収容部を備えているので、処理ユニットにおいてダミー基板を使用する必要が生じたときには、第2搬送ユニットの関与なしに、ダミー基板収容部と処理ユニットとの間でダミー基板を搬送できる。したがって、第2搬送ユニットの搬送負荷を軽減できるので、製品用の基板の搬送への影響を軽減しながら、ダミー基板を用いる処理を行える。また、特許文献1の場合とは異なり、ダミー基板を収容するダミーキャリヤによってキャリヤ保持部が長時間に亘って占有されることもない。それにより、製品用の基板を収容したキャリヤの搬入に待機時間が生じることを抑制できるので、生産性の向上に寄与することができる。
 そして、この実施形態では、ダミー基板収容部に収容されたダミー基板の使用履歴情報が記憶部に記憶され、それに基づいて、ダミー基板の使用期限情報が通知される。さらに、その使用期限情報が通知されたダミー基板をダミー基板収容部からキャリヤ保持部に搬送して回収するための搬送スケジュール(回収搬送スケジュール)が作成される。この搬送スケジュールに基づいて第1搬送ユニットおよび第2搬送ユニットが制御されることにより、使用期限情報が通知されたダミー基板がダミー基板収容部からキャリヤ保持部へと搬送されて回収される。こうして、ダミー基板が使用期限を迎えると、当該ダミー基板を自動的に排出させることができる。
 使用期限情報の通知は、ダミー基板が使用できなくなったことを通知するものでもよく、ダミー基板が間もなく使用できなくなる見込みであることを通知するものもよい。使用期限情報の通知は、ダミー基板の交換を要求するダミー基板交換要求の形式をとってもよい。ダミー基板交換要求は、使用済みダミー基板の回収を要求するダミー基板回収要求を含んでいてもよい。ダミー基板回収要求は、使用済みダミー基板の回収時期を指定するダミー基板回収予約であってもよい。また、ダミー基板交換要求は、未使用のダミー基板の供給を要求するダミー基板供給要求を含んでいてもよい。ダミー基板供給要求は、未使用のダミー基板の供給時期を指定するダミー基板供給予約であってもよい。
 この発明の一実施形態では、前記記憶部は、ダミー基板の使用回数、使用時間、および消耗状態のうちの少なくとも一つの情報を前記使用履歴情報として記憶する。
 この発明の一実施形態では、前記記憶部は、前記使用履歴情報と、前記使用履歴情報に対応する使用期限閾値情報とを記憶する。
 この発明の一実施形態では、前記ダミー基板収容部は、複数枚のダミー基板を収容し、前記記憶部は各ダミー基板に対して前記使用履歴情報および前記使用期限閾値情報を記憶する。この構成により、複数のダミー基板のそれぞれに関して、使用期限の管理を行うことができる。
 この発明の一実施形態では、複数の前記処理ユニットが備えられており、前記複数枚のダミー基板と前記複数の処理ユニットとの対応関係が予め定められており、前記記憶部が前記対応関係を表す情報を記憶する。
 一つの具体例では、複数枚のダミー基板と複数の処理ユニットとが1対1に対応付けられている。それにより、ダミー基板が複数の処理ユニットによって共用されることがないので、ダミー基板を介して、複数の処理ユニットが互いに影響し合うことを回避できる。たとえば、一つの処理ユニット内の処理環境が汚染されたとしても、その汚染がダミー基板を介して他の処理ユニットに持ち込まれることを回避できる。
 この発明の一実施形態では、前記使用期限通知部は、前記使用履歴情報と前記使用期限閾値情報とを比較し、その比較の結果に基づいてダミー基板の使用期限情報を通知する。この構成により、使用履歴情報と使用期限閾値情報とを比較することによって、ダミー基板の使用期限情報を適切に通知することができる。
 この発明の一実施形態では、前記基板処理装置は、前記記憶部に記憶された使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板収容部に収容されたダミー基板の使用期限情報を使用者に報知する報知ユニットをさらに含む。この構成により、ダミー基板の使用期限情報を使用者に向けて適切に報知し、使用者の注意を喚起できる。
 この発明の一実施形態は、前述のような特徴を有する基板処理装置と、使用済みのダミー基板を収容するための回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入するキャリヤ搬送ユニットと、前記使用期限通知部から前記使用期限情報の通知を受けて、前記キャリヤ搬送ユニットによって回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入する回収用ダミーキャリヤ搬送を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットにより回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入させ、かつ前記基板処理装置に対して、ダミー基板の回収搬送を指令するホストコンピュータと、を含む、基板処理システムを提供する。
 この構成によれば、基板処理装置から使用期限情報がホストコンピュータに通知される。すると、ホストコンピュータは、キャリヤ搬送ユニットの動作を計画し、かつその計画に従ってキャリヤ搬送ユニットを制御することにより、使用済みダミー基板を回収するための回収用ダミーキャリヤを基板処理装置のキャリヤ保持部に搬入させる。したがって、基板処理装置からホストコンピュータへの使用期限情報の通知に基づいて、適切な時期に、回収用ダミーキャリヤを基板処理装置に供給できる。すなわち、回収用ダミーキャリヤの供給が自動的にかつ適時に行われるので、基板処理装置のダウンタイムを短縮でき、その生産性を向上することができる。
 また、ホストコンピュータは、基板処理装置に対して、ダミー基板の回収搬送を指令するので、基板処理装置は、適時にダミー基板の回収搬送、すなわち、使用済みダミー基板のダミー基板収容部から回収用ダミーキャリヤへの搬送を計画し、かつ実行できる。つまり、回収用ダミーキャリヤの搬入と、基板処理装置内でのダミー基板の回収搬送の開始とのタイミングを整合させることができる。これにより、回収用ダミーキャリヤがキャリヤ保持部を占有する時間を短縮できるので、製品基板を収容するキャリヤのためにキャリヤ保持部を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板を効率的に基板処理装置に投入でき、また、処理済み製品基板を効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 なお、この明細書中において、タイミングの「整合」は、必ずしも時間的な一致を意味するものではなく、生産性の観点から許容される所定時間内に、対応するイベントが生じることを意味する。
 この発明の一実施形態では、前記ホストコンピュータは、前記基板処理装置から、ダミー基板の前記回収用ダミーキャリヤへの回収に関する情報を得て、前記キャリヤ搬送ユニットによって、使用済みのダミー基板を収容した回収用ダミーキャリヤの前記キャリヤ保持部からの搬出を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部から搬出させる。
 この構成によれば、回収用ダミーキャリヤへのダミー基板の回収に関する情報が基板処理装置からホストコンピュータに与えられ、それに応じて、ホストコンピュータは、キャリヤ搬送ユニットによる回収用ダミーキャリヤの搬出を計画し、その計画に従ってキャリヤ搬送ユニットを制御する。したがって、回収用ダミーキャリヤが、自動的にかつ適時に、基板処理装置のキャリヤ保持部から搬出される。具体的には、回収用ダミーキャリヤへのダミー基板の搬入完了と整合するタイミングで、回収用ダミーキャリヤをキャリヤ保持部から搬出できる。それにより、ダミー基板を回収するための回収用ダミーキャリヤがキャリヤ保持部を占有する時間を短くでき、製品基板を収容するキャリヤのためにキャリヤ保持部を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板を効率的に基板処理装置に投入でき、また、処理済み製品基板を効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 この発明の一実施形態では、前記スケジュール作成部は、前記キャリヤ保持部から使用可能なダミー基板を前記ダミー基板収容部に搬送するための搬送スケジュールをさらに作成するものであり、前記キャリヤ搬送ユニットは、使用可能なダミー基板を収容した供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入するように動作するものであり、前記ホストコンピュータは、前記キャリヤ搬送ユニットによって供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入する供給用ダミーキャリヤ搬送を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットにより供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入させ、かつ前記基板処理装置に対して、使用可能なダミー基板の供給搬送を指令する。
 この構成によれば、ホストコンピュータは、キャリヤ搬送ユニットによって、使用可能なダミー基板を収容した供給用ダミーキャリヤを基板処理装置のキャリヤ保持部に搬送させる計画を作成し、かつその計画に従ってキャリヤ搬送ユニットの動作を制御する。これにより、供給用ダミーキャリヤが、自動的にかつ適時に基板処理装置に供給される。基板処理装置においては、供給用ダミーキャリヤからダミー基板収容部へとダミー基板を搬送する搬送スケジュール(供給搬送スケジュール)が作成され、その搬送スケジュールに従ってダミー基板が搬送される。具体的には、第1および/または第2搬送ユニットによって、供給用ダミーキャリヤからダミー基板収容部へと使用可能なダミー基板が搬送される。こうして、ダミー基板を自動的かつ適時に基板処理装置に供給できるので、たとえば、使用可能なダミー基板の不足に起因する基板処理装置のダウンタイムを短縮できる。それにより、生産性の向上に寄与できる。
 また、ホストコンピュータは、基板処理装置に対して、ダミー基板の供給搬送を指令するので、基板処理装置は、適時にダミー基板の供給搬送、すなわち、使用可能なダミー基板の供給用ダミーキャリヤからダミー基板収容部への搬送を計画し、かつ実行できる。したがって、供給用ダミーキャリヤの搬入とタイミングを整合させて、基板処理装置内でのダミー基板の供給搬送を開始することができる。これにより、供給用ダミーキャリヤがキャリヤ保持部を占有する時間を短縮できるので、製品基板を収容するキャリヤのためにキャリヤ保持部を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板を効率的に基板処理装置に投入でき、また、処理済み製品基板を効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 この発明の一実施形態では、前記ホストコンピュータは、前記基板処理装置から、前記供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出に関する情報を得て、前記キャリヤ搬送ユニットによって、供給用ダミーキャリヤの前記キャリヤ保持部からの搬出を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部から搬出させる。
 この構成によれば、供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出に関する情報が基板処理装置からホストコンピュータに与えられ、それに基づいて、ホストコンピュータは、供給用ダミーキャリヤの搬出を計画し、その計画に従ってキャリヤ搬送ユニットを作動させる。それにより、供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出完了と整合するタイミングで、供給用ダミーキャリヤをキャリヤ保持部から搬出できる。こうして、供給用ダミーキャリヤを自動的かつ適時に基板処理装置のキャリヤ保持部から搬出できる。したがって、ダミー基板を供給するための供給用ダミーキャリヤがキャリヤ保持部を占有する時間を短くでき、製品基板を収容するキャリヤの保持のために、キャリヤ保持部を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板を効率的に基板処理装置に投入でき、また、処理済み製品基板を効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 この発明の一実施形態では、前記キャリヤ搬送ユニットは、前記キャリヤ保持部と、当該キャリヤ保持部とは異なるダミーキャリヤ置き場との間で回収用ダミーキャリヤまたは供給用ダミーキャリヤを搬送する。
 この発明の一実施形態は、処理ユニットと基板載置部との間で、第1搬送ユニットによって基板を搬送する工程と、前記処理ユニットにおいて、前記第1搬送ユニットによって搬送された基板を処理する工程と、前記処理ユニットとダミー基板収容部との間で、前記第1搬送ユニットによってダミー基板を搬送する工程と、前記処理ユニットにおいて、前記第1搬送ユニットによって搬送されたダミー基板を用いたダミー処理を実行する工程と、キャリヤ保持部に保持されたキャリヤと前記基板載置部との間で、第2搬送ユニットによって基板を搬送する工程と、前記ダミー基板収容部に収容されるダミー基板の使用履歴情報を記録する工程と、前記使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板の使用期限を判断する工程と、前記使用期限の判断に基づいて、使用期限に達したダミー基板を前記ダミー基板収容部から前記キャリヤ保持部に搬送して回収するための回収搬送工程と、前記使用期限の判断に基づいて、使用済みのダミー基板を収容するための回収用ダミーキャリヤをキャリヤ搬送ユニットによって前記キャリヤ保持部に搬入する回収用ダミーキャリヤ搬入工程と、を含む、基板処理方法を提供する。
 この発明の一実施形態では、前記基板処理方法は、前記回収搬送工程における前記回収用ダミーキャリヤへのダミー基板の搬入完了と整合するタイミングで、前記キャリヤ搬送ユニットによって、前記キャリヤ保持部から前記回収用ダミーキャリヤを搬出する工程をさらに含む。
 この発明の一実施形態では、前記基板処理方法は、前記使用期限の判断に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって、使用可能なダミー基板を収容した供給用ダミー基板を前記キャリヤ保持部に搬入する供給用ダミーキャリヤ搬入工程と、前記使用期限の判断に基づいて、前記キャリヤ保持部から使用可能なダミー基板を前記ダミー基板収容部に搬送する供給搬送工程と、をさらに含む。
 この発明の一実施形態では、前記基板処理方法は、前記供給搬送工程における前記供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出完了と整合するタイミングで、前記キャリヤ搬送ユニットによって、前記キャリヤ保持部から前記供給用ダミーキャリヤを搬出する工程をさらに含む。
 この発明の一実施形態では、複数の前記処理ユニットが備えられ、前記ダミー基板収容部は、前記複数の処理ユニットとの対応関係が予め定められた複数枚のダミー基板を収容する。
 本発明における上述の、またはさらに他の目的、特徴および効果は、添付図面を参照して次に述べる実施形態の説明により明らかにされる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な平面図である。 図2は、図1のII-II線から見た図解的な縦断面図である。 図3は、図1のIII-III線から見た図解的な横断面図である。 図4は、図1のIV方向から見て処理ブロックの内部構成を示す図解的な立面図である。 図5は、基板載置部の構成例を説明するための図である。 図6は、ダミー基板収容部の構成例を説明するための図である。 図7は、処理ユニットの構成例を説明するための図解的な断面図である。 図8は、基板処理装置の制御に関する構成を説明するためのブロック図である。 図9は、ダミー処理に関連するコントローラの動作を説明するためのフローチャートである。 図10Aおよび図10Bは、基板処理装置内のダミー基板の交換に関する処理を説明するためのフローチャートである。 図11は、ダミー基板交換の具体的な動作の一例を説明するためのタイムチャートである。 図12は、この発明の他の実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な縦断面図である。 図13は、この発明のさらに他の実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な縦断面図である。 図14は、この発明のさらに他の実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な平面図である。
 図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な平面図である。図2は、図1のII-II線から見た図解的な縦断面図である。図3は、図1のIII-III線から見た図解的な横断面図である。図4は、図1のIV方向から見て一部の内部構成を示す図解的な立面図である。
 基板処理装置1は、インデクサブロック2と、インデクサブロック2の横方向(第1水平方向X)に隣接された処理ブロック3とを含む。
 インデクサブロック2は、複数(この実施形態では4個)のキャリヤ保持部25(ロードポート)と、インデクサロボット26とを含む。以下では、便宜的に、第1水平方向Xに関してキャリヤ保持部25の側を前方と定義し、その反対側を後方と定義して説明する場合がある。
 複数のキャリヤ保持部25は、第1水平方向Xに直交する第2水平方向Yに沿って配列されている。各キャリヤ保持部25は、工場内に備えられたキャリヤ搬送機構300(キャリヤ搬送ユニットの一例)によって自動搬送されるキャリヤCを受け容れて保持できるように構成されている。各キャリヤ保持部25は、一つのキャリヤCを保持できるように構成されている。キャリヤCは、処理対象の基板W(製品基板)を収容する基板収容器である。キャリヤCの一例は、FOUP(Front Opening Unified Pod)である。キャリヤCは、複数枚(たとえば25枚)の基板Wを積層状態で保持できるように構成されている。より具体的には、キャリヤCは、キャリヤ保持部25に保持されたときに、複数枚の基板Wを水平姿勢で上下方向Zに沿って積層状態で保持できるように構成されている。キャリヤ保持部25は、基板収容器であるキャリヤCを保持する収容器保持部の一例である。基板Wは、たとえば、半導体ウエハである。
 インデクサロボット26は、第2搬送ユニットの一例である。インデクサロボット26は、複数のキャリヤ保持部25にそれぞれ保持されるキャリヤCにアクセスして、基板Wを搬入/搬出し、キャリヤ保持部25と処理ブロック3との間で基板Wを搬送できるように構成されている。この実施形態では、インデクサロボット26は、多関節アーム27を備えた多関節アームロボットである。具体的には、インデクサロボット26は、複数のアーム28を連結した多関節アーム27と、多関節アーム27の先端に結合された一つ以上のハンド29と、多関節アーム27を支持して上下動する基台部30とを含む。多関節アーム27を構成する複数のアーム28およびハンド29は、各基端部に設定された垂直な揺動軸線まわりに揺動可能であり、図示は省略するが、各アーム28およびハンド29を揺動するための個別のアクチュエータ(典型的には電動モータ)が備えられている。
 処理ブロック3は、上下方向Zに積層された複数の処理ブロック層BL,BUを含む。この実施形態では、処理ブロック3は、第1層(下層)の処理ブロック層(以下「第1処理ブロック層BL」という。)と、その上方に積層された第2層(上層)の処理ブロック層(以下「第2処理ブロック層BU」という。)とを含む。以下では、第1処理ブロック層BLの構成要素と第2処理ブロック層BUとの構成要素を区別するときには、第1処理ブロック層BLの構成要素については英文字「L」を末尾に有する参照符号を用い、第2処理ブロック層BUの構成要素については英文字「U」末尾に有する参照符号を用いる。添付図面中の参照符号も同様である。
 第1処理ブロック層BLおよび第2処理ブロック層BUの平面視における内部構成は実質的に同じである。したがって、図1において、参照符号の末尾の英文字「U」を英文字「L」に置き換えて読むことにより、第1処理ブロック層BLの構成(平面視における配置)が表されることに留意されたい。
 第1処理ブロック層BLは、複数(この実施形態では、12個)の処理ユニット11L-13L,21L-23L,31L-33L,41L-43L(以下、第1処理ブロック層BLの処理ユニットを総称するときには「処理ユニット11L-43L」という。)を含み、これらは第1処理ユニット群を構成している。第1処理ブロック層BLは、さらに、基板載置部6Lと、ダミー基板収容部7Lと、主搬送ロボット8Lとを含む。複数の処理ユニット11L-43Lは、基板Wに対して処理を行う。この実施形態では、各処理ユニット11L-43Lは、基板Wを1枚ずつ処理する枚葉型処理ユニットである。基板載置部6Lは、インデクサロボット26と第1処理ブロック層BLとの間で受け渡しされる基板Wを一時保持するためのユニットである。ダミー基板収容部7Lは、処理ユニット11L-43Lにおいて使用可能なダミー基板DWを基板処理装置1の内部で保持しておくためのユニットであり、ダミー基板DWの待機場所を提供する。主搬送ロボット8Lは、基板載置部6L、処理ユニット11L-43Lおよびダミー基板収容部7Lにアクセス可能に構成されている。主搬送ロボット8Lは、基板載置部6Lと処理ユニット11L-43Lとの間で基板Wを搬送し、かつダミー基板収容部7Lと処理ユニット11L-43Lとの間でダミー基板DWを搬送する第1搬送ユニットの一例である。
 ダミー基板DWとは、基板Wと同様の形状(たとえば円形)および大きさを有する基板である。ダミー基板DWは、キャリヤCから供給される製品用の基板Wとは異なり、実際の製品の製造には利用されない。ダミー基板DWは、処理ユニット11L-43L内の環境を整える前処理(準備処理)、処理ユニット11L-43L内を洗浄するためのユニット洗浄処理などを実行するために、処理ユニット11L-43Lに導入されて用いられる。このようにダミー基板DWを用いる処理を、以下では「ダミー処理」という。前述の前処理およびユニット洗浄処理は、処理ユニット11L-43Lのメンテナンスのためのメンテナンス処理であり、ダミー処理はこのようなメンテナンス処理を含む。
 複数の処理ユニット11L-43Lは、主搬送ロボット8Lによって基板Wが搬送される搬送経路51Lを提供する搬送空間52Lに沿って、当該搬送空間52Lの両側に配列され、搬送空間52Lに臨んでいる。搬送空間52Lは、平面視において、第2水平方向Yに一定の幅を有し、第1水平方向Xに沿ってインデクサブロック2から離れる方向に直線的に延びている。搬送空間52Lは、上下方向Zに関して、第1処理ブロック層BLの高さとほぼ同等の高さを有している。平面視において、搬送空間52Lの一方側には、インデクサブロック2に近い側から順に、第1液供給部91、第1処理ユニットスタックS1L、第1排気部101、第2液供給部92、第2処理ユニットスタックS2Lおよび第2排気部102が、搬送経路51Lに沿って配列されている。搬送空間52Lの他方側には、インデクサブロック2に近い側から順に、第3排気部103、第3処理ユニットスタックS3L、第3液供給部93、第4排気部104、第4処理ユニットスタックS4Lおよび第4液供給部94が、搬送経路51Lに沿って配列されている。これらがほぼ直方体形状の搬送空間52Lを区画するように配列されている。
 第1~第4処理ユニットスタックS1L-S4Lは、それぞれ、上下方向Zに積層された複数段(この実施形態では3段)の処理ユニット11L-13L,21L-23L,31L-33L,41L-43Lを含む。第3処理ユニットスタックS3Lは、搬送空間52Lを挟んで第1処理ユニットスタックS1Lに対向している。第4処理ユニットスタックS4Lは、搬送空間52Lを挟んで第2処理ユニットスタックS2Lに対向している。したがって、第3処理ユニットスタックS3Lを構成する複数の処理ユニット31L-33Lは、第1処理ユニットスタックS1Lを構成する複数段の処理ユニット11L-13Lに搬送空間52Lを挟んで対向している。同様に、第4処理ユニットスタックS4Lを構成する複数段の処理ユニット41L-43Lは、第2処理ユニットスタックS2Lを構成する複数段の処理ユニット21L-23Lに搬送空間52Lを挟んで対向している。この実施形態では、第1処理ブロック層BLは、12個の処理ユニット11L-13L,21L-23L,31L-33L,41L-43Lを含み、これらが、4つの処理ユニットスタックS1L-S4Lに3個ずつ分かれて配置されている。
 搬送空間52Lは、各処理ユニットスタックS1L-S4Lの最上段の処理ユニット13L,23L,33L,43Lの上面と整合する位置に配置された中間隔壁16によって上方から区画され、かつ最下段の処理ユニット11L,21,31L,41Lの下面と整合する位置に配置された下隔壁15によって下方から区画されている。全ての処理ユニット11L-43Lは、搬送空間52Lに臨む位置に開口した基板搬入/搬出口37を有している。主搬送ロボット8Lは、搬送空間52Lを通って基板Wおよびダミー基板DWを搬送し、基板搬入/搬出口37を介して、各処理ユニット11L-43Lに対して基板Wおよびダミー基板DWを搬入/搬出する。
 基板載置部6Lは、インデクサロボット26と主搬送ロボット8Lとの間に配置されている。より具体的には、基板載置部6Lは、平面視において、搬送空間52L内のインデクサロボット26側の端部に配置されている。この実施形態では、第1液供給部91と第3排気部103との間に基板載置部6Lが位置している。基板載置部6Lは、上下方向Zに関して、中間隔壁16と下隔壁15との間の高さに配置されている。この実施形態では、基板載置部6Lは、中間隔壁16から上隔壁17までの高さ範囲の中間高さ付近に配置されている。基板載置部6Lの上下方向位置は、インデクサロボット26によるアクセスが可能な高さ範囲内であって、かつ主搬送ロボット8Lによってアクセス可能な高さ範囲内である必要がある。
 基板載置部6Lは、未処理の基板Wが載置される未処理基板載置部61と、処理済みの基板Wが載置される既処理基板載置部62とを含む。未処理基板載置部61および既処理基板載置部62は、上下方向Zに積層されている。未処理基板載置部61が既処理基板載置部62の上に配置されることが好ましい。
 図5に拡大して構成例を示すように、未処理基板載置部61および既処理基板載置部62は、第1水平方向Xに沿ってインデクサロボット26側および主搬送ロボット8L側の両方に開放した箱63,64と、箱63,64の内部に配置された基板保持棚65,66とを含む。基板保持棚65,66は、上下方向Zに配列された複数(たとえば10個)の基板支持部材67,68を有する。各基板支持部材67,68は、1枚の基板Wの下面周縁部を下方から支持して、当該基板Wを水平姿勢で保持するように構成されている。それにより、未処理基板載置部61および既処理基板載置部62は、それぞれ、それらの基板保持棚65,66に、複数枚(たとえば10枚)の基板Wを水平姿勢で上下方向Zに間隔を空けて積層した状態で保持することができる。
 図2に表れているように、インデクサブロック2の後隔壁2aおよび処理ブロック3の前隔壁3a、すなわち、それらの隣接する隔壁を貫通するように、基板載置部6Lに対応する窓4Lが形成されている。インデクサロボット26は、この窓4Lを介して、基板載置部6Lにアクセスして、基板載置部6Lに対して基板Wの搬入/搬出を行うことができる。
 ダミー基板収容部7Lは、基板載置部6Lとは異なる高さに設けられており、この実施形態では搬送空間52L内において、基板載置部6Lの下方に配置されている。ダミー基板収容部7Lは、平面視において、基板載置部6Lと重なり合うように設けられている。より具体的には、基板載置部6Lに基板Wが保持され、ダミー基板収容部7Lにダミー基板DWが保持されているとき、平面視において、基板Wとダミー基板DWとが重なり合うように、ダミー基板収容部7Lが配置されている。基板Wとダミー基板DWとの平面視における重なり合いは、部分的な重なり合いであってもよいし、全体的な重なり合い、すなわち、ダミー基板DWが基板Wのほぼ全体に重なっていてもよい。
 ダミー基板収容部7Lは、下隔壁15と中間隔壁16との間に配置されており、主搬送ロボット8Lがアクセス可能な高さ範囲内に配置されている。ダミー基板収容部7Lの前方、すなわち、インデクサブロック2側には、インデクサブロック2の後隔壁2aおよび処理ブロック3の前隔壁3a、すなわち、それらの隣接する隔壁が位置している。これらの隔壁には、ダミー基板収容部7Lに対応する窓は設けられていない。したがって、この実施形態では、インデクサロボット26は、ダミー基板収容部7Lに対してアクセスすることはできない。
 図6に拡大して構成例を示すように、ダミー基板収容部7Lは、ダミー基板保持棚71を備えている。ダミー基板保持棚71の構成は、基板載置部6Lの基板保持棚65,66の構成と実質的に同様であってもよい。ただし、ダミー基板保持棚71が保持可能なダミー基板DWの枚数は、基板保持棚65,66が保持可能な基板枚数と等しい必要はない。具体的には、ダミー基板保持棚71は、上下方向に配列された複数(たとえば12個)のダミー基板支持部材72を有する。各ダミー基板支持部材72は、1枚のダミー基板DWの下面周縁部を下方から支持して、当該ダミー基板DWを水平姿勢で保持するように構成されている。ダミー基板収容部7Lは、ダミー基板保持棚71に、複数枚(たとえば12枚)のダミー基板DWを水平姿勢で上下方向Zに間隔を空けて積層した状態で保持することができる。すなわち、ダミー基板収容部7Lは、各1枚のダミー基板DWを水平姿勢で収容するように上下方向に積層された複数段(この実施形態では、第1処理ブロック層BLに備えられた処理ユニットの数と同数)のスロット(以下「ダミー基板スロットDL1-DL12」という。)を有している。各ダミー基板スロットDL1-DL12におけるダミー基板DWの有無を検出するためのダミー基板センサ(図示せず)が備えられていてもよい。ダミー基板収容部7Lは、この実施形態では、基板載置部6Lとは異なり、収容しているダミー基板DWを囲う箱を備えていない。むろん、このような箱が備えられても差し支えない。
 図2に表れているように、主搬送ロボット8Lは、搬送空間52L内に配置されている。主搬送ロボット8Lは、1枚の基板を水平姿勢で保持するハンド81と、ハンド81を駆動するハンド駆動機構82とを含む。複数個(たとえば2個)のハンド81が備えられていてもよい。ハンド駆動機構82は、ハンド81を水平方向X,Yおよび上下方向Zに移動し、かつ鉛直回転軸線まわりにハンド81を旋回させることができる。ハンド駆動機構82は、2つの支柱83と、垂直移動部84と、水平移動部85と、回転部86と、進退部87とを含む。進退部87にハンド81が結合されている。複数個のハンド81が設けられる場合には、それらに対応する複数の進退部87が設けられることが好ましい。
 2つの支柱83は、第1水平方向Xに沿って間隔を空けて配置され、搬送空間52Lの側壁にそれぞれ固定されている。2つの支柱83は、上下方向Zに沿って延びており、垂直移動部84の垂直移動をガイドするレールとしての機能を有している。垂直移動部84は、2つの支柱83に渡って第1水平方向Xに延び、2つの支柱83に両端部が結合されたレールの形態を有している。垂直移動部84は、2つの支柱83に案内されながら、支柱83に対して上下方向に移動するように構成されている。水平移動部85は、垂直移動部84上に支持され、垂直移動部84によって案内されながら、垂直移動部84に対して第1水平方向Xに移動するように構成されている。水平移動部85に回転部86が支持されている。回転部86は、水平移動部85上で、鉛直な回転軸線まわりに回転するように構成されている。回転部86に進退部87が結合されている。進退部87は、回転軸線に対して水平方向に進退し、それによって、ハンド81を水平方向に進退させる。
 このような構成により、主搬送ロボット8Lは、基板載置部6Lにハンド81をアクセスさせて基板載置部6Lとの間で基板Wの受け渡しを行うことができる。主搬送ロボット8Lは、さらに、第1処理ブロック層BL内の任意の処理ユニット11L-43Lにハンド81をアクセスさせて、当該処理ユニット11L-43Lとの間で基板Wまたはダミー基板DWの受け渡しを行うことができる。また、主搬送ロボット8Lは、ダミー基板収容部7Lにハンド81をアクセスさせて、ダミー基板収容部7Lとの間でダミー基板DWの受け渡しを行うことができる。そして、主搬送ロボット8Lは、ハンド81に保持した基板Wまたはダミー基板DWを、第1処理ブロック層BL内において、基板載置部6L、処理ユニット11L-43Lおよびダミー基板収容部7Lの間で搬送することができる。
 第2処理ブロック層BUの構成は、第1処理ブロック層BLの構成とほぼ同様であるので、以下では、可能なかぎり重複する説明を省き、異なる構成について主として説明する。第1処理ブロック層BLの場合と同一名称を付する要素の構成は、実質的に同じである。
 第2処理ブロック層BUは、複数(この実施形態では、12個)の処理ユニット11U-13U,21U-23U,31U-33U,41U-43U(以下、第2処理ブロック層BUの処理ユニットを総称するときには「処理ユニット11U-43U」という。)を含み、これらは第2処理ユニット群を構成している。第2処理ブロック層BUは、さらに、基板載置部6Uと、ダミー基板収容部7Uと、主搬送ロボット8Uとを含む。第1~第4液供給部91-94、第1~第4排気部101-104は、第1処理ブロック層BLおよび第2処理ブロック層BUに渡って、上下方向Zに延びて配置されている。
 第2処理ブロック層BU内における複数の処理ユニット11U-43Uの配置は、第1処理ブロック層BL内の複数の処理ユニット11L-43Lの配置と実質的に同等である。第2処理ブロック層BUは、第1~第4処理ユニットスタックS1U-S4Uを備え、これらはそれぞれ上下方向Zに積層された複数段(この実施形態では3段)処理ユニット11U-13U,21U-23U,31U-33U,41U-43Uを備えている。
 平面視において、第2処理ブロック層BUの第1~第4処理ユニットスタックS1U-S4Uは、第1処理ブロック層BLの第1~第4処理ユニットスタックS1L-S4Lとそれぞれ重なるように配置されている。そして、第1および第2処理ブロック層BL,BUのそれぞれの第1処理ユニットスタックS1L,S1Uが上下方向Zに積層されて、複数段(この実施形態では6段)の処理ユニット11L,12L,13L,11U,12U,13Uが積層された第1タワーT1が形成されている。同様に、第1および第2処理ブロック層BL,BUのそれぞれの第2処理ユニットスタックS2L,S2Uが上下方向Zに積層されて、複数段(この実施形態では6段)の処理ユニット21L,22L,23L,21U,22U,23Uが積層された第2タワーT2が形成されている。さらに、第1および第2処理ブロック層BL,BUのそれぞれの第3処理ユニットスタックS3L,S3Uが上下方向Zに積層されて、複数段(この実施形態では6段)の処理ユニット31L,32L,33L,31U,32U,33Uが積層された第3タワーT3が形成されている。さらに同様に、第1および第2処理ブロック層BL,BUのそれぞれの第4処理ユニットスタックS4L,S4Uが上下方向Zに積層されて、複数段(この実施形態では6段)の処理ユニット41L,42L,43L,41U,42U,43Uが積層された第4タワーT4が形成されている。
 第2処理ブロック層BU内に区画されて搬送経路51Uを提供する搬送空間52Uは、第1処理ブロック層BLの搬送空間52Lと重なっている。第2処理ブロック層BU内の搬送空間52Uは、中間隔壁16によって下方から区画され、上隔壁17によって上方から区画されている。上隔壁17は、第1~第4タワーT1-T4の最上段の処理ユニット13U,23U,33U,43Uの上面と整合する高さに配置されている。
 平面視における基板載置部6Uの配置は、第1処理ブロック層BLの場合と同様である。すなわち、基板載置部6Uは、インデクサロボット26と主搬送ロボット8Uとの間に配置されており、搬送空間52U内のインデクサロボット26側の端部に配置されている。第2処理ブロック層BUの基板載置部6Uは、平面視において、第1処理ブロック層BLの基板載置部6Lと重なるように配置されている。基板載置部6Uは、上下方向Zに関して、中間隔壁16と上隔壁17との間の高さに配置されている。この実施形態では、基板載置部6Uは、中間隔壁16から上隔壁17までの高さ範囲の中間高さよりも下方に配置されている。より具体的には、基板載置部6Uは、インデクサロボット26によってアクセス可能な高さ範囲内で最も高い位置に配置されている。基板載置部6Uの上下方向位置は、インデクサロボット26によるアクセスが可能な高さ範囲内であって、かつ主搬送ロボット8Uによってアクセス可能な高さ範囲内である必要がある。第1処理ブロック層BLの場合と同様に、基板載置部6Uは、未処理の基板Wが載置される未処理基板載置部61と、処理済みの基板Wが載置される既処理基板載置部62とを含む。未処理基板載置部61および既処理基板載置部62の構成は、第1処理ブロック層BLの基板載置部6Lの場合と同様である(図5参照)。
 インデクサブロック2の後隔壁2aおよび処理ブロック3の前隔壁3a、すなわち、それらの隣接する隔壁を貫通するように、基板載置部6Uに対応する窓4Uが形成されている。インデクサロボット26は、この窓4Uを介して、基板載置部6Uにアクセスして、基板載置部6Uに対して基板Wの搬入/搬出を行うことができる。
 ダミー基板収容部7Uは、基板載置部6Uとは異なる高さに設けられており、この実施形態では搬送空間52U内において、基板載置部6Uの上方に配置されている。ダミー基板収容部7Uは、平面視において、基板載置部6Uと重なり合うように設けられている。より具体的には、基板載置部6Uに基板Wが保持され、ダミー基板収容部7Uにダミー基板DWが保持されているとき、平面視において、基板Wとダミー基板DWとが重なり合うように、ダミー基板収容部7Uが配置されている。基板Wとダミー基板DWとの平面視における重なり合いは、部分的な重なり合いであってもよいし、全体的な重なり合い、すなわち、ダミー基板DWが基板Wのほぼ全体に重なっていてもよい。ダミー基板収容部7Uは、上隔壁17と中間隔壁16との間の高さに配置されており、主搬送ロボット8Uがアクセス可能な高さ範囲内に配置されている。ダミー基板収容部7Uの前方、すなわち、インデクサブロック2側には、インデクサブロック2の後隔壁2aおよび処理ブロック3の前隔壁3a、すなわち、それらの隣接する隔壁が配置されている。これらの隔壁2a,3aには、ダミー基板収容部7Uに対応する窓は設けられていない。したがって、インデクサロボット26は、ダミー基板収容部7Uに対してアクセスすることはできない。
 ダミー基板収容部7Uの構成は、第1処理ブロック層BLのダミー基板収容部7Lの構成と実質的に同じであってもよい(図6参照)。ダミー基板収容部7Uは、各1枚のダミー基板DWを水平姿勢で収容するように上下方向に積層された複数段(この実施形態では、第2処理ブロック層BUに備えられた処理ユニットの数と同数)のスロット(以下「ダミー基板スロットDU1-DU12」という。)を有している。各ダミー基板スロットDU1-DU12におけるダミー基板DWの有無を検出するためのダミー基板センサが備えられていてもよい。
 主搬送ロボット8Uは、搬送空間52U内に配置されている。主搬送ロボット8Uは、1枚の基板を水平姿勢で保持するハンド81と、ハンド81を駆動するハンド駆動機構82とを含む。ハンド駆動機構82は、2つの支柱83と、垂直移動部84と、水平移動部85と、回転部86と、進退部87とを含む。これらの構成は、第1処理ブロック層BLの主搬送ロボット8Lと同様である。主搬送ロボット8Uは、基板載置部6U、処理ユニット11U-43Uおよびダミー基板収容部7Uにアクセス可能に構成されている。主搬送ロボット8Uは、基板載置部6Uと処理ユニット11U-43Uとの間で基板Wを搬送し、かつダミー基板収容部7Uと処理ユニット11U-43Uとの間でダミー基板DWを搬送する第1搬送ユニットの一例である。
 第1処理ブロック層BLと第2処理ブロック層BUとは、中間隔壁16によって区画されており、この中間隔壁16を超えて製品基板Wまたはダミー基板DWを搬送することはできない。換言すれば、第1処理ブロック層BLの主搬送ロボット8Lは、第2処理ブロック層BUの処理ユニット11U-43U、ダミー基板収容部7Uおよび基板載置部6Uのいずれにもアクセスすることができない構成となっている。同様に、第2処理ブロック層BUの主搬送ロボット8Uは、第1処理ブロック層BLの処理ユニット11L-43L、ダミー基板収容部7Lおよび基板載置部6Lのいずれにもアクセスすることができない構成となっている。
 液供給部91-94は、処理ユニット11L-43L;11U-43Uで用いられる処理液を供給するための配管類を収容する液配管スペースを区画している。各液供給部91-94が区画する液配管スペースは、第1処理ブロック層BLおよび第2処理ブロック層BUを上下方向Zに貫通している。各液供給部91-94には、平面視において同じ位置で上下方向Zに6段に積層されてタワーT1-T4を形成する6つの処理ユニット11L,12L,13L,11U,12U,13U;21L,22L,23L,21U,22U,23U;31L,32L,33L,31U,32U,33U;41L,42L,43L,41U,42U,43Uに処理液を供給する配管56が収容されている。液供給部91-94には、さらに、配管途中に設けられたバルブ類、流量計、処理液を一時貯留するためのタンク、送液のためのポンプ等の処理液関連機器が併せて収容されていてもよい。
 排気部101-104は、処理ユニット内部の雰囲気を排気するための配管類を収容する排気配管スペースを区画している。各排気部101-104が区画する排気配管スペースは、第1処理ブロック層BLおよび第2処理ブロック層BUを上下方向Zに貫通している。各排気部101-104には、平面視において、同じ位置で上下方向Zに6段に積層されてタワーT1-T4を形成する6つの処理ユニット11L,12L,13L,11U,12U,13U;21L,22L,23L,21U,22U,23U;31L,32L,33L,31U,32U,33U;41L,42L,43L,41U,42U,43からの排気を基板処理装置1外の排気設備に導くための排気配管76が収容されている。排気部101-104は、さらに、処理ユニット内での処理の種類(より具体的には処理液の種類)に応じて、排気配管76を切り換える切り換え機構77が併せて収容されていてもよい。図示は省略するが、排気部101は、切り換え機構77を駆動するアクチュエータ類を含む。
 キャリヤ搬送機構300(図1参照)は、未処理の製品基板Wを収容したキャリヤCをキャリヤ保持部25に搬入し、処理済みの製品基板Wを収容したキャリヤCをキャリヤ保持部25から搬出するように動作する。また、キャリヤ搬送機構300は、未使用のダミー基板DWを収容した供給用ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25に搬入し、未使用のダミー基板DWが当該供給用ダミーキャリヤDCから払い出された後に、当該ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25から搬出するように動作する。さらに、キャリヤ搬送機構300は、使用済みのダミー基板DWを回収するための回収用ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25に搬入し、使用済みのダミー基板DWが当該回収用ダミーキャリヤDCに収容された後に、当該回収用ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25から搬出するように動作する。ダミーキャリヤDCは、製品基板WのためのキャリヤCと実質的に同様の構成を有していてもよい。
 キャリヤ搬送機構300は、典型的には、天井走行式無人搬送車(OHT: Overhead Hoist Transport)を含む。キャリヤ搬送機構300は、キャリヤ置き場350とキャリヤ保持部25(ロードポート)との間でキャリヤCを搬送する。また、キャリヤ搬送機構300は、ダミーキャリヤ置き場351とキャリヤ保持部25との間でダミーキャリヤDCを搬送する。
 キャリヤ搬送機構300は、ホストコンピュータ150によって制御され、キャリヤCおよびダミーキャリヤDCを搬送する。ホストコンピュータ150は、通信線170を介して基板処理装置1のコントローラ110と通信可能に接続されている。
 コントローラ110は、インデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御して基板Wおよびダミー基板DWの搬送を行わせる。また、コントローラ110は、処理ユニット11L-43L,11U-43Uの各部を制御して、処理ユニット11L-43L,11U-43Uにおける基板処理およびダミー基板DWを用いたダミー処理を実行させる。
 図7は、処理ユニット11L-43L;11U-43U(以下、総称するときには「処理ユニット11L-43U」という。)の構成例を説明するための図解的な断面図である。処理ユニット11L-43Uは、処理室35(チャンバ)を形成するユニット隔壁36と、ユニット隔壁36内に配置された処理カップ39と、処理カップ39内に配置されたスピンチャック40と、スピンチャック40に保持された基板Wまたはダミー基板DWに処理液を供給するノズル55とを含む。
 ユニット隔壁36は、たとえば平面視においてほぼ矩形をなす側壁36aと、上方を区画する天壁36bと、下方を区画する底壁36cとを含む。側壁36aの一面は、搬送空間52Uに臨んで、第1水平方向Xおよび上下方向Zに沿って延びており、基板Wおよびダミー基板DWを搬入/搬出するための基板搬入/搬出口37を有している。基板搬入/搬出口37は、第1水平方向Xに延びたスロット形状を有していてもよい。基板搬入/搬出口37を開閉するためのシャッタ38が配置されている。基板Wおよびダミー基板DWは、ユニット隔壁36に形成された基板搬入/搬出口37から搬入されてスピンチャック40に渡される。
 スピンチャック40は、1枚の基板Wまたはダミー基板DWを水平姿勢で保持するスピンベース45と、スピンベース45を鉛直な回転軸線まわりに回転するスピンモータ46とを含む。スピンチャック40は、スピンベース45の上面に基板Wまたはダミー基板DWの下面を吸着して保持するバキューム型であってもよい。また、スピンベース45は、基板Wおよびダミー基板DWに対応する円形の平面形状を有し、その周縁部に周方向に間隔を空けて設けられた3つ以上の保持ピンを備え、それらの保持ピンによって基板Wまたはダミー基板DWを握持するメカニカル型のチャックを構成していてもよい。
 処理ユニット11L-43Uは、スピンチャック40に保持された基板Wまたはダミー基板DWに処理液を供給する1つ以上のノズル55を含む。この実施形態では、複数のノズル55が備えられている。これらの複数のノズル55は、複数種類の薬液をそれぞれ吐出するために用いられる複数の薬液ノズルを含んでいてもよい。
 スピンチャック40によって保持されて回転されている基板Wまたはダミー基板DWの表面にノズル55から処理液が供給される。ノズル55は、液供給部91-94を通って配置される処理液配管56に結合されている。処理液配管56は、液供給部91-94を通って引き回され、処理液供給源54に接続される。処理液配管56の途中には、その流路を開閉するバルブ59が介装されている。また、処理液配管56の途中には、ノズル55に向かって処理液を送るためのポンプ60が介装されている。バルブ59およびポンプ60は、液供給部91-94に配置されている。処理液供給源54は、エッチング液等の薬液や、純水(脱イオン水)等のリンス液を供給する。処理液の種類に応じて、複数の処理液配管56および対応する複数のノズル55が設けられてもよい。複数のノズル55の一部または全部は、基板Wまたはダミー基板DWの上方で基板Wまたはダミー基板DWの上面に沿って移動する移動ノズルの形態を有していてもよい。移動ノズルは、スピンチャック40の側方に配置された揺動軸58によって、水平なノズルアーム57の基端部を支持し、揺動軸58を鉛直軸線まわりに回動させる構造を有していてもよい(図1参照)。複数のノズル55の一部または全部は、スピンチャック40に対する相対位置が不変の固定ノズルであってもよい。
 ユニット隔壁36内の雰囲気は、ユニット隔壁36を貫通する排気接続管75を介して排気される。排気接続管75は、排気部101-104に配置された排気配管76に接続されている。排気接続管75は、切り換え機構77を介して複数の排気配管76に接続されていてもよい。切り換え機構77は、たとえば、複数のノズル55から吐出される処理液の種類(たとえば薬液の種類)に応じて、排気接続管75からの排気を、当該処理液の種類に予め対応付けられた排気配管76に導くように動作する。
 図8は、基板処理装置1の制御に関する構成を説明するためのブロック図である。基板処理装置1は、コントローラ110を備えている。コントローラ110は、プロセッサ111(CPU)およびメモリ112(記憶部)を含むコンピュータであってもよい。プロセッサ111は、メモリ112に格納されたプログラム120を実行する。それによって、コントローラ110は、インデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uによって基板Wおよびダミー基板DWを搬送する基板搬送動作のための搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部としての機能と、その作成された搬送スケジュールに基づいて基板Wおよびダミー基板DWの搬送を制御する搬送制御部としての機能とを有している。さらに、コントローラ110は、処理ユニット11L-43Uによって基板Wを処理する基板処理動作を実現する基板処理制御部としての機能を有している。コントローラ110は、さらに、処理ユニット11L-43Uにおいてダミー基板DWを用いたダミー処理を実行するダミー処理動作を実現するダミー処理制御部としての機能を有している。これらの基板搬送動作、基板処理動作およびダミー処理動作のために、コントローラ110は、基板処理装置1に備えられた様々な制御対象を制御する。制御対象は、インデクサロボット26、主搬送ロボット8L,8U、処理ユニット11L-43U等に備えられた駆動部を含む。さらに、コントローラ110の制御対象は、液供給部91-94に配置されたバルブ59およびポンプ60を含み、排気部101-104に配置されたアクチュエータ類を含む。
 メモリ112には、各種のデータ130が格納されている。データ130は、製品用の基板Wを処理するための製品レシピ131と、ダミー基板DWを用いるダミー処理のためのダミー処理レシピ132とを含む。製品レシピ131は、基板Wの搬送動作および基板Wに対する処理内容を規定するデータである。ダミー処理レシピ132は、ダミー基板DWの搬送動作およびダミー基板DWを用いる処理内容を規定するデータである。コントローラ110は、基板Wを処理するときには、製品レシピ131に従って制御対象を制御し、ダミー処理を実行するときには、ダミー処理レシピ132に従って制御対象を制御する。
 製品レシピ131は、コントローラ110に通信可能に接続されたホストコンピュータ150からのデータ通信によって与えられ、メモリ112に格納されてもよい。ダミー処理レシピ132も同様に、ホストコンピュータ150から通信によって与えられ、メモリ112に格納されてもよい。また、これらのレシピ131,132は、コントローラ110に接続されたユーザインタフェース140を用いて、操作者が入力または編集してもよい。ダミー処理レシピ132は、製品レシピ131の内容に応じて、コントローラ110が自動生成してもよい。製品レシピ131およびダミー処理レシピ132のいずれについても、一種類である必要はなく、複数の製品レシピ131または複数のダミー処理レシピ132がメモリ112に格納されてもよい。ユーザインタフェース140は、たとえば入力装置および表示装置を含む。ユーザインタフェース140は、使用者に対して、各種の注意喚起を行う報知ユニットの一例である。たとえば、ユーザインタフェース140は、ダミー基板DWが使用期限に達して、その交換が必要になったときに、注意喚起メッセージ等を表示して、使用者に対する報知を行う。
 たとえば、ダミー処理レシピ132は、製品用の基板Wと同様の処理をダミー基板DWに対して実施する前処理を規定する前処理レシピを含む。前処理レシピは、製品レシピ131において、処理ユニット11L-43Uに搬入する基板を製品用の基板Wからダミー基板DWに置き換えたレシピであってもよい。このような前処理レシピは、コントローラ110が、製品レシピ131に基づいて自動生成してもよい。たとえば、基板Wに対して高温の処理液を供給する処理を行う場合、前処理を実行することによって、高温の処理液をノズル55まで導くことができ、かつ高温の処理液によって配管56および処理ユニット11L-43Uの内部を温めることができる。それにより、製品用の基板Wに対して、適切に温度管理された環境で、適切な温度の処理液を供給できる。このように、前処理は、製品用の基板Wを適切に処理するために処理ユニット11L-43Uの処理環境を整えるための準備処理の一例である。
 また、ダミー処理レシピ132は、ダミー基板DWをスピンチャック40に保持させて処理ユニット11L-43Uの内部を洗浄するユニット洗浄レシピを含む。ユニット洗浄レシピに従って行われるユニット洗浄処理は、スピンチャック40にダミー基板DWを保持させて回転し、その状態で、洗浄液(薬液または純水)をダミー基板DWに供給する。それにより、ダミー基板DW上で遠心力を受けた洗浄液がスピンチャック40の周囲に飛散し、処理カップ39の内部を洗浄する。必要に応じて、処理カップ39を上下動させることにより、処理カップ39の内壁面に対する洗浄液の入射位置が上下に変化するので、処理カップ39の内壁面を効率的に洗浄できる。また、処理カップ39の上下動またはスピンチャック40の上下動によって、ダミー基板DWを処理カップ39の上端よりも上方に配置し、処理カップ39外の処理室35の内部に洗浄液を供給し、処理室35の内部を洗浄することもできる。
 メモリ112に格納されるデータ130は、さらに、複数の処理ユニット11L-43Uとダミー基板収容部7L,7Uのダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12とを対応付けるダミー基板テーブル133を含む。複数のダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12にはそれぞれ一意のダミー基板スロット番号(ダミー基板スロット識別情報)が付されている。そして、各処理ユニット11L-43Uに対して、一つのダミー基板スロット番号が対応付けられている。ダミー基板テーブル133は、第1処理ブロック層BLの複数(この実施形態では12個)の処理ユニット11L-43Uと、当該第1処理ブロック層BLのダミー基板収容部7Lの複数(この実施形態では12個)のダミー基板スロット番号とを、1対1に対応付ける。また、ダミー基板テーブル133は、第2処理ブロック層BUの複数(この実施形態では12個)の処理ユニット11L-43Uと、当該第2処理ブロック層BUのダミー基板収容部7Uの複数(この実施形態では12個)のダミー基板スロット番号とを1対1に対応付ける。したがって、ダミー基板テーブル133は、基板処理装置1が備える複数(この実施形態では24個)の処理ユニット11L-43Uと、ダミー基板収容部7L,7Uの複数(この実施形態では24個)のスロット番号とを1対1に対応付けている。
 メモリ112に格納されるデータ130は、さらに、ダミー基板履歴データ134を含む。ダミー基板履歴データ134は、ダミー基板収容部7L,7Uの複数のダミー基板スロット番号にそれぞれ対応するダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12に収容されるダミー基板DWの使用履歴を表すデータ(使用履歴情報)を含む。使用履歴は、ダミー基板DWが処理ユニット11L-43Uでの処理に用いられた使用回数(累積回数)、ダミー基板DWが処理ユニット11L-43Uでの処理に用いられた使用時間(累積時間)、ダミー基板DWが処理ユニット11L-43Uで受けた処理内容の履歴の少なくとも一つを含むことが好ましい。処理内容の履歴は、ダミー基板DWの消耗状態を表す情報であり得る。使用回数および使用時間も、ダミー基板DWの消耗状態を表す情報であり得る。ダミー基板DWの消耗状態を表す情報の他の例として、ダミー基板DWの厚さを挙げることができる。ダミー基板DWの厚さは、使用履歴情報から演算できるほか、たとえばダミー基板収容部7L,7Uにダミー基板厚さセンサを配置して検出することもできる。
 メモリ112に格納されるデータ130は、ダミー基板履歴データ134(とくに使用履歴情報)と比較すべき閾値データ136(使用期限閾値情報)を含む。閾値データ136は、使用回数と比較すべき使用回数閾値を含んでいてもよく、使用時間と比較すべき使用時間閾値を含んでいてもよい。また、閾値データ136は、ダミー基板DWの消耗状態と比較すべき消耗状態閾値を含んでいてもよい。たとえば、ダミー基板DWの使用履歴情報に基づいてダミー基板DWの消耗状態情報を演算し、その消耗状態情報と消耗状態閾値とを比較して、ダミー基板DWの使用期限を判断することができる。ダミー基板DWの消耗状態情報は、ダミー基板DWの厚さであってもよい。
 メモリ112に格納されるデータ130は、さらに、各処理ユニット11L-43Uのユニット使用履歴を表すユニット使用履歴データ135を含む。ユニット使用履歴データ135は、各処理ユニット11L-43Uの基板処理枚数、および各処理ユニット11L-43Uが基板処理のために使用されていない連続時間を表す不使用継続時間を含むことが好ましい。処理ユニット11L-43Uの内部の環境は、基板処理を繰り返すことによって徐々に悪化するので、メンテナンスを要することなく連続して処理できる基板枚数には適切な上限を設定することが好ましい。また、処理ユニット11L-43Uの内部の環境は、基板Wを処理していない時間が長くなると、徐々に劣化する。具体的には、処理カップ39の内壁等に付着した薬液が乾燥して結晶化し、パーティクルの原因となる場合がある。また、室温よりも高い温度の高温の処理液が用いられる場合には、不使用状態の継続によって、処理液の流通が長時間にわたって遮断されると、配管56またはノズル55の温度が低下する。そのため、次に処理液を吐出するときに、処理液の熱が配管56またはノズル55で奪われ、吐出直後の処理液の温度が適切でなくなる場合がある。したがって、不使用継続時間に関しても、適切な上限を設定することが好ましい。ユニット使用履歴データ135(基板処理枚数、不使用継続時間等)を、対応する設定値と比較することにより、処理ユニット11L-43Uに対するメンテナンスの要否を判断できる。
 図9は、ダミー処理に関連するコントローラ110の動作を説明するためのフローチャートである。コントローラ110は、複数の処理ユニット11L-43Uのそれぞれに関して、図9の処理を、並行して、または順次に実行する。
 コントローラ110は、対象の処理ユニット11L-43Uにおいて、製品用の基板Wの処理が実行されているかどうかを判断する(ステップA1)。処理ユニット11L-43Uにおいて、基板Wの処理が終了し、その処理済みの基板Wが処理ユニット11L-43Uから搬出されると(ステップA1:NO)、コントローラ110は、当該処理ユニット11L-43Uのユニット使用履歴データ135を参照し、基板処理枚数が設定値に達したかどうかを判断する(ステップA2)。基板処理枚数が設定値以上のときは(ステップA2:YES)、コントローラ110は、ユニット洗浄実行条件(メンテナンス実行条件の一例)が充足されたものと判断して、処理ユニット11L-43Uの内部を洗浄するためにユニット洗浄レシピに従ってユニット洗浄処理(メンテナンス処理の一例)を実行する(ステップA3)。また、コントローラ110は、当該処理ユニットの基板処理枚数を初期値(たとえば0)にリセットして、ユニット使用履歴データ135を更新する(ステップA4)。
 ユニット洗浄処理は、ダミー処理の一例であり、搬送スケジュール作成ステップA30と、ダミー基板搬入ステップA31と、ダミー処理ステップA32と、ダミー基板収容ステップA33とを含む。搬送スケジュール作成ステップA30は、ダミー処理のための搬送計画(搬送スケジュール)を作成するステップである。ダミー基板搬入ステップA31は、作成された搬送スケジュールに従って、主搬送ロボット8L,8Uを制御するステップである。それにより、主搬送ロボット8L,8Uが、対応するダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12からダミー基板DWを搬出し、処理ユニット11L-43Uへ搬送して当該処理ユニットに搬入する。ダミー処理ステップA32は、当該処理ユニットにおいて、ダミー基板DWを用いる処理を実行するステップであり、ここでは、当該処理ユニットの内部の洗浄処理である。ダミー基板収容ステップA33は、処理ユニット内部の洗浄の後に、搬送スケジュールに従って、当該処理ユニットからダミー基板DWを搬出し、元のダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12まで搬送して収容するステップである。コントローラ110は、ダミー基板テーブル133を参照して、当該処理ユニット11L-43Uに対応するダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12を特定して、ダミー基板搬入ステップA31およびダミー基板収容ステップA33のための搬送スケジュールを作成する。
 ユニット洗浄処理を終えると、コントローラ110は、処理ユニット11L-43Uの処理環境(処理条件)を整えるための前処理が必要かどうかを判断する(ステップA5,A6)。具体的には、コントローラ110は、ホストコンピュータ150から製品基板の処理要求(処理予約)が与えられたかどうかを調べる(ステップA5)。製品基板の処理要求が与えられると(ステップA5:YES)、コントローラ110は、当該処理ユニット11L-43Uの不使用継続時間が設定値に達したかどうかを判断する(ステップA6)。不使用継続時間が設定値以上の場合(ステップA6:YES)、すなわち、処理ユニット11L-43Uが所定の長時間を超えて製品用の基板Wのために使用されていない場合には、コントローラ110は、前処理が必要である、すなわち、前処理実行条件(メンテナンス実行条件の一例)が充足されていると判断する。
 前処理が必要であると判断されると、コントローラ110は、前処理レシピに従って前処理を実行する(ステップA7)。具体的には、コントローラ110は、ダミー基板テーブル133を参照して、当該処理ユニット11L-43Uに対応するダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12を特定し、それに基づいて、前処理のための搬送スケジュールを作成する(搬送スケジュール作成ステップA70)。そして、コントローラ110は、作成された搬送スケジュールに従って主搬送ロボット8L,8Uを制御し、当該特定されたダミー基板スロットからダミー基板DWを搬出させ、そのダミー基板DWを当該処理ユニット11L-43Uに搬送させる(ダミー基板搬入ステップA71)。その搬送の後、ホストコンピュータ150は、当該処理ユニット11L-43Uにおいて、ダミー基板DWに対して、製品用の基板Wに対する処理と同様の処理を実行する(ダミー処理ステップA72)。その処理が終了すると、ホストコンピュータ150は、搬送スケジュールに従って主搬送ロボット8L,8Uを制御し、当該処理ユニット11L-43Uからダミー基板DWを取り出して、元のダミー基板スロットまで搬送させ、そのダミー基板スロットにそのダミー基板DWを収容させる(ダミー基板収容ステップA73)。こうして、前処理を実行すると、コントローラ110は、不使用継続時間を初期値(たとえば0)にリセットして、ユニット使用履歴データ135を更新する(ステップA8)。
 上記のように、製品基板Wの処理要求(処理予約)が与えられた時点で、コントローラ110は、前処理を実行する。前処理は、ダミー基板DWの搬送(ステップA71)およびそれを用いるダミー処理(ステップA72)を含む。そのため、製品基板Wを収容したキャリヤCがキャリヤ保持部25に保持され、インデクサロボット26がそのキャリヤCから処理対象の基板Wを取り出して基板載置部6L,6Uへと搬送する基板搬入動作(ステップA20)と並行して、あるいはそれ以前に前処理(ダミー基板搬入ステップA71および/またはダミー処理ステップA72)が実行されることになる。このとき、インデクサロボット26はダミー基板DWの搬送に関与しない。したがって、インデクサロボット26による製品基板Wの搬送を阻害することなく、処理ブロック3の内部でダミー基板DWを搬送して、前処理が実行される。
 なお、便宜的に、図9にインデクサロボット26による製品基板Wの搬入ステップA20を表してあるが、前処理ステップA7との前後関係が図示のとおりになることを意味するものではない。前処理ステップA7に先立って、またはそれと並行して製品基板搬入ステップA20が行われ得る(開始し得る)ことは前述のとおりであり、また、前処理ステップA7の後に製品基板搬入ステップA20が行われる(開始される)こともあり得る。
 前処理レシピは、製品用の基板Wに対して行うべき処理をダミー基板DWに対して行う前処理を規定している。そのため、前処理をダミー基板DWに対して実行することにより、ダミー基板DWが消耗する。具体的には、エッチング作用を有する薬液を用いる前処理をダミー基板DWに対して行うことにより、ダミー基板DWの表面がエッチングされ、ダミー基板DWの厚みが減少する。そこで、前処理レシピを実行すると、コントローラ110は、当該処理ユニット11L-43Uに対応付けられたダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12のダミー基板履歴データ134を更新する(ステップA9)。たとえば、ダミー基板履歴データ134が使用回数データを含む場合には、使用回数データをインクリメントする。
 前処理を終えると、コントローラ110は、製品レシピに従う制御を実行する(ステップA12)。具体的には、コントローラ110は、製品基板処理のための搬送スケジュールを作成し(搬送スケジュール作成ステップA120)、その搬送スケジュールに従って、インデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御する。それより、インデクサロボット26は、キャリヤCから製品基板Wを取り出して、基板載置部6L,6Uに載置する。そして、主搬送ロボット8L,8Uは、基板載置部6L,6Uから基板Wを取り出して処理ユニット11L-43Uに搬送する(基板搬入ステップA121)。そして、処理ユニット11L-43Uにおいて、処理液(薬液、リンス液等)を用いた処理が基板Wに対して実行される(処理ステップA122)。その終了後には、搬送スケジュールに従い、主搬送ロボット8L,8Uは、処理済みの基板Wを取り出して、基板載置部6L,6Uまで搬送し、インデクサロボット26は、その処理済みの基板WをキャリヤCに収容する(基板収容ステップA123)。未処理の基板Wが存在する場合(複数枚の基板Wの連続処理の場合)には(ステップA13:YES)、同様の動作が繰り返される。その間に、当該処理ユニットでの基板処理枚数が設定値に達すると(ステップA14:YES)、ステップA3に戻って、ユニット洗浄処理が実行される。連続処理でない場合(ステップA13:NO)には、リターンして、ステップA1からの処理が繰り返される。
 ホストコンピュータ150からの処理要求(処理予約)がなければ(ステップA5:NO)、コントローラ110は、待機状態の継続時間、すなわち不使用継続時間が設定値に達したかどうかを判断する(ステップA15)。不使用継続時間が設定値に達していなければ、待機状態となる。不使用継続時間が設定値に達すると(ステップA15:YES)、コントローラ110は、予め設定されているメンテナンス処理を実行する(ステップA16)。メンテナンス処理は、ユニット洗浄処理であってもよい。このユニット洗浄処理は、ステップA3の場合と同様に、ダミー基板DWを用いた処理(ダミー処理の一種)であってもよいし、ダミー基板DWを用いない処理であってもよい。また、メンテナンス処理は、前処理と類似の処理であってもよい。また、メンテナンス処理は、その他の処理であってもよい。メンテナンス処理は、主として、処理ユニット11L-43Uの処理室35内の環境を製品用の基板Wの処理に適した状態に保持するための処理であり、基板処理装置1の使用者が予め設定する処理であってもよい。ダミー基板DWを用いるダミー処理をメンテナンス処理として行う場合には、メンテナンス処理は、当該処理のための搬送計画(搬送スケジュール)を作成する搬送スケジュール作成ステップA160と、その搬送計画に従って、対応するダミー基板スロットからダミー基板DWを取り出して当該処理ユニットに搬入するステップA161と、処理ユニット内でダミー基板DWを用いたダミー処理を行うステップA162と、その処理後に、搬送スケジュールに従って、ダミー基板DWを対応するダミー基板スロットに収容するステップA163とを含む。
 ホストコンピュータ150からの処理要求(処理予約)がない時点では、コントローラ110が製品レシピ131と同様の前処理を自動的に計画することはできない。したがって、メンテナンス処理(ステップA16)を随時に実行していても、ホストコンピュータ150からの処理要求(処理予約)があったときには、その製品処理に対応した前処理(ステップA7)を実行することが好ましい。
 ダミー基板DWは、予め基板処理装置1の内部に導入されて、ダミー基板収容部7L,7Uに収容される。具体的には、たとえば、工場内に備えられたキャリヤ搬送機構300(図1参照)によって、ダミー基板DWを収容した供給用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25に渡される。インデクサロボット26は、その供給用ダミーキャリヤDCからダミー基板DWを取り出して、基板載置部6L,6Uに搬送する。第1処理ブロック層BLの主搬送ロボット8Lは、基板載置部6Lからダミー基板収容部7Lへとダミー基板DWを搬送して収容する。第2処理ブロック層BUの主搬送ロボット8Uは、基板載置部6Uからダミー基板収容部7Uへとダミー基板DWを搬送して収容する。コントローラ110は、ダミー基板DWの導入のための搬送スケジュール(供給搬送スケジュール)を作成し、その搬送スケジュールに従ってインデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御することによって、前述のような搬送動作を達成する。
 新たなダミー基板DWが導入されてダミー基板収容部7L,7Uに収容されると、コントローラ110は、その新たなダミー基板DWが収容されたダミー基板スロットに対応するダミー基板履歴データ134を初期値にリセットする。
 基板処理装置1内のダミー基板DWを交換するときには、主搬送ロボット8L,8Uおよびインデクサロボット26によって、ダミー基板収容部7L,7Uからキャリヤ保持部25に保持された回収用ダミーキャリヤDCへとダミー基板DWが搬送される。具体的には、交換対象のダミー基板DWが、第1処理ブロック層BLのダミー基板収容部7Lに収容されているときには、主搬送ロボット8Lは、ダミー基板収容部7Lから基板載置部6Lへと当該ダミー基板DWを搬送する。交換対象のダミー基板DWが、第2処理ブロック層BUのダミー基板収容部7Uに収容されているときには、主搬送ロボット8Uは、ダミー基板収容部7Uから基板載置部6Uへと当該ダミー基板DWを搬送する。インデクサロボット26は、基板載置部6L,6Uに置かれたダミー基板DWをキャリヤ保持部25に保持された回収用ダミーキャリヤDCへと搬送して収容する。複数枚のダミー基板DWが交換対象であるときには、同様の動作が繰り返される。コントローラ110は、ダミー基板DWの交換(排出)のための搬送スケジュール(回収搬送スケジュール)を作成し、その搬送スケジュールに従ってインデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御することによって、前述のような搬送動作を達成する。
 図10Aおよび図10Bは、基板処理装置内のダミー基板の交換に関する処理を説明するためのフローチャートである。図10Aは基板処理装置1のコントローラ110の処理例を示し、図10Bは、ホストコンピュータ150の処理例を示す。
 基板処理装置1のコントローラ110は、ダミー処理(たとえば、ダミー基板DWを用いた処理ユニットの洗浄。ダミー洗浄)を計画し(ステップS1)、メモリ112内のダミー基板履歴データ134を更新する(ステップS2)。コントローラ110は、さらに、ダミー基板履歴データ134と閾値データ136とを比較して、ダミー基板DWが使用期限に達したかどうかを判断する(ステップS3)。
 ダミー基板履歴データ134は、前述のとおり、ダミー基板収容部7L,7Uのスロットごと、すなわち、ダミー基板DWごとに作成され、個々のダミー基板DWの使用履歴を表す。この実施形態では、複数の処理ユニットと複数のダミー基板収容部7L,7Uの複数のスロットとは1対1に対応付けられており、したがって、個々のダミー基板DWはただ一つの処理ユニットでのダミー処理のために用いられる。そこで、コントローラ110は、ダミー処理を計画すると(ステップS1)、ダミー基板履歴データ134を更新し(ステップS2)、その更新後のダミー基板履歴データ134に基づいて、ダミー基板DWが使用期限に達したかどうかを判断する(ステップS3)。たとえば、ダミー基板履歴データ134は、ダミー基板DWの使用回数データを含んでいてもよい。コントローラ110は、或る処理ユニットのダミー処理を計画すると(ステップS1)、当該処理ユニットに対応付けられているダミー基板DWの使用回数データをインクリメントして更新する(ステップS2)。そして、コントローラ110は、その使用回数データが予め定める使用回数閾値(閾値データ136の一例)に達すると、当該ダミー基板DWが使用期限に達したと判断する(ステップS3:YES)。
 ダミー基板DWが使用期限に達すると(ステップS3:YES)、コントローラ110は、ダミー基板DWの交換を計画する(ステップS4)。さらに、コントローラ110は、ユーザインタフェース140に、ダミー基板DWが使用期限に達したことを表示して、使用者に注意喚起するための報知を行う(ステップS5)。ダミー基板DWが使用期限に達していなければ(ステップS3:NO)、ダミー基板交換の計画(ステップS4)および注意喚起のための報知(ステップS5)は省かれる。
 コントローラ110は、ダミー処理の計画に従って、ダミー基板DWの搬送および処理ユニットでの処理を制御する(ステップS6)。具体的には、コントローラ110は、主搬送ロボット8L,8Uを制御して、ダミー基板収容部7L,7Uから当該処理ユニットへとダミー基板DWを搬送させ、処理ユニットを制御して当該ダミー基板DWを用いた処理(たとえばチャンバ洗浄処理)を実行させる。
 コントローラ110は、ダミー基板DWの交換が必要なとき(ステップS7:YES)、すなわち、ダミー基板DWの交換を計画(ステップS4)したときには、ホストコンピュータ150に対してダミー基板交換要求を送信する(ステップS8。コントローラ110の使用期限通知部としての機能)。ダミー基板交換の計画がないときには(ステップS7:NO)、ダミー基板交換要求は送信されない。
 ホストコンピュータ150は、ダミー基板交換要求があると(ステップS11:YES)、ダミー基板DWの交換を始めるかどうかを判断する(ステップS12)。たとえば、ダミー基板DWの交換よりも優先したい製品基板Wの処理があるときには、この判断は否定となり、ダミー基板交換要求は保留される。ダミー基板DWの交換を始めるべきとの判断となれば(ステップS12:YES)、ホストコンピュータ150は、回収用ダミーキャリヤDCおよび供給用ダミーキャリヤDCをダミーキャリヤ置き場351から基板処理装置1のキャリヤ保持部25へと搬送するために、キャリヤ搬送機構300を制御する。
 より具体的には、ホストコンピュータ150は、ダミーキャリヤ置き場351に回収用ダミーキャリヤDCがあるかどうかを判断し(ステップS13)、無ければ、回収用ダミーキャリヤDCの準備のための処理を行う(ステップS14)。この処理は、回収用ダミーキャリヤDCの準備を使用者に促す警報処理(回収用ダミーキャリヤDCが必要である旨の通知)であってもよい。この処理の後、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300による回収用ダミーキャリヤDCの搬送を計画し、かつキャリヤ搬送機構300にその実行を指示する(ステップS15)。ダミーキャリヤ置き場351に回収用ダミーキャリヤDCがあれば(ステップS13:YES)、ステップS14の処理は省かれる。また、ホストコンピュータ150は、ダミーキャリヤ置き場351に供給用ダミーキャリヤDCがあるかどうかを判断し(ステップS16)、無ければ、供給用ダミーキャリヤDCの準備のための処理を行う(ステップS17)。この処理は、供給用ダミーキャリヤDCの準備を使用者に促す警報処理(供給用ダミーキャリヤDCが必要である旨の通知)であってもよい。この処理の後、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300による供給用ダミーキャリヤDCの搬送を計画し、かつキャリヤ搬送機構300にその実行を指示する(ステップS18)。ダミーキャリヤ置き場351に供給用ダミーキャリヤDCがあれば(ステップS16:YES)、ステップS17の処理は省かれる。
 基板処理装置1のコントローラ110によるダミー基板交換の計画(ステップS4)は、キャリヤ保持部25に回収用ダミーキャリヤDCが保持されているときに、使用期限に達したダミー基板DWをダミー基板収容部7L,7Uから当該回収用ダミーキャリヤDCまで搬送する回収搬送スケジュールの作成を含む。この回収搬送スケジュールに従って、コントローラ110は、主搬送ロボット8L,8Uおよびインデクサロボット26を制御する。それにより、主搬送ロボット8L,8Uは、使用期限に達したダミー基板DWをダミー基板収容部7L,7Uから基板載置部6L,6Uに搬送し、インデクサロボット26は、そのダミー基板DWを基板載置部6L,6Uから回収用ダミーキャリヤDCへと搬送する。
 基板処理装置1のコントローラ110によるダミー基板交換の計画(ステップS4)は、キャリヤ保持部25に供給用ダミーキャリヤDCが保持されているときに、未使用のダミー基板DWを当該供給用ダミーキャリヤDCからダミー基板収容部7L,7Uまで搬送する供給搬送スケジュールの作成を含む。この供給搬送スケジュールに従って、コントローラ110は、インデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御する。それにより、インデクサロボットは、未使用のダミー基板DWを供給用ダミーキャリヤDCから基板載置部6L,6Uへと搬送し、主搬送ロボット8L,8Uは、そのダミー基板DWを基板載置部6L,6Uからダミー基板収容部7L,7Uへと搬送する。
 使用済みダミー基板DWの回収動作と未使用のダミー基板DWの供給動作とは、時間的に分離されて実行されてもよいし、それらの動作の一部または全部が時間的に重なり合って実行されてもよい。
 図11は、具体的な動作の一例を説明するためのタイムチャートである。
 まず、図11において格子模様のブロックで表したダミー処理動作は、次のとおりである。ダミー処理を行うべき処理ユニットに対応したダミー基板DWは、主搬送ロボット8L,8Uによってダミー基板収容部7L,7Uから取り出され、対象の処理ユニットに搬入される。処理ユニットでダミー基板DWを用いた処理(ダミー処理)が終了すると、そのダミー基板DWは主搬送ロボット8L,8Uによって取り出され、ダミー基板収容部7L,7Uに格納される。
 このダミー処理によってダミー基板DWが使用期限に達する場合、基板処理装置1のコントローラ110は、当該ダミー処理を計画して、たとえば、ダミー基板収容部7L,7Uから当該ダミー基板DWが払い出されるときに、ホストコンピュータ150に対して、ダミー基板交換要求(使用期限情報)を送信する(時刻t1)。これを契機として、図11に横縞模様のブロックで表したダミー基板回収動作が行われる。当該ダミー基板DWは、あと1回のダミー処理に使用されることによって、使用期限に達する。すなわち、時刻t1以後に行われるダミー処理を経て、使用期限に達する。
 ダミー基板交換要求を受信したホストコンピュータ150は、基板処理装置1においてダミー処理が行われている間に、回収用ダミーキャリヤDCの搬送を計画し、実行する。すなわち、時刻t1にダミー基板交換要求を受けると、ホストコンピュータ150は、期間T1に回収用ダミーキャリヤDCを準備するための処理(図10BのステップS14参照)を実行し、ダミーキャリヤ置き場351に回収用ダミーキャリヤDCが置かれた後の時刻t2に、キャリヤ搬送機構300に対して、回収用ダミーキャリヤDCの搬送を指令する。それにより、時刻t2からの期間T2に、キャリヤ搬送機構300は、ダミーキャリヤ置き場351から基板処理装置1のキャリヤ保持部25に回収用ダミーキャリヤDCを搬送する。すなわち、キャリヤ搬送機構300は、ダミーキャリヤ置き場351から回収用ダミーキャリヤDCを取り出し、基板処理装置1まで搬送して、複数のキャリヤ保持部25のうちの一つであるキャリヤ保持部LP1に回収用ダミーキャリヤDCを搬入する。回収用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25に搬入されると、時刻t3に、ホストコンピュータ150は、基板処理装置1のコントローラ110に対して、ダミー基板DWの回収搬送を指令する。
 前述の期間T2の間にダミー処理動作が完了することが好ましい。換言すれば、ホストコンピュータ150は、基板処理装置1内でのダミー処理動作が行われている間に回収用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部LP1まで搬送されるように、キャリヤ搬送機構300による回収用ダミーキャリヤDCの搬送を計画することが好ましい。そして、ダミー処理動作の終了(交換対象のダミー基板DWのダミー基板収容部7L,7Uへの収容)と、ほぼ同期して、回収用ダミーキャリヤDCのキャリヤ保持部25への搬入が完了することが好ましい。
 ダミー基板DWの回収搬送を指令されたコントローラ110は、ダミー処理に用いられて使用期限に達したダミー基板DWがダミー基板収容部7L,7Uに収容された後に、使用済みダミー基板DWをダミー基板収容部7L,7Uから回収用ダミーキャリヤDCに搬送するための回収搬送スケジュールを作成し、その回収搬送スケジュールに従って、ダミー基板DWの搬送を実行する。具体的には、使用済みダミー基板DWがダミー基板収容部7L,7Uに収容された後、主搬送ロボット8L,8Uは、その使用済みダミー基板DWをダミー基板収容部7L,7Uから取り出し、基板載置部6L,6Uに載置する。その使用済みダミー基板DWは、インデクサロボット26によって取り出され、キャリヤ保持部LP1に保持されている回収用ダミーキャリヤDCに搬入される。コントローラ110は、使用済みダミー基板DWが回収用ダミーキャリヤDCに収容されると、時刻t5に、ホストコンピュータ150に対して、回収用ダミーキャリヤDCが搬出可能状態であることを通知する。この通知を受けて、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300に対して、回収用ダミーキャリヤDCの搬送を指示する。それにより、キャリヤ搬送機構300は、キャリヤ保持部25から回収用ダミーキャリヤDCを搬出し、ダミーキャリヤ置き場351へと搬送する。
 このように使用済みダミー基板DWの回収が行われる一方で、当該使用済みダミー基板DWと置き換えられる未使用のダミー基板DWを供給するためのダミー基板供給動作が実行される。図11において、ダミー基板供給動作を、斜線模様を付したブロックで示す。
 ホストコンピュータ150は、未使用のダミー基板DWの基板処理装置1への供給を計画して実行する。具体的には、ホストコンピュータ150は、未使用ダミー基板DWを収容した供給用ダミーキャリヤDCをダミーキャリヤ置き場351から基板処理装置1のキャリヤ保持部25へと搬送するための計画を作成し、その計画に従って、時刻t4に、キャリヤ搬送機構300に対して供給用ダミーキャリヤDCの搬送を指示する。それにより、キャリヤ搬送機構300は、供給用ダミーキャリヤDCをダミーキャリヤ置き場351から取り出し、基板処理装置1まで搬送して、複数のキャリヤ保持部25のうちの一つのキャリヤ保持部LP2へと搬入する。供給用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部LP2に搬入されると、時刻t6に、ホストコンピュータ150は、基板処理装置1のコントローラ110に対して、ダミー基板DWの供給搬送を指令する。
 図11では、回収用ダミーキャリヤDCと供給用ダミーキャリヤDCとが別のキャリヤ保持部LP1,LP2に保持される例が示されているが、回収用ダミーキャリヤDCの搬出後に供給用ダミーキャリヤDCを搬入する計画として、回収用ダミーキャリヤDCが搬出されたキャリヤ保持部LP1に供給用ダミーキャリヤDCを搬入するようにしてもよい。
 ダミー基板DWの供給搬送指令を受けた基板処理装置1のコントローラ110は、供給用ダミーキャリヤDCからダミー基板収容部7L,7Uへ未使用ダミー基板DWを搬送する供給搬送スケジュールを作成し、その供給搬送スケジュールに従って、インデクサロボット26および主搬送ロボット8L,8Uを制御する。したがって、インデクサロボット26は、供給用ダミーキャリヤDCから未使用ダミー基板DWを取り出して、基板載置部6L,6Uに搬入する。その後、主搬送ロボット8L,8Uは、その未使用ダミー基板DWを基板載置部6L,6Uからダミー基板収容部7L,7Uへと搬送する。
 未使用ダミー基板DWが供給用ダミーキャリヤDCから搬出された後の時刻t7に、基板処理装置1のコントローラ110は、ホストコンピュータ150に対して、供給用ダミーキャリヤDCが搬出可能な状態であることを通知する。この通知を受けて、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300に対して、供給用ダミーキャリヤDCの搬送を指示する(時刻t8)。それにより、キャリヤ搬送機構300は、基板処理装置1のキャリヤ保持部25から供給用ダミーキャリヤDCを搬出し、ダミーキャリヤ置き場351へと搬送する。
 こうして、基板処理装置1のコントローラ110とホストコンピュータ150との間での通信により、回収用ダミーキャリヤDCおよび供給用ダミーキャリヤDCが、キャリヤ搬送機構300によって、基板処理装置1のキャリヤ保持部25に対して適時に搬入および搬出される。それにより、ダミー基板DWの交換を自動的に、かつ遅滞なく行うことができる。また、ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25を占有する時間を短くすることができるので、製品基板Wを収容するキャリヤCの保持のためにキャリヤ保持部25を使える時間が長くなる。それにより、生産性を向上することができる。
 ダミー基板DWの交換は、1枚ずつ行ってもよいし、複数枚のダミー基板DWの交換をまとめて行ってもよい。その場合には、複数枚の使用済みダミー基板DWが一つの回収用ダミーキャリヤDCに搬入される。また、複数枚の未使用ダミー基板DWを収容した供給用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25に搬入され、その供給用ダミーキャリヤDCから複数枚のダミー基板DWがダミー基板収容部7L,7Uに導入される。
 以上のように、この実施形態によれば、インデクサブロック2の横方向に隣接された処理ブロック3は、複数の処理ブロック層BL,BUを上下方向Zに積層して構成されている。そして、各処理ブロック層BL,BUに、ダミー基板DWを収容するダミー基板収容部7L,7Uが備えられている。処理ブロック層BL,BUの内部にダミー基板DWを収容できるので、処理ユニット11L-43Uにおいてダミー基板DWを使用する必要が生じたときには、インデクサロボット26の関与なしに、ダミー基板収容部7L,7Uと処理ユニット11L-43Uとの間でダミー基板DWを搬送できる。
 したがって、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減できるので、製品用の基板Wの搬送への影響を軽減しながら、ダミー基板DWを用いる処理を行える。とりわけ、複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uをそれぞれ有する複数の処理ブロック層BL,BUとキャリヤ保持部25との間で基板Wを搬送するインデクサロボット26の搬送負荷は、非常に大きい。したがって、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減することによって、製品用の基板Wの搬送効率が良くなり、それに応じて、生産性を向上できる。各処理ブロック層BL,BUの主搬送ロボット8L,8Uは、当該処理ブロック層BL,BU内での基板Wの搬送を受け持つので、インデクサロボット26に比較して搬送負荷が小さい。したがって、主搬送ロボット8L,8Uが処理ブロック層BL,BUの内部でダミー基板DWの搬送を受け持つことは、生産効率の観点から、大きな問題とはならない。
 また、ダミー基板収容部7L,7Uは処理ブロック層BL,BU内にあるので、ダミー基板収容部7L,7Uと処理ユニット11L-43Uとの間のダミー基板DWの搬送は、インデクサロボット26と処理ブロック層BL,BUとの間の基板受渡しのための基板載置部6L,6Uを経由することなく行える。したがって、ダミー基板DWの搬送と製品用の基板Wの搬送との干渉を低減できるので、製品用の基板Wの搬送効率が良くなり、それに応じて、生産性を向上できる。
 さらに、特許文献1の場合とは異なり、ダミー基板DWを収容するダミーキャリヤDCによってキャリヤ保持部25が長時間に亘って占有されることもない。それにより、製品用の基板Wを収容したキャリヤCの搬入に待機時間が生じることを抑制できるので、生産性の向上に寄与することができる。
 また、この実施形態では、各処理ブロック層BL,BUにおいて、複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uが、主搬送ロボット8L,8Uによって基板Wが搬送される搬送経路51L,51Uに沿って、搬送経路51L,51Uの両側に配列され、かつ上下方向Zに積層されて配列されている。したがって、主搬送ロボット8L,8Uによる基板搬送を効率的に行えるように処理ブロック層BL,BU内での複数の処理ユニット11L-43Uの配置が設計されている。それにより、生産性の向上に寄与することができる。
 また、この実施形態では、基板載置部6L,6Uおよびダミー基板収容部7L,7Uは、いずれも、インデクサロボット26と主搬送ロボット8L,8Uとの間に配置されている。それにより、基板載置部6L,6Uを経由して行われる、インデクサロボット26と主搬送ロボット8L,8Uとの間の基板Wの搬送を効率的に行える。そして、ダミー基板収容部7L,7Uを、インデクサロボット26による基板Wの搬送、および主搬送ロボット8L,8Uによる基板Wの搬送と干渉しない位置に配置できる。したがって、製品用の基板Wの搬送に影響を与えることなく、処理ブロック層BL,BU内にダミー基板DWを保持することができる。
 より具体的には、この実施形態では、ダミー基板収容部7L,7Uと基板載置部6L,6Uとは、互いに高さを異ならせて立体的に配置されている。それにより、処理ブロック層BL,BU内の空間を有効に利用して、ダミー基板収容部7L,7Uを処理ブロック層BL,BU内に適切に配置できる。その結果、製品用の基板Wの搬送を阻害しないダミー基板収容部7L,7Uの配置が実現されている。
 さらに、この実施形態では、ダミー基板収容部7L,7Uが、平面視において、基板載置部6L,6Uと重なるように配置されている。これにより、基板載置部6L,6Uの上方または下方の空間を利用して、ダミー基板収容部7L,7Uが配置されている。それにより、製品用の基板Wの搬送を阻害しないダミー基板収容部7L,7Uの配置を実現しており、処理ブロック層BL,BU内の空間を有効に利用して、ダミー基板収容部7L,7Uを配置できている。前述のとおり、ダミー基板収容部7L,7Uが平面視において基板載置部6L,6Uに重なり合う配置は、具体的には、ダミー基板収容部7L,7Uに収容されたダミー基板DWの一部または全部が基板載置部6L,6Uに保持された基板Wに重なり合う配置であってもよい。
 さらに具体的には、この実施形態では、第1処理ブロック層BL(下層の処理ブロック層)の上に第2処理ブロック層BU(上層の処理ブロック層)が積層されている。そして、第1処理ブロック層BLにおいては、ダミー基板収容部7Lが基板載置部6Lの下方に位置している。その一方で、第2処理ブロック層BUにおいては、ダミー基板収容部7Uが基板載置部6Uの下方に位置している。これにより、第1処理ブロック層BLの基板載置部6Lと第2処理ブロック層BUとの基板載置部6Uの間の高低差を少なくすることができる。それにより、インデクサロボット26による上下方向Zの基板搬送ストロークを短くすることができるので、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減できる。したがって、製品用の基板Wの搬送効率を高めて、生産性の向上に寄与できる。
 また、この実施形態では、各処理ブロック層BL,BUのダミー基板収容部7L,7Uは、当該処理ブロック層BL,BUに含まれる複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uと同数の複数のダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12を含む。そして、各ダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12は1枚のダミー基板DWを保持するように構成されている。これにより、各処理ブロック層BL,BU内で処理ユニット11L-43L,11U-43Uと同数のダミー基板DWを保持しておくことができる。したがって、いずれかの処理ユニット11L-43L,11U-43Uにダミー基板DWを搬入する必要が生じれば、主搬送ロボット8L,8Uにより、当該処理ユニットに速やかにダミー基板DWを搬入して、ダミー処理を行うことができる。ダミー基板DWの搬入にインデクサロボット26は関与しないので、製品用の基板Wの搬送への影響を抑制または防止できる。
 さらに、この実施形態では、各処理ブロック層BL,BUの複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uと当該処理ブロック層の複数のダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12とが、1対1に対応付けられている。そして、主搬送ロボット8L,8Uは、互いに対応するダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12と処理ユニット11L-43L,11U-43Uとの間でダミー基板DWを搬送する。この構成により、ダミー基板スロットに保持されるダミー基板DWは、対応する処理ユニットのための専用のダミー基板とすることができる。それにより、ダミー基板DWの使用履歴の管理が容易になる。
 また、この実施形態では、コントローラ110は、ダミー処理条件(ユニット洗浄実行条件、前処理実行条件、メンテナンス実行条件)が充足されると、主搬送ロボット8L,8Uを制御して、ダミー基板収容部7L,7Uから処理ユニット11L-43L,11U-43Uへとダミー基板DWを搬送させ、その処理ユニットにおいてダミー処理を実行させる。このように、処理ブロック層BL,BU内でのダミー基板DWの搬送によってダミー処理を開始できるので、製品用の基板Wの搬送への影響を抑制または防止しながら、速やかにダミー処理を開始できる。
 また、この実施形態によれば、コントローラ110が基板処理装置1の各部を制御することによって、次のような工程が実行される。すなわち、各処理ブロック層BL,BU内において、主搬送ロボット8L,8Uが当該処理ブロック層内のダミー基板収容部7L,7Uに収容されたダミー基板DWを当該処理ブロック層内の複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uのいずれかに搬入するダミー基板搬入工程(ステップA31,A71,A161)が実行される。そして、当該処理ユニット内で当該搬入されたダミー基板DWを用いたダミー処理を行うダミー処理工程(ステップA32,A72,A162)が実行される。さらに、ダミー処理後に主搬送ロボット8L,8Uがダミー基板DWを処理ユニットから取り出してダミー基板収容部7L,7Uまで搬送する工程が実行される(ステップA33,A73,A163)。また、当該処理ブロック層BL,BUの基板載置部6L,6Uに載置された基板Wを当該処理ブロック層BL,BUの複数の処理ユニット11L-43L,11U-43Uのいずれかに搬入する工程が実行される(ステップA121)。そして、当該処理ユニット内で当該搬入された基板Wを処理する工程が実行される(ステップA122)。これにより、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減しながら、ダミー基板DWを用いた処理を各処理ブロック層BL,BUの処理ユニット11L-43L,11U-43Uにおいて行うことができる。それにより、生産効率を向上できる。
 コントローラ110の制御によって、インデクサロボット26がキャリヤ保持部25に保持されたキャリヤCから基板Wを取り出していずれかの処理ブロック層BL,BUの基板載置部6L,6Uに搬入する基板搬入工程(ステップA20)と並行して、または当該基板搬入工程(ステップA20)に先立って、前述のダミー基板搬入工程(ステップA71)が実行されてもよい。これにより、インデクサロボット26によって製品用の基板Wを処理ブロック層BL,BUに搬入する一方で、各処理ブロック層BL,BU内ではダミー基板DWを処理ユニット11L-43L,11U-43Uに搬入することができる。インデクサロボット26は、ダミー基板DWの搬入に関与しなくてもよいので、インデクサロボット26による基板Wの搬送を待たずに、またはその基板搬送と並行して、処理ブロック層BL,BU内でのダミー基板DWの搬送を行うことができる。したがって、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減できるうえに、処理ブロック層BL,BU内ではダミー基板DWを速やかに処理ユニットへと搬送できる。
 さらに、コントローラ110の制御によって、製品用の基板Wをインデクサロボット26によって基板載置部6L,6Uに搬入する基板搬入工程(ステップA20)と並行して、または当該基板搬入工程に先立って、前述のダミー処理工程(ステップA72)が実行されてもよい。これにより、インデクサロボット26の搬送負荷を軽減できるうえに、処理ブロック層BL,BU内では、ダミー処理を速やかに開始できる。たとえば、ホストコンピュータ150から基板処理の要求を受けると、それに応答して、適切な時期に、ダミー基板DWの搬送およびそれに続くダミー処理を開始できる。それにより、処理ユニット11L-43L,11U-43U内の環境を適切な時期に整えることができるので、製品用の基板Wを収容したキャリヤCがキャリヤ保持部25に搬入されると、速やかに、基板Wの処理を始めることができる。これにより、生産性の向上に寄与できる。
 また、この実施形態では、ダミー基板収容部7L,7Uに収容されたダミー基板DWの使用履歴情報(ダミー基板履歴データ134)がコントローラ110のメモリ112に記憶され、それに基づいて、ダミー基板交換要求がホストコンピュータ150に送信される(使用期限情報の通知)。さらに、交換対象のダミー基板DWをダミー基板収容部7L,7Uからキャリヤ保持部25に搬送して回収するための回収搬送スケジュールが作成される。この回収搬送スケジュールに基づいて主搬送ロボット8L,8Uおよびインデクサロボット26が制御されることにより、交換対象のダミー基板DWがダミー基板収容部7L,7Uからキャリヤ保持部25へと搬送されて回収用ダミーキャリヤDCに回収される。こうして、ダミー基板DWが使用期限を迎えると、当該ダミー基板DWを自動的に排出させることができる。
 この実施形態では、ダミー基板交換要求が、使用期限情報の通知の一例であり、このダミー基板交換要求は、ダミー基板DWが使用できなくなったこと、またはダミー基板DWが間もなく使用できなくなる見込みであることを通知するものである。この実施形態では、ダミー基板交換要求は、使用済みダミー基板DWの回収を要求するダミー基板回収要求である。より正確には、ダミー基板交換要求は、最後のダミー処理の完了後に使用済みダミー基板DWの回収を求めることになるので、使用済みダミー基板DWの回収時期を指定するダミー基板回収予約であるということもできる。また、この実施形態では、ダミー基板交換要求は、未使用のダミー基板DWの供給を要求するダミー基板供給要求でもある。そして、この実施形態では、ダミー基板交換要求は、最後のダミー処理の完了後に使用済みとなるダミー基板DWと置き換えるべき未使用のダミー基板DWの供給を求めることになるので、未使用のダミー基板DWの供給時期を指定するダミー基板供給予約であるということもできる。
 なお、残り一回のダミー処理により使用期限と判断する代わりに、2回以上の所定回数のダミー処理の実行によってダミー基板DWが使用限界に達するように閾値データ136を定めることもできる。それにより、余裕を見込んでダミー基板DWの交換をホストコンピュータ150に要求(予約)できるので、使用済みダミー基板DWの回収計画および未使用ダミー基板DWの供給計画を適切に実行でき、ダミー基板DWを適時に回収および供給できる。
 また、この実施形態では、複数枚のダミー基板DWと複数の処理ユニットとが1対1に対応付けられている。それにより、ダミー基板DWが複数の処理ユニットによって共用されることがないので、ダミー基板DWを介して、複数の処理ユニットが互いに影響し合うことを回避できる。たとえば、一つの処理ユニット内の処理環境が汚染されたとしても、その汚染がダミー基板DWを介して他の処理ユニットに持ち込まれることを回避できる。
 また、この実施形態では、基板処理装置1からのダミー基板交換要求を受けたホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300の動作を計画し、かつその計画に従ってキャリヤ搬送機構300を制御することにより、使用済みダミー基板DWを回収するための回収用ダミーキャリヤDCを基板処理装置1のキャリヤ保持部25に搬入させる。したがって、基板処理装置1からホストコンピュータ150へのダミー基板交換要求(使用期限情報の通知)に基づいて、適切な時期に、回収用ダミーキャリヤDCを基板処理装置1に供給できる。すなわち、回収用ダミーキャリヤDCの供給が自動的にかつ適時に行われるので、基板処理装置1のダウンタイムを短縮でき、その生産性を向上することができる。
 また、ホストコンピュータ150は、基板処理装置1に対して、ダミー基板DWの回収搬送を指令するので、基板処理装置1は、適時にダミー基板DWの回収搬送、すなわち、使用済みダミー基板DWのダミー基板収容部7L,7Uから回収用ダミーキャリヤDCへの搬送を計画し、かつ実行できる。つまり、回収用ダミーキャリヤDCの搬入と、基板処理装置1内でのダミー基板DWの回収搬送の開始とのタイミングを整合させることができる。さらにまた、回収用ダミーキャリヤDCへのダミー基板DWの回収完了が基板処理装置1からホストコンピュータ150に通知され、それに応じて、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300による回収用ダミーキャリヤDCの搬出を計画し、その計画に従ってキャリヤ搬送機構300を制御する。したがって、回収用ダミーキャリヤDCが、自動的にかつ適時に、基板処理装置1のキャリヤ保持部25から搬出される。具体的には、回収用ダミーキャリヤDCへのダミー基板DWの搬入完了と整合するタイミングで、回収用ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25から搬出できる。このようにして、回収用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25を占有する時間を短縮できるので、製品基板Wを収容するキャリヤCのためにキャリヤ保持部25を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板Wを効率的に基板処理装置1に投入でき、また、処理済み製品基板Wを効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 なお、タイミングの「整合」は、必ずしも時間的な一致を意味するものではなく、生産性の観点から許容される所定時間内に、対応するイベントが生じることを意味する。この場合の所定時間は、たとえば1分程度である。以下の説明においても同様である。
 さらに、ホストコンピュータ150は、キャリヤ搬送機構300によって、使用可能なダミー基板DWを収容した供給用ダミーキャリヤDCを基板処理装置1のキャリヤ保持部25に搬送させる計画を作成し、かつその計画に従ってキャリヤ搬送機構300の動作を制御する。これにより、供給用ダミーキャリヤDCが、自動的にかつ適時に基板処理装置1に供給される。基板処理装置1においては、供給用ダミーキャリヤDCからダミー基板収容部7L,7Uへとダミー基板DWを搬送する供給搬送スケジュールが作成され、その供給搬送スケジュールに従ってダミー基板DWが搬送される。こうして、ダミー基板DWを自動的かつ適時に基板処理装置1に供給できるので、たとえば、使用可能なダミー基板DWの不足に起因する基板処理装置1のダウンタイムを短縮できる。それにより、生産性の向上に寄与できる。
 また、ホストコンピュータ150は、基板処理装置1に対して、ダミー基板DWの供給搬送を指令するので、基板処理装置1は、適時にダミー基板DWの供給搬送、すなわち、使用可能なダミー基板DWの供給用ダミーキャリヤDCからダミー基板収容部7L,7Uへの搬送を計画し、かつ実行できる。したがって、供給用ダミーキャリヤDCの搬入とタイミングを整合させて、基板処理装置1内でのダミー基板DWの供給搬送を開始することができる。さらに、供給用ダミーキャリヤDCからのダミー基板DWの搬出完了が基板処理装置1からホストコンピュータ150に通知され、それに基づいて、ホストコンピュータ150は、供給用ダミーキャリヤDCの搬出を計画し、その計画に従ってキャリヤ搬送機構300を作動させる。それにより、供給用ダミーキャリヤDCからのダミー基板DWの搬出完了と整合するタイミングで、供給用ダミーキャリヤDCをキャリヤ保持部25から搬出できる。こうして、供給用ダミーキャリヤDCを自動的かつ適時に基板処理装置1のキャリヤ保持部25から搬出できる。このようにして、供給用ダミーキャリヤDCがキャリヤ保持部25を占有する時間を短くでき、製品基板Wを収容するキャリヤCの保持のために、キャリヤ保持部25を速やかに明け渡すことができる。それにより、未処理製品基板Wを効率的に基板処理装置1に投入でき、また、処理済み製品基板Wを効率的に回収できるので、生産性の向上を図ることができる。
 図12は、この発明の第2の実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な縦断面図であり、図2の縦断面に相当する縦断面における構成を示す。前述の第1の実施形態と比較すると、この実施形態では、第1処理ブロック層BLと第2処理ブロック層BUとを区分する中間隔壁16が取り払われている。さらに、主搬送ロボット8L,8Uの上下動を案内する支柱83は、第1処理ブロック層BLおよび第2処理ブロック層BUに渡って上下に延びている。それにより、主搬送ロボット8L,8Uは、第1の実施形態の場合よりも大きなストロークで上下動することができるように構成されている。むろん、コントローラ110は、主搬送ロボット8L,8Uが互いに干渉しないように、それらの動作を制御する。
 また、この実施形態では、第1の実施形態における2つの基板載置部6U,6Lが一つの基板載置部6に置き換えられている。基板載置部6は、第1処理ブロック層BLと第2処理ブロック層BUとで共用される。すなわち、第1処理ブロック層BLの主搬送ロボット8Lは、基板載置部6にアクセス可能であり、基板載置部6と第1処理ブロック層BLの処理ユニット11L-43Lとの間で製品基板Wを搬送する。また、主搬送ロボット8Lは、基板載置部6と、処理ユニット11L-43Lと、ダミー基板収容部7Lとの間でダミー基板DWを搬送する。同様に、第2処理ブロック層BUの主搬送ロボット8Uは、基板載置部6にアクセス可能であり、基板載置部6と第2処理ブロック層BUの処理ユニット11U-43Uとの間で製品基板Wを搬送する。また、主搬送ロボット8Uは、基板載置部6と、処理ユニット11U-43Uと、ダミー基板収容部7Uとの間でダミー基板DWを搬送する。
 基板載置部6は、未処理基板載置部61および既処理基板載置部62を備えている。ただし、基板載置部6は、第1および第2処理ブロック層BL,BUで共用されるので、未処理基板載置部61および既処理基板載置部62は、それぞれ、第1の実施形態の場合よりも多くのスロットを有する基板保持棚65,66を備えていることが好ましい。基板載置部6に備えられる基板保持棚65,66は、少なくとも1つ(すなわち、一部または全部)のスロットが、両方の主搬送ロボット8L,8Uによってアクセス可能な配置とされていてもよい。より詳細には、未処理基板載置部61の基板保持棚65(図5参照)は、少なくとも一つ(すなわち、一部または全部)のスロットが、両方の主搬送ロボット8L,8Uによってアクセス可能な配置とされていてもよい。同様に、既処理基板載置部62の基板保持棚66(図5参照)は、少なくとも一つ(すなわち、一部または全部)のスロットが、両方の主搬送ロボット8L,8Uによってアクセス可能な配置とされていてもよい。
 基板載置部6は、インデクサロボット26によってアクセス可能な配置とされていることが好ましい。より詳細には、インデクサロボット26は、基板載置部6の基板保持棚65,66の全てのスロットにアクセス可能であり、それらに対して製品基板Wまたはダミー基板DWを搬入および搬出できるように構成されていることが好ましい。
 図13は、この発明の第3の実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための縦断面図であり、図2の縦断面に相当する縦断面における構成を示す。第1の実施形態では、インデクサブロック2および処理ブロック3の隣接する隔壁2a,3aには、基板載置部6L,6Uに対応する窓4L,4Uが形成され、ダミー基板収容部7L,7Uに対応する窓は形成されていない。これに対して、この実施形態では、ダミー基板収容部7L,7Uに対応する窓5L,5Uが隔壁2a,3aに追加されている。
 このような追加の窓5L,5Uを設けることにより、ダミー基板DWを処理ブロック層BL,BUに導入するときに、インデクサロボット26がダミー基板収容部7L,7Uに直接アクセスして、ダミー基板DWを搬入することができる。さらに、使用済みのダミー基板DWを処理ブロック層BL,BUから搬出するときに、インデクサロボット26がダミー基板収容部7L,7Uに直接アクセスして、ダミー基板を搬出することができる。このようなダミー基板DWの搬入/搬出の際に、主搬送ロボット8L,8Uはいずれも関与する必要がない。したがって、主搬送ロボット8L,8Uの搬送負荷を軽減して生産性の向上を図ることができる。
 図14は、この発明の第4の実施形態に係る基板処理装置の内部構成を示す図解的な平面図である。第1の実施形態では、複数の処理ユニット11L-43Uは、下段の処理ブロック層BLに備えられる第1処理ユニット群と、上段の処理ブロック層BUに備えられる第2処理ユニット群とに区分されており、それらの間に水平な中間隔壁16が設けられている。これに対して、この実施形態では、処理ブロック3内の空間を上下に区分する中間隔壁16は設けられておらず、代わり、処理ブロック3内の空間を水平方向に区分する中央隔壁18が備えられている。
 中央隔壁18は、キャリヤ保持部25側から第1水平方向Xに見た正面視において、処理ブロック3内の空間を左右に区分している。中央隔壁18は、処理ブロック3の第2水平方向Y(左右方向)に関する中央付近において、第1水平方向Xおよび上下方向Zに沿って延びる平板状の隔壁である。中央隔壁18は、その一方側に配置された第1処理ブロック部B1と、その他方側に配置された第2処理ブロック部B2とを形成している。すなわち、第1処理ブロック部B1および第2処理ブロック部B2は、互いの側方に配置されている。処理ブロック3に備えられた複数の処理ユニット11L-43Uは、第1処理ブロック部B1に含まれる第1処理ユニット群G1と、第2処理ブロック部B2に含まれる第2処理ユニット群G2とに区分されている。複数の処理ユニット11L-43Uの配置は、第1の実施形態と類似しているので、図14では、複数の処理ユニット11L-43Uに図1と同じ参照符号を付してある。第1処理ユニット群G1は、第1タワーT1および第2タワーT2を形成する複数の処理ユニット11L,12L,13L,11U,12U,13U;21L,22L,23L,21U,22U,23Uで構成されている。第2処理ユニット群G2は、第3タワーT3および第4タワーT4を構成する複数の処理ユニット31L,32L,33L,31U,32U,33U;41L,42L,43L,41U,42U,43Uで構成されている。
 第1処理ユニット群G1に対応して、中央隔壁18の一方側に第1主搬送ロボット8Aが設けられている。第1主搬送ロボット8Aは、中央隔壁18と第1処理ユニット群G1との間に区画された第1搬送空間53A内で動作し、それにより、製品基板Wおよびダミー基板DWは、第1搬送空間53Aを通って搬送される。同様に、第2処理ユニット群G2に対応して、中央隔壁18の他方側に第2主搬送ロボット8Bが設けられている。第2主搬送ロボット8Bは、中央隔壁18と第2処理ユニット群G2との間に区画された第2搬送空間53B内で動作し、それにより、製品基板Wおよびダミー基板DWは、第2搬送空間53Bを通って搬送される。第1主搬送ロボット8Aおよび第2主搬送ロボット8Bの構成は、図12に示した第2実施形態の場合とほぼ同様であるので、対応構成部分に同じ参照符号を付して説明を省略する。ただし、この実施形態では、上下方向移動をガイドする支柱83は、中央隔壁18に固定されている。
 さらに、第1処理ユニット群G1に対応して、第1搬送空間53Aのインデクサブロック2に隣接する端部には、第1基板載置部6Aが設けられている。さらに、平面視において第1基板載置部6Aと一部または全部が重なるように、第1基板載置部6Aの上方および/または下方に第1ダミー基板収容部7Aが配置されている。同様に、第2処理ユニット群G2に対応して、第2搬送空間53Bのインデクサブロック2に隣接する端部には、第2基板載置部6Bが設けられている。さらに、平面視において第2基板載置部6Bと一部または全部が重なるように、第2基板載置部6Bの上方および/または下方に第2ダミー基板収容部7Bが配置されている。
 第1主搬送ロボット8Aは、第1処理ユニット群G1を構成する複数の処理ユニット、第1基板載置部6Aおよび第1ダミー基板収容部7Aにアクセス可能である。それにより、第1主搬送ロボット8Aは、第1処理ユニット群G1を構成する複数の処理ユニットおよび第1基板載置部6Aの間で製品基板Wを搬送する。また、第1主搬送ロボット8Aは、第1処理ユニット群G1を構成する複数の処理ユニット、第1基板載置部6Aおよび第1ダミー基板収容部7Aの間でダミー基板DWを搬送する。第1主搬送ロボット8Aは、この実施形態では、第2処理ユニット群G2、第2基板載置部6Bおよび第2ダミー基板収容部7Bのいずれにもアクセスすることはできない。
 同様に、第2主搬送ロボット8Bは、第2処理ユニット群G2を構成する複数の処理ユニット、第2基板載置部6Bおよび第2ダミー基板収容部7Bにアクセス可能である。それにより、第2主搬送ロボット8Bは、第2処理ユニット群G2を構成する複数の処理ユニットおよび第2基板載置部6Bの間で製品基板Wを搬送する。また、第2主搬送ロボット8Bは、第2処理ユニット群G2を構成する複数の処理ユニット、第2基板載置部6Bおよび第2ダミー基板収容部7Bの間でダミー基板DWを搬送する。第2主搬送ロボット8Bは、この実施形態では、第1処理ユニット群G1、第1基板載置部6Aおよび第1ダミー基板収容部7Aのいずれにもアクセスすることはできない。
 インデクサロボット26は、キャリヤ保持部25に保持されたキャリヤC,DC、第1基板載置部6Aおよび第2基板載置部6Bにアクセス可能であり、それらの間で製品基板Wおよびダミー基板DWを搬送する。インデクサロボット26は、この実施形態では、第1ダミー基板収容部7Aおよび第2ダミー基板収容部7Bのいずれにもアクセスすることができない。むろん、インデクサロボット26は、第1処理ユニット群G1および第2処理ユニット群G2にアクセスすることもできない。
 この第4の実施形態を前述の第2の実施形態(図12参照)にならって変形し、第1基板載置部6Aおよび第2基板載置部6Bに代えて、インデクサロボット26、第1主搬送ロボット8Aおよび第2主搬送ロボット8Bが共通にアクセス可能な基板載置部を設けてもよい。たとえば、中央隔壁18のインデクサブロック2側の端部に切り欠きを設けて、第1処理ユニット群G1および第2処理ユニット群G2で共用される基板載置部を配置することができる。
 また、第4の実施形態を前述の第3の実施形態(図13参照)にならって変形し、インデクサロボット26が第1ダミー基板収容部7Aおよび第2ダミー基板収容部7Bにアクセス可能な構成としてもよい。それにより、第1主搬送ロボット8Aおよび第2主搬送ロボット8Bの関与なしに、インデクサロボット26によって、第1ダミー基板収容部7Aおよび第2ダミー基板収容部7Bに対するダミー基板DWの搬入/搬出を行える。
 以上、この発明の4つの実施形態について説明してきたが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。たとえば、前述の第1の実施形態などでは、2層の処理ブロック層BL,BUを積層して構成された処理ブロック3の構成を示したが、3層以上の処理ブロック層が積層されて処理ブロックが構成されてもよい。また、前述の第1の実施形態などでは、各処理ブロック層BL,BUが3段に積層された処理ユニット配置を有する例を示したが、各処理ブロック層に含まれる処理ユニットは、2段に積層されてもよいし、4段以上に積層されてもよいし、1段に全ての処理ユニットが配置されてもよい。さらに、前述の第1の実施形態などでは、搬送経路51L,51Uの両側に処理ユニット11L-43Uが配置された例を示したが、搬送経路51L,51Uの一方側に処理ユニットが配置されてもよい。また、前述の第1の実施形態などでは、搬送経路51L,51Uの一方側に当該搬送経路51L,51Uに沿って、2個の処理ユニットが配置されているが、1個の処理ユニットが配置されてもよく、3個以上の処理ユニットが配置されてもよい。
 さらに、前述の第1の実施形態などでは、各処理ブロック層BL,BUのダミー基板収容部7L,7Uには、処理ユニット11L-43L,11U-43Uと同数のダミー基板スロットDL1-DL12,DU1-DU12を設け、それらが処理ユニット11L-43L,11U-43Uに1対1に対応している。しかし、たとえば、各処理ブロック層BL,BUにおけるダミー基板スロットの数を処理ユニットの数よりも少なくして、一つのダミー基板スロットを複数の処理ユニットに対応付けるようにしてもよい。
 また、前述の実施形態では、複数の処理ユニットが複数の処理ユニット群に分かれている構成の基板処理装置の例を示したが、複数の処理ユニットに対して一つの主搬送ロボットによって基板Wまたはダミー基板DWを搬送する構成の基板処理装置に対しても、この発明を適用することができる。さらには、処理ユニットの数は1であってもよい。
 本発明の実施形態について詳細に説明してきたが、これらは本発明の技術的内容を明らかにするために用いられた具体例に過ぎず、本発明はこれらの具体例に限定して解釈されるべきではなく、本発明の範囲は添付の請求の範囲によってのみ限定される。
 C キャリヤ
 DC ダミーキャリヤ
 W 基板(製品基板)
 DW ダミー基板
 1 基板処理装置
 2 インデクサブロック
 25 キャリヤ保持部
 26 インデクサロボット
 3 処理ブロック
 BL 第1処理ブロック層
  11L-13L 処理ユニット
  21L-23L 処理ユニット
  31L-33L 処理ユニット
  41L-43L 処理ユニット
  6L 基板載置部
  7L ダミー基板収容部
  DL1-DL12 ダミー基板スロット
  8L 主搬送ロボット
  51L 搬送経路
  52L 搬送空間
 BU 第2処理ブロック層
  11U-13U 処理ユニット
  21U-23U 処理ユニット
  31U-33U 処理ユニット
  41U-43U 処理ユニット
  6U 基板載置部
  7U ダミー基板収容部
  DU1-DU12 ダミー基板スロット
  8U 主搬送ロボット
  51U 搬送経路
  52U 搬送空間
 B1 第1処理ブロック部
 B2 第2処理ブロック部
 G1 第1処理ユニット群
 G2 第2処理ユニット群
 8A 第1主搬送ロボット
 8B 第2主搬送ロボット
 6  基板載置部
 6A 第1基板載置部
 6B 第2基板載置部
 7A 第1ダミー基板収容部
 7B 第2ダミー基板収容部
 110 コントローラ
 150 ホストコンピュータ
 300 キャリヤ搬送機構
 351 ダミーキャリヤ置き場

Claims (17)

  1.  基板またはダミー基板を収容するキャリヤを保持するキャリヤ保持部と、
     基板を処理し、かつダミー基板を用いる処理を実行する処理ユニットと、
     ダミー基板を収容するダミー基板収容部と、
     基板が載置される基板載置部と、
     前記処理ユニット、前記ダミー基板収容部および前記基板載置部にアクセス可能であり、前記処理ユニットおよび前記基板載置部の間で基板を搬送し、前記処理ユニット、前記ダミー基板収容部および前記基板載置部の間でダミー基板を搬送する第1搬送ユニットと、
     前記キャリヤ保持部および前記基板載置部にアクセス可能であり、前記キャリヤ保持部および前記基板載置部の間で基板を搬送する第2搬送ユニットと、
     前記ダミー基板収容部に収容されるダミー基板の使用履歴情報を記憶する記憶部と、
     前記記憶部に記憶された使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板収容部に収容されたダミー基板の使用期限情報を通知する使用期限通知部と、
     前記第1搬送ユニットおよび前記第2搬送ユニットによる基板またはダミー基板の搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部であって、前記使用期限情報が通知されたダミー基板を前記ダミー基板収容部から前記キャリヤ保持部に搬送して回収するための搬送スケジュールを作成するスケジュール作成部と、
     前記スケジュール作成部によって作成された搬送スケジュールに従って、前記第1搬送ユニットおよび前記第2搬送ユニットによる基板またはダミー基板の搬送を制御する搬送制御部と、を含む、基板処理装置。
  2.  前記記憶部は、ダミー基板の使用回数、使用時間、および消耗状態のうちの少なくとも一つの情報を前記使用履歴情報として記憶する、請求項1に記載の基板処理装置。
  3.  前記記憶部は、前記使用履歴情報と、前記使用履歴情報に対応する使用期限閾値情報とを記憶する、請求項1または2に記載の基板処理装置。
  4.  前記ダミー基板収容部は、複数枚のダミー基板を収容し、前記記憶部は各ダミー基板に対して前記使用履歴情報および前記使用期限閾値情報を記憶する、請求項3に記載の基板処理装置。
  5.  複数の前記処理ユニットが備えられており、前記複数枚のダミー基板と前記複数の処理ユニットとの対応関係が予め定められており、前記記憶部が前記対応関係を表す情報を記憶する、請求項4に記載の基板処理装置。
  6.  前記使用期限通知部は、前記使用履歴情報と前記使用期限閾値情報とを比較し、その比較の結果に基づいてダミー基板の使用期限情報を通知する、請求項3~5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  7.  前記記憶部に記憶された使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板収容部に収容されたダミー基板の使用期限情報を使用者に報知する報知ユニットをさらに含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  8.  請求項1~7のいずれか一項に記載の基板処理装置と、
     使用済みのダミー基板を収容するための回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入するキャリヤ搬送ユニットと、
     前記使用期限通知部から前記使用期限情報の通知を受けて、前記キャリヤ搬送ユニットによって回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入する回収用ダミーキャリヤ搬送を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットにより回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入させ、かつ前記基板処理装置に対して、ダミー基板の回収搬送を指令するホストコンピュータと、を含む、基板処理システム。
  9.  前記ホストコンピュータは、前記基板処理装置から、ダミー基板の前記回収用ダミーキャリヤへの回収に関する情報を得て、前記キャリヤ搬送ユニットによって、使用済みのダミー基板を収容した回収用ダミーキャリヤの前記キャリヤ保持部からの搬出を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって回収用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部から搬出させる、請求項8に記載の基板処理システム。
  10.  前記スケジュール作成部は、前記キャリヤ保持部から使用可能なダミー基板を前記ダミー基板収容部に搬送するための搬送スケジュールをさらに作成するものであり、
     前記キャリヤ搬送ユニットは、使用可能なダミー基板を収容した供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入するように動作するものであり、
     前記ホストコンピュータは、前記キャリヤ搬送ユニットによって供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入する供給用ダミーキャリヤ搬送を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットにより供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部に搬入させ、かつ前記基板処理装置に対して、使用可能なダミー基板の供給搬送を指令する、請求項8または9に記載の基板処理システム。
  11.  前記ホストコンピュータは、前記基板処理装置から、前記供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出に関する情報を得て、前記キャリヤ搬送ユニットによって、供給用ダミーキャリヤの前記キャリヤ保持部からの搬出を計画し、当該計画に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって供給用ダミーキャリヤを前記キャリヤ保持部から搬出させる、請求項10に記載の基板処理システム。
  12.  前記キャリヤ搬送ユニットは、前記キャリヤ保持部と、当該キャリヤ保持部とは異なるダミーキャリヤ置き場との間で回収用ダミーキャリヤまたは供給用ダミーキャリヤを搬送する、請求項8~11のいずれか一項に記載の基板処理システム。
  13.  処理ユニットと基板載置部との間で、第1搬送ユニットによって基板を搬送する工程と、
     前記処理ユニットにおいて、前記第1搬送ユニットによって搬送された基板を処理する工程と、
     前記処理ユニットとダミー基板収容部との間で、前記第1搬送ユニットによってダミー基板を搬送する工程と、
     前記処理ユニットにおいて、前記第1搬送ユニットによって搬送されたダミー基板を用いたダミー処理を実行する工程と、
     キャリヤ保持部に保持されたキャリヤと前記基板載置部との間で、第2搬送ユニットによって基板を搬送する工程と、
     前記ダミー基板収容部に収容されるダミー基板の使用履歴情報を記録する工程と、
     前記使用履歴情報に基づいて、前記ダミー基板の使用期限を判断する工程と、
     前記使用期限の判断に基づいて、使用期限に達したダミー基板を前記ダミー基板収容部から前記キャリヤ保持部に搬送して回収するための回収搬送工程と、
     前記使用期限の判断に基づいて、使用済みのダミー基板を収容するための回収用ダミーキャリヤをキャリヤ搬送ユニットによって前記キャリヤ保持部に搬入する回収用ダミーキャリヤ搬入工程と、を含む、基板処理方法。
  14.  前記回収搬送工程における前記回収用ダミーキャリヤへのダミー基板の搬入完了と整合するタイミングで、前記キャリヤ搬送ユニットによって、前記キャリヤ保持部から前記回収用ダミーキャリヤを搬出する工程をさらに含む、請求項13に記載の基板処理方法。
  15.  前記使用期限の判断に基づいて、前記キャリヤ搬送ユニットによって、使用可能なダミー基板を収容した供給用ダミー基板を前記キャリヤ保持部に搬入する供給用ダミーキャリヤ搬入工程と、
     前記使用期限の判断に基づいて、前記キャリヤ保持部から使用可能なダミー基板を前記ダミー基板収容部に搬送する供給搬送工程と、をさらに含む、請求項13または14に記載の基板処理方法。
  16.  前記供給搬送工程における前記供給用ダミーキャリヤからのダミー基板の搬出完了と整合するタイミングで、前記キャリヤ搬送ユニットによって、前記キャリヤ保持部から前記供給用ダミーキャリヤを搬出する工程をさらに含む、請求項15に記載の基板処理方法。
  17.  複数の前記処理ユニットが備えられ、
     前記ダミー基板収容部は、前記複数の処理ユニットとの対応関係が予め定められた複数枚のダミー基板を収容する、請求項13~16のいずれか一項に記載の基板処理方法。
PCT/JP2022/005467 2021-03-23 2022-02-10 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 WO2022201953A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202280022131.2A CN117083701A (zh) 2021-03-23 2022-02-10 基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法
KR1020237024000A KR20230119200A (ko) 2021-03-23 2022-02-10 기판 처리 장치, 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021049169A JP2022147778A (ja) 2021-03-23 2021-03-23 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法
JP2021-049169 2021-03-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022201953A1 true WO2022201953A1 (ja) 2022-09-29

Family

ID=83395567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/005467 WO2022201953A1 (ja) 2021-03-23 2022-02-10 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2022147778A (ja)
KR (1) KR20230119200A (ja)
CN (1) CN117083701A (ja)
TW (2) TWI829526B (ja)
WO (1) WO2022201953A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004304116A (ja) * 2003-04-01 2004-10-28 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2010123733A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びその処理方法、並びに記憶媒体
JP2010263017A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Tokyo Electron Ltd ロット処理開始判定方法及び制御装置
JP2012109333A (ja) * 2010-11-16 2012-06-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2014116545A (ja) * 2012-12-12 2014-06-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP2019087614A (ja) * 2017-11-06 2019-06-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び通知方法
JP2020155467A (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置、および、基板処理方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5293719B2 (ja) * 2010-10-01 2013-09-18 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置のデータ取得方法及びセンサ用基板
CN105479324B (zh) * 2014-10-03 2020-11-06 株式会社荏原制作所 研磨装置及处理方法
JP6512445B2 (ja) 2015-08-18 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP7181081B2 (ja) * 2018-12-28 2022-11-30 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004304116A (ja) * 2003-04-01 2004-10-28 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2010123733A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びその処理方法、並びに記憶媒体
JP2010263017A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Tokyo Electron Ltd ロット処理開始判定方法及び制御装置
JP2012109333A (ja) * 2010-11-16 2012-06-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2014116545A (ja) * 2012-12-12 2014-06-26 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
JP2019087614A (ja) * 2017-11-06 2019-06-06 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び通知方法
JP2020155467A (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置、および、基板処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW202324584A (zh) 2023-06-16
TWI796175B (zh) 2023-03-11
TW202240749A (zh) 2022-10-16
JP2022147778A (ja) 2022-10-06
KR20230119200A (ko) 2023-08-16
TWI829526B (zh) 2024-01-11
CN117083701A (zh) 2023-11-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI489584B (zh) 基板處理裝置
JP5505384B2 (ja) 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
TWI404162B (zh) 基板處理裝置以及於此裝置中轉移基板的方法
JP2008078616A (ja) カセット蓄積量を増加させた処理装置
JP2016201526A (ja) 基板処理システム
JP2019068058A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR102570393B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
WO2022201953A1 (ja) 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法
WO2022201995A1 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
WO2022201887A1 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP4886669B2 (ja) 基板処理装置
JP6656305B2 (ja) 基板処理装置
TW202418458A (zh) 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法
WO2024042815A1 (ja) 基板処理装置
WO2024062695A1 (ja) 基板処理装置
WO2023129544A1 (en) Four or cassette storage for hybrid substrate bonding system
CN117747488A (zh) 基板处理装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22774754

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20237024000

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202280022131.2

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 22774754

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1