JP2744695B2 - 改良されたガラス質シリカ製品 - Google Patents

改良されたガラス質シリカ製品

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はケイ素の揮発性化合物の気相反応による純粋
又はドープされた合成ガラス質シリカ製品の製造に関す
る。最終成品は、後の緻密化のために適合した多孔質シ
リカスートの凝集塊、又はガラス質シリカから作られた
完全緻密体の形をとることができる。用途によっては、
このシリカは、それ自体がシリカ製でよい基材へ堆積さ
せてもよい。この堆積させたシリカには、堆積中又はそ
の後に、他の元素をドープしてもよい。
この種のプロセスで揮発性ケイ素化合物を使うことは
よく知られている。米国特許第4038370号明細書は、シ
ラン（SiH4）を酸化してシリカフュームにすることがで
きること、そしてこのフュームを基材上に堆積させてガ
ラス質シリカ製品を得ることができることを開示する。
ところが、シランは高価であり、また危険なほど自然
性である。そこで、ハロゲン化物を揮発性の供給原料と
して使用するのがより普通であって、今では四塩化ケイ
素を用いることがファイバーオプティックスやガラス質
シリカ産業に広く普及している。こうして、本願出願人
の英国特許出願公開第1061042号明細書に記載のよう
に、四塩化ケイ素は例えば高温プラズマ中で酸化されて
シリカフュームを生じ、そしてこのフュームは、基板上
に堆積させて、ヒドロキシル（OH）含有量の少ない純粋
なガラス質シリカを得ることができる。反応は次のよう
に進行する。
SiCl4＋O2→SiO2＋2Cl2 この反応は、出願人が登録商標“WF Spectrosil"で市
販する「水分のない」合成ガラス質シリカの製造におい
て工業的に利用され、そしてこのシリカは典型的に、2p
pm未満のOHを含有する。
それとは別に、四塩化ケイ素は酸素水素炎へ供給して
もよい。これらの状況下では、反応は火炎加水分解とし
て説明され、すなわち次のとおりである。
SiCl4＋2H2O→SiO2＋4HCl このシリカは、後の処理工程で焼結されて気孔のない
ガラス質製品にされる多孔質スート体として集めること
のできるフュームとして生成され、そしてこれは米国特
許第2272342号、同第3806570号及び同第4224046号明細
書に記載される。あるいはまた、このフュームは、直接
焼結して気孔のないガラス質製品になるような温度で堆
積させてもよい。この場合には、ガラス質製品はより多
くの量のヒドロキシル基を有することが標準的に認めら
れるが、そうでなければ非常に高い純度を示す。これ
は、登録商標“Spectrosil"で出願人の販売する、約100
0ppmのOHを典型的に含有する光学品質の合成ガラス質シ
リカを製造する基礎である。
火炎加水分解の製品に低OH含有量を求める場合には、
シリカフュームを多孔質スート体として集め、続いてこ
の多孔質スート体を、例えば塩素を含有する、脱水雰囲
気中で加熱してから、例えばヘリウム雰囲気中で、焼結
して気孔のないガラス質製品を得るのが普通である。こ
れは、光ファイバーのためのプレフォームを製造するの
に広く利用されているOVD（外側蒸着）及びVAD（気相軸
方向成長）法の基礎である。
これらのプロセスにおいては、大きな粒子のフューム
を得ること、従って気孔の大きい高密度スートを製造す
ることが望ましい。四塩化ケイ素を供給原料として使用
すると、その大きさが蒸気種の濃度、火炎温度、及び滞
留時間すなわち成長する粒子が合成トーチの火炎中にあ
る時間に依存するシリカフューム粒子が生じる。VAD法
で使用されるような通常の同軸環状トーチは、直径が典
型的にほぼ0.08μｍのシリカ粒子を与える。H.Sudaら
（Proc.10th Euro.Conf.Opt.Comm.（E.C.O.C.）Sept,3
−6,1984,Stuttgart,p.296/7,1984）は、どうしたらフ
ューム製品の典型的粒度を「二重火炎」トーチを使って
0.21μｍまで増大させることができるかを説明する。こ
のトーチは火炎の長さを効果的に増大させて、それによ
りシリカ粒子の滞留時間を長くする。火炎中での粒子の
成長のプロセスは、ブラウン衝突と、これに続く凝集に
よるものであると考えられる。粒子が火炎中により長く
あればあるほど、粒子間の衝突の確率が高くなり、且つ
それらが大きくなる。凝集は、温度がそのようなプロセ
スにとって十分高いままである限り進行して、その後、
凝集した微小粒子は開放の鎖構造を単に形成するだけで
ある。それゆえに、極めて発熱性の供給原料を使用する
ことが有利である。と言うのは、これは、高い火炎温度
を維持して粒子の成長を長期間促進するのに役立つから
である。
合成シリカを製造するための前駆物質として四塩化ケ
イ素あるいは任意の塩素含有ケイ素化合物を使用するこ
との主な欠点の一つは、酸化の間に塩素が、あるいは加
水分解の間に塩化水素が、副生物として発生することで
ある。これらの化学物質は両方とも有毒且つ腐食性であ
って、四塩化ケイ素又は他のクロロシラン化合物を使用
するいずれの方法も、それを環境上容認できるものにす
るのに大規模なガスの抽出設備やスクラビング設備を必
要とする。
そのようなスクラビング処理工程の難点や経費にもか
かわらず、四塩化ケイ素やそのほかのある一定のクロロ
シラン類は、シリカフューム及び合成ガラス質シリカを
製造するのに上述の方法のための供給原料としてほとん
ど例外なく使われる。シラン（SiH4）を用いるのはまれ
であり、経費がかかり、危険である。代りのケイ素化合
物を使用することについてはその一部に触れているが、
ドイツ国特許出願公開第3500080号明細書においてシリ
カ粉末を製造するために、また特開昭60−108338号公報
においてガラス質製品を製造するために、オルトケイ酸
メチル及びエチルが提案されている。
塩素を含有している供給原料をほとんど例外なく用い
ることは、それによって、用途によっては望ましくない
不純物である塩素による汚染のないシリカ製品を得るこ
とが不可能であるという点で、なおさら異常なことであ
る。
発明の概要 本発明は、火炎中のシリカ前駆物質の気相酸化と、後
の緻密化のために適合した多孔質シリカスートの凝集塊
及び完全緻密体のうちの一つとしてシリカを燃焼生成物
の流れから堆積によって集めることによる、透明な合成
ガラス質シリカ製品の製造方法であって、当該堆積生成
物中のシリカの60％以上が、 （Ａ）１又は２種以上の、下記一般式、すなわち、 R3SiO（SiR2O）nSiR3 （この式で、ｎはゼロを含めた任意の整数であり、Ｒは
次に掲げる（ｉ）〜（ｖ）のうちの一つ又は二つ以上で
ある （ｉ）１又は２種以上の、一般式CmH2m+1（この式中の
ｍはゼロより大きい任意の整数である）のアルキル基又
は置換誘導体、 （ii）１又は２種以上の、芳香族フェニル基C6H5−又は
置換芳香族基、 （iii）ヒドロキシル基HO−、 （iv）ビニル基H2C＝CH−、 （ｖ）水素基Ｈ−） の直鎖の揮発性ケイ素化合物、 及び／又は、 （Ｂ）１又は２種以上の、下記一般式、すなわち、 SinOn（Ｒ）2n （この式で、ｎは２より大きい整数であり、Ｒは上記の
（ｉ）〜（ｖ）で定義された化学基のうちの一つ又は二
つ以上である） の環式の揮発性ケイ素化合物、 の酸化により得られ、あるいはそれらの混合物であるこ
とを特徴とする方法に関する。２種以上の置換基が同じ
分子に存在していてもよい。
本発明はまた、P2O5をドープした、及び／又は、アル
ミニウム、ゲルマニウム、チタンそしてホウ素からなる
群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物をドープ
した、高純度シリカの非多孔質体を製造する方法も提供
する。この方法は、 （ａ）塩素を含まない気化可能なポリメチルシロキサン
と、酸化又は火炎加水分解によりP2O5及び／又は、アル
ミニウム、ゲルマニウム、チタンそしてホウ素からなる
群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物に変える
ことができる１又は２種以上の気化可能な化合物とを含
むガス流を作る工程、 （ｂ）このガス流を適当な合成バーナーの火炎を通過さ
せて、P2O5でドープされた、及び／又は、アルミニウ
ム、ゲルマニウム、チタンそしてホウ素からなる群より
選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物でドープされた
SiO2スートを生成する工程、 （ｃ）このSiO2スートを支持体上に堆積させる工程、 （ｄ）上記堆積と本質的に同時かあるいはその後に、上
記SiO2スートの堆積物を凝集（コンソリデート）させて
非多孔質体にする工程、 を含むものである。
本発明に包含される環式分子は、次の一般式を有す
る。
SinOn（Ｒ）2n この式中のｎは２より大きく、好ましくは３より大き
く、またＲは上で定義されたとおりの置換基又はそのよ
うな基の混じったものである。
本発明は、上で定義された直鎖分子の混合物、上記の
ような環式分子の混合物、及び直鎖分子と環式分子との
混合物を用いること、そしてまた他の種を含有する供給
原料を用いることを包含するが、そのうちの含まれる酸
化可能なケイ素種の60％以上は上で定義された分子から
生じる。
先に言及したように、シリカフュームの粒子の最終の
大きさは、核生成過程及び成長過程の両方により決めら
れる。大きい粒子を得るためには、蒸発されるシリカ前
駆物質の分子量が大きいことが好ましく、そしてガラス
質シリカの基本骨格が既に定位置にあって、当該種が既
に高分子（SiO）ｎ鎖又は環構造を含有することが、本
発明の好ましい前駆物質化合物の特有の利点である。こ
うして、初期の核の数をより少なくし、そして最終のフ
ューム粒子のための平均の大きさをより大きくすること
が可能である。
過剰の炭素は、燃焼が完全でなけれは炭素又は炭化ケ
イ素が生成されることがあるので、純粋なシリカを得る
のに燃焼反応では望ましくない。このため、好ましいア
ルキル基はメチル基CH3である。同じ理由から、より大
きい分子量のシリコーン種及び環式分子は、含有する炭
素原子の割合がやはり少ないので好ましいかもしれな
い。もちろん、入手可能性、値段及び純度は、好ましい
種の選択に影響を及ぼし得る他の因子である。
過剰の酸素の存在下において燃焼して二酸化炭素、水
及び合成シリカフュームを生成するということが、本発
明に包含される全ての前駆物質化合物の特徴である。こ
のフュームは、気孔のない物質として又は多孔質のスー
トとして、炭素／グラファイト、アルミナを含め、又は
やはり気孔のないものもしくは多孔質スート体でよいガ
ラス質シリカを含めて、任意に適当に耐火性で且つ汚染
しない材料を包含することのできる基材上へ堆積させて
もよい。高温の蒸気中に腐食性ガス（例えばHCl,Cl2）
のないことはこのプロセスを、シリカを塩素含有供給原
料から得る場合よりもはるかに単純に且つ安上がりに
し、そして堆積製品において腐食により誘起される汚染
を避けることがより容易になる。最後にもちろんなが
ら、堆積製品はそれ自体が塩素の汚染のないものであ
る。
前駆物質又は供給原料化合物は、適当な合成バーナー
へ供給することができ、このバーナーのエネルギーの投
入量は、含有された種の燃焼を果すのに十分な酸素と一
緒に、追加の可燃性ガス、例えば水素又はメタンによっ
て補うことができる。普通に使われる供給原料の四塩化
ケイ素と違って、本発明の供給原料化合物はそれ自体が
実質的な燃焼熱を示す。これは、バーナーの反応中心部
内の温度が高くなることと、Si/O蒸気種の濃度がより高
くなるのを可能にする。これらは両方とも、適切に設計
された合成バーナーでもって、供給原料として四塩化シ
ランを使って可能であるよりも大きなフューム粒子を生
じさせる望ましい要件である。
本発明の好ましい供給原料の燃焼熱が高いことから、
前駆物質、酸化物質（例えば酸素）及び追加の水素又は
メタンが供給される、適切に設計されたシリカ合成バー
ナーにおいては、合成火炎の燃焼エネルギーの少なくと
も三分の一、好ましくは半分を超えるものは当該前駆物
質の燃焼から得ることができる、ということになる。実
際に、バーナーの燃焼エネルギーの実質的に全部（例え
ば90％以上）が前駆物質化合物の燃焼により供給される
合成バーナーを設計することが可能であって、シリカの
合成のこれらの新しい特徴は本発明の更に別の側面に相
当する。
適切には、燃焼プロセスで放出されるエネルギーの少
なくとも半分はシリカ前駆物質の燃焼から得られ、そし
てシリカは合成シリカの多孔質の塊として集められる。
適切には、燃焼プロセスで放出されるエネルギーの少
なくとも三分の一はシリカ前駆物質から得られ、そして
シリカは実質的に気孔のないガラス質製品として集めら
れる。
シリカフュームの柱は先に説明した基材上へ放射して
もよい。収集効率は合成シリカ製造の経済上の重要な因
子であり、基材による高温フュームの収集の主要な機構
の一つは、熱伝達のプロセス、すなわち、熱勾配を示す
高温ガス流中の超微粒子が温度のより低い領域へ駆り立
てられる性向であると認められる。従って、高温の濃厚
な柱でもってフュームを発生させて、このフュームをよ
り冷い基材上へ放射することが有利である。本発明に包
含される供給原料化合物の重要な特徴は、適切に設計さ
れた合成バーナーで燃焼してシリカフュームの非常に高
温の柱を与え、熱伝達の効果から最大限の利益を得るこ
とができることである。
気相酸化に対してドーピング添加を行って、合成シリ
カ製品の性質を改変してもよい。適切には、ドーピング
添加は、アルミニウム、チタン、ホウ素及びフッ素から
なる群より選ばれる酸化可能又は加水分解可能な化合物
の蒸気を含む。
本発明はまた、本発明の方法により製造された合成シ
リカ製品（例えばスートで被覆した基材、焼結された物
品及び完全に緻密化した製品）にも及ぶ。
発明の例 次に、本発明を以下に掲げる実例に関して更に説明す
る。
例１ 第一及び第二の環状流路により取囲まれた中央の供給
孔を含んでなる加熱される同軸環状合成バーナーに、次
に示すとおりの蒸気及びガスの流れを供給した。
・中央供給孔：オクタメチルシクロテトラシロキサン蒸
気0.086m3/h＋窒素0.03m3/h ・第一の環状流路：水素 ・第二の環状流路：酸素 点火後、バーナーは、中央部分がシリカフュームの明
るく輝く柱を含む安定した火炎を与えた。このシリカフ
ュームの柱を、ガラス加工用の旋盤でもって回転する直
径100mmの円筒形グラファイト基材の側面に向けた。バ
ーナーは、この円筒形グラファイト基材の軸線に対して
平行に移動可能な運搬台上に搭載されて、漸進的に且つ
繰り返してフュームの柱に基材の端から端まで走査さ
せ、基材上に合成シリカスートの凝集した白色の堆積物
を半径方向に成長させた。バーナーは、各進路の末端で
十分に引いて、管理されたバーナー−基材間の距離を維
持した。堆積域の温度は1000〜1300℃の範囲内のおおよ
そ一定の値に維持した。堆積を８時間続けた。
冷却してグラファイト基材から取はずした後に、スー
ト体の重量はおよそ5kgであり、また平均密度は0.4g/cm
3であった。このスート体を減圧下で焼結して、高純度
で塩素がなく、ヒドロキシル（OH）含有量1ppm未満の合
成ガラス質シリカガラスの透明な管を得た。
例２ 中央の供給孔及び続く四つの環状流路を含んでなる加
熱される環状合成バーナーに、次に示すとおりの蒸気及
びガスの流れを供給した。
・中央供給孔：デカメチルシクロペンタシロキサン蒸気
0.054m3/h＋水素0.12m3/h ・第一の環状流路：水素 ・第二の環状流路：酸素 ・第三の環状流路：水素 ・第四の環状流路：酸素 バーナーの軸線を、直径150mmのガラス質シリカの円
筒形基材の半球状の端部へ向け、その表面を1500〜1950
℃の範囲内のおおよそ一定の温度に維持した。
こうして、高純度且つ高光学透明度で、ヒドロキシル
（OH）含有量830ppmの、塩素のない合成ガラス質シリカ
を含んでなる気泡のない凝集堆積物が得られた。
例３ 例１で使用したのと同様の設計の同軸環状合成バーナ
ーに、次に示すとおりの蒸気及びガスの流れを供給し
た。
・中央供給孔：オクタメチルシクロテトラシロキサン蒸
気0.086m3/h＋アルミニウム2,4−ペンタンジオネート蒸
気0.014m3/h＋窒素0.03m3/h ・第一の環状流路：水素 ・第二の環状流路：酸素 火炎を、ガラス加工用の旋盤でもって他端から支持さ
れながらその軸線の周りを回転する円筒形シリカ基材の
半球状の端部へ向けた。アルミニウムをドープされたシ
リカスートの白色堆積物が基材の上記端部に堆積した。
基材を連続的に引いて、バーナー−基材間の一定の距離
を維持した。堆積域の温度は典型的に1140℃であった。
６時間後、堆積を停止し、そして凝集スート体を減圧
下で焼結して、アルミナをドープされ、アルミナ含有量
がおよそ1.5モル％の、気泡のない合成ガラス質シリカ
の焼結体が得られた。
例４ 例３の条件を、バーナーの中央供給孔へのガス及び蒸
気の流れを0.0052m3/hのチタンテトライソブトキシド蒸
気を追加して補足したことを除いて繰り返した。こうし
て、スート製品にアルミニウムとチタンの両方をドープ
した。焼結後、当該ガラス製品はおよそ1.5モル％のア
ルミナと1.5モル％のチタニアを含有していることが分
った。
例５ 例３の条件を、アルミニウム2,4−ペンタンジオネー
トの流れを0.0104m3/hのチタンテトライソブトキシド蒸
気の流れと取替えたことを除いて繰り返した。こうし
て、スート製品にチタニアを単独でドープした。焼結
後、当該ガラス製品はおよそ3.0モル％のチタニアを含
有していることが分った。
例６ 例１で使用したのと同様の設計の同軸環状合成バーナ
ーに、次に示すとおりの蒸気及びガスの流れを供給し
た。
・中央供給孔：オクタメチルシクロテトラシロキサン蒸
気0.086m3/h＋三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート蒸
気0.005m3/h＋窒素0.03m3/h ・第一の環状流路：水素 ・第二の環状流路：酸素 火炎を、ガラス加工用の旋盤で回転する直径75mmの純
粋な合成ガラス質シリカの円筒状の棒の側面に向けた。
バーナーの運搬台を棒の軸線に対して平行に移動させ
て、ドープされたシリカフュームの柱を漸進的に且つ繰
り返して基材の棒の端から端まで走らせ、この基材上
に、ドープされた合成ガラス質シリカスートの凝集塊の
白色堆積物を半径方向に成長させた。堆積域の温度はお
よそ1090℃であった。堆積を２時間続けた。
冷却して直ぐに、ガラス質シリカの棒及び付着してい
るドープされたスート層をゾーン焼結操作にかけてスー
トをガラス質化させて、純粋な合成ガラス質シリカのコ
アとホウ素及びフッ素をドープした合成ガラス質シリカ
のクラッドとを有するステップインデックスの光ファイ
バープレフォームを得た。この製品を延伸して、開口数
0.16,820nmでの減衰量7dB/kmの、直径200μｍのステッ
プインデックスファイバーにした。
次に掲げる摘要は、本発明の役に立つことを明らかに
示す。
製品 スート体 −基材（シリカである必要はない）上に集められる。
−ガラス質シリカの棒又は管上に（例えばファイバーオ
プティックプレフォーム上に）集められる。
−るつぼ（内面及び／又は外面）上に集められる。
ガラス質体 −基材（シリカである必要はない）上に集められる。
−ガラス質シリカの棒又は管上に（例えばファイバーオ
プティックプレフォーム上に）集められる。
−るつぼ（内面及び／又は外面）上に集められる。
ドープされた製品 −合成生成物として含まれるAl2O3,GeO2P2O5が作り出さ
れ及び／又は堆積される（例えば屈折率を上げるた
め）。
−合成生成物として含まれるB2O3,Fが作り出され及び／
又は堆積される（例えば屈折率を下げるため）。
好ましい供給原料 −ヘキサメチルジシロキサン及び直鎖又は環式の四量体
又は五量体シロキサン類を包含する。具体的に言うと、
シロキサン類のオクタメチルシクロテトラシロキサンと
デカメチルシクロペンタシロキサン及びそれらの混合物
が殊に適していることが分っている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スミスソン，アラン. イギリス国，エヌイー29 ９エイチダブ リュ，タイン アンド ウエアー，ノー ス シールズ，プレストン グランジ, ペベンジー クロース 12 (72)発明者 ウェルズ，ピーター ジョン. イギリス国，エヌイー９ ７ディーエイ チ，タイン アンド ウエアー，ゲイト シード，アイクリッフェ クレセント 167

Claims (22)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】火炎中でのシリカ前駆物質の気相酸化と、
    後の緻密化のために適合した多孔質シリカスートの凝集
    塊及び完全緻密体のうちの一つとしてシリカを燃焼生成
    物の流れから堆積によって集めることによる、透明な合
    成ガラス質シリカ製品の製造方法であって、当該堆積生
    成物のシリカの60％以上が、 （Ａ）１又は２種以上の、下記一般式、すなわち、 R3SiO（SiR2O）nSiR3 （この式で、ｎはゼロを含めた任意の整数であり、Ｒは
    次に掲げる（ｉ）〜（ｖ）のうちの一つ又は二つ以上で
    ある （ｉ）１又は２種以上の、一般式CmH2m+1（この式中の
    ｍはゼロより大きい任意の整数である）のアルキル基又
    は置換誘導体、 （ii）１又は２種以上の、芳香族フェニル基C6H5−又は
    置換芳香族基、 （iii）ヒドロキシル基HO−、 （iv）ビニル基H2C＝CH−、 （ｖ）水素基Ｈ−） の直鎖の揮発性ケイ素化合物、 及び／又は、 （Ｂ）１又は２種以上の、下記一般式、すなわち、 SinOn（Ｒ）2n （この式で、ｎは２より大きい整数であり、Ｒは上記の
    （ｉ）〜（ｖ）で定義された化学基のうちの一つ又は二
    つ以上である） の環式の揮発性ケイ素化合物、 の酸化により得られ、あるいはそれらの混合物であるこ
    とを特徴とする、合成シリカ製品の製造方法。
  2. 【請求項２】蒸発したシリカ前駆物質が高分子（SiO）
    ｎ鎖及び／又は環構造を含有することを特徴とする、請
    求の範囲第１項記載の方法。
  3. 【請求項３】当該燃焼プロセスで放出されるエネルギー
    の少なくとも半分が当該シリカ前駆物質の燃焼から得ら
    れ、そしてシリカが合成シリカの多孔質の塊として集め
    られることを特徴とする、請求の範囲第１項又は第２項
    記載の方法。
  4. 【請求項４】当該燃焼プロセスで放出されるエネルギー
    の少なくとも三分の一が当該シリカ前駆物質の燃焼から
    得られ、そしてシリカが実質的に気孔のないガラス質製
    品として集められることを特徴とする、請求の範囲第１
    項又は第２項記載の方法。
  5. 【請求項５】当該シリカ前駆物質が一般式SinOn（CH3）
    2n（式中のｎは４又は５に等しい）のシクロシロキサン
    であることを特徴とする、請求の範囲第１項から第４項
    までのいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項６】当該シリカ前駆物質がヘキサメチルジシロ
    キサンであることを特徴とする請求の範囲第２項から第
    ５項までのいずれか一項に記載の方法。
  7. 【請求項７】当該気相酸化に対してドーピング添加を行
    って当該合成シリカ製品の性質を改変することを特徴と
    する、請求の範囲第１項から第６項までのいずれか一項
    に記載の方法。
  8. 【請求項８】前記ドーピング添加がアルミニウム、チタ
    ン、ホウ素及びフッ素からなる群より選ばれる酸化可能
    又は加水分解可能な化合物の蒸気を含むことを特徴とす
    る、請求の範囲第７項記載の方法。
  9. 【請求項９】前記気相酸化を合成バーナーを使って行う
    ことを特徴とする、請求の範囲第１項から第８項までの
    いずれか一項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】請求の範囲第１項から第９項までのいず
    れか一項の方法により製造された合成シリカ製品。
  11. 【請求項１１】当該堆積生成物が後の緻密化のために適
    合した多孔質シリカスートの凝集塊又は、円筒体、管状
    体、るつぼ及び光ファイバープレフォームのうちの一つ
    の形をした完全緻密体であることを特徴とする、請求の
    範囲第10項記載の製品。
  12. 【請求項１２】当該堆積させたシリカが実質的に塩素を
    含まないことを特徴とする、請求の範囲第10項記載の製
    品。
  13. 【請求項１３】下記の工程（ａ）〜（ｄ）を含む、P2O5
    をドープした、及び／又は、アルミニウム、ゲルマニウ
    ム、チタンそしてホウ素からなる群より選ばれた少なく
    とも１種の金属の酸化物をドープした、高純度シリカの
    非多孔質体の製造方法。 （ａ）塩素を含まない気化可能なポリメチルシロキサン
    と、酸化又は火炎加水分解によりP2O5及び／又は、アル
    ミニウム、ゲルマニウム、チタンそしてホウ素からなる
    群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物に変える
    ことができる１又は２種以上の気化可能な化合物とを含
    むガス流を作る工程 （ｂ）このガス流を適当な合成バーナーの火炎を通過さ
    せて、P2O5でドープされた、及び／又は、アルミニウ
    ム、ゲルマニウム、チタンそしてホウ素からなる群より
    選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物でドープされた
    SiO2スートを生成する工程 （ｃ）このSiO2スートを支持体上に堆積させる工程 （ｄ）上記堆積と本質的に同時かあるいはその後に、上
    記SiO2スートの堆積物を凝集させて非多孔質体にする工
    程
  14. 【請求項１４】前記ポリメチルシロキサンがヘキサメチ
    ルジシロキサンである、請求の範囲第13項記載の方法。
  15. 【請求項１５】前記ポリメチルシロキサンがポリメチル
    シクロシロキサンである、請求の範囲第13項又は第14項
    記載の方法。
  16. 【請求項１６】前記ポリメチルシクロシロキサンがオク
    タメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペ
    ンタシロキサン及びそれらの混合物からなる群より選ば
    れる、請求の範囲第15項記載の方法。
  17. 【請求項１７】P2O5及び／又は、アルミニウム、ゲルマ
    ニウム、チタンそしてホウ素からなる群より選ばれた少
    なくとも１種の金属の酸化物に変えることができる気化
    可能な前記化合物が塩素を含まない化合物である、請求
    の範囲第13項から第16項までのいずれか一項に記載の方
    法。
  18. 【請求項１８】前記SiO2スートを基材上に堆積させ、こ
    のSiO2スートの堆積物を凝集させて非多孔質の透明なガ
    ラス体にし、そしてこのガラス体から光導波路ファイバ
    ーを引き抜くことによる外側蒸着法により高純度溶融シ
    リカの光導波路ファイバーを製造するために用いられ
    る、請求の範囲第13項から第17項までのいずれか一項に
    記載の方法。
  19. 【請求項１９】前記SiO2スートを軸方向気相成長により
    基材へ堆積させる、請求の範囲第13項から第18項までの
    いずれか一項に記載の方法。
  20. 【請求項２０】前記ガス流が不活性ガスを含む、請求の
    範囲第13項から第19項までのいずれか一項に記載の方
    法。
  21. 【請求項２１】前記ガラス体が透明である、請求の範囲
    第13項から第16項までのいずれか一項に記載の方法。
  22. 【請求項２２】塩素を含まないチタン含有化合物をドー
    パントとして利用して、それにより前記非多孔質体の製
    造の際に塩素含有蒸気を発生させず、チタニアをドープ
    した高純度の溶融シリカガラスの非多孔質体を製造す
    る、請求の範囲第13項記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130133378A1 (en) * 2011-11-25 2013-05-30 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass
US20130133375A1 (en) * 2011-11-25 2013-05-30 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5242866A (en) * 1987-01-09 1993-09-07 Allied-Signal Inc. Carbon-containing black glass monoliths
US5043002A (en) 1990-08-16 1991-08-27 Corning Incorporated Method of making fused silica by decomposing siloxanes
US5152819A (en) * 1990-08-16 1992-10-06 Corning Incorporated Method of making fused silica
WO1994017003A1 (en) * 1990-09-21 1994-08-04 Allied-Signal Inc. Ceramic fiber reinforced silicon carboxide composite with adjustable dielectric properties
GB2266302B (en) * 1991-03-06 1995-01-18 Allied Signal Inc Ceramic fiber reinforced silicon carboxide composite
US5266533A (en) * 1991-04-12 1993-11-30 Allied-Signal Inc. Black glass ceramic from rapid pyrolysis in oxygen-containing atmospheres
JP2597474B2 (ja) * 1991-04-12 1997-04-09 アライド−シグナル・インコーポレーテッド ブラックガラスの製造方法
JP2588447B2 (ja) * 1991-06-29 1997-03-05 信越石英株式会社 エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法
US5322825A (en) * 1992-05-29 1994-06-21 Allied-Signal Inc. Silicon oxycarbonitride by pyrolysis of polycyclosiloxanes in ammonia
US5703191A (en) * 1995-09-01 1997-12-30 Corning Incorporated Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products
US6312656B1 (en) * 1995-12-19 2001-11-06 Corning Incorporated Method for forming silica by combustion of liquid reactants using oxygen
BR9611969A (pt) * 1995-12-19 1999-02-17 Corning Inc Processo e aparelho para formação de sílica fundida por combustão de reagentes líquidos
US5879649A (en) * 1995-12-19 1999-03-09 Corning Incorporated Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products
DE19605672C1 (de) * 1996-02-15 1997-09-25 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Siliciumdioxid
US6322765B1 (en) 1996-02-15 2001-11-27 Wacker-Chemie Gmbh Process for preparing silicon dioxide
FR2759465B1 (fr) * 1996-04-30 1999-04-30 Corning Inc Procede de formation d'un circuit optique
KR19990082608A (ko) 1996-12-16 1999-11-25 알프레드 엘. 미첼슨 게르마늄 도핑 실리카 제조용 원료 및 제조방법
JP4350168B2 (ja) 1997-03-07 2009-10-21 コーニング インコーポレイテッド チタニアドープ溶融シリカの製造方法
TW440548B (en) * 1997-05-14 2001-06-16 Nippon Kogaku Kk Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same
WO1999002459A1 (en) * 1997-07-08 1999-01-21 Corning Incorporated Germanium chloride and siloxane feedstock for forming silica glass and method
GB9722020D0 (en) * 1997-10-17 1997-12-17 Tsl Group Plc Production of quartz glass articles having high surface purity
DE19841932A1 (de) * 1998-09-14 2000-03-16 Heraeus Quarzglas Optisches Bauteil aus Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung
US6672111B2 (en) * 2001-12-21 2004-01-06 Corning Incorporated Method and apparatus for adding metals to fused silica
JP5230051B2 (ja) * 2002-09-11 2013-07-10 株式会社トクヤマ 微小溶融シリカ粒子
EP1565400B1 (en) 2002-11-26 2019-04-10 Cabot Corporation Fumed metal oxide particles and process for producing the same
DE10302914B4 (de) * 2003-01-24 2005-12-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas
US8414970B2 (en) * 2008-02-15 2013-04-09 Guardian Industries Corp. Organosiloxane inclusive precursors having ring and/or cage-like structures for use in combustion deposition
US8038971B2 (en) 2008-09-05 2011-10-18 Cabot Corporation Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same
US8729158B2 (en) 2008-09-05 2014-05-20 Cabot Corporation Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same
GB2478307A (en) 2010-03-02 2011-09-07 Heraeus Quartz Uk Ltd Manufacture of silica glass
DE102010052685A1 (de) 2010-11-26 2012-05-31 J-Fiber Gmbh Verfahren zur Herstellung von strahlungsresistentem Quarzglasmaterial und danach hergestellte Quarzglaskörper
DE102011119339A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Zerstäubungsverfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas
DE102011119341A1 (de) 2011-11-25 2013-05-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas nach der Sootmethode
DE102011121153B3 (de) * 2011-12-15 2013-03-21 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas sowie Quarzglas für den Einsatz als Mantelmaterial einer optischen Faser
DE102011121190A1 (de) * 2011-12-16 2013-06-20 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg OMCTS-Verdampfungsverfahren
JP5906930B2 (ja) * 2012-05-07 2016-04-20 住友電気工業株式会社 ガラス管およびその製造方法
JP5906929B2 (ja) * 2012-05-07 2016-04-20 住友電気工業株式会社 ガラス管およびその製造方法、ガラス管を用いた流体分離材料
EP3059212A1 (de) 2015-02-18 2016-08-24 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren und vorrichtung zur herstellung von quarzglas aus einer polymerisierbaren polyalkylsiloxanverbindung mit membranfilter als reinigungsvorrichtung
CN108698887B (zh) 2015-12-18 2022-01-21 贺利氏石英玻璃有限两合公司 由均质石英玻璃制得的玻璃纤维和预成形品
CN108698892A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 从二氧化硅颗粒制备石英玻璃体
TWI794149B (zh) 2015-12-18 2023-03-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 石英玻璃粉粒、不透明成型體及彼等之製備方法
TW201731782A (zh) 2015-12-18 2017-09-16 何瑞斯廓格拉斯公司 在多腔式爐中製備石英玻璃體
WO2017103125A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Sprühgranulieren von siliziumdioxid bei der herstellung von quarzglas
TWI733723B (zh) 2015-12-18 2021-07-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 不透明石英玻璃體的製備
TWI812586B (zh) 2015-12-18 2023-08-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 石英玻璃體、其製備方法與應用、及用於控制烘箱出口處之露點
KR20180095619A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 실리카 유리 제조 동안 규소 함량의 증가
US11339076B2 (en) 2015-12-18 2022-05-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass
TWI813534B (zh) 2015-12-18 2023-09-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 利用露點監測在熔融烘箱中製備石英玻璃體
EP3830044A1 (en) * 2018-08-02 2021-06-09 Corning Incorporated Methods of capturing soot
KR102388688B1 (ko) * 2020-10-23 2022-04-20 비씨엔씨 주식회사 합성 쿼츠 제조 방법
EP4015467A1 (de) 2020-12-16 2022-06-22 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas
EP4015466A1 (de) 2020-12-16 2022-06-22 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3826560A (en) * 1972-03-30 1974-07-30 Corning Glass Works Method of forming a light focusing fiber waveguide
JPS5263213A (en) * 1975-11-20 1977-05-25 Komatsu Denshi Kinzoku Kk Process for preparing highhpurity transparent silica glass products
DE2904199A1 (de) * 1979-02-05 1980-08-07 Degussa Verfahren zur gelenkten herstellung von kieselsaeure mittels flammenhydrolyse
DE2909815C2 (de) * 1979-03-13 1984-11-22 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxid
DE3016010C2 (de) * 1980-04-25 1985-01-10 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur pyrogenen Herstellung von Kieselsäure

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130133378A1 (en) * 2011-11-25 2013-05-30 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass
US20130133375A1 (en) * 2011-11-25 2013-05-30 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass
US8973407B2 (en) * 2011-11-25 2015-03-10 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass
US9061935B2 (en) * 2011-11-25 2015-06-23 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass

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