JP2015505809A - 合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのシース材として使用される石英ガラス - Google Patents
合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのシース材として使用される石英ガラス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015505809A JP2015505809A JP2014546473A JP2014546473A JP2015505809A JP 2015505809 A JP2015505809 A JP 2015505809A JP 2014546473 A JP2014546473 A JP 2014546473A JP 2014546473 A JP2014546473 A JP 2014546473A JP 2015505809 A JP2015505809 A JP 2015505809A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- ppm
- carbon
- soot body
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 11
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims abstract description 72
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 32
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 30
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 25
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 36
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 30
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 29
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 abstract 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009921 drying by method Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009283 thermal hydrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/008—Polycrystalline optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/80—Non-oxide glasses or glass-type compositions
- C03B2201/84—Halide glasses other than fluoride glasses, i.e. Cl, Br or I glasses, e.g. AgCl-AgBr "glass"
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
- C03B2207/32—Non-halide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2213/00—Glass fibres or filaments
Abstract
Description
(a)炭素含有ケイ素化合物を含む供給原料を酸素と反応帯において反応させて、SiO2粒子を得る工程と、
(b)SiO2粒子を堆積面に堆積させて、炭素と水酸基とを含む多孔質SiO2スート体を形成する工程と、
(c)多孔質SiO2スート体を乾燥させる工程と、
(d)スート体をガラス化温度まで加熱することによってガラス化して、合成石英ガラスを形成する工程と
を含む方法に関するものである。
H2O + C → CO + H2 (1)
2OH + C → CO2 + H2 (2)
OH + CO → CO2 + 1/2H2 (3)
SiO2スート体200は図1に概略的に示される装置によって作製される。一列に並んだ複数の火炎加水分解用バーナー140が酸化アルミニウムの支持管160に沿って配置され、スートを堆積するのに回転支持管160に沿って連結バーナー列の形で反転往復運動する。各バーナー火炎143は支持管160の全長未満しか移動しない。火炎加水分解用バーナー140は連結バーナーブロック141上に載置され、この連結バーナーブロック141は、長手軸161に対して定常的な位置にある2つの反転点の間を支持管160の長手軸161に平行して往復運動し、矢印142に示されるように長手軸に対して垂直方向に位置を変えることができる。バーナー140は石英ガラスで構成されており、互いの中心間距離は15cmである。
製造プロセスに起因して導入される水酸基を除去するために、スート管に対して脱水処理を行う。スート管は脱水炉へと垂直方向に投入され、900℃の予備加熱プロセス後にその温度で塩素含有雰囲気下において脱水する。処理期間は24時間である。
化学量論比[燃焼性ガス+OMCTS]/酸素V: 1
SiO2構築率(RSiO2)(相対単位): 100%
構築期間tbuild−up(相対単位): 100%
乾燥温度Tdrying(℃): 900
乾燥期間tdrying(h): 24
C含有量[C](重量ppm): <1
塩素含有量[Cl2](重量ppm): 1600
水酸基含有量[OH](重量ppm): <0.2
減衰係数k248(cm−1): 0.0019
Claims (12)
- 合成石英ガラスを製造する方法であって、
(a)炭素含有ケイ素化合物を含む供給原料を酸素と反応帯において反応させて、SiO2粒子を得る工程と、
(b)前記SiO2粒子を堆積面に堆積させて、炭素と水酸基とを含む多孔質SiO2スート体を形成する工程と、
(c)前記多孔質SiO2スート体を乾燥させる工程と、
(d)前記スート体をガラス化温度まで加熱することによってガラス化して、合成石英ガラスを形成する工程と
を含み、炭素含有量が1重量ppm〜50重量ppmの範囲内のスート体を作製することを特徴とする方法。 - 方法工程(a)による前記供給原料の反応中に、化学量論比を超える前記炭素含有ケイ素化合物が前記反応帯において与えられることで前記炭素含有量が得られることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記炭素含有ケイ素化合物の前記反応帯中の滞留時間を前記供給原料の完全な反応に必要とされるよりも短く調節することで前記炭素含有量が得られることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記滞留時間が、過度に短い反応帯を構築することによって、及び/又は該反応帯において前記供給原料の過度に高い流速を生じさせることによって与えられることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 石英ガラスの密度(2.21g/cm3)に対して平均相対密度が20%〜35%の範囲内のスート体を作製することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 方法工程(c)による乾燥を、前記多孔質スート体をハロゲン含有雰囲気下において加熱することによって行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記合成石英ガラス中の水酸基含有量を1重量ppm未満に調節することを特徴とする請求項6に記載の方法。
- ガラス化後の前記合成石英ガラス中の塩素含有量が800重量ppm〜2500重量ppmの範囲内に調節されるように前記乾燥プロセスを行うことを特徴とする請求項6又は7に記載の方法。
- 炭素含有量が2重量ppm〜25重量ppmの範囲内のスート体を作製することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記供給原料としてOMCTSを使用することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 光ファイバーのクラッド材として使用される合成石英ガラスであって、波長248nmでの減衰係数k248によって表される酸素欠陥センターの含有量が0.0035cm−1<k248<0.1cm−1であり、塩素含有量[Cl]が800重量ppm〜2500重量ppmの範囲内であり、且つ水酸基含有量が0.5重量ppm未満であることを特徴する合成石英ガラス。
- [Cl]/k248比が100000<[Cl]/k248<550000であることを特徴とする請求項11に記載の合成石英ガラス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011121153A DE102011121153B3 (de) | 2011-12-15 | 2011-12-15 | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas sowie Quarzglas für den Einsatz als Mantelmaterial einer optischen Faser |
DE102011121153.9 | 2011-12-15 | ||
PCT/EP2012/075197 WO2013087678A1 (de) | 2011-12-15 | 2012-12-12 | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas sowie quarzglas für den einsatz als mantelmaterial einer optischen faser |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015505809A true JP2015505809A (ja) | 2015-02-26 |
JP6058693B2 JP6058693B2 (ja) | 2017-01-11 |
Family
ID=47458903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014546473A Active JP6058693B2 (ja) | 2011-12-15 | 2012-12-12 | 合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのクラッド材としての石英ガラス |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9272942B2 (ja) |
EP (1) | EP2791070B8 (ja) |
JP (1) | JP6058693B2 (ja) |
KR (1) | KR101569797B1 (ja) |
CN (1) | CN103987670B (ja) |
DE (1) | DE102011121153B3 (ja) |
IN (1) | IN2014CN04288A (ja) |
WO (1) | WO2013087678A1 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018084755A (ja) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | 富士通株式会社 | 光ファイバアレイコネクタ及び光モジュール |
JP2019502631A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-31 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製 |
JP2019506352A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-03-07 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
JP2020132437A (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-31 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 |
JP2020200225A (ja) * | 2019-06-11 | 2020-12-17 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 |
JP2022093384A (ja) * | 2019-06-11 | 2022-06-23 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
JP2022095574A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
JP2022095575A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
JP2022095576A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011121190A1 (de) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | OMCTS-Verdampfungsverfahren |
EP2835360A1 (de) * | 2013-08-06 | 2015-02-11 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines SiO2-Sootkörpers in Gegenwart von Kohlenstoffmonoxid |
WO2017103153A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glasfasern und vorformen aus quarzglas mit geringem oh-, cl- und al-gehalt |
WO2017103121A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines opaken quarzglaskörpers |
TWI794150B (zh) | 2015-12-18 | 2023-03-01 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 自二氧化矽顆粒製備石英玻璃體 |
KR20180095622A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 내화성 금속으로 제조된 용융 도가니에서 실리카 유리 제품의 제조 |
JP6940236B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-09-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 溶融炉内での露点監視による石英ガラス体の調製 |
EP3390304B1 (de) | 2015-12-18 | 2023-09-13 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Sprühgranulieren von siliziumdioxid bei der herstellung von quarzglas |
WO2017103166A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem mehrkammerofen |
CN109153593A (zh) | 2015-12-18 | 2019-01-04 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 合成石英玻璃粉粒的制备 |
JP6984897B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-12-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大 |
JP6650820B2 (ja) * | 2016-04-19 | 2020-02-19 | 株式会社フジクラ | ガラスインゴットの製造方法 |
CN110040942B (zh) * | 2018-01-16 | 2021-10-12 | 中天科技集团有限公司 | 粉末体脱羟处理方法及石英玻璃的制备方法 |
JP6793676B2 (ja) * | 2018-04-02 | 2020-12-02 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 |
US11919805B2 (en) * | 2018-06-01 | 2024-03-05 | Corning Incorporated | Carbon-doped silicon dioxide glass and methods of manufacturing thereof |
KR101943598B1 (ko) | 2018-08-08 | 2019-01-30 | 주식회사 에스티아이 | 기화기 일체형 광섬유 모재 제조용 버너 |
JP6978991B2 (ja) * | 2018-08-23 | 2021-12-08 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法および製造装置 |
CN114249524A (zh) * | 2020-09-22 | 2022-03-29 | 中天科技精密材料有限公司 | 低羟基高纯石英玻璃及其制备方法 |
JP7428632B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-02-06 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
KR102578368B1 (ko) * | 2021-01-08 | 2023-09-15 | 대한광통신(주) | 머신러닝 기반 합성유리 퇴적공정 예측 방법, 장치 및 컴퓨터 프로그램 |
EP4030204B1 (de) | 2021-01-19 | 2023-09-20 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Mikrostrukturierte optische faser und vorform dafür |
KR102388684B1 (ko) * | 2021-11-25 | 2022-04-20 | 비씨엔씨 주식회사 | 향상된 증착 효율을 가지는 ovd 공정을 통한 합성 석영유리 제조방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04505149A (ja) * | 1989-03-15 | 1992-09-10 | ティーエスエル グループ パブリック リミティド カンパニー | 改良されたガラス質シリカ製品 |
JPH0667198A (ja) * | 1992-01-24 | 1994-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 薄膜トランジスタ−用石英ガラス基板 |
JPH11209128A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-03 | Nikon Corp | 合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス |
JP2002060248A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-26 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 石英系光ファイバ |
WO2004050570A1 (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 合成石英ガラスの製造方法及び合成石英ガラス体 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW440548B (en) * | 1997-05-14 | 2001-06-16 | Nippon Kogaku Kk | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same |
JP2001010833A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-16 | Nikon Corp | 石英ガラス部材 |
US6606883B2 (en) * | 2001-04-27 | 2003-08-19 | Corning Incorporated | Method for producing fused silica and doped fused silica glass |
JP2008063181A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エキシマレーザー用合成石英ガラス基板及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-12-15 DE DE102011121153A patent/DE102011121153B3/de active Active
-
2012
- 2012-12-12 JP JP2014546473A patent/JP6058693B2/ja active Active
- 2012-12-12 US US14/364,662 patent/US9272942B2/en active Active
- 2012-12-12 WO PCT/EP2012/075197 patent/WO2013087678A1/de active Application Filing
- 2012-12-12 EP EP12808313.6A patent/EP2791070B8/de active Active
- 2012-12-12 CN CN201280061708.7A patent/CN103987670B/zh active Active
- 2012-12-12 IN IN4288CHN2014 patent/IN2014CN04288A/en unknown
- 2012-12-12 KR KR1020147016147A patent/KR101569797B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04505149A (ja) * | 1989-03-15 | 1992-09-10 | ティーエスエル グループ パブリック リミティド カンパニー | 改良されたガラス質シリカ製品 |
JPH0667198A (ja) * | 1992-01-24 | 1994-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 薄膜トランジスタ−用石英ガラス基板 |
JPH11209128A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-03 | Nikon Corp | 合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス |
JP2002060248A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-26 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 石英系光ファイバ |
WO2004050570A1 (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 合成石英ガラスの製造方法及び合成石英ガラス体 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019502631A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-31 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製 |
JP2019506352A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-03-07 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
JP2018084755A (ja) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | 富士通株式会社 | 光ファイバアレイコネクタ及び光モジュール |
JP2020132437A (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-31 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 |
JP7093732B2 (ja) | 2019-02-13 | 2022-06-30 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 |
JP7058627B2 (ja) | 2019-06-11 | 2022-04-22 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 |
JP2022093384A (ja) * | 2019-06-11 | 2022-06-23 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
JP2020200225A (ja) * | 2019-06-11 | 2020-12-17 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 |
JP7194301B2 (ja) | 2019-06-11 | 2022-12-21 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
JP2022095574A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
JP2022095575A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
JP2022095576A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト | 合成石英ガラスの調製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9272942B2 (en) | 2016-03-01 |
EP2791070A1 (de) | 2014-10-22 |
CN103987670A (zh) | 2014-08-13 |
DE102011121153B3 (de) | 2013-03-21 |
EP2791070B8 (de) | 2017-08-23 |
WO2013087678A1 (de) | 2013-06-20 |
KR20140095560A (ko) | 2014-08-01 |
IN2014CN04288A (ja) | 2015-09-04 |
JP6058693B2 (ja) | 2017-01-11 |
KR101569797B1 (ko) | 2015-11-19 |
EP2791070B1 (de) | 2017-07-19 |
CN103987670B (zh) | 2016-10-19 |
US20140349830A1 (en) | 2014-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6058693B2 (ja) | 合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのクラッド材としての石英ガラス | |
JP2744695B2 (ja) | 改良されたガラス質シリカ製品 | |
CA2037102C (en) | Method of making fused silica | |
JP3233298B2 (ja) | 高純度溶融シリカガラスの非多孔質物体を作成する方法 | |
CN108698907B (zh) | 掺杂溴的氧化硅玻璃光纤及其制备方法 | |
KR100473827B1 (ko) | 액체반응물의연소에의해용융실리카를제조하는방법및장치 | |
US5154744A (en) | Method of making titania-doped fused silica | |
JP2015504408A (ja) | スート法に従って合成石英ガラスを製造する方法 | |
AU743831B2 (en) | Germanium chloride and siloxane feedstock for forming silica glass and method | |
CN1211264A (zh) | 制造锗掺杂的二氧化硅用的原料及制造方法 | |
KR20000052522A (ko) | 유기실란의 분해에 의한 실리카 제조방법 | |
JP2011516382A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
JP7268096B2 (ja) | フッ素化石英ガラスの製造方法 | |
US20210214266A1 (en) | Organic germania and silica sources for making optical fiber preforms | |
CN105189377A (zh) | 用于制造钛掺杂合成石英玻璃的方法 | |
JPH07196326A (ja) | 熱cvd法用高粘度合成石英ガラス管およびそれを用いた光ファイバ用石英ガラスプリフォ−ム | |
JPS6036343A (ja) | 光伝送用ガラス素材の製法 | |
CN1458099A (zh) | 低水峰光纤预制件的制造方法 | |
JPS5925738B2 (ja) | 光学用ガラスフアイバ製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150902 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161207 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6058693 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |