JP2015067856A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015067856A5
JP2015067856A5 JP2013202300A JP2013202300A JP2015067856A5 JP 2015067856 A5 JP2015067856 A5 JP 2015067856A5 JP 2013202300 A JP2013202300 A JP 2013202300A JP 2013202300 A JP2013202300 A JP 2013202300A JP 2015067856 A5 JP2015067856 A5 JP 2015067856A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target
holder
substrate
target holder
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013202300A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015067856A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013202300A priority Critical patent/JP2015067856A/ja
Priority claimed from JP2013202300A external-priority patent/JP2015067856A/ja
Publication of JP2015067856A publication Critical patent/JP2015067856A/ja
Publication of JP2015067856A5 publication Critical patent/JP2015067856A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2013202300A 2013-09-27 2013-09-27 マグネトロンスパッタ装置 Pending JP2015067856A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013202300A JP2015067856A (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マグネトロンスパッタ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013202300A JP2015067856A (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マグネトロンスパッタ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015067856A JP2015067856A (ja) 2015-04-13
JP2015067856A5 true JP2015067856A5 (enExample) 2015-08-13

Family

ID=52834861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013202300A Pending JP2015067856A (ja) 2013-09-27 2013-09-27 マグネトロンスパッタ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015067856A (enExample)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6832130B2 (ja) 2016-11-04 2021-02-24 東京エレクトロン株式会社 成膜装置
JP6741564B2 (ja) 2016-12-06 2020-08-19 東京エレクトロン株式会社 成膜装置
JP6583930B2 (ja) * 2017-11-15 2019-10-02 キヤノントッキ株式会社 スパッタ装置および有機ｅｌパネルの製造方法
JP6970624B2 (ja) 2018-02-13 2021-11-24 東京エレクトロン株式会社 成膜システム及び基板上に膜を形成する方法
JP7097740B2 (ja) 2018-04-24 2022-07-08 東京エレクトロン株式会社 成膜装置および成膜方法
JP7101536B2 (ja) 2018-05-16 2022-07-15 東京エレクトロン株式会社 成膜装置および成膜方法
JP2019218621A (ja) 2018-06-22 2019-12-26 東京エレクトロン株式会社 基板載置台及び成膜装置
US11414747B2 (en) 2018-06-26 2022-08-16 Tokyo Electron Limited Sputtering device
JP7246148B2 (ja) 2018-06-26 2023-03-27 東京エレクトロン株式会社 スパッタ装置
JP2020002395A (ja) * 2018-06-26 2020-01-09 東京エレクトロン株式会社 スパッタ装置
JP7134009B2 (ja) * 2018-07-31 2022-09-09 東京エレクトロン株式会社 成膜装置および成膜方法
JP2020026575A (ja) * 2018-08-10 2020-02-20 東京エレクトロン株式会社 成膜装置、成膜システム、および成膜方法
JP7097777B2 (ja) 2018-08-10 2022-07-08 東京エレクトロン株式会社 成膜装置および成膜方法
US11664207B2 (en) 2018-08-10 2023-05-30 Tokyo Electron Limited Film-forming apparatus, film-forming system, and film-forming method
JP7329913B2 (ja) * 2018-10-16 2023-08-21 Ｊｓｗアフティ株式会社 プラズマ成膜方法
JP7245661B2 (ja) 2019-01-30 2023-03-24 Ｊｓｗアフティ株式会社 ターゲットおよび成膜装置並びに成膜対象物の製造方法
JP7495387B2 (ja) * 2021-12-20 2024-06-04 キヤノントッキ株式会社 スパッタ装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1036963A (ja) * 1996-07-23 1998-02-10 Sony Corp スパッタ装置及びこれを用いた軟磁性膜の成膜方法
US6267851B1 (en) * 1999-10-28 2001-07-31 Applied Komatsu Technology, Inc. Tilted sputtering target with shield to block contaminants
GB2465528B (en) * 2007-09-18 2013-02-27 Veeco Instr Inc Method and apparatus for surface processing of a substrate using an energetic particle beam
JP2010174331A (ja) * 2009-01-29 2010-08-12 Canon Inc 硼化物膜の製造方法及び電子放出素子の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015067856A5 (enExample)
JP2012084861A5 (ja) 成膜装置
JP2014139938A5 (enExample)
US20160010203A1 (en) Vacuum evaporation device
JP2015143396A5 (ja) 酸化物半導体膜の成膜方法
KR102659918B1 (ko) 성막 장치 및 전자 디바이스의 제조 방법
MX376834B (es) Aparato de procesamiento de pvd y metodo de procesamiento de pvd.
JP2016180178A5 (ja) 酸化物の作製方法
CN101634011B (zh) 一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法
CN102350652A (zh) 双销定位机构
JP2015515738A5 (enExample)
US20180209036A1 (en) Sputtering apparatus and target changing device thereof
JP2013026260A5 (enExample)
JP2013174020A5 (enExample)
EP2840189A3 (en) Construction machine
JP2019129036A5 (enExample)
JP2013099761A5 (enExample)
WO2012097268A3 (en) Nanoparticle deposition systems
JP2012177191A5 (enExample)
JP2012234930A5 (enExample)
CN204589290U (zh) 一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置
JP2013189707A5 (ja) 成膜装置
JP2010150579A5 (enExample)
JP2020056051A (ja) 成膜装置、成膜方法、および電子デバイスの製造方法
JP2015093487A5 (enExample)