JP2016160267A - 微多孔性膜又は微多孔延伸フィルムの製造方法及び微多孔フィルム又は二軸微多孔延伸フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリプロピレン(PP)を樹脂成分とし、該樹脂成分100重量部に対し0.01〜10重量部の化学修飾CeNF、及び該樹脂成分100重量部に対し0.01〜3重量部のβ結晶型核剤からなる樹脂組成物を調製し、該樹脂組成物中のポリプロピレン成分の結晶相が実質的にβ結晶相である、好適にはβ晶形成能が70%以上である膜状物に溶融成形し、次いで該膜状物を90〜155℃の温度で延伸する微多孔性膜又は微多孔延伸フィルムの製造方法。
【選択図】なし
Description
請求項1における前記β結晶型核剤として、
(1)N,N’−ジフェニルヘキサンジアミド、N,N’−ジシクロヘキシルテレフタルアミド及びN,N’−ジシクロヘキシル−2,6−ナフタレンジカルボキサミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(2)N,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジベンゾイル−1,5−ジアミノナフタレン、N,N’−ジベンゾイル−1,4−ジアミノシクロヘキサン及びN,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−1,4−ジアミノシクロヘキサンからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(3)N−シクロヘキシル−4−(N−シクロヘキサンカルボニルアミノ)ベンズアミド及びN−フエニル−5−(N−ベンゾイルアミノ)ペンタンアミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(4)前記(1)〜(3)のアミド系化合物の2種以上の混合物、を用いる方法であり、また、請求項1における前記化学修飾セルロースのCeNF(化学修飾CeNF)として、高圧ホモジナイザー処理や対向衝突処理等による解繊処理方法で繊維径を5nm〜1μmとしたCeNFを用いる方法であり、また、請求項1における前記化学修飾CeNFとして、二塩基酸無水物を80〜140℃で2〜10重量%混練反応により付加し、引き続きアルキレンオキシドを耐圧容器により80〜140℃の加温化で1〜20重量%付加重合することにより調製されたCeNFを用いる方法であり、また、本発明による二軸延伸微多孔フィルムの製造方法は、ポリオレフィン系樹脂及びβ晶核剤とCeNF、もしくはポリオレフィン系樹脂及びβ晶形成を誘起する化学修飾を施した化学修飾CeNFを溶融混練してポリオレフィン樹脂組成物を得る工程、該ポリオレフィン樹脂組成物をシート状に押出成形する工程、得られたシート状成形体を延伸しフィルム化する工程を用い、前記ポリオレフィン樹脂組成物の融点以下の温度による延伸と収縮性を抑制するための熱固定工程とを逐次もしくは同時に行う方法であり、また、本発明による二軸延伸微多孔フィルムは、請求項7に記載の二軸延伸微多孔フィルムの製造方法によって製造された構成であり、また、本発明による微多孔延伸フィルムの製造方法は、請求項1に記載の原料として、請求項1から5に記載の原料を、単体もしくは複合化した状態で、請求項7に示す方法を用いて連続的に製造する方法であり、また、本発明による微多孔延伸フィルムは、請求項9に記載の微多孔延伸フィルムの製造方法によって製造された構成であり、また、請求項1に記載のβ結晶型核剤及びセルロースが、微多孔フィルム全重量に対して、0.01〜30重量パーセントである構成であり、また、本発明による二軸延伸微多孔フィルムは、請求項7に記載の微多孔延伸フィルムとして、ガーレ値が10〜2000sec/100ccであり、空孔率が25%〜80%である構成である。
従って、本発明で得られる微多孔性膜は、気体や液体の精密な濾過、電池のセパレータ等の分離を必要とする用途に最適である。また、除湿剤、脱酸素剤、ケミカルカイロ等の各種包材、簡易雨具、簡易作業服、手袋等の衣料、防水シート、防風シート等の建築用、農業用マルチシート等に良好に使用される。
尚、実施については、図1のニーダー1、図2の制御部、及び図3の延伸機3を用いた。
まず、本発明者らは、前述の課題に鑑み、鋭意研究を続けてきた。
その結果、セルロースの多塩基酸無水物・アルキレンオキシド逐次付加物という化学修飾セルロース及びβ結晶型核剤とをPPと混練し、成形して得た膜状物を特定の延伸温度で延伸する方法により、上記の課題が解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
すなわち、該変性CeNFを含有させても、β結晶型核剤との共混練によりPP成分の結晶相が70%以上のβ晶を形成させ得る条件が見出され、それにより得られるPP微多孔膜が、単層で薄膜化し、なおかつ力学物性及び耐熱性に優れるものとなることを見出した。
なお、以上の樹脂組成物には、必要に応じて、フェノール系、イオウ系酸化防止剤、脱塩酸剤、滑剤、着色剤、界面活性剤、帯電防止剤、難燃防止剤等の添加剤を配合することが好ましい。その配合量は、樹脂組成物100重量部に対して0.01〜2重量部が好適である。
β晶形成能=△Hb/[(△Ha+△Hb)]×100
{△Hbは145℃〜157℃に現れるβ晶の溶解であり、△Ha158℃以上はα晶の溶解ピーク}が60以上、さらに好ましくは80〜98であるのが望ましい。
β晶形成はX線回折(X−ray diffraction、XRD)によっても追跡される。PPは通常α型と呼ばれる結晶(α晶)からなる球晶構造(α型球晶)を形成しているが、既述のように、ここでのキャパシタ向けポリプロピレンの原反シートでは、核剤を用い、α型とは異なるβ型と呼ばれる結晶(β晶)からなる球晶構造(β型球晶)を形成させている。αとβ晶で結晶の単位格子が異なっており、β晶に特有な回折ピーク((300)面)が観測されることから、X線回折パターンより、β晶の存在割合などを評価することができる。なお、β晶の形成メカニズムについては学術的に未解決な部分が未だに残されてはいるが、原反シートの成形条件やβ晶核剤の添加などによって、β型球晶の大きさ、存在割合や分布が変化することが知られている。
逐次延伸方式で微多孔を形成する場合、縦延伸温度は、製膜の安定及び、厚みムラの抑制、目的とする孔径サイズや透過性などを考慮して、最適な温度条件を選択すればよい。縦延伸温度としては、80〜140℃であることが好ましい。縦方向の実効延伸倍率は、4〜10倍であることが好ましい。縦方向の実効延伸倍率が、4倍未満であると、得られる微多孔フィルムの透過性が劣る場合がある。また倍率が低いために、同じキャスト速度でも製膜速度が遅く、生産性に劣る場合がある。縦方向の実効延伸倍率が10倍以上であると、縦延伸あるいは横延伸工程において、フィルムの破れが発生し、製膜性が悪化する場合がある。
縦延伸および横延伸倍率は、原反シートと比較した面積倍率で1.1〜100倍が可能であるが、過度に延伸すると膜が破断する恐れがあるため、1.1〜60倍が好適である。
同時二軸延伸により、微多孔膜を形成する場合、延伸倍率を縦方向に4〜10倍、横方向に3〜10倍であることが好ましく、面積倍率で、1.1〜60倍が最適である。
同時二軸延伸における延伸温度は、100℃から158℃であることが好ましい。100℃以下であると、効率的に延伸を行うことが困難となり、158℃以上であると、フィルム原料の融点となり、溶融してしまうためである。
同時二軸延伸における延伸速度としては、5〜50000sec−1であることが好ましい。該延伸速度を外れると、製膜安定性や寸法安定性が悪化し、フィルムの透過性に影響するためである。
以下、本発明を更に具体的に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例に示す微多孔性膜の物性は下記の方法により測定した。
(2)β晶形成のもう一つの確認はX線回折(X−ray diffraction、XRD)によった。装置はPANalytical (スペクトリオス(株)製)によった。
(3)力学性はオートグラフ((株)島津製作所製)を用いて測定した。
(4)突刺強度は、自動突刺強度計(カトーテック社製:KES−FB3−AUTO)を用いて、針が貫通したときの最大の荷重を測定した。なお、同一シートで10点測定を行い、平均値を算出した。
(5)ガーレ値は、作製したシートを50mm×50mm角に切出し、ガーレ式自動計測機(TESTING MACHINES INC 社製)を用いて、測定を行った。本測定ではJISP8177で規定されている100ccの空気がシートを通過するまでの時間をガーレ値とした。
(6)空孔率と膜厚はサンプルを50×50mm角に切出し、マイクロメータを用いてシートの各部10点を計測し、平均値を膜厚とした。空孔率は、シートの実測重量と、密度と体積より算出した理論重量より、算出した。
1)PP
・0.920g/cm3の密度を有し、MF1が8.0g/10分であるホモポリマー、ノープレン(住友化学(株)社製)
・(A)MPM113(Mayzo,Inc)(PP樹脂用マスターバッチ)
・(B)アミド類系β晶核剤
・(C)キナクリドン(PV-19γ型 大日精化社)
・(D)ピメリン酸カルシウム
・化学修飾セルロースはアビセル(旭化成ケミカルズ(株)製微結晶セルロース製品:セオラス)などセルロース粉末を原料とし、二塩基酸無水物を加圧ニーダーなどを用い、モノエステル化の条件温度である80〜140℃の加温下、無触媒の条件で2〜10重量%量、混練反応により付加して調製後、引き続きアルキレンオキシドを耐圧容器を用い、無触媒下、80〜140℃の加温で1〜20重量%付加重合することにより調製した。
PP樹脂成分の該樹脂成分100重量部に対し、1重量部の化学修飾セルロース、及び該樹脂成分100重量部に対し0.3重量部のβ結晶型核剤(A)からなる樹脂組成物を、図1に示すニーダー1である卓上型混練機((株)日本製鋼所製)を用いて200℃、80rpmで10分間混練後、図2に示すホットプレス2を用いて、200℃、5分の熱圧成形を行い、厚さ1mmのシートを得た。このシートを図3に示す延伸機3を用いて逐次延伸を行った。
実施例1の方法で、原料にPP樹脂及びβ結晶型核剤(B)を用いた。それ以外については実施例1と同様である。
実施例3
実施例1の方法で、原料にPP樹脂及びβ結晶型核剤(C)を用いた。それ以外については、実施例1と同様である。
実施例4
実施例1の方法で、原料にPP樹脂及びβ結晶型核剤(D)を用いた。それ以外については、実施例1と同様である。
実施例5
化学修飾セルロースの配合量をゼロとし、β結晶型核剤(A)を用いた。それ以外については、実施例1と同様である。
特開2014−224240に記載されている実施例1の特性値。
比較例2
Selion P1610(CS TECH CO.LTD製乾式PPセパレータ:ラメラ開孔法)。
比較例3
湿式法にて製作したCeNF複合化セパレータ(特許5462227号)。
表1に実施例1〜5の条件で作製したシートのβ晶形成能を示す。実施例1〜5のうち、実施例1,2のβ晶形成能は、いずれも80%以上であった。一方、セルロースを添加していない、実施例5の場合もβ晶形成能は80%であり、セルロースの添加がβ晶形成に寄与しないと判断される。
実施例および比較例に示した各シートについて、逐次延伸を行いフィルム化した。このフィルムの各物性値を表1に併記する。実施例1〜2はいずれも延伸状態は良好であった。一方、β晶形成能が確認されなかった実施例3及び4のシートについては延伸することができなかった。セルロースを添加した実施例1及び2の突刺強度は500gf/cm2以上となった。これはセルロースを添加しない実施例5および比較例1と比較して、少なくとも10%以上高くなった。突刺強度は、経時劣化により生じるリチウムイオンデンドライトや電池製造時の異物混入などにより、破膜する際の強度を示す。実施例1および2における突刺強度の向上は、添加したセルロースナノファイバーがシート中で高度に分散し、樹脂と複合化したことによる効果であると推察される。引張強度は、実施例1および実施例2において、セルロースを添加した場合に強度向上が確認された。これは、セルロースと樹脂が複合化されたことによる効果であると推察される。
実施例4は、β型結晶核剤(D)を用いたシートであり、延伸することができなかった。
比較例1は、特開2011−162773に記載された実施例1のセパレータである。
比較例2は、市販のラメラ開孔法(乾式法)セパレータフィルムの物性値である。
比較例3は、ポリエチレン基材を用いて湿式法により製造したセパレータの物性値である。
比較例4は、特許5462227号で示された方法で製造したセルロースナノファイバー複合セパレータの物性値である。比較例3と比べて複合化により突刺強度が大幅に向上し、かつ耐熱性が20℃程度向上していることがわかる。しかし、基材がポリエチレンであるため、この製造条件では140℃程度で収縮性が高くなった。それでも市販のラメラ開孔法で製造した比較例2に比べると耐熱性は高くなっている。
すなわち、ポリプロピレンからなる樹脂成分、前記樹脂成分100重量部に対し0.01〜20重量部の化学修飾セルロース、及び前記樹脂成分100重量部に対し0.01〜3重量部のβ結晶型核剤からなる樹脂組成物を、前記樹脂組成物中のポリプロピレン成分の結晶相のβ晶形成能が60%以上となる膜状物に溶融成形し、次いで前記膜状物を60〜160℃の温度で延伸することを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、ポリプロピレンからなる樹脂成分、該樹脂成分100重量部に対し0.01〜20重量部の化学修飾セルロースとその表面に該樹脂成分100重量部に対し0.01〜3重量部のβ結晶型核剤を化学的に付加したセルロース組成物を、前記セルロース組成物中のポリプロピレン成分の結晶相のβ晶形成能が60%以上となる膜状物に溶融成形し、次いで前記膜状物を60〜160℃の温度で延伸することを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、請求項1におけるポリプロピレンのうち、メルトフローレイト1〜50g/10分(230℃)の範囲で、かつペンタッド分率が80以上98%の範囲にあるアイソタクチックポリプロピレン樹脂であり、分子量10万以上かつMw/Mnが2〜10であるポリプロピレン樹脂を用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、請求項1における前記β結晶型核剤として、
(1)N,N’−ジフェニルヘキサンジアミド、N,N’−ジシクロヘキシルテレフタルアミド及びN,N’−ジシクロヘキシル−2,6−ナフタレンジカルボキサミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(2)N,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジベンゾイル−1,5−ジアミノナフタレン、N,N’−ジベンゾイル−1,4−ジアミノシクロヘキサン及びN,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−1,4−ジアミノシクロヘキサンからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(3)N−シクロヘキシル−4−(N−シクロヘキサンカルボニルアミノ)ベンズアミド及びN−フェニル−5−(N−ベンゾイルアミノ)ペンタンアミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(4)前記(1)〜(3)のアミド系化合物の2種以上の混合物、を用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、請求項1における前記化学修飾セルロースのセルロースナノファイバーとして、高圧ホモジナイザー処理や対向衝突処理等による解繊処理方法で繊維径を5nm〜1μmとしたセルロースナノファイバーを用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、請求項1における前記化学修飾セルロースのセルロースナノファイバーとして、二塩基酸無水物を80〜140℃で2〜10重量%混練反応により付加し、引き続きアルキレンオキシドを耐圧容器により80〜140℃の加温化で1〜20重量%付加重合することにより調製されたセルロースナノファイバーを用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法であり、また、ポリオレフィン系樹脂及びβ晶核剤とセルロースナノファイバー、もしくはポリオレフィン系樹脂及びβ晶形成を誘起する化学修飾を施したセルロースナノファイバーを溶融混練してポリオレフィン樹脂組成物を得る工程、該ポリオレフィン樹脂組成物をシート状に押出成形する工程、得られたシート状成形体を延伸しフィルム化する工程を用い、前記ポリオレフィン樹脂組成物の融点以下の温度による延伸と収縮性を抑制するための熱固定工程とを逐次もしくは同時に行うことを特徴とする二軸延伸微多孔フィルムの製造方法であり、また、請求項7に記載の二軸延伸微多孔フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする二軸延伸微多孔フィルムであり、また、請求項1に記載の原料として、請求項1から5に記載の原料を、単体もしくは複合化した状態で、請求項7に示す方法を用いて連続的に製造する微多孔延伸フィルムの製造方法であり、また、請求項9に記載の微多孔延伸フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする微多孔延伸フィルムであり、また、請求項1に記載のβ結晶型核剤及びセルロースが、微多孔フィルム全重量に対して、0.01〜30重量パーセントであることを特徴とする微多孔フィルムであり、また、請求項7に記載の微多孔延伸フィルムとして、ガーレ値が10〜2000sec/100ccであり、空孔率が25%〜80%であることを特徴とする二軸延伸微多孔フィルムである。
2 ホットプレス
3 延伸機
Claims (12)
- ポリプロピレンからなる樹脂成分、前記樹脂成分100重量部に対し0.01〜20重量部の化学修飾セルロース、及び前記樹脂成分100重量部に対し0.01〜3重量部のβ結晶型核剤からなる樹脂組成物を、前記樹脂組成物中のポリプロピレン成分の結晶相のβ晶形成能が60%以上となる膜状物に溶融成形し、次いで前記膜状物を60〜160℃の温度で延伸することを特徴とする微多孔性膜の製造方法。
- ポリプロピレンからなる樹脂成分、該樹脂成分100重量部に対し0.01〜20重量部の化学修飾セルロースとその表面に該樹脂成分100重量部に対し0.01〜3重量部のβ結晶型核剤を化学的に付加したセルロース組成物を、前記セルロース組成物中のポリプロピレン成分の結晶相のβ晶形成能が60%以上となる膜状物に溶融成形し、次いで前記膜状物を60〜160℃の温度で延伸することを特徴とする微多孔性膜の製造方法。
- 請求項1におけるポリプロピレンのうち、メルトフローレイト1〜50g/10分(230℃)の範囲で、かつペンタッド分率が80以上98%の範囲にあるアイソタクチックポリプロピレン樹脂であり、分子量10万以上かつMw/Mnが2〜10であるポリプロピレン樹脂を用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法。
- 請求項1における前記β結晶型核剤として、
(1)N,N’−ジフェニルヘキサンジアミド、N,N’−ジシクロヘキシルテレフタルアミド及びN,N’−ジシクロヘキシル−2,6−ナフタレンジカルボキサミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(2)N,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジベンゾイル−1,5−ジアミノナフタレン、N,N’−ジベンゾイル−1,4−ジアミノシクロヘキサン及びN,N’−ジシクロヘキサンカルボニル−1,4−ジアミノシクロヘキサンからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(3)N−シクロヘキシル−4−(N−シクロヘキサンカルボニルアミノ)ベンズアミド及びN−フェニル−5−(N−ベンゾイルアミノ)ペンタンアミドからなる群から選択される少なくとも1種、又は、
(4)前記(1)〜(3)のアミド系化合物の2種以上の混合物、を用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法。 - 請求項1における前記化学修飾セルロースのセルロースナノファイバーとして、高圧ホモジナイザー処理や対向衝突処理等による解繊処理方法で繊維径を5nm〜1μmとしたセルロースナノファイバーを用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法。
- 請求項1における前記化学修飾セルロースのセルロースナノファイバーとして、二塩基酸無水物を80〜140℃で2〜10重量%混練反応により付加し、引き続きアルキレンオキシドを耐圧容器により80〜140℃の加温化で1〜20重量%付加重合することにより調製されたセルロースナノファイバーを用いることを特徴とする微多孔性膜の製造方法。
- ポリオレフィン系樹脂及びβ晶核剤とセルロースナノファイバー、もしくはポリオレフィン系樹脂及びβ晶形成を誘起する化学修飾を施したセルロースナノファイバーを溶融混練してポリオレフィン樹脂組成物を得る工程、該ポリオレフィン樹脂組成物をシート状に押出成形する工程、得られたシート状成形体を延伸しフィルム化する工程を用い、前記ポリオレフィン樹脂組成物の融点以下の温度による延伸と収縮性を抑制するための熱固定工程とを逐次もしくは同時に行うことを特徴とする二軸延伸微多孔フィルムの製造方法。
- 請求項7に記載の二軸延伸微多孔フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする二軸延伸微多孔フィルム。
- 請求項1に記載の原料として、請求項1から5に記載の原料を、単体もしくは複合化した状態で、請求項7に示す方法を用いて連続的に製造する微多孔延伸フィルムの製造方法。
- 請求項9に記載の微多孔延伸フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする微多孔延伸フィルム。
- 請求項1に記載のβ結晶型核剤及びセルロースが、微多孔フィルム全重量に対して、0.01〜30重量パーセントであることを特徴とする微多孔フィルム。
- 請求項7に記載の微多孔延伸フィルムとして、ガーレ値が10〜2000sec/100ccであり、空孔率が25%〜80%であることを特徴とする二軸延伸微多孔フィルム。
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