JP2015526905A - マルチダイ集積回路に使用するための柔軟なサイズのダイ - Google Patents

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Abstract

集積回路(IC)構造体(100)は、第一のダイ(110)と第2のダイ(115)とを備えることができる。第2のダイは第1のベースユニット(120)と第2のベースユニット(130)とを備えることができる。第1のベースユニットと第2のベースユニットのそれぞれのベースユニットは自己完結型であり、第2のダイ内において第1のベースユニットと第2のベースユニットとの間をいかなる信号も通過しない。IC構造体はインターポーザ(105)を備えることができる。インターポーザは、第1のダイを第1のベースユニットに結合する第1の複数のダイ間配線(215A)と、第1のダイを第3のベースユニットに結合する第3の複数のダイ間配線(215C)と、第1のベースユニットを第2のベースユニットに結合する第3の複数のダイ間配線(215D)とを備える。いくつかの実施形態では、第1と第2のベースユニットは同一である。

Description

発明の分野
本開示は、集積回路(IC)に関する。より特定的には、本開示は、複数のダイを用いて形成された集積回路に関する。
背景
マルチダイ集積回路(IC)は、複数のダイを単一のパッケージ内に配置したICの種別である。マルチダイICは、「システムインパッケージ」または「SiP」と呼ばれることもできる。マルチダイICは、マルチダイが個別のICとして、またはプリント回路基板上に実装された個々のICパッケージとして実現されるとした場合に得ることができる速度よりも、ダイが単一のパッケージ内でより早い速度で別のダイと通信できるようにする回路構成を含むことができる。
最新の集積回路のためのマスクセットを作成することは、コストを要する試みである。「マスクセット」は、半導体製造のリソグラフィ工程のためのジオメトリを定義する電子データを指す。生成された各物理的マスクは「フォトマスク」と呼ばれる。「マスクセット」という語句は、特定のダイを作るために必要な、そのようなフォトマスクの集合を指す。
それぞれのダイがマスクセットを必要とするため、マルチICダイ用のフォトマスクのコストが、単一のダイのIC用フォトマスクのコストをはるかに上回ることがわかる。追加コストは、マルチICダイの異なるバリエーション(たとえば、製品ラインまたは製品ファミリ)が開発されている状況で拡大する。典型的には、マルチダイICの追加の製品ラインの作成は、たとえば、製品ラインの要件に応じて、たとえば、より大きなまたは小さなキャパシティの一つ以上の他の代替するダイを選択し、マルチダイICの1つまたは複数のダイを切り替えることを含む。残念ながら、マルチダイIC製品ファミリの作成に使用されるダイそれぞれにマスクセットを生成するニーズが、法外な費用となりうる。
要約
集積回路(IC)構造体は、第1のダイと第2のダイとを含むことができる。第2のダイは、第1ベースユニットと第2ベースユニットとを含むことができる。第1のベースユニットと第2のベースユニットとの各々は、自己完結型である。いかなる信号も第2のダイ内の第1のベースユニットと前記第2ベースユニットとの間を通過しない。IC構造は、また、インターポーザを含むことができる。インターポーザは、第1のダイを第1のベースユニットに結合する第1の複数のダイ間配線と、第1のダイを第2のベースユニットに結合する第2の複数のダイ間配線と、第2のベースユニットを第1のベースユニットに結合する第3の複数のダイ間配線と、を含むことができる。
任意に、第1のベースユニットと第2ベースユニットは、同一であってもよい。追加的または代替的に、第1のベースユニットと前記第2ベースユニットは、回路素子を含まないスクライブ領域によって分離されている。
任意に、第1のダイは、第1のジョイントテストアクショングループ(JTAG)インタフェースを含むことができ、第1のベースユニットは、第2のJTAGインターフェースを含むことができ、第2のベースユニットは、第3のJTAGインターフェースを含むことができる。いくつかのこのようなダイのために、第2のJTAGインターフェースは、第2のJTAGインタフェースのテストデータ入力信号が保存されている第1の動作モードと、第2のJTAGインタフェースのテストデータ入力信号が保存されていない第2の動作モードとを提供することができる。いくつかのこのようなダイのために、第3のJTAGインターフェースは、第3のJTAGインタフェースのテストデータ入力信号が保存されている第1の動作モードと、第3のJTAGインタフェースのテストデータ信号が保存されていない第2の動作モードを提供することができる。
第2のJTAGインターフェースは、JTAG信号を受信し、出力としてJTAG信号のバッファされたバージョンのJTAG信号を生成するように構成されたバッファを含むことができる。
インターポーザは、第1のベースユニットの入力テストデータ端子を第2のベースユニットのフィードスルーバイパス端子に結合する、ダイ間配線を含むことができ、ここにおいて、ダイ間配線は、第2のベースユニットのと第1のベースユニットの間に保存されていない信号経路を形成する。第3のJTAGインタフェースは、インターポーザのダイ間配線を介して第2のJTAGインターフェースの出力テストデータ端子に結合された入力テストデータ端子と、テストデータ入力端子に結合され、第3のJTAGインターフェースに対する第1の中間出力テストデータとして第3のJTAGインターフェースのテストデータ入力端子に受け取られる、保存されたバージョンの信号を生成するように構成されたレジスタと、第3のJTAGインタフェースの動作モードに応じて、第1の中間テストデータ出力信号または保存されていない第2の中間テストデータ出力信号を、第2のベースユニットの出力テストデータ端子に、渡すように構成されたセレクタ回路とを含む。
任意に、それぞれのベースユニットは、ジョイント・テスト・アクション・グループ(JTAG)インタフェースを含むことができ、JTAGインターフェースは、テストデータ入力信号を受信し、第1の中間テストデータ出力信号として、テストデータ入力信号の保存されたバージョンを生成するように構成されたJTAGコントローラーと、JTAGコントローラの制御の下で、フィードスルーバイパス信号または入力テストデータを第2の中間入力テストデータ出力信号として渡すように構成された第1のセレクタと、さらに、JTAGコントローラの制御下で、第1の中間テストデータ出力信号または第2の中間テストデータ出力信号を通過させるように構成される第2のセレクタと、を含むことができる。
任意に、第1のベースユニットは、第2の複数のダイ間配線を介して第1のダイに結合された、動的構成ポートを含むことができる。そして、第2のベースユニットは、第3の複数のダイ間配線を介して第2のダイに結合された、動的構成ポートを備えることができる。第1のベースユニットは、複数の動作モードの1つを実施するように構成することができる。第2のベースユニットは、第1のベースユニットの動作モードとは独立して、複数の動作モードの1つを実施するよう構成可能である。
ICのJTAGインタフェースは、テストデータ入力信号を受け取り、第1のテストデータ出力信号として、保存されたバージョンのテストデータ入力信号を生成するように構成されたJTAGコントローラと、JTAGコントローラの制御の下で、第2の中間入力テストデータ出力信号として、フィードスルーバイパス信号または入力テストデータを渡すように構成された第1のセレクタと、さらに、JTAGコントローラの制御下で、第1の中間テストデータ出力信号または第2の中間テストデータ出力信号を通過させるように構成される第2のセレクタと、を含むことができる。
集積回路ダイは、第1のベースユニットと第2のベースユニットとを含むことができる。第1のベースユニットと第2のベースユニットとの各々は、自己完結型であり、スクライブ領域によって分離され、いずれの信号も集積回路ダイ内の第1のベースユニットと第2のベースユニットとの間を通過しない。
IC構造体(IC構造)のトポグラフィック表示を示す第1のブロック図である。 IC構造の断面側面図を示す第2のブロック図である。 プログラマブルダイのための例示的なアーキテクチャを示す第3のブロック図である。 例示的なウェハを示す第4のブロック図である。 IC構造のトポグラフィックビューを示す第5のブロック図である。 図1および2を参照して説明されるIC構造の他の局面を示す第6のブロック図である。 図7は、図6のインタフェースの実装の例示的な実装を示す第7のブロック図である。 図8は、図6のインタフェースの例示的な実装を示す第8のブロック図である。 図9は、インターポーザを使用するベースユニット間のジョイントテストアクショングループ(JTAG)の結合を示す第9のブロック図である。 図10は、JTAGインタフェースを示す第10のブロック図である。 図11は、図10のJTAGインタフェースの動作状態を示す表である。
詳細な説明
明細書は、新規とみなされる1つまたは複数の実施形態の特徴を規定する特許請求の範囲をもって完了するが、1つまたは複数の実施形態は、図面と併せた説明の考慮からよりよく理解されるであろう。必要に応じて、一つあるいは複数の詳細な実施形態が、本明細書に開示される。しかしながら、1つまたは複数の実施形態は単なる例示であることが、理解されるべきである。したがって、本明細書中に開示される特定の構造および機能の詳細は、限定としてではなく、単に特許請求の範囲の基礎として、そして、種々に1つまたは複数の実施形態を、実質的にいずれの適切な詳細な構造にも採用するために、当業者に教示するための代表的な基礎として解釈されるべきである。さらに、本明細書で使用される用語および語句は、限定を意図するものではなく、むしろ本明細書に開示された一つ以上の実施形態の理解可能な説明を提供することを意図する。
本明細書中に開示される例示的な構造は、集積回路(IC)に関連し、より特定的には、複数のダイを用いて形成された集積回路に関する。本明細書中に開示される発明の構成によれば、複数のダイで形成されたICは「マルチダイIC」と呼ばれ、「N」ベースユニットを含む少なくとも1つのダイを用いて構築することができる。ここで 「N」は整数値である。ベースユニットは、ベースユニットが同一であり、スクライブラインを使用して離間されたウェハ上に、形成される。ベースユニットは、単一のウェハから、選択されたスクライブラインに沿って物理的に分離され、1、2、3、4、等に等しいN個のベースユニットを含むダイを形成することができる。
一度Nベースユニットのダイ(ここでは、ベースユニットダイと呼ぶ)に分離されると、各ベースユニットダイは、マルチダイICとして、単一のパッケージ内の一つ以上の他のダイと組み合わされることができる。一つの局面では、複数のダイが積み重ねられたシリコンインターコネクト(SSI)技術を用いて結合することができる。ダイ内のベースユニットの数を変えることによって、必要なマスクセットの数を過度に増加させることなく、異なるマルチダイIC製品を作成することができる。たとえば、2つのベースユニットを有するベースユニットダイは、選択されたダイと組み合わせて、第1のマルチダイ製品を作成することができる。2つのベースユニットを有するベースユニットダイと同じウェハから取得される3つのベースユニットを有するベースユニットダイは、選択されたダイと組み合わせて、第2の異なるマルチダイIC製品を作成することができる。第2のマルチダイIC製品は、第1のマルチダイIC製品を製造するために必要なマスクセット以上に、いずれの追加的マスクセットなしに製造可能である。
図1は、IC構造体100のトポグラフィック表示を示す第1のブロック図である。IC構造体100は、マルチダイIC構造の一例を示す。図示されるように、IC構造体100は、単一のパッケージ内にICの複数のダイを積層するために使用することができるパッキング方法の一例を示す。IC構造体100は、インターポーザ105と、ダイ110と、ダイ115と、を含むことができる。
IC構造体100は、SSI技術の一例であり、そのため、SSI構造と呼ぶことができる。一般に、SSI構造および/またはSSI技術は、インターポーザが1つまたは複数の他のダイの結合に使用される、マルチダイICの構造を指す。インターポーザは、種々の材料のいずれかを用いて形成され、インターポーザに搭載された二つ以上の異なるダイを結合する、1つまたは複数のダイ間配線を含んでいる。インターポーザは、1つまたは複数のシリコン貫通ビア(TSV)を含むことができる。ダイは、例示的には、はんだバンプを使用してインターポーザに結合されているが、これはそうである必要はない。
インターポーザ105は、ダイ110とダイ115とが水平方向に積層可能な平坦面を有するダイであってもよい。図示されるように、ダイ110とダイ115とはインターポーザ105の平坦面に並んで配置可能である。図1内では、2つの水平方向に積層されたダイとして実装されるが、IC構造体100は、インターポーザ105の平坦面上に積層されている2以上のダイを有する実装とすることができる。たとえば、IC構造体100は、インターポーザ105の平坦面上に搭載された3つ、4つ、またはそれ以上のダイを有することができる。別の実施形態においては、ダイ115は、ダイ110の上端に垂直に積層されることができる。さらに別の実施形態では、インターポーザ105は、2つの垂直に積み重ねられたダイの間の中間層として使用されることができる。その場合には、インターポーザ105は、マルチダイICパッケージ内に垂直に積み重ねられたダイを他のダイから離すことができる。
インターポーザ105は、SSIデバイスの2つ以上のダイのための共通の搭載面と電気的結合点とを提供することができる。インターポーザ105は、結合ルーティングのための中間層として、あるいは、IC構造100のグランドあるいは電源面の役割を果たすことができる。1つの局面では、インターポーザ105は、N型および/またはP型不純物でドープされあるいはドープされていない、シリコンウェハ基板を用いて実施することができる。インターポーザ105の製造は、金属の結合の一つ以上の層(複数)の堆積を可能にする1つまたは複数の追加の処理ステップを含むことができる。これらの金属の結合層は、アルミニウム、金、銅、ニッケル、種々のケイ化物、および/または同様のものを含むことができる。
インターポーザ105は、たとえば二酸化ケイ素などの、1つまたは複数の誘電体層または絶縁層(単数または複数)の堆積を可能にする1つ以上の追加のプロセス工程を用いて製造することができる。一般的には、インターポーザ105は能動回路素子を含まない、受動ダイとして実装することができる。別の局面では、しかし、インターポーザ105は、たとえば、トランジスタデバイスおよび/またはダイオードデバイスなどの能動回路素子の作成を可能にする、1つ以上の追加のプロセス工程を用いて製造することができる。上述のように、インターポーザ105は、一般に、ダイであり、この明細書の範囲内でより詳細に説明されるだろう1つ以上のTSVとダイ間の配線とが存在することによって特徴づけられる。
シリコンインターポーザとしての本明細書中のインターポーザ105の実装は、例示の目的のみのために提供される。他のタイプのインターポーザとインターポーザ内の対応する構造を使用することができる。たとえば、有機材料、ガラスなどで形成されたインターポーザを使用することができる。この点に関して、ガラスインターポーザの場合に、ガラス貫通ビア(TGVS)などの他の構造が含まれることができる。したがって、本明細書中に開示される種々の構造および材料は、例示の目的のために提供されており、そのため、本明細書で開示する1つまたは複数の実施形態の限定を意図するものではない。
ダイ110とダイ115とはインターポーザ105を通してのみ通信する。ダイ115は、Nのベースユニットを有する、ベースユニットダイとして実装される。図1に描かれた例ではNは3に等しい。従って、ダイ15は、ベースユニット120と、ベースユニット125と、ベースユニット130と、を含む。ベースユニット120と、ベースユニット125と、ベースユニット130とは同一である。ダイ110は、ベースユニット120,ベースユニット125,ベースユニット130のそれぞれとインターポーザ105を介してのみ通信する。同様に、ベースユニットは120−130はダイ115を介して互いに通信しない。むしろ、ベースユニット120−130は、同じダイの一部であるにも関わらず、互いにインターポーザ105を介してのみ通信する。
ダイ115内では、ベースユニット120−130の各々は、完全に自己完結型である。ベースユニット120−130のそれぞれは、ウェハ・ソート・テスト、電源、グランド、クロック生成に、たとえば、位相ロックループ(PLL)、ジョイントテストアクショングループ(JTAG)回路など必要なすべてのリソースを含む。一つの局面では、たとえば、ベースユニット120は、スクライブライン135によって、ベースユニット125から分離されている。同様に、ベースユニット125は、スクライブライン140によってベースユニット130から分離されている。「スクライブライン」は、たとえば、拡散層と金属層といった、ウェハ上のダイを形成する種々の処理層の多くを例示的に含む領域を指す。スクライブラインは、任意の回路構造を含んでいない。ウェハ上のスクライブラインは、たとえばダイといったウェハの構造体が、ウェハ処理が完了するときに、互いに物理的に分離されている、領域である。スクライブラインを、「スクライブ領域」、「スクライブ」または「ダイシール」と呼ぶこともできる。ベースユニット120−130は、図4を参照してさらに詳細に説明するように、ダイ115の周囲を定義するスクライブリング内にあるといえる。
ダイ110と115とは、たとえば、ランダムアクセスメモリ(RAM)、中央処理装置、プログラマブルIC、アナログ−デジタル(AD)変換器、デジタル−アナログ(DA)変換器、特定用途向け集積回路(ASIC)等のような、様々な異なるタイプのダイのいずれとしても実装することができる。一つの局面では、ダイ110とダイ115とは、たとえば、両方をプログラマブルIC、両方をメモリといったように、それぞれ同じタイプのダイとして実装することができる。その場合は、両方が同じタイプでありつつ、2つのダイは同一であっても、または異なる構造、アーキテクチャ、および/または能力を有してもよい。別の局面では、ダイ110と115とのそれぞれは、異なるタイプのダイとして実装することができる。たとえば、ダイ115はRAMまたはASICとして実装され、一方、ダイ110は、プログラム可能なICとして実装されていてもよい。
たとえば、ダイ110は、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)などのプログラマブルICとして実現することができ、一方、ダイ115は、ベースユニット120−130のそれぞれが同一の回路ブロックであるASICとして実装されることができる。たとえば、ベースユニット120−130のそれぞれは、高速シリアル入力/出力(HSSIO)、AD変換器、DA変換器等として、実装することができる。
ダイ115のベースユニット120−130を実装するために使用される回路ブロックの特定のタイプにかかわらず、それぞれが、インターポーザ105にダイ115を結合するための結合密度の要件に対応する複数の異なる大きさの、適切なピッチで実装されることができる。複数の異なるサイズのバージョンのダイ115は、ベースユニットを含むウェハをダイシングする方法に応じて、1、2、3、4、またはそれ以上のベースユニットを含んで形成することができる。
これは、たとえばベースユニット120−130の各々が別個のダイである場合など、ダイ115が2つあるいはそれ以上の別々のダイに分離される場合、インターポーザ105上にそれぞれのダイを装着するための間隔要件は、2つ以上のベースユニットが単一のダイに含まれる場合に比べてより大幅に大きくなると理解されるべきである。つまり、インターポーザ105上に搭載されるため、たとえばダイ115などの単一のダイ内のベースユニット120とベースユニット125間の間隔は、たとえば、スクライブライン135に沿って切断することにより、ベースユニット120が物理的にベースユニット125から分離された場合など、ベースユニット120とベースユニット125がそれぞれ別個のダイとして実装されていた場合の両者の間の間隔よりも小さい。また、インターポーザ105といったインターポーザを使用するSSI技術を使用して構築されたマルチダイIC構造の組立のコストは、インターポーザに装着されたダイの数に依存する。したがって、単一のダイに2つ以上のベースユニットを含むことによって、各ベースユニットがインターポーザ105を介して他のベースユニットに通信的に連結されているにもかかわらず、インターポーザ105上のより少ない領域が使用され、より少ないコストが発生する。
図2は、IC構造の断面側面図を示す第2のブロック図である。より詳細には、図2は、切断線2−2に沿って切断した図1のIC構造体100の図を示す。このように、同じ番号は本明細書全体を通して同じ要素を指すために使用されるだろう。
図2に示すように、ダイ110とダイ115の各々は、電気的にはんだバンプ205を介してインターポーザ105に結合されることができる。はんだバンプ205は、様々な異なるタイプのはんだバンプのいずれかを使用して実装することができる。使用可能な様々な異なるタイプのはんだバンプの例としては、銅ピラー、銀−スズ(Ag−Sn)バンプ、鉛−スズバンプ、銅−スズバンプ等が挙げられるが、これらに限定されない。それぞれのはんだバンプ205は、ダイ110とダイ115を物理的に取り付ける役目をすることができる。はんだバンプ205をを介して、たとえば、インターポーザ105は、ダイ110に結合される。同様に、はんだバンプ205をを介して、(図示されないベースユニット120−130を含む)ダイ115は、インターポーザ105に結合される。一つの実施形態では、はんだ205は、「マイクロバンプ」の形で実装されることができる。
ダイ110およびダイ115のインターポーザ105への結合は、はんだバンプ205を介して達成することができるが、他の種々の技術も、ダイ110およびダイ115をインターポーザ105に結合するために使用することができる。たとえば、ボンド配線又はエッジ配線も、ダイ110およびダイ115をインターポーザ105に結合するために使用されることができる。別の例では、ダイ接着材料も、ダイ110およびダイ115をインターポーザ105に物理的に取り付けるために使用されることがができる。このため、図2に示されるように、はんだバンプ205を介して、ダイ110とダイ115とはインターポーザ105に結合されるが、その結合は、例示の目的のために提供され、本明細書中に開示される1あるいは複数の実施形態を限定するものではない。
インターポーザ105内の結合材料は、ダイ110とダイ115との間のダイ内信号を渡すダイ間配線を形成するために使用可能である。インターポーザ105の240と符合された領域は、1つ以上の、たとえば、パターン化された金属といった、導電性であって、ワイヤや配線を形成する層を含むことができる。たとえば、配線215は、領域240の1つまたは複数のパターン化された金属層を用いて形成されることができる。したがって、配線215は、はんだバンプ205Aをはんだバンプ205Bに結合し、それによってダイ110をダイ115に結合し、ダイ110とダイ115との間でダイ内信号を交換することを可能とするダイ間配線を表す。
加えて、インターポーザ105は、(図示しない)ビアと一体に結合されることができる複数の導電層を用いて実装されることができる。その場合には、配線215は、インターポーザ105内の複数のビアを使用して一体に結合された2つ以上の導電層を用いて実現されることができる。たとえば、ダイ間配線など、インターポーザ105内での配線を実現するための複数の導電層の使用は、インターポーザ105内で、より多くの数の信号のルーティングを可能にし、信号のより複雑なルーティングを達成する。
本明細書中では、端子、信号線、配線、およびそれらの対応する信号を指すために同一の参照符号が用いられる。この点において、用語「信号」、「配線」、「結合」、「端末」および「端子」という用語は、本明細書内で、時々に、交換可能に使用されうる。また、「信号」、「配線」あるいは他の同様の用語は、たとえば、単一の配線を介して単一ビットの搬送、または複数のパラレルな配線を介して、複数の並列ビットの伝達の搬送を行うといった、1つまたは複数の信号を表すことができることを理解すべきである。さらに、それぞれのっ信号または配線は、本ケースのように各配線または信号によって結合された、2つあるいはそれ以上の部品の間の、双方向通信を表してもよい。
はんだバンプ220は、インターポーザ105を表面235に電気的に結合するために使用することができる。表面235はたとえば、IC構造100が実装されるマルチダイICパッケージを表すことができる。はんだバンプ220は、さらに、マルチダイICパッケージの外部のノードに直接IC構造100を結合することができる。一の実施形態では、はんだバンプ220は「CONTROLLED COLLAPSE CHIP CONNECTION」または「C4」バンプの形で実装されることができる。たとえば、はんだバンプ220はインターポーザ105を表面235に物理的に付着させるために用いられる。TSV225は、導電性材料が充填されたときに、たとえば、インターポーザ105の全体ではなくある一部に伸びて、インターポーザ105を垂直に横切る電気的結合を形成するビアを表す。
TSV225は、第1の平面、すなわち、はんだバンプ205の表面に結合される表面から、第2の平面、すなわちはんだバンプ220が結合される表面に伸びるインターポーザ105の穴のドリルあるいはエッチングによって実装される。そして、導電性材料が、TSV内に置かれることができる。TSV225を充填するために使用することができる導電性材料の例は、アルミニウム、金、銅、ニッケル、種々の尻サイド、および/または同様のものが挙げられるが、これらに限定されない。別の例では、TSV225は、配線215を形成するために持ちいられるとき、領域240の1つあるいはそれ以上の金属層にはんだバンプ220を結合するために、インターポーザ105を実質的に横切ることができる。そして、配線215と1つあるいはそれ以上の従来のビアとが、TSV225をはんだバンプ205に結合させることができる。
説明したように、インターポーザ105を実装するために、他の技術を用いることができる。他の技術がたとえばTGVなどのような対応する他の構造に使用される限りにおいて、「貫通ビア」(TV)という語句は、TSV、TGV、あるいは、インターポーザ構造を完全に横切るあるいは実質的に横切る導電体を表す他の構造を意味するために使用できる。いずれの場合においても、再び図2を参照すると、TSV225は、はんだバンプ220と組み合わされ、ダイ110とダイ115とを表面235に結合する。図2に示すように、インターポーザ105の第1の平面は、物理的に、ダイ110と115に結合されることができる。インターポーザ105の第2の平面は、物理的に表面235に結合されることができる。
説明したように、ダイ115の個々のベースユニットは、図2に示されていないが、個々のベースユニットの間の通信は、ダイ115の内部では起こらない。むしろ、個々のベースユニット間の通信は、仮に必要とされる範囲においても、図2に図示されるさまざまなダイ間配線を用い、インターポーザ105を介して起こる。これは、ベースユニットの各々が同一の方法で実装され、スクライブラインによってウェハに離間され、したがって、さまざまな数のベースユニットを有するダイの作成を可能にする。
図3は、プログラマブルダイのための例示的なアーキテクチャ300を示す第3のブロック図である。アーキテクチャ300は、たとえば、FPGAタイプのダイを実装するために使用されることができる。示されるように、アーキテクチャ300は、たとえば論理ブロックといった、プログラマブル回路のいくつかの異なるタイプを含む。たとえば、アーキテクチャ300は、マルチ・ギガビット・トランシーバ(MGT)301と、コンフィギュラブル・ロジック・ブロック(CLB)302と、RAMブロック(BRAM)303と、入力/出力ブロック(IOB)304と、コンフィギュレーション/クロックロジック(CONFIG/CLOCKS)305と、デジタル信号処理ブロック(DSP)306と、専用I/Oブロック307(たとえば、構成ポートおよびクロックポート)と、たとえば、デジタルクロックマネージャ、AD変換器、システム監視ロジックなどを含む他のプログラマブルロジック308と、といった多くのさまざまなプログラム可能なタイルを含むことができる。
いくつかのダイでは、各プログラマブルタイルは、プログラマブル・インターコネクト(INT)311を含み、INT311は、各隣接タイルにおける対応するINT311から、あるいはINT311への、標準化された結合を有する。したがって、INT311はともに、図示されたダイのためのプログラム可能な結合構造を実装する。各INT311はまた、図3の上部に含まれる例によって示されるように、同一タイル内のプログラマブルロジック要素へまたはプログラマブルロジック要素からの結合を含む。
たとえば、CLB302は、ユーザロジックと単一のINT311を実装するようにプログラムすることができるコンフィギュラブル論理要素(CLE)312を含むことができる。BRAM303は、一つ以上のINT311に加えて、BRAM論理要素(BRL)313を含むことができる。例示的に、タイルに含まれるINT311の数は、タイルの高さに依存する。図示されるアーキテクチャでは、BRAMタイルは、5つのCLBと同じ高さを有するが、他の数(たとえば4)を使用することもできる。DSPタイル306は、適切な数のINT311に加えてDSP論理要素(DSPL)314を含むことができる。IOB304は、たとえば、INT311の1つのインスタンスに加えて、2つのI/O論理要素(IOL)315のインスタンスを含むことができる。当業者には明らかなように、実際のI/Oパッドは、たとえば、IOL315に結合され、例示的にはIOL315の領域に限定されない。
図3に描かれた例では、たとえば領域305と領域307と領域308とで形成されたダイの中央付近のコラムな領域は、構成、クロックおよび他の制御論理のために使用することができる。この列から延びる水平領域309は、プログラマブルICの全体にわたってクロックおよび設定信号を配信するために使用される。
アーキテクチャ300はさらに、1つあるいは複数のインターフェース350を含む。それぞれのインターフェース350は、本明細書の図5と図6を参照してより詳細に説明するダイ間インタフェースである。一般に、インターフェース350は、ダイ対ダイの通信を容易にするプログラマブルデータパスおよび構成バッファとして実装される。より特定的には、インターフェース350は、アーキテクチャ300が実装されたダイからベースユニットへの通信をサポートする。アーキテクチャ300は、2以上のインターフェース350を含むことができると理解すべきである。一つの局面では、アーキテクチャ300は、アーキテクチャ300が実装されたダイが通信すべき各ベースユニットに対する1つのインターフェース350を含む。
図3に示されるアーキテクチャを利用するいくつかのICは、ICの大部分を構成する規則的な列状構造を中断する、追加の論理ブロックを含む。追加の論理ブロックは、プログラマブルブロックおよび/または専用回路とすることができる。たとえば、PROC310として図示されたプロセッサブロックは、CLBやブロックRAMの複数の列にまたがる。
一つの局面では、PROC310は、たとえば、ICのプログラム可能な回路を実装するダイの一部として製造されるハード配線されたプロセッサなどの、専用回路として実装される。PROC310は、たとえば、プログラムコードを実行することができる1つ以上のコアといった個々のプロセッサから、1つのあるいは複数のコア、モジュール、コープロセッサ、インターフェース、などを有するプロセッサシステム全体までに複雑に及ぶ、異なるプロセッサのタイプおよび/またはシステムを表すことができる。
別の局面では、PROC310が、アーキテクチャ300から省略され、記載された1つまたは複数の他のタイプのプログラマブルブロックに置き換えられる。さらに、そのようなブロックは、プログラマブル回路の様々なブロックは、PROC310の場合と同様に、プログラムコードを実行することができるプロセッサを形成するために使用することができるという点で、「ソフト・プロセッサ」を形成するために使用されることができる。
「プログラマブル回路」という語句は、たとえば、本明細書に記載される様々なプログラム可能な、または構成可能な回路ブロックまたはタイルといった、ICあるいはダイ内の回路要素と、また、ダイにロードされた構成データに応じて、さまざまな回路ブロック、タイル、および/または、要素を選択的に結合する結合回路も意味することができる。たとえば、CLB303とBRAM303とのように、図3に示されたPROC310外部にある部分は、ダイのプログラム可能な回路とみなすことができる。
一般的に、構成データがダイにロードされるまで、プログラム可能な回路の機能は確立されていない。FPGAのようなダイのプログラマブル回路をプログラムするために、複数のコンフィギュレーション・ビットを使用することができる。コンフィギュレーション・ビットは、例示的には「コンフィギュレーション・ビットストリーム」と呼ばれている。一般的には、プログラム可能な回路は、ダイに初めてコンフィギュレーション・ビットストリームがロードされるまでは、動作または機能しない。コンフィギュレーション・ビットストリームは、プログラム可能な回路内の特定の回路設計を有効に実装するか、インスタンス化する。回路設計は、たとえば、プログラム可能な回路ブロックの機能的局面と、様々なプログラム可能な回路ブロック間の物理的な結合性を特定する。
「ハード配線された」または「ハード化された」回路、すなわち、プログラム可能ではない回路が、ICの一部として製造される。プログラム可能な回路とは異なり、ハード配線された回路や回路ブロックは、ICの製造後にコンフィギュレーション・ビットストリームのロードを通して実装されない。ハード配線された回路は、一般に、たとえばPROC310および/またはインターフェース350等のダイに、最初にコンフィギュレーション・ビットストリームをロードすることなく機能する、専用の回路ブロックと結合、を有すると考えられる。
いくつかの例では、ハード配線された回路は、ダイ内の一つ以上のメモリ素子に記憶されたレジスター設定または設定値に応じて設定または選択することができる1つ以上の動作モードを有することができる。動作モードは、たとえば、ダイへのコンフィギュレーションビットストリームのロードを通して、設定することができる。この能力にかかわらず、ダイの一部として製造されたときにハード配線された回路が動作可能であり、特定の機能を有するので、ハード配線された回路は、プログラム可能な回路とはみなされない。
図3は、プログラム可能な回路、たとえば、プログラマブル・ファブリックを含むダイを実装するために使用することができる例示的なアーキテクチャを説明することを意図している。たとえば、図3に示される、列内の論理ブロックの数、コラムの相対幅、コラムの数および順序、コラムに含まれる論理ブロックの種類、論理ブロックの相対サイズ、および結合/ロジックの実装は、純粋に例示的なものである。ユーザ回路設計の効率的な実施を促進するために、実際のダイでは、たとえば、CLBが現れるところすべてに、例示的に隣接する二つ以上の列のCLBが含まれる。隣接するCLB列の数は、しかしながら、ダイの全体の大きさによって可変とできる。さらに、ダイ内のPROC310のようなブロックのサイズおよび/または位置決めは、説明のみを目的とするものであり、本明細書中に開示される一以上の実施形態を限定することを意図するものではない。
図1を参照すると、たとえば、図3のアーキテクチャ300はダイ110内に実装されることができる。しかしながら、ダイ110内に実装されたアーキテクチャは、図3を参照して説明した全ての要素を含む必要はないことが理解されるべきである。ダイ110は、たとえば、図3で説明した要素の任意のサブセットを含むことができる。一つの局面では、しかし、ダイ115は、インターフェース350を含む。同様にダイ115は、図3を参照して説明した要素の任意のサブセットを含むことができる。特定の局面では、ダイ110とダイ115とに含まれる、1つのあるいは複数のあるいはすべての要素は、IC構造体100の一つのダイに含まれるすべての要素の種別あるいはブロックが、重複する機能を回避するためにIC構造体100の他のいずれのダイにも含まれないという点において、相互に排他的である。別の局面では、しかしながら、ダイ110とダイ115とは、重複する機能を有する同じ種別の要素を1つ又はそれ以上含むことができる。
図4は、例示的なウェハ400を示す第4のブロック図である。ウェハ400上の各網掛けの正方形領域はベースユニットを表している。図に示されるように、各ベースユニットは、スクライブラインまたは領域によって互いに他のベースユニットから離間されている。各ベースユニットは、互いに他のベースユニットと同一である。示されるように、各ベースユニットの間にスクライブラインを配置することにより、ベースユニットの数が異なるダイを、ウェハ400から作成することができる。
たとえば、重輪郭で示されるスクライブリング405によって、物理的にウェハ400から分離されている場合、単一のベースユニットを有するダイが、ウェハ400から生成されることができる。スクライブリング405によって、ダイの外周が定義される。重輪郭で示されるスクライブリング405によって、物理的にウェハ400から分離されている場合、2つのベースユニットを有するダイが、ウェハ400から生成されることができる。スクライブリング410によって、ダイの外周が定義される。別の例として、スクライブリング415あるいは420によってそれぞれ物理的にウェハ400から分離されている場合、それぞれ、3つのベースユニットを有するダイ、あるいは4つのベースユニットを有するダイがウェハ400から生成されることができる。スクライブリング415によって、3つのベースユニットを有するダイの外周が定義される。スクライブリング420によって、4つのベースユニットを有するダイの外周が定義される。
図4に示される例は、例示の目的のみのためのものである。ウェハ400をダイシングするために使用されるスクライブラインの特定のパターンに応じて、種々の数のベースユニットのダイが得られることが理解されるべきである。図1を参照すると、ダイ115はウェハ400から生成することができる3つのベースユニットを有するダイの一例である。
図5は、IC構造500のトポグラフィックビューを示す第5のブロック図である。IC構造500は、図1のIC構造体100と同様に実装することができるマルチICダイである。IC構造500は、SSI技術を使用して実装される。図のように、IC構造500は、ダイ510とダイ515が搭載されたインターポーザ505を含む。この例では、たとえば、ダイ110の代わりに、ダイ510が使用されている。IC構造500は、たとえば、IC構造100に比べてより少ない機能を提供するより小型なマルチダイICの異なるファミリーといった、IC構造100のより小さいバージョンであることができる。図1のIC構造100が3つのベースユニットを有するダイ115を含むところ、図5のIC構造500は、ベースユニット520とベースユニット525との2つのベースユニットのみを有するダイ515を含む。ベースユニット520とベースユニット525とは、互いに同一であってもよく、また、ベースユニット120と同一であってもよい。図1と図4を用いて説明したようにダイ515は、ウェハ、すなわち、ダイ115が取得されるウェハと同じウェハから得ることができる。
説明したように、各ベースユニットは、ダイ上の別々の独立した回路ブロックである。一つの局面では、一方で、図3を参照して示すように、各ベースユニットは、プログラマブルICアーキテクチャを実装している。別の局面では、各ベースユニットは、構成データのロードに応じて一つ以上の異なる動作モードが実装された、固定回路、または実質的に固定された回路を実装する。たとえば、各ベースユニットがHSSIOを実装した場合を考える。各HSSIOは、実施のために、マルチダイIC構造内に、別のダイ、たとえば、マスタダイ、からのコンフィギュレーションを必要とする1つまたは複数の異なる動作モードを実装するように構成することができる。
HSSIOを実装する際に、各ベースユニットは、たとえば、一つ以上の動作モードを実装することができる。各動作モードは、HSSIOインターフェース内に含まれるトランシーバのさまざまな属性を指定することができる。たとえば、送受信機は、毎秒1、2、3、4、5またはそれ以上のギガビット(GBPS)で通信するように構成することができる。トランシーバーは、ペリフェラル・コンポーネント・インターコネクト(PCI)エクスプレス、ギガビット・アタッチメント・ユニット・インタフェース(XAUI)等の異なる複数の通信プロトコルのいずれかを使用して通信するように構成することができる。動作モードは、さらに、マルチプレクサ、デマルチプレクサ、フリップフロップ、復号化パターン、巡回冗長検査(CRC)などのデバイスの設定を指定する。したがって、ベースユニットに対する各動作モードは、説明された通信速度、通信プロトコル、および記載された様々な他のパラメータを指定することができる。各ベースユニット内に実装された特定の動作モードは、ベースユニットにロードされたコンフィギュレーションデータに依存すること、また、各ベースユニットは、他のベースユニットが同じダイ上に配置されているかどうかに関係なく、他のベースユニットは同じダイ上に配置されているかどうかに、互いに他のベースユニットから独立して設定可能であることを理解すべきである。
したがって、1つの局面では、各ベースユニットは、ベースユニットを構成するために使用されるマスタダイ(たとえば、ダイ110またはダイ510)から、専用の構成パスを有する。別の局面では、構成データは、第1のベースユニットに提供することができ、次いで、1つのベースユニットから隣にシリアルにカスケードすることができる。構成情報がベースユニットからベースユニットにカスケードされるか、またはマスタダイによって独立に各ベースユニットに提供されるか、いずれの場合においても、インターポーザ505(または図1の場合、インターポーザ105)を介してデータパスの結合が形成され、実装される。
図6は、図1および図2を参照して説明されるIC構造100のの別の局面を示す第6のブロック図である。例示の目的のために、ダイ110は、たとえば、FGPAなどのプログラマブルICとして実装されるが、本明細書中に開示される実施形態はこの点に関して限定されない。示されているように、ダイ110はインターフェース605と、インターフェース610と、インターフェース615とを含む。ダイ110は、ダイ115内の各ベースユニットのための一つのインターフェースを含む。たとえば、図3を参照して説明したように、インターフェース605と、610と、および615とは、インターフェース350として実装されることができる。従って、ベースユニット120、ベースユニット125、およびベースユニット130は、それぞれインターフェース620、インターフェース625、インターフェース630のいずれかを含む。
示されるように、はんだバンプ205と、説明されたとおりインターポーザ105内に配置されたダイ間配線215Aとを介して、インタフェース605はインタフェース620に結合される。はんだバンプ205と、インターポーザ105内に配置されたダイ間配線215Bとを介して、インタフェース610はインタフェース625に結合される。同様に、インタフェース615は、はんだバンプ205とインターポーザ105内に配置されたダイ間配線215Cを介して、インタフェース630に結合される。ダイ間の各配線215A−215Cは、たとえば、数十、数百、あるいは数千のダイ間の配線といった、複数のダイ間配線を表すことができることが理解されるべきである。この点で、各々のはんだバンプ205は、それぞれベースユニット120−130とダイ110の間で多ビット並列インターフェースを容易にするための、複数のバンプを表すことができる。
図6に示すように、ベースユニット120−130はまた、ダイ間配線215Dを介して互いに結合される。ダイ間配線215Dは、JTAG機能に関連する複数のダイ間配線を表すことができる。ダイ間配線215Dは、ベースユニット120−130間のパラレルな結合、ベースユニット120−130間のシリアル結合、あるいはパラレルとシリアルの結合の組み合わせを表すことができる。JTAG結合は、図9を参照して、より詳細に説明される。
図6に示すように、ベースユニット120−130の各々は、ダイ110内のベースユニット固有のインタフェースと通信する、独立したインターフェースを有する。適切なインターフェース605−615を使用して、ダイ110は、互いにおよび/またはパラレルにベースユニット120−130のそれぞれをプログラムすることができる。この点で、インターフェース605−615およびインタフェース620−630の各々は、それぞれの完全な構成の完了とパワーアップ初期化信号を含むことができる。たとえば、ダイ110と、ベースユニット120−130の1つとの間の各インタフェースは、データ・パス・チャネルと、制御チャネルと、動的再構成ポート(DRP)とを含むことができる。
図7は、図6のインターフェース605の実装の例示的な例を示す第7のブロック図である。説明したように、ダイ110は、FPGAなどのプログラム可能なICの形で実施することができる。図7を参照して説明したのと同様または同じ方法で、ダイ110の利用可能なリソースを使用して、インターフェース605−615のそれぞれを実装可能である。
インタフェース605は、データパスチャネルと、制御チャネルと、DRPとを含む3つの異なるチャネルを含むことができる。ユーザデータを搬送するために利用可能なデータパスチャネルは、ブロック702とブロック706とを含む。ブロック702は、たとえば、24ビットのパラレルインタフェースといった、それぞれが24の信号配線を含むサブチャンネルである30のサブチャネルを提供することができる。ブロック706は、たとえば、24ビットのパラレルインタフェースといった、それぞれが24の信号配線を含むサブチャンネルである28のサブチャネルを提供することができる。
ブロック702は、レベルシフター710とコンフィギュレーションRAM714とを含む。ブロック702は、さらに、クロック・マルチプレクサ・ブロック(CLK MUX)716とプログラマブルデータパス718とを含むことができる。示されるように、プログラマブルデータパス718は、ダイ110のルーティング回路720に結合し、さらに回路722に結合する。回路722は、ダイ110内のユーザ実装回路設計などの、ダイ110内のプログラム可能な回路を表す。
ブロック706は、レベルシフター734とコンフィギュレーションRAM738とを含む。ブロック706は、さらに、クロック・マルチプレクサ・ブロック740とプログラマブルデータパス742とを含むことができる。示されるように、プログラマブルデータパス742は、ダイ110のルーティング回路744に結合し、さらに回路726に結合する。回路746は、ダイ110内のユーザ実装回路設計などの、ダイ110内のプログラム可能な回路を表す。
インタフェース605の制御チャネルは、ブロック704によって実装される。ブロック704は、たとえば、24ビットのパラレルインターフェースといった、それぞれが24の信号配線を含むサブチャネルである2つのサブチャネルを提供することができる。図示されるように、ブロック704は、レベルシフタ726と、クロックおよび制御バッファ728と、コンフィギュレーションRAM730と、クロック・マルチプレクサブロック732とを含む。グローバル制御信号とグローバルクロック信号とが、ダイ110内の回路からクロック・マルチプレクサ・ブロック732に供給され、図示される他のクロックマルチプレクサブロックに配信される。
インターフェース605のDRPは、ブロック708によって実現される。ブロック708は、たとえば24ビットのパラレルインターフェースといった、それぞれ、24本の信号配線を含む2つのサブチャネルを提供することができる。示されているように、ブロック708は、レベルシフタ750とレベルシフタ752と、コンフィギュレーションRAM758とコンフィギュレーションRAM760と、DRPインタフェース762とを含む。DRPインタフェース762はマスタとして機能し、ダイ110のルーティング回路764とルーティング回路766とに結合する。ルーティング回路764とルーティング回路766とは、ダイ内の回路768および回路770それぞれに結合する。
DRPインタフェース762は、コンフィギュレーションRAMの読み出し/書き込みポートを介して、コンフィギュレーションRAM714と、コンフィギュレーションRAM730と、コンフィギュレーションRAM738と、コンフィギュレーションRAM758と、コンフィギュレーションRAM760とに結合されている。DRPインタフェース762は、様々なソースから受信した構成データのフレームを、コンフィギュレーションRAM714と、コンフィギュレーションRAM730と、コンフィギュレーションRAM738と、コンフィギュレーションRAM758と、コンフィギュレーションRAM760とに転送し、さらに、構成データをベースユニット、たとえばベースユニット605のインターフェイス620に、コンフィギュレーションRAM内への記憶のために転送する。
各ベースユニットのDRPインタフェースは、さらに、それぞれのベースユニットが、たとえばフィールドにおいて、動作中に、更新または微調整することを可能とする。たとえば、動作中に、フィルタまたは他の回路は、DRPを介してベースユニットに更新された構成情報を提供することによって、フィールドにおいて動的に調整されることができる。たとえば、DRPといった、この動的更新能力を容易にする同じポートが、電源投入時に構成するための独立したベースユニットの目的のために活用される。各ベースユニットは、フィールドでの構成においてDRPを必要とするため、DRPは、ベースユニットへの追加のポートまたは回路を追加することなく、他のダイから各ベースユニットをはじめに構成するために使用されることができる。このようにして、各ベースユニットは既にDRPを含むため、説明されたようにベースユニットを分離することで、追加の回路について、追加のオーバーヘッドが発生しない。
図8は、図6のインターフェース620の例示的な実装を示す第8ブロック図である。説明したように、インターフェース620は、ダイ115のベースユニット120内に実装される。説明の目的のために、ベースユニット120はHSSIOとして実装される。図8を参照して説明するようにインターフェース620−630の各々を実現することができる。
インターフェース620は、インターフェース605のように、データパスチャネルと、制御チャネルと、およびDRPとを含む3つの異なるチャネルを含む。ユーザデータを搬送するために利用可能なデータ経路チャネルは、ブロック802とブロック806を含む。ブロック806は、たとえば、24ビットのパラレルインタフェースといった、それぞれ24の信号配線を有する30のサブチャネルを提供することができる。ブロック806は、たとえば、24ビットのパラレルインタフェースといった、それぞれ24の信号配線を有する、28のサブチャネルを提供することができる。インターフェース605のブロック702は、インターポーザ内のダイ間配線を介して、インターフェース620のブロック802に結合する。
ブロック802は、レベルシフタ810と、コンフィギュレーションRAM814とを含むことができる。ブロック802はさらに、クロック・マルチプレクサ・ブロック816と、プログラマブルデータパス818とを含むことができる。図示されるように、プログラマブルデータパス818は、ベースユニット120の回路820に結合される。ベースユニット120の回路820は、ベースユニット120のHSSIO機能を実現する機能回路を表す。ブロック806は、レベルシフタ830およびコンフィギュレーションRAM834を含む。ブロック806は、さらに、クロック・マルチプレクサ・ブロック836と、プログラマブル・データ・パス838とを含むことができる。示されるように、プログラマブル・データ・パス838は回路820に結合する。
インタフェース620の制御チャネルは、ブロック804ブロックにより実現される。ブロック804は、たとえば、24ビットのパラレルインタフェースといった、それぞれ24の信号配線を含む、2つのサブチャネルを提供することができる。示されるように、ブロック804は、レベルシフタ822と、クロックおよび制御バッファ824と、コンフィギュレーションRAM826と、クロック・マルチプレクサ・ブロック828と、を含む。インターフェース605のブロック704から受信したグローバル・コントロール信号とグローバル・クロック信号は、システム制御信号とシステムクロック信号に変換され、次いで回路820に提供される。
インターフェース620のDRPポートは、ブロック808によって実現される。ブロック808は、たとえば24本の信号配線といった、それぞれ24ビットのパラレルインターフェースを含む2つのサブチャネルを提供することができる。示されるように、ブロック808は、レベルシフタ840および842と、コンフィギュレーションRAM848およびコンフィギュレーションRAM850と、スレーブ・インタフェースであるDRPインタフェース852とを含む。DRPインタフェース852はコンフィギュレーションメモリ854とに結合する。DRPインタフェース852は、図7のDRPインタフェース762から受信した構成データに応じて、構成メモリ854をプログラムする。メモリ854は、たとえば、異なる動作モードのうちの1つに回路820を配置するというように、制御回路820の機能性を制御する。
DRPインタフェース852は、スレーブインターフェースであって、コンフィギュレーションRAMの読み出し/書き込みポートを介して、コンフィギュレーションRAM814と、コンフィギュレーションRAM826と、コンフィギュレーションRAM834と、コンフィギュレーションRAM848と、コンフィギュレーションRAM850に結合されている。ダイ110から構成データのフレームを受信したとき、DRPインタフェース762は、コンフィギュレーションRAM814と、コンフィギュレーションRAM826と、コンフィギュレーションRAM834と、コンフィギュレーションRAM848と、コンフィギュレーションRAM850とのうちの適切な1つ、あるいは構成メモリ854に、フレームを転送することができる。たとえば、構成データを送信するインターフェース605のDRPインタフェース762に応じて、DRPインタフェース852は、構成データをを適切なコンフィギュレーションRAMおよび/または構成メモリ854に書き込む。
図9は、インターポーザを使用するベースユニット間のJTAG結合を示す第9のブロック図である。図1のベースユニット120−130が示されている。説明したように、ベースユニット120−130は同一である。キーは、それぞれベースユニット120−130の端子配列を示している。図のように、ベースユニット120−130の各々は、TMS(テストモードステート)端子と、TCK(テスト・クロック)端子と、TDI(テストデータ入力)端子と、バイパスモード端子と、フィードスルーバイパス端子と、TMS_OUT端子、TCK_OUT端子、TDO(テストデータ出力)端子と、バイパス・イネーブル端子とを含む、JTAGインターフェース実装を含む。たとえば、図示された各端子は、(図示しない)インターポーザ105へのマイクロバンプ結合を表すことができる。
各ベースユニットは、さらにTDI端子からTDO端子への信号経路905を含むことができる。信号経路905は、以下により詳細に本明細書中に記述されるように、保存された信号経路または保存されていない信号経路を提供するように構成することができる。個々のベースユニット120−130の間で伝播する信号は、インターポーザ105を通して搬送される。たとえば、ベースユニット120およびベースユニット125を参照すると、たとえば、ベースユニット120のTMS_OUT端子をベースユニット125のTMS端子に結合する信号と、ベースユニット125のTCK端子にベースユニット120のTCK_OUT端子を結合する信号と、ベースユニット125のTDI端子とベースユニット120のTDO端子とを結合する信号と、ベースユニット125のバイパス・イネーブル端子とベースユニット120のバイパス・イネーブル端子をと結合する信号と、がインターポーザ105内に実装される。
ベースユニット125とベースユニット130を参照すると、たとえば、ベースユニット130のTMS端子にベースユニット125のTMS端子を結合する信号と、ベースユニット130のTCK端子にベースユニット125のTCK端子を結合する信号と、ベースユニット130のTDI端子とベースユニット125のTDO端子とを結合する信号と、ベースユニット125の端子のバイパス・イネーブル端子(とベースユニット120のバイパス・イネーブル端子)を、ベースユニット130のバイパス・イネーブル端子に結合する信号と、がインターポーザ105内に実装される。さらに、ベースユニット130のフィードスルーバイパス端子は、インターポーザ105を介しベースユニット120(たとえば、ダイの最後のベースユニット)によって受信されたTDI信号に結合されている。
一つの局面では、各ベースユニットのバイパスモード端子に供給される信号は、ベースユニットのJTAGインタフェースの動作モードを決定する。示されるように、ベースユニット120およびベースユニット125のバイパスモード端子は、高電圧、たとえば、VCCに結合され、一方、ベースユニット130のバイパスモード端子はグランドに結合される。従って、ベースユニット120およびベースユニット125のJTAGインターフェースは通常の動作モードにある。ベースユニット130のJTAGインターフェースは、「フィードスルーバイパス」と呼ばれる別の動作モードにある。JTAGインタフェースのための特定の動作モードを起動するために、各ベースユニットのバイパスモード端子に結合されたHIGHあるいはロー信号を使用するのは、例示の目的のためであり、所望であれば、逆にすることができることを理解すべきである。さらに、各バイパスモード端子は、静的な結合として示されているが、他のダイ内、たとえば、プログラマブルIC内の制御ユニットに結合されたインターポーザ105内の信号に結合されることができ、それによって、他のダイが各ベースユニット内のJTAGインターフェースの特定の動作モードを制御することを可能とし、また、必要とされ得るテスト目的のために(動的に)動作中の各ベースユニットのJTAGインタフェースの動作モードを切り替えることを可能とする。
一般的には、フィードスルーバイパスモードは、ベースユニットのJTAGインタフェースがベースユニットのTDI端子で受信した信号を、ベースユニットのTDO端子に渡すか、または、ベースユニットのフィードスルーバイパス端子で受信した信号を、ベースユニットのTDO端子に渡すかどうかを制御する。したがって、通常の動作モードにおいて、TDI端子上の信号は、ベースユニット120およびベースユニット125のそれぞれのTDO端子に渡される。ベースユニット120およびベースユニット125内のそれぞれのさらなる構成は、信号経路905が保存されているか否かを判定する。ベースユニット130は、フィードスルーバイパスモードを実装する際に、フィードスルーバイパス端子が受けとった信号を、TDI端子上の信号の代わりに、TDO端子へ渡す。示されるように、ベースユニット130のフィードスルーバイパス端子に供給される信号は、インターポーザから取られるTDI信号である。ベースユニットのTDO端子へのフィードスルーバイパス端子からの信号経路は、保存されていない信号経路である。
図9に示され、図10においてさらに詳しく説明される機能は、JTAGの観点から、マルチダイICを、単一のデバイスとして、動作させることを可能にする。電子システムでは、デバイスはJTAGバイパスモードに配置されると、それぞれが1つの値をシフトアウトするように構成されている。与えられたシステム内、たとえば、複数のICを搭載する回路基板内のシフトアウト数をカウントすることにより、デバイスの数を決定することができる。
マルチダイICの場合には、しかしながら、デバイスは、複数の装置(たとえば、マルチダイIC内のそれぞれのダイが1つの値をシフトアウトする装置)とは対照的に、単一のデバイスとしてエンドユーザに表示されなければならない。上記の図9と以下の図10に示す機能は、JTAGを使用するユーザの観点では、マルチダイIC全体が単一の一つの値をシフトアウトするよう構成される点において、単一のデバイスとしてふるまうことを可能とする。保存されているTDI−TDO信号経路のみが、たとえば、1つの値をシフトする。保存されていない信号は、パススルー動作を行い、シフトアウトされる1つの値を生成しない。図9に示したインターポーザの構成を使用して、どのダイがJTAGバイパスモードのために1つの値を生成し、どのダイがしないかを制御することができる。マルチダイIC自体の開発におけるテスト目的で、しかしながら、異なるJTAGモードが実装されることができ、JTAGの観点から、マルチダイICは、複数のデバイスのように、見えるようにできる。
図10は、JTAGインターフェース1000を示す第10ブロック図である。JTAGインターフェース1000は、各ベースユニット内、すなわち、図2を参照して説明したように、記載された様々なJTAG動作モードを容易にするためのベースユニット120−130内に実装されることができる。一般に、各ベースユニットのJTAGインターフェースは、その中に含まれるDRPスレーブインタフェースに結合されることができる。
示されるように、JTAGインターフェース1000は、JTAGコントローラ1005と、バッファ1010と、バッファ1015と、セレクタ回路1020と、セレクタ回路1025と、を含む。JTAGコントローラ1005は、TMS信号と、TCK信号と、TDI信号と、バイパスモード信号とを受信する。バッファ1010はまた、TCK信号を受信し、ベースユニットのTCK_OUT端子に供給されるTCK_OUT信号として、バッファされたバージョンのTCK信号を生成する。バッファ1015は、TMS信号を受信し、ベースユニットのTMS_OUT端子に供給するTCK_OUT信号として、バッファされたバージョンのTCK信号を生成する。TMS信号とTCK信号をバッファする能力は、そのような信号の負荷を大幅に低減することを可能にする。ベースユニット(またはダイ)の数が、TMSとTCK信号に予想以上に大きな負荷をかける実装において、そのようなバッファリングは、TCKとTMS信号にわずかな遅延を招くながらも、負荷の影響を低減するのに役立つ。
明らかに、TMS信号とTCK信号がバッファされるか否かは、ベースユニットが配置されたインターポーザによって確立された結合に応じて、決定することができる。たとえば、TMS_OUT端子とTCK_OUT端子がベースユニット125に結合されているので、図9に図示される構成は、ベースユニット120におけるTMSとTCK信号のバッファリングを使用する。しかし、ベースユニット125およびベースユニット130は、ベースユニット125のTMS端子とTCK端子がベースユニット130のTMS端子とTCK端子に結合しておらず、また、ベースユニット125のTMS_OUT端子とTCK_OUT端子とをバイパスしているため、TMS信号とTCK信号とを使用しない。
(バイパスモード端子に対応する)バイパスモード信号は、ベースユニットのJTAGインターフェースが通常モードまたはフィードスルーバイパスモードであるか否かを決定する。フィードスルーバイパスモードでは、JTAGコントローラ1005は、通常モードでは、制御信号1030を介して、信号1035としてフィードスルーバイパス信号を通過させるように、セレクタ1020に指示する。通常モードでは、JTAGコントローラ1005は、通常モードでは、制御信号1030を介して、信号1035としてTDI信号を通過させるように、セレクタ1020に指示する。セレクタ回路1020は、マルチプレクサまたは制御信号に応じて複数の信号のいずれかを通過させるか、制御信号に応答して所望の状態で特定の信号を生成することを選択することができる任意の他の回路として実現することができる。実際には、セレクタ回路1020は、隣接ベースユニットTDOのカスケードから来る標準のTDI信号が来ているのか、またはベースユニットのカスケードチェーンの最初のTDIから来るフィードスルーバイパスから来ているかどうかを決定する。
バイパス・イネーブル信号は、セレクタ回路1025がTDO信号として信号1040または信号1035を通過させるかどうかをコントロールする。信号1035または1040のいずれかがTDOとして渡されるので、信号1035および1040は、中間TDO信号とみなされることができる。JTAGコントローラ1005は、たとえば、バイパス・イネーブル信号の状態に応じて、セレクタ回路1025に制御信号1045を提供する。セレクタ回路1025は、マルチプレクサ、または、制御信号に応答して複数の信号のいずれかを通過させるか、あるいは、制御信号に応答して、所望の状態で特定の信号を生成するかを選択することができる任意の他の回路として実装されることができる。いずれにしても、セレクタ回路1025は、(TDI信号またはフィードスルーバイパス信号のいずれかの)信号1035または信号1040のいずれかをTDOとして渡すことができる。セレクタ回路1020およびセレクタ回路1025を通る信号経路は、JTAGコントローラ1005とレジスタ1055を通り信号1040を出力するTDIからの経路とは異なり、保存されていない経路である。このような方法では、セレクタ回路1025は、TDOとして、保存されていない信号(TDI信号またはフィードスルーバイパス信号)が通過したか、または保存された信号(信号1040)が通過したかを決定する。
一つの局面では、バイパス・イネーブル信号は、ベースユニットにおいて弱いプルアップ・イネーブルを有するだろう双方向のオープンドレイン信号として実装される。フィードスルーバイパスコマンドがJTAGコントローラ1005のJTAG命令レジスタ、あるいはテスト・ロジック・リセットステートの後にないときは、各ベースユニットは、モードに関係なく、バイパス・イネーブルをローに駆動する。フィードスルーバイパスコマンドまたはHigh−Zコマンドが、JTAGコントローラ1005のJTAG命令レジスタにあるとき、またはテスト・ロジック・リセット・ステートの後、バイパスイネーブル信号はトライステートになることができる。したがって、すべてのベースユニットがフィードスルーバイパスモードにある場合、バイパスイネーブル信号がハイになるだろう。フィードスルーバイパスコマンドまたはHigh−ZコマンドがJTAG命令レジスタにあるとき、またはテスト・ロジック・リセット・ステートの後、各ベースユニットは、モードにかかわらず、TDO信号として信号1035を渡すだろう。フィードスルーバイパスモードでは、JTAGインタフェースは、フィードスルーバイパス命令またはHigh−Z命令がJTAG命令レジスタにあるときに、TDO信号として、信号1035としてのフィードスルーバイパスとして通過させる。フィードスルーバイパスモードでは、JTAGインタフェースは、テスト・ロジック・リセット・ステートの後に、フィードスルーバイパス命令またはHIGH−Z命令がJTAG命令レジスタにあるときにも、フィードスルーバイパスをTDO信号として通過させる。フィードスルーバイパスモードでは、JTAGインタフェースは、テスト・ロジック・リセット・ステートの後に、そしてバイパスイネーブル信号がHIGHの場合にも、フィードスルーバイパスをTDO信号として通過させる。バイパスイネーブル信号がローの場合、JTAGコントローラ1005は、フィードスルーモードによって決定されるように、信号1035を使用するか、信号1040を使用するか、レジスタ1055を使用するかして、TDO端子にTDI端子を結合する。説明したように、複数のベースユニットを使用してダイを実装するとき、このバイパスは大幅にフィードスルー遅延を低減する。
図10を参照して説明するように、JTAGインタフェースは、たとえば、ダイ110など、任意の他のダイに追加することができ、さらにフィードスルーの遅延を減少させる。したがって、場合によっては、各ダイおよび/またはベースユニットのJTAGインタフェースのモードに基づき、マルチダイICは、単一のデバイス識別子を生成するようにでき、あるいは単一の値を渡すように構成することがる。マルチダイIC自体をテストする目的のために、JTAGインタフェースは、個々のダイおよび/またはベースユニットがデバイス識別子および/または1つの値を渡すことに応答することができる動作モードにおくことができる。JTAGインターフェースの動作モードのいずれかの組合せも、1つのダイおよび/または1つのベースユニット単位で、そのJTAGインタフェースに所望の動作モードを実現するため、各ダイおよび/またはベースユニット内のJTAGコントローラに信号値を提供することに基づいて実装することができる。
本明細書中に開示される本発明の構成によれば、各ベースユニットは、完全に自己完結型のビルトインセルフテスト(BIST)の構造を含むように設計することができる。各ベースユニットはまた、約50のプローブ端子と、電源(単数または複数)と、GND(単数または複数)とを含む標準的な少端子インタフェースを含むことができる。各ベースユニットのサイズが小さいため、マルチサイト試験を容易にする。ウェハソートの間、マルチサイトテストが同時に多数のダイの試験を行うことを可能にする。一つの局面では、複数の連続したベースユニットが良好なダイのために必要とされるので、多歩留ウェハを、ベースユニット数が最も多いダイを作製するために使用することができる。少数の連続する良好なベースユニットが必要とされるので、低歩留ウェハは、たとえば、より少ないベースユニットといった、より少ない数のダイを作成するために使用することができる。
例示的な動作シナリオは、図9と図10を組み合わせて参照して説明される。インターポーザは、本明細書で説明され、図9に示すように構成された3つの同一のベースユニットを有する。図10のように、各ベースユニットは、JTAGコントローラを含む。ベースユニット120およびベースユニット125は、通常モードで動作している。ベースユニット130は、フィードスルーバイパスモードで動作している。第4の標準的、たとえば図10を参照して説明される追加的機能を有さない従来の、JTAGコントローラ、は、たとえばFPGAといった別のダイ内に含まれることができ、また、インターポーザ上に搭載されることができる。第4のJTAGコントローラは、ベースユニット130のTDO端子に結合されたTDI端子を有する。
共通のTMS端子をハイに設定して、すべてのベースユニットに共通するTCK端子を7回クロックすることで、すべてのJTAGのコントローラは、テスト・ロジック・リセット状態になる。すべてのJTAGコントローラは、フィードスルーバイパスモードになり、それによってバイパス・イネーブル・端子をトライステートにし、インターポーザ内のバイパス・イネーブル信号をハイにするだろう。
JTAGコントローラは、JTAGコントローラをShift−DR状態に置くため、TMS端子とTCK端子とを使用し再びクロックされることができる。通常モードで動作しているJTAGコントローラは、保存されていないパスを使用して、TDO端子にTDI端子を結合する。フィードスルーバイパスモードで動作しているJTAGコントローラは、保存されていないパスを使用して、TDO端子にフィードスルーバイパス端子を結合する。第4のJTAGコントローラは、通常のバイパスモードで動作し、TDI端子とTDO端子との間の信号レジスタの遅延を有する。
JTAGコントローラは、その後、ベースユニット120と、ベースユニット125と、ベースユニット130との内のJTAGコントローラ、および、第4のJTAGコントローラ内の命令レジスタにそれぞれ、「フィードスルーバイパス」、「フィードスルーバイパス」、「フィードスルーバイパス」、「EXTEST」の命令をロードするためにTMS端子とTCK端子とを使用してクロックされることができる。
JTAGコントローラは、再びShift−DR状態を実装するためにTMS端子とTCK端子とを使用してクロックされることができる。通常モードで動作しているJTAGコントローラは、保存されていないパスを使用して、TDO端子にTDI端子を結合する。フィードスルーバイパスモードで動作しているJTAGコントローラは、保存されていないのパスを使用して、TDO端子にフィードスルーバイパス端子を結合する。第4のJTAGコントローラは、そのユニット内のTDI端子とTDO端子との間にJTAGコントローラのI/Oバウンダリスキャンレジスタを結合する。その結果、(マルチICダイを参照し、)フィードスルーバイパス内の3つのベースのユニットで発生する遅延が最少であって、デバイスのTDIとTDO端子の間におかれ、唯一第四のユニットのバウンダリ・スキャン・レジスタを持つデバイスが得られる。
JTAGコントローラは、再びベースユニット120と、ベースユニット125と、ベースユニット130とのJTAGコントローラおよびと第4JTAGコントローラの命令レジスタに、「High−Z」命令をロードするためにTMSとTCK端子を使用してクロックされることができる。
JTAGコントローラは、再びSHIFT−DR状態を実装するためにTMSとTCK端子を使用してクロックされることができる。通常モードで動作しているベースユニットのJTAGコントローラは、保存されていないパスを使用してTDO端子にTDIを結合する。バイパスイネーブルモードで動作しているJTAGコントローラは、保存されていないパスを使用してTDO端子にフィードスルーバイパス端子を結合する。第四のJTAGコントローラは、TDI端子とそのユニットのTDO端子の間に、単一のバイパスレジスタを結合する。すべてのJTAGコントローラは、HIGH−Zコマンドで必要とされるようにI/Oをトライステートする。その結果、(マルチICダイを参照し)フィードスルーバイパスモードで3つのベースユニットで最小の遅延が発生する、TDIとTDO端子の間の単一のレジスタを持つデバイスが得られる。
図11は、図10のJTAGインタフェースの動作状態を示す表である。「バイパス信号モード」の列は、バイパス信号の状態を示している。「命令レジスタ」列は、JTAGコントローラ内の命令レジスタ内の特定のJTAG命令を示している。「フィードスルーバイパス信号」列は、表1の行で定義されたモードのためにフィードスルーバイパス信号が使用されるかどうかを示し、ここでの、「バイパス入力」とは、信号があるか、または使用されてもよいかを示す。「バイパス・イネーブル信号」欄には、JTAGインタフェースのバイパス・イネーブル信号の状態を示す。「TDOとして渡される信号」は、JTAGインターフェースに対する他の要素の状態が行に示されるように与えられたときに、JTAGインターフェースから出力されるTDO信号を生成しおよび/または伝達するために、どの信号経路がアクティブになり使用されるかを示す。TDO信号として出力される特定の信号は、信号1035として渡され、その後(保存されていない)TDOとして出力されるTDI信号か、JTAGコントローラ内に登録され、信号1040として渡され、(保存された)TDOとして出力されるTDI信号か、または、信号1035として渡された後、(保存されていない)TDOとして出力されるフィードスルーバイパス信号、のいずれかである。
本明細書内で開示された実施例は、必要なマスクセットの数を削減しつつ、様々なマルチダイIC製品を開発するための技術を提供する。インターポーザ技術は、他のダイとダイのベースユニットを通信的につなぐために活用される。説明したように、ベースユニットは同一であり、各ベースユニットが実装されたダイを介して相互に通信するいずれの手段も有さない。インターポーザ技術は、ダイが10の信号のみを有するダイの結合を可能にするパッケージング技術の限界とは対照的に、数千の信号密度でともに結合されることを可能にする。
説明のために、特定の専門用語は、本明細書に開示される様々な発明の概念の完全な理解を提供するために記載されている。本明細書で使用する用語は、しかし、特定の実施形態のみを説明する目的のためであり、限定されるものではない。たとえば、本明細書を通じて、「一の実施形態」、「ある実施形態」、または同様の語への言及は、実施形態に関連して記載される特定の特徴、構造、または特性が、本明細書中に開示される少なくとも1つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書全体を通して、「一つの実施形態では」、「ある実施形態では」、および類似の語の表現の出現は、必ずしも全てが同じ実施形態を参照するとは限らないといえる。
本明細書で使用される用語は、「1つの」は、1または複数として定義される。本明細書で用いられる用語「複数」は、二つあるいはそれ以上として定義される。本明細書で使用される用語「別の」は、少なくとも第2あるいはそれ以上と定義される。特に断らない限り、本明細書で使用される用語「結合された」は、いずれの介在要素を有さず直接、あるいは、一つあるいはそれ以上の任意の介在要素を有し間接的に結合されることと定義する。2つの要素は電気的、機械的にも結合することができ、または、通信チャネル、パス、ネットワーク、またはシステムを介して通信的につながれることもできる。
本明細書で使用する用語「および/または」という用語は、関連して列挙された項目のうちの1つまたは複数のいずれかおよびすべての可能な組み合わせを包含する。さらに、用語「含む」および/または「含んでいる」は、本明細書で使用される場合、述べられた特徴、整数、ステップ、動作、要素、および/または構成要素の存在を特定することが理解されるであろうが、1つまたは複数の他の特徴、整数、ステップ、動作、要素、構成要素および/またはそれらの群の存在または付加を排除するものではない。また、第1、第2などの用語は、様々な要素を説明するために使用されることができるが、これらの用語は、要素を別の要素と区別するためだけに用いられているため、これらの要素はこれらの用語によって限定されるべきではないことが理解されるであろう。
「場合に」という用語は、文脈に応じて「時に」、「際に」、「決定に応じて」または「検出に応じて」を意味すると解釈することができる。同様に、「決定された場合に」または「[記載された条件または事象が]検出された場合に」という表現は、文脈に応じて、「検出すると」、「検出に応答して」、「[述べた条件または事象]の検出に応じて」、を意味すると解釈することができる。
対応する構造、材料、行為、および、以下の特許請求の範囲のすべての方法またはステップと機能要素の等価物は、具体的に記載された他の請求要素と組み合わせて機能を実行するための任意の構造、材料、または行為を含むことを意図している。図内では、示されるさまざまな要素および/またはブロックは一定の縮尺で描かれていない。そのため、ブロックおよび/または1つ以上の要素は、図示された例から異なる大きさとしてもよい。
本明細書中に開示される発明は、その精神または本質的な属性から逸脱することなく、他の形態で実施することができる。従って、むしろ前述の明細書ではなく、以下の特許請求の範囲が、本発明の範囲を示すものとして参照されるべきである。

Claims (12)

  1. 第1のダイと、
    第1のベースユニットと第2のベースユニットとを備える第2のダイとを備え、
    第1のベースユニットと第2のベースユニットのそれぞれは自己完結であり、第2のダイ内において第1のベースユニットと第2のベースユニットとの間をいかなる信号も通過せず、
    第1のダイを第1のベースユニットに結合する第1の複数のダイ間配線と、第1のダイを第2のベースユニットに結合する第2の複数のダイ間配線と、第1のベースユニットを第2のベースユニットに結合する第3の複数のダイ間配線とを備えるインポーザをさらに備える、集積回路構造。
  2. 第1のベースユニットと第2のベースユニットとが同一である、請求項1に記載の集積回路構造。
  3. 第1のベースユニットと第2のベースユニットとが、回路要素を含まないスクライブ領域によって分離されている、請求項1または2に記載の集積回路構造。
  4. 第1のダイが第1のジョイント・テスト・アクション・グループ(JTAG)インターフェースを備え、
    第1のベースユニットが第2のJTAGインターフェースを備え、
    第2のベースユニットが第3のJTAGインターフェースとを備える、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の集積回路構造。
  5. 第2のJTAGインターフェースが、第2のJTAGインターフェースのテストデータ入力信号が保存されている第1の動作モードと、第2のJTAGインターフェースのテストデータ入力信号が保存されていない第2の動作モードと、を提供する、請求項4に記載の集積回路構造。
  6. 第3のJTAGインターフェースが、第3のJTAGインターフェースのテストデータ入力信号が保存されている第1の動作モードと、第3のJTAGインターフェースのテストデータ入力信号が保存されていない第2の動作モードと、を提供する、請求項5に記載の集積回路構造。
  7. 第2のJTAGインターフェースが、
    JTAG信号を受信し、出力として、JTAG信号のバッファされたバージョンを生成するように構成されたバッファを備える、請求項4に記載の集積回路構造。
  8. インターポーザが、第1のベースユニットのテストデータ入力端子を第2のベースユニットのフィードスルーバイパス端子に結合するダイ間配線を備え、前記ダイ間配線は、第1のベースユニットと第2のベースユニットとの間に保存されていない信号パスを形成する、請求項4に記載の集積回路構造。
  9. 第3のJTAGインターフェースが、
    インターポーザのダイ間配線を介して、第2のJTAGインターフェースのテストデータ出力端子に結合された、テストデータ入力端子と、
    テストデータ入力端子に結合されており、第3のJTAGインターフェースのための第1の中間テストデータ出力信号として、テストデータ入力端子で受け取った信号の保存されたバージョンの信号を生成するように構成されたレジスタと、
    第3のJTAGインターフェースの動作モードに応じて、第2のベースユニットのテストデータ出力端子に、第1の中間テストデータ出力信号、または保存されていない第2の中間テストデータ出力信号を渡すように構成されたセレクタ回路と、を備える、請求項8に記載の集積回路構造。
  10. 各ベースユニットがジョイント・テスト・アクション・グループ(JTAG)インターフェスを備え、JTAGインターフェースは、
    テストデータ入力信号を受け取り、第1の中間テストデータ出力信号として、保存されたバージョンのテストデータ入力信号を生成するJTAGコントローラと、
    JTAGコントローラの制御の下で、第2の中間テストデータ出力信号として、フィードスルーバイパス信号あるいはテストデータ入力信号を渡すように構成された第1のセレクタと、
    JTAGコントローラの制御の下で、第1の中間テストデータ入力信号あるいは第2の中間テストデータ出力信号を渡すように構成された第2のセレクタと、を備える、請求項1から3のいずれか1項に記載の集積回路構造。
  11. 第1のベースユニットが、第2の複数のダイ間配線を介して第1のダイに結合された動的構成ポートを備え、
    第2のベースユニットが、第3の複数のダイ間配線を介して第2のダイに結合された動的構成ポートとを備える、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の集積回路構造。
  12. 第1のベースユニットが、複数の動作モードのうちの1つを実施するように構成可能であり、
    第2のベースユニットが、第1のベースユニットの動作モードとは独立に、複数の動作モードのうちの1つを実施するように構成可能である、請求項11に記載の集積回路構造。
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Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8957512B2 (en) 2012-06-19 2015-02-17 Xilinx, Inc. Oversized interposer
US8869088B1 (en) 2012-06-27 2014-10-21 Xilinx, Inc. Oversized interposer formed from a multi-pattern region mask
US9024657B2 (en) * 2012-10-11 2015-05-05 Easic Corporation Architectural floorplan for a structured ASIC manufactured on a 28 NM CMOS process lithographic node or smaller
US9362236B2 (en) 2013-03-07 2016-06-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package structures and methods for forming the same
US9136842B2 (en) 2013-06-07 2015-09-15 Altera Corporation Integrated circuit device with embedded programmable logic
US9547034B2 (en) * 2013-07-03 2017-01-17 Xilinx, Inc. Monolithic integrated circuit die having modular die regions stitched together
TWI511257B (zh) * 2013-07-30 2015-12-01 Univ Nat Chiao Tung 半導體元件之內連接結構
CN106165092B (zh) 2014-02-26 2020-02-18 英特尔公司 具有穿桥导电过孔信号连接的嵌入式多器件桥
US9915869B1 (en) 2014-07-01 2018-03-13 Xilinx, Inc. Single mask set used for interposer fabrication of multiple products
EP4362335A2 (en) * 2014-10-02 2024-05-01 Altera Corporation Integrated circuit device with embedded programmable logic
US10074630B2 (en) * 2015-04-14 2018-09-11 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package with high routing density patch
US9653428B1 (en) * 2015-04-14 2017-05-16 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and fabricating method thereof
US11211359B2 (en) * 2015-09-17 2021-12-28 Semiconductor Components Industries, Llc Semiconductor device and method of forming modular 3D semiconductor package with horizontal and vertical oriented substrates
US10212496B2 (en) 2015-10-28 2019-02-19 Ciena Corporation High port count switching module, apparatus, and method
US10262973B1 (en) * 2015-12-03 2019-04-16 Marvell International Ltd. Modular chip with redundant interfaces
US10312220B2 (en) 2016-01-27 2019-06-04 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and fabricating method thereof
TWI652778B (zh) 2016-01-27 2019-03-01 艾馬克科技公司 半導體封裝以及其製造方法
US10497674B2 (en) 2016-01-27 2019-12-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and fabricating method thereof
US20170221871A1 (en) * 2016-02-01 2017-08-03 Octavo Systems Llc Systems and methods for manufacturing electronic devices
KR102528542B1 (ko) * 2016-02-02 2023-05-02 자일링크스 인코포레이티드 액티브-바이-액티브 프로그래밍가능 디바이스
US10002100B2 (en) * 2016-02-02 2018-06-19 Xilinx, Inc. Active-by-active programmable device
US10042806B2 (en) * 2016-02-02 2018-08-07 Xilinx, Inc. System-level interconnect ring for a programmable integrated circuit
US10784121B2 (en) * 2016-08-15 2020-09-22 Xilinx, Inc. Standalone interface for stacked silicon interconnect (SSI) technology integration
KR20180086804A (ko) 2017-01-23 2018-08-01 앰코 테크놀로지 인코포레이티드 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
US9929733B1 (en) * 2017-02-21 2018-03-27 Qualcomm Incorporated Connection propagation for inter-logical block connections in integrated circuits
KR101885465B1 (ko) * 2017-03-06 2018-08-03 사단법인 엑시콘산학공동연구소 Ssd bist 장치
US11257746B2 (en) * 2017-11-02 2022-02-22 The Regents Of The University Of California Power distribution within silicon interconnect fabric
US11632112B2 (en) * 2017-12-27 2023-04-18 Intel Corporation Integrated circuit device with separate die for programmable fabric and programmable fabric support circuitry
US10468318B2 (en) * 2018-01-29 2019-11-05 Cisco Technology, Inc. Stiffener for providing uniformity in microelectronic packages
KR102587976B1 (ko) 2018-02-06 2023-10-12 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US11282776B2 (en) 2018-02-22 2022-03-22 Xilinx, Inc. High density routing for heterogeneous package integration
KR102553267B1 (ko) * 2018-05-17 2023-07-07 삼성전자 주식회사 멀티-채널 패키지, 및 그 패키지를 테스트하는 테스트 장치 및 테스트 방법
US11676941B2 (en) 2018-12-07 2023-06-13 Amkor Technology Singapore Holding Pte. Ltd. Semiconductor package and fabricating method thereof
US10666261B2 (en) 2018-12-28 2020-05-26 Intel Corporation High-speed core interconnect for multi-die programmable logic devices
KR102657584B1 (ko) * 2019-05-20 2024-04-15 삼성전자주식회사 내부 테스트 인에이블 신호를 이용하는 반도체 장치의 웨이퍼 레벨 테스트 방법
US10691182B2 (en) * 2019-05-20 2020-06-23 Intel Corporation Layered super-reticle computing: architectures and methods
US10879903B2 (en) * 2019-06-28 2020-12-29 Intel Corporation Distributed I/O interfaces in modularized integrated circuit devices
CN111863780A (zh) * 2020-07-17 2020-10-30 北京灵汐科技有限公司 封装结构及电子设备
CN113451291A (zh) * 2021-06-19 2021-09-28 中国电子科技集团公司第五十八研究所 一种基于FPGA与AD/DA转换器的高带宽数字信号处理SiP电路装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05129463A (ja) * 1991-07-05 1993-05-25 Hitachi Ltd 半導体チツプキヤリアとそれを実装したモジユール及びそれを組み込んだ電子機器
JPH09205150A (ja) * 1996-12-02 1997-08-05 Toshiba Corp 大規模集積回路装置の製造方法
WO2002057921A1 (en) * 2001-01-19 2002-07-25 Hitachi,Ltd Electronic circuit device
WO2002082540A1 (fr) * 2001-03-30 2002-10-17 Fujitsu Limited Dispositif a semi-conducteurs, son procede de fabrication et substrat semi-conducteur connexe
JP2010010427A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Renesas Technology Corp 半導体装置

Family Cites Families (156)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4467342A (en) 1982-07-15 1984-08-21 Rca Corporation Multi-chip imager
US4803595A (en) 1986-11-17 1989-02-07 International Business Machines Corporation Interposer chip technique for making engineering changes between interconnected semiconductor chips
US5489804A (en) 1989-08-28 1996-02-06 Lsi Logic Corporation Flexible preformed planar structures for interposing between a chip and a substrate
US5399898A (en) 1992-07-17 1995-03-21 Lsi Logic Corporation Multi-chip semiconductor arrangements using flip chip dies
JP3394542B2 (ja) * 1990-03-30 2003-04-07 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド 直列データ入出力テスト装置
US6675333B1 (en) * 1990-03-30 2004-01-06 Texas Instruments Incorporated Integrated circuit with serial I/O controller
US5285236A (en) 1992-09-30 1994-02-08 Kanti Jain Large-area, high-throughput, high-resolution projection imaging system
TW253031B (ja) * 1993-12-27 1995-08-01 At & T Corp
US5437946A (en) 1994-03-03 1995-08-01 Nikon Precision Inc. Multiple reticle stitching for scanning exposure system
US5715144A (en) 1994-12-30 1998-02-03 International Business Machines Corporation Multi-layer, multi-chip pyramid and circuit board structure
US5787007A (en) 1996-01-30 1998-07-28 Xilinx, Inc. Structure and method for loading RAM data within a programmable logic device
US5814847A (en) 1996-02-02 1998-09-29 National Semiconductor Corp. General purpose assembly programmable multi-chip package substrate
US7166495B2 (en) 1996-02-20 2007-01-23 Micron Technology, Inc. Method of fabricating a multi-die semiconductor package assembly
US5907903A (en) 1996-05-24 1999-06-01 International Business Machines Corporation Multi-layer-multi-chip pyramid and circuit board structure and method of forming same
US6396303B1 (en) 1997-02-26 2002-05-28 Xilinx, Inc. Expandable interconnect structure for FPGAS
US5963050A (en) 1997-02-26 1999-10-05 Xilinx, Inc. Configurable logic element with fast feedback paths
US6204689B1 (en) 1997-02-26 2001-03-20 Xilinx, Inc. Input/output interconnect circuit for FPGAs
US5897986A (en) 1997-05-28 1999-04-27 Anvik Corporation Projection patterning of large substrates using limited-travel x-y stage
US5869894A (en) 1997-07-18 1999-02-09 Lucent Technologies Inc. RF IC package
US6359466B1 (en) 1997-09-16 2002-03-19 Vantis Corporation Circuitry to provide fast carry
US6130551A (en) 1998-01-19 2000-10-10 Vantis Corporation Synthesis-friendly FPGA architecture with variable length and variable timing interconnect
DE19757074A1 (de) 1997-12-20 1999-06-24 Zeiss Carl Fa Projektionsbelichtungsanlage und Belichtungsverfahren
US6043672A (en) 1998-05-13 2000-03-28 Lsi Logic Corporation Selectable power supply lines for isolating defects in integrated circuits
US6369444B1 (en) 1998-05-19 2002-04-09 Agere Systems Guardian Corp. Packaging silicon on silicon multichip modules
US6611635B1 (en) 1998-10-09 2003-08-26 Fujitsu Limited Opto-electronic substrates with electrical and optical interconnections and methods for making
US6157213A (en) 1998-10-19 2000-12-05 Xilinx, Inc. Layout architecture and method for fabricating PLDs including multiple discrete devices formed on a single chip
US6160418A (en) 1999-01-14 2000-12-12 Xilinx, Inc. Integrated circuit with selectively disabled logic blocks
SG93192A1 (en) 1999-01-28 2002-12-17 United Microelectronics Corp Face-to-face multi chip package
TW447009B (en) 1999-02-12 2001-07-21 Nippon Kogaku Kk Scanning exposure method and scanning type exposure device
US6429509B1 (en) 1999-05-03 2002-08-06 United Microelectronics Corporation Integrated circuit with improved interconnect structure and process for making same
US7030466B1 (en) 1999-05-03 2006-04-18 United Microelectronics Corporation Intermediate structure for making integrated circuit device and wafer
JP3767246B2 (ja) 1999-05-26 2006-04-19 富士通株式会社 複合モジュール及びプリント回路基板ユニット
US6218864B1 (en) 1999-08-10 2001-04-17 Xilinx, Inc. Structure and method for generating a clock enable signal in a PLD
US6215327B1 (en) 1999-09-01 2001-04-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Molecular field programmable gate array
US6559531B1 (en) 1999-10-14 2003-05-06 Sun Microsystems, Inc. Face to face chips
JP2001154371A (ja) 1999-11-30 2001-06-08 Nikon Corp 回路デバイスや表示デバイスの製造方法、及び大型ディスプレー装置
US6731009B1 (en) 2000-03-20 2004-05-04 Cypress Semiconductor Corporation Multi-die assembly
US7247932B1 (en) 2000-05-19 2007-07-24 Megica Corporation Chip package with capacitor
JP2002076250A (ja) 2000-08-29 2002-03-15 Nec Corp 半導体装置
WO2002069347A2 (en) 2001-02-27 2002-09-06 Micron Technology, Inc. Flash cell fuse circuit
JP2002353398A (ja) 2001-05-25 2002-12-06 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
US6525407B1 (en) 2001-06-29 2003-02-25 Novellus Systems, Inc. Integrated circuit package
JP3925615B2 (ja) 2001-07-04 2007-06-06 ソニー株式会社 半導体モジュール
KR100896538B1 (ko) * 2001-09-20 2009-05-07 엔엑스피 비 브이 전자 장치
TW523890B (en) 2002-02-07 2003-03-11 Macronix Int Co Ltd Stacked semiconductor packaging device
US7028281B1 (en) 2002-07-12 2006-04-11 Lattice Semiconductor Corporation FPGA with register-intensive architecture
US6944809B2 (en) 2002-08-06 2005-09-13 Xilinx, Inc. Methods of resource optimization in programmable logic devices to reduce test time
US6870271B2 (en) 2003-01-29 2005-03-22 Sun Microsystems, Inc. Integrated circuit assembly module that supports capacitive communication between semiconductor dies
JP3891123B2 (ja) 2003-02-06 2007-03-14 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、電子デバイス、電子機器、及び半導体装置の製造方法
JP4110992B2 (ja) 2003-02-07 2008-07-02 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、電子デバイス、電子機器、半導体装置の製造方法および電子デバイスの製造方法
US6803786B1 (en) 2003-03-11 2004-10-12 Xilinx, Inc. Structures and methods providing columns of tightly coupled processor and RAM blocks within an array of logic blocks
JP4069771B2 (ja) 2003-03-17 2008-04-02 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、電子機器および半導体装置の製造方法
TW588446B (en) 2003-03-21 2004-05-21 Advanced Semiconductor Eng Multi-chips stacked package
US20050112614A1 (en) 2003-05-15 2005-05-26 California Institute Of Technology Self-assembled circuits and circuit patterns
JP3951966B2 (ja) 2003-05-30 2007-08-01 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
US7132851B2 (en) 2003-07-11 2006-11-07 Xilinx, Inc. Columnar floorplan
US7095253B1 (en) 2003-07-21 2006-08-22 Xilinx, Inc. Programmable multi-chip module
US7107565B1 (en) 2003-07-25 2006-09-12 Xilinx, Inc. PLD device representation with factored repeatable tiles
US7566960B1 (en) 2003-10-31 2009-07-28 Xilinx, Inc. Interposing structure
US7088134B1 (en) 2003-11-06 2006-08-08 Lattice Semiconductor Corporation Programmable logic device with flexible memory allocation and routing
US7098542B1 (en) 2003-11-07 2006-08-29 Xilinx, Inc. Multi-chip configuration to connect flip-chips to flip-chips
US6930378B1 (en) 2003-11-10 2005-08-16 Amkor Technology, Inc. Stacked semiconductor die assembly having at least one support
EP1544632B1 (en) * 2003-12-17 2008-08-27 STMicroelectronics (Research & Development) Limited TAP sampling at double rate
EP1544631B1 (en) * 2003-12-17 2007-06-20 STMicroelectronics Limited Reset mode for scan test modes
US7190190B1 (en) 2004-01-09 2007-03-13 Altera Corporation Programmable logic device with on-chip nonvolatile user memory
US7067910B2 (en) 2004-04-13 2006-06-27 Sun Microsystems, Inc. Method and apparatus for using capacitively coupled communication within stacks of laminated chips
US20060001163A1 (en) 2004-06-30 2006-01-05 Mohammad Kolbehdari Groundless flex circuit cable interconnect
US7284226B1 (en) 2004-10-01 2007-10-16 Xilinx, Inc. Methods and structures of providing modular integrated circuits
US7425760B1 (en) 2004-10-13 2008-09-16 Sun Microsystems, Inc. Multi-chip module structure with power delivery using flexible cables
US7314174B1 (en) 2004-10-22 2008-01-01 Xilinx, Inc. Method and system for configuring an integrated circuit
US20060099736A1 (en) 2004-11-09 2006-05-11 Nagar Mohan R Flip chip underfilling
US7884454B2 (en) 2005-01-05 2011-02-08 Alpha & Omega Semiconductor, Ltd Use of discrete conductive layer in semiconductor device to re-route bonding wires for semiconductor device package
US20060157866A1 (en) 2005-01-20 2006-07-20 Le Thoai T Signal redistribution using bridge layer for multichip module
JP4581768B2 (ja) 2005-03-16 2010-11-17 ソニー株式会社 半導体装置の製造方法
US20060220227A1 (en) 2005-04-04 2006-10-05 Data Device Corporation High density integrated circuit having multiple chips and employing a ball grid array (BGA) and method for making same
US7671449B2 (en) 2005-05-04 2010-03-02 Sun Microsystems, Inc. Structures and methods for an application of a flexible bridge
US7337422B1 (en) 2005-05-10 2008-02-26 Xilinx, Inc. Programmably configurable logic-based macro
US7279929B1 (en) 2005-06-14 2007-10-09 Xilinx, Inc. Integrated circuit with programmable routing structure including straight and diagonal interconnect lines
US7274214B1 (en) 2005-06-14 2007-09-25 Xilinx, Inc. Efficient tile layout for a programmable logic device
US7196543B1 (en) 2005-06-14 2007-03-27 Xilinx, Inc. Integrated circuit having a programmable input structure with optional fanout capability
US7215138B1 (en) 2005-06-14 2007-05-08 Xilinx, Inc. Programmable lookup table with dual input and output terminals in shift register mode
US7199610B1 (en) 2005-06-14 2007-04-03 Xilinx, Inc. Integrated circuit interconnect structure having reduced coupling between interconnect lines
US7268587B1 (en) 2005-06-14 2007-09-11 Xilinx, Inc. Programmable logic block with carry chains providing lookahead functions of different lengths
US7205790B1 (en) 2005-06-14 2007-04-17 Xilinx, Inc. Programmable integrated circuit providing efficient implementations of wide logic functions
US7256612B1 (en) 2005-06-14 2007-08-14 Xilinx, Inc. Programmable logic block providing carry chain with programmable initialization values
US7253658B1 (en) 2005-06-14 2007-08-07 Xilinx, Inc. Integrated circuit providing direct access to multi-directional interconnect lines in a general interconnect structure
US7221186B1 (en) 2005-06-14 2007-05-22 Xilinx, Inc. Efficient tile layout for a programmable logic device
US7218140B1 (en) 2005-06-14 2007-05-15 Xilinx, Inc. Integrated circuit having fast interconnect paths between carry chain multiplexers and lookup tables
US7218143B1 (en) 2005-06-14 2007-05-15 Xilinx, Inc. Integrated circuit having fast interconnect paths between memory elements and carry logic
US7276934B1 (en) 2005-06-14 2007-10-02 Xilinx, Inc. Integrated circuit with programmable routing structure including diagonal interconnect lines
US7202697B1 (en) 2005-06-14 2007-04-10 Xilinx, Inc. Programmable logic block having improved performance when functioning in shift register mode
US7193433B1 (en) 2005-06-14 2007-03-20 Xilinx, Inc. Programmable logic block having lookup table with partial output signal driving carry multiplexer
US7233168B1 (en) 2005-06-14 2007-06-19 Xilinx, Inc. Methods of setting and resetting lookup table memory cells
US7265576B1 (en) 2005-06-14 2007-09-04 Xilinx, Inc. Programmable lookup table with dual input and output terminals in RAM mode
US7202698B1 (en) 2005-06-14 2007-04-10 Xilinx, Inc. Integrated circuit having a programmable input structure with bounce capability
US7218139B1 (en) 2005-06-14 2007-05-15 Xilinx, Inc. Programmable integrated circuit providing efficient implementations of arithmetic functions
WO2007002799A1 (en) 2005-06-29 2007-01-04 Lightspeed Logic, Inc. Methods and systems for placement
US7535105B2 (en) 2005-08-02 2009-05-19 International Business Machines Corporation Inter-chip ESD protection structure for high speed and high frequency devices
US7411293B2 (en) 2005-09-27 2008-08-12 Kingston Technology Corporation Flash memory card
US7301824B1 (en) 2005-10-04 2007-11-27 Xilinx, Inc. Method and apparatus for communication within an integrated circuit
US7491576B1 (en) 2005-11-01 2009-02-17 Xilinx, Inc. Yield-enhancing methods of providing a family of scaled integrated circuits
US7402443B1 (en) 2005-11-01 2008-07-22 Xilinx, Inc. Methods of providing families of integrated circuits with similar dies partially disabled using product selection codes
US7451421B1 (en) 2005-11-01 2008-11-11 Xilinx, Inc. Methods of implementing and modeling interconnect lines at optional boundaries in multi-product programmable IC dies
US7345507B1 (en) 2005-11-01 2008-03-18 Xilinx, Inc. Multi-product die configurable as two or more programmable integrated circuits of different logic capacities
US7498192B1 (en) 2005-11-01 2009-03-03 Xilinx, Inc. Methods of providing a family of related integrated circuits of different sizes
US20070210428A1 (en) 2006-03-09 2007-09-13 Tan Wooi A Die stack system and method
JP4659660B2 (ja) 2006-03-31 2011-03-30 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体装置の製造方法
JP2007324354A (ja) 2006-05-31 2007-12-13 Sony Corp 半導体装置
US7999383B2 (en) 2006-07-21 2011-08-16 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. High speed, high density, low power die interconnect system
US8124429B2 (en) 2006-12-15 2012-02-28 Richard Norman Reprogrammable circuit board with alignment-insensitive support for multiple component contact types
JP5559452B2 (ja) 2006-12-20 2014-07-23 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置及びその製造方法
US8163600B2 (en) 2006-12-28 2012-04-24 Stats Chippac Ltd. Bridge stack integrated circuit package-on-package system
US8237289B2 (en) 2007-01-30 2012-08-07 Kabushiki Kaisha Toshiba System in package device
US8080874B1 (en) 2007-09-14 2011-12-20 Google Inc. Providing additional space between an integrated circuit and a circuit board for positioning a component therebetween
US8415783B1 (en) 2007-10-04 2013-04-09 Xilinx, Inc. Apparatus and methodology for testing stacked die
US8008764B2 (en) 2008-04-28 2011-08-30 International Business Machines Corporation Bridges for interconnecting interposers in multi-chip integrated circuits
JP2009295959A (ja) 2008-05-09 2009-12-17 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
EP2151717A1 (en) 2008-08-05 2010-02-10 ASML Holding N.V. Full wafer width scanning using step and scan system
US8239590B1 (en) * 2009-01-31 2012-08-07 Xilinx, Inc. Method and apparatus for transferring data between two different interfaces
US20100270668A1 (en) 2009-04-28 2010-10-28 Wafer-Level Packaging Portfolio Llc Dual Interconnection in Stacked Memory and Controller Module
TW201101455A (en) 2009-06-24 2011-01-01 Nat Chip Implementation Ct Nat Applied Res Lab Fabrication method for system-on-chip (SoC) modules
US8227904B2 (en) 2009-06-24 2012-07-24 Intel Corporation Multi-chip package and method of providing die-to-die interconnects in same
US8063654B2 (en) * 2009-07-17 2011-11-22 Xilinx, Inc. Apparatus and method for testing of stacked die structure
US8295056B2 (en) 2009-07-22 2012-10-23 International Business Machines Corporation Silicon carrier structure and method of forming same
WO2011030504A1 (ja) 2009-09-11 2011-03-17 パナソニック株式会社 電子部品実装体及びその製造方法並びにインタポーザ
US8604593B2 (en) * 2009-10-19 2013-12-10 Mosaid Technologies Incorporated Reconfiguring through silicon vias in stacked multi-die packages
US8384411B2 (en) * 2009-12-18 2013-02-26 Tektronix, Inc. Method and device for measuring inter-chip signals
TWI501380B (zh) 2010-01-29 2015-09-21 Nat Chip Implementation Ct Nat Applied Res Lab 多基板晶片模組堆疊之三維系統晶片結構
US8519537B2 (en) * 2010-02-26 2013-08-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. 3D semiconductor package interposer with die cavity
US8327201B1 (en) * 2010-05-05 2012-12-04 Xilinx, Inc. Parallel testing of an integrated circuit that includes multiple dies
US8648615B2 (en) 2010-06-28 2014-02-11 Xilinx, Inc. Testing die-to-die bonding and rework
US8058897B1 (en) * 2010-06-28 2011-11-15 Xilinx, Inc. Configuration of a multi-die integrated circuit
US8536693B2 (en) 2010-07-20 2013-09-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Tiered integrated circuit assembly and a method for manufacturing the same
KR101179268B1 (ko) 2010-08-05 2012-09-03 에스케이하이닉스 주식회사 관통 비아들을 통한 칩선택이 가능한 반도체 패키지
US8294490B1 (en) 2010-10-01 2012-10-23 Xilinx, Inc. Integrated circuit and method of asynchronously routing data in an integrated circuit
US8417867B2 (en) 2010-11-17 2013-04-09 Xilinx, Inc. Multichip module for communications
US8615694B2 (en) * 2011-02-07 2013-12-24 Texas Instruments Incorporated Interposer TAP boundary register coupling stacked die functional input/output data
KR101817159B1 (ko) * 2011-02-17 2018-02-22 삼성전자 주식회사 Tsv를 가지는 인터포저를 포함하는 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US8436650B2 (en) 2011-03-30 2013-05-07 Panasonic Corporation Programmable logic device
US8338963B2 (en) 2011-04-21 2012-12-25 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8779553B2 (en) * 2011-06-16 2014-07-15 Xilinx, Inc. Stress-aware design for integrated circuits comprising a stress inducing structure and keep out zone
US20120324305A1 (en) * 2011-06-20 2012-12-20 Texas Instruments Incorporated Testing interposer method and apparatus
US8560982B2 (en) * 2011-06-27 2013-10-15 Xilinx, Inc. Integrated circuit design using through silicon vias
US8548071B2 (en) * 2011-07-19 2013-10-01 Xilinx, Inc. Integrated circuit enabling the communication of data and a method of communicating data in an integrated circuit
US9406738B2 (en) * 2011-07-20 2016-08-02 Xilinx, Inc. Inductive structure formed using through silicon vias
US9082633B2 (en) * 2011-10-13 2015-07-14 Xilinx, Inc. Multi-die integrated circuit structure with heat sink
US20130134553A1 (en) 2011-11-30 2013-05-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Interposer and semiconductor package with noise suppression features
US20130181360A1 (en) * 2012-01-18 2013-07-18 Xilinx, Inc. Integrated circuit connectivity using flexible circuitry
US8704364B2 (en) * 2012-02-08 2014-04-22 Xilinx, Inc. Reducing stress in multi-die integrated circuit structures
US8704384B2 (en) * 2012-02-17 2014-04-22 Xilinx, Inc. Stacked die assembly
US8957512B2 (en) * 2012-06-19 2015-02-17 Xilinx, Inc. Oversized interposer
US8703539B2 (en) 2012-06-29 2014-04-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Multiple die packaging interposer structure and method
US8810006B2 (en) * 2012-08-10 2014-08-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Interposer system and method
US8546955B1 (en) * 2012-08-16 2013-10-01 Xilinx, Inc. Multi-die stack package
US8963335B2 (en) 2012-09-13 2015-02-24 Invensas Corporation Tunable composite interposer
JP5968736B2 (ja) 2012-09-14 2016-08-10 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05129463A (ja) * 1991-07-05 1993-05-25 Hitachi Ltd 半導体チツプキヤリアとそれを実装したモジユール及びそれを組み込んだ電子機器
JPH09205150A (ja) * 1996-12-02 1997-08-05 Toshiba Corp 大規模集積回路装置の製造方法
WO2002057921A1 (en) * 2001-01-19 2002-07-25 Hitachi,Ltd Electronic circuit device
WO2002082540A1 (fr) * 2001-03-30 2002-10-17 Fujitsu Limited Dispositif a semi-conducteurs, son procede de fabrication et substrat semi-conducteur connexe
JP2010010427A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Renesas Technology Corp 半導体装置

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