JP4863985B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、マッピングアームによりFOUP内における基板の収納場所及び枚数が特定されるものの、FOUPの搬入出口付近の受渡位置に移動した搬送機構の支持アームが基板を収納することができる位置にあるとは限らない。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行う処理部と、複数枚の基板を収納するためのFOUP(Front Opening Unified Pod)を載置する載置部と、前記処理部と前記載置部との間に配置され、前記載置部に載置されたFOUPの搬入出口に取り付けられる蓋をFOUPに対して着脱する着脱手段と、前記着脱手段を挟んで、FOUPの搬入出口に対向する受渡位置に移動可能であって、複数枚の基板を支持する複数の支持部材を備え、前記支持部材に複数枚の基板を保持しつつ、前記処理部とFOUPとの間で複数枚の基板を搬送する搬送手段と、前記着脱手段により蓋が取り外された状態で、FOUP内に収納されている複数枚の基板を検出する基板検出手段と、前記搬送手段が備える複数の支持部材を検出する支持部材検出手段と、前記着脱手段により蓋を取り外させ、前記搬送手段を受渡位置に移動させた状態で、前記基板検出手段による基板の検出結果及び前記支持部材検出手段により前記支持部材の検出結果に基づいて、基板の搬送処理の可否を判断する制御手段と、を備え、前記着脱手段と前記搬送手段との間に配置され、上下方向に移動する検出部をさらに有し、前記基板検出手段は、FOUP側に向けて前記検出部に取り付けられており、前記支持部材検出手段は、前記搬送手段側に向けて前記検出部に取り付けられていることを特徴とするものである。
FOUPの搬入出口に取り付けられている蓋を取り外すとともに、複数の支持部材を備えた搬送手段を受渡位置に移動させる過程と、
FOUPに収納されている基板を検出する基板検出手段と、搬送手段が備えた複数の支持部材を検出する支持部材検出手段とを基板の整列方向に移動させて検出動作を行わせる過程と、
前記検出動作に基づいて搬送手段の複数の支持部材とFOUP内の基板の相対位置を確認する過程と、
前記相対位置が、複数枚の基板と複数の支持部材とが干渉する関係にある場合には、異常発生を報知する過程と、
前記相対位置が、複数枚の基板と複数の支持部材とが非干渉の関係にある場合には、搬送処理を行う過程と、
を備えていることを特徴とする基板搬送方法。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す一部破断縦断面図であり、図2は、実施例に係る基板処理装置の用部を示す一部破断横平面図である。
搬送機構10は各支持部材43に基板Wを支持しておらず、FOUP1は複数枚の基板Wを収納した状態を前提として、蓋7で密閉されたFOUP1から基板Wを搬出する動作について説明する。また、昇降部材19は、図1に示すように上方に位置されている。
制御部45は、蓋着脱部15を操作してFOUP1の蓋7を開放させる。蓋着脱部15は、蓋7のFOUP1に対するロックを解除するとともに、蓋7を手前側へ引き出して、蓋7とともに下方へ向かって移動する。
制御部45は、搬送機構10を受渡位置へ移動させる。搬送機構10は、支持部材43をFOUP1内へ進出させていない待機状態とされる。このときの状態を横から見ると、図1のようになる。
制御部45は、昇降駆動部20を操作して、昇降部材19を上方位置から下方位置へと下降させる。その際、FOUP1の各収納棚に収納されている基板Wがマッピングセンサ23によって検出され、各収納棚の下方に進出される待機状態の各支持部材43が支持部材検出センサ37によって検出される。検出された各高さ位置は、制御部45によって記憶される。
制御部45は、ステップS3における検出結果に応じて処理を分岐する。
つまり、基板Wが収納されている収納棚の高さ位置に対応する位置(収納棚の若干下方)に支持部材43がある場合(非干渉の位置関係にある場合)には正常状態と判断し(OK)、ない場合(干渉の位置関係にある場合)には、異常状態と判断する(NG)。
ステップS4において正常状態と判断した場合、制御部45は、搬送機構10を操作して、各支持部材43をFOUP1内に進出させ、各基板Wを各支持部材43ですくい上げて支持させた後に、各支持部材43を退出させる。これにより、各基板Wが各支持部材43によって支持された状態でFOUP1から搬出される。
ステップS4において異常状態と判断された場合には、制御部45は、報知部47を動作させてアラームを発生させ、オペレータに対して注意を喚起する。したがって、搬出動作は行われることがない。
搬送機構10は各支持部材43に基板Wを支持しており、FOUP1は基板Wを収納していない状態を前提として、蓋7で密閉されたFOUP1に対して基板Wを搬入する動作について説明する。また、昇降部材19は、図1に示すように上方に位置されている。
ステップS1と同様にして蓋7を蓋着脱部15で取り外す。
制御部45は、複数枚の基板Wをそれぞれ支持部材43に支持させた状態の搬送機構10を受渡位置へ移動させる。搬送機構10は、各支持部材43を進出させないまま待機状態とされる。
制御部45は、昇降駆動部20を操作して、昇降部材19を上方位置から下方位置へと下降させる。その際、マッピングセンサ23は基板Wを検出することはないので、マッピングセンサ23等からの信号は制御部45によって無視されるが、FOUP1の各収納棚の下方に進出される待機状態の各支持部材43が支持部材検出センサ37によって検出される。その際、各支持部材43の高さ位置が制御部45に記憶される。
制御部45は、ステップT3における検出結果に応じて処理を分岐する。
つまり、待機位置に支持部材43が位置し、かつFOUP1の収納棚に非干渉の位置関係にある場合には、正常状態と判断し(OK)、待機位置に支持部材43が位置していない場合には、異常状態と判断する(NG)。
ステップT4において正常状態と判断した場合、制御部45は、搬送機構10を操作して、各支持部材43をFOUP1内に進出させるとともに各支持部材43を僅かに下降させることにより、各基板WをFOUP1の各収納棚に載置させる。その後、各支持部材43を退出させる。これにより、各基板Wが各支持部材43からFOUP1に移載されて搬入される。一方、ステップT4において異常状態と判断した場合、制御部45は、搬送機構10を操作することなく、報知部47を動作させてアラームを発生させる。
1 … FOUP
3 … 載置部
5 … 搬入出口
7 … 蓋
9 … 処理部
10 … 搬送機構
15 … 蓋着脱部
17 … 検出部
19 … 昇降部材
21 … マッピングアーム
23 … マッピングセンサ
35 … 検出アーム
37 … 支持部材センサ
45 … 制御部
Claims (5)
- 基板に処理を行う処理部と、
複数枚の基板を収納するためのFOUP(Front Opening Unified Pod)を載置する載置部と、
前記処理部と前記載置部との間に配置され、前記載置部に載置されたFOUPの搬入出口に取り付けられる蓋をFOUPに対して着脱する着脱手段と、
前記着脱手段を挟んで、FOUPの搬入出口に対向する受渡位置に移動可能であって、複数枚の基板を支持する複数の支持部材を備え、前記支持部材に複数枚の基板を保持しつつ、前記処理部とFOUPとの間で複数枚の基板を搬送する搬送手段と、
前記着脱手段により蓋が取り外された状態で、FOUP内に収納されている複数枚の基板を検出する基板検出手段と、
前記搬送手段が備える複数の支持部材を検出する支持部材検出手段と、
前記着脱手段により蓋を取り外させ、前記搬送手段を受渡位置に移動させた状態で、前記基板検出手段による基板の検出結果及び前記支持部材検出手段により前記支持部材の検出結果に基づいて、基板の搬送処理の可否を判断する制御手段と、
を備え、
前記着脱手段と前記搬送手段との間に配置され、上下方向に移動する検出部をさらに有し、
前記基板検出手段は、FOUP側に向けて前記検出部に取り付けられており、前記支持部材検出手段は、前記搬送手段側に向けて前記検出部に取り付けられている
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板検出手段は、FOUP内に複数枚の基板を収納した状態で、複数枚の基板の整列方向に移動しつつ基板の検出を行い、
前記支持部材検出手段は、前記複数の支持部材の整列方向に移動しつつ前記支持部材の検出を行い、
前記制御手段は、FOUP内の複数枚の基板に対して前記複数の支持部材が受渡位置にあると判断した場合、前記搬送手段によりFOUP内から複数枚の基板を搬出させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記支持部材検出手段は、複数枚の基板を支持している前記複数の支持部材の整列方向に移動しつつ前記支持部材の検出を行い、
前記制御手段は、FOUP内の複数枚の基板の収納位置に対して前記複数の支持部材が受渡位置にあると判断した場合、前記搬送手段によりFOUPへ複数枚の基板を搬入させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板検出手段は、FOUPの搬入出口側において基板の端縁を挟む位置に配置させられた一対のマッピングアームと、前記一対のマッピングアームの先端側にそれぞれ設けられ、基板の端縁を検出する方向に光軸を向けて配設された投受光器と、を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記支持部材検出手段は、前記搬送手段側において基板の端縁を挟む位置に配置させられた一対の検出アームと、前記一対の検出アームの先端側にそれぞれ設けられ、基板の端縁を検出する方向に光軸を向けて配設された投受光器と、を備えていることを特徴とする基板処理装置。
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|---|---|---|---|---|
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| JP5452349B2 (ja) * | 2010-05-11 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の搬送方法、被処理体の搬送装置、及び、プログラム |
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| KR102421675B1 (ko) * | 2018-08-01 | 2022-07-15 | 히라따기꼬오 가부시키가이샤 | 반송 장치 및 제어 방법 |
| JP7158238B2 (ja) * | 2018-10-10 | 2022-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
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| JP7624819B2 (ja) * | 2020-10-01 | 2025-01-31 | ニデックインスツルメンツ株式会社 | 搬送システム |
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Family Cites Families (19)
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|---|---|---|---|---|
| US4770590A (en) * | 1986-05-16 | 1988-09-13 | Silicon Valley Group, Inc. | Method and apparatus for transferring wafers between cassettes and a boat |
| JP3172900B2 (ja) * | 1993-02-19 | 2001-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置及び基板搬送方法及び基板処理方法 |
| DE19535871C2 (de) * | 1995-09-27 | 2000-02-10 | Jenoptik Jena Gmbh | Indexer für Magazinfächer eines Magazins und darin enthaltene scheibenförmige Objekte |
| JPH09232404A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-09-05 | Yaskawa Electric Corp | ウェハ搬送装置 |
| US5783834A (en) * | 1997-02-20 | 1998-07-21 | Modular Process Technology | Method and process for automatic training of precise spatial locations to a robot |
| JP3938436B2 (ja) | 1998-06-05 | 2007-06-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板移載装置およびそれを用いた基板処理装置 |
| US6188323B1 (en) | 1998-10-15 | 2001-02-13 | Asyst Technologies, Inc. | Wafer mapping system |
| US20030154002A1 (en) * | 1999-04-19 | 2003-08-14 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for aligning a cassette handler |
| US6388436B1 (en) * | 1999-08-06 | 2002-05-14 | International Business Machines Corporation | Apparatus for calibrating the alignment of a wafer cassette holder to a robot blade |
| JP2001127136A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Applied Materials Inc | 基板搬送ロボットの検査装置 |
| JP4246420B2 (ja) * | 2000-09-14 | 2009-04-02 | 平田機工株式会社 | Foupオープナ及びfoupオープナのマッピング方法 |
| US6591160B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-07-08 | Asyst Technologies, Inc. | Self teaching robot |
| JP4079206B2 (ja) * | 2000-12-15 | 2008-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検査装置および基板検査方法ならびに基板検査装置を備えた液処理装置 |
| JP4669643B2 (ja) * | 2001-09-17 | 2011-04-13 | ローツェ株式会社 | ウエハマッピング装置およびそれを備えたロードポート |
| US6914233B2 (en) * | 2001-12-12 | 2005-07-05 | Shinko Electric Co., Ltd. | Wafer mapping system |
| JP3916148B2 (ja) * | 2002-11-15 | 2007-05-16 | Tdk株式会社 | ウェハーマッピング機能を備えるウェハー処理装置 |
| JP4468159B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2010-05-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及びその搬送位置合わせ方法 |
| JP2007005582A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Asm Japan Kk | 基板搬送装置及びそれを搭載した半導体基板製造装置 |
| KR100827480B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2008-05-06 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조 장비의 웨이퍼 이송 감시 장치 |
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