JP2013174020A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013091769A JP5695119B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-04-24 | スパッタ装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007334236 | 2007-12-26 | ||
| JP2007334236 | 2007-12-26 | ||
| JP2013091769A JP5695119B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-04-24 | スパッタ装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009547117A Division JP5259626B2 (ja) | 2007-12-26 | 2008-12-24 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013174020A JP2013174020A (ja) | 2013-09-05 |
| JP2013174020A5 true JP2013174020A5 (enExample) | 2014-05-08 |
| JP5695119B2 JP5695119B2 (ja) | 2015-04-01 |
Family
ID=40801253
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009547117A Active JP5259626B2 (ja) | 2007-12-26 | 2008-12-24 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 |
| JP2013091769A Active JP5695119B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-04-24 | スパッタ装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009547117A Active JP5259626B2 (ja) | 2007-12-26 | 2008-12-24 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8877019B2 (enExample) |
| JP (2) | JP5259626B2 (enExample) |
| WO (1) | WO2009081953A1 (enExample) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5259626B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-08-07 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 |
| JP5792723B2 (ja) * | 2010-06-25 | 2015-10-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング装置、成膜方法、および制御装置 |
| JP6042196B2 (ja) * | 2011-12-22 | 2016-12-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタ装置、スパッタ装置の制御装置、および成膜方法 |
| KR102399075B1 (ko) * | 2014-12-16 | 2022-05-18 | 주성엔지니어링(주) | 공정챔버 내부에 배치되는 기판 가공장치 |
| JP6763321B2 (ja) | 2017-03-01 | 2020-09-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 自転検出用冶具、基板処理装置及び基板処理装置の運転方法 |
| CN109151113B (zh) * | 2018-08-28 | 2020-10-09 | 安徽徽昂光电科技有限公司 | 一种手机玻璃盖板的制作工艺 |
| JP7257941B2 (ja) * | 2019-11-28 | 2023-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 自転駆動機構及び自転駆動方法、並びにこれらを用いた基板処理装置及び基板処理方法 |
| CN115354276B (zh) * | 2022-07-18 | 2024-04-26 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于刻蚀及溅射的工件台 |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6365069A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-23 | Hitachi Ltd | スパツタ装置 |
| JP2751367B2 (ja) * | 1989-04-14 | 1998-05-18 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
| JPH03232964A (ja) * | 1990-02-07 | 1991-10-16 | Fujitsu Ltd | スパッタリング装置 |
| JPH03266239A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-27 | Fujitsu Ltd | 光磁気ディスクのスパッタリング方法 |
| JPH06213841A (ja) | 1993-01-13 | 1994-08-05 | Shimadzu Corp | 示差熱分析装置 |
| JP3378043B2 (ja) | 1993-03-05 | 2003-02-17 | 同和鉱業株式会社 | スパッタリング装置 |
| JPH06325717A (ja) | 1993-05-18 | 1994-11-25 | Shimadzu Corp | 電子線分析装置 |
| JP3280531B2 (ja) | 1995-02-14 | 2002-05-13 | 三菱電機株式会社 | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
| DE69611804D1 (de) * | 1995-04-17 | 2001-03-29 | Read Rite Corp | Bildung eines isolierenden dünnen Filmes durch eine Vielzahl von Ionenstrahlen |
| US7294242B1 (en) * | 1998-08-24 | 2007-11-13 | Applied Materials, Inc. | Collimated and long throw magnetron sputtering of nickel/iron films for magnetic recording head applications |
| JP4223614B2 (ja) | 1999-01-12 | 2009-02-12 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 |
| JP4205294B2 (ja) * | 2000-08-01 | 2009-01-07 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板処理装置及び方法 |
| US6985956B2 (en) * | 2000-11-02 | 2006-01-10 | Sun Microsystems, Inc. | Switching system |
| JP2002243672A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-28 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
| US7162600B2 (en) * | 2005-03-29 | 2007-01-09 | Hitachi, Ltd. | Data copying method and apparatus in a thin provisioned system |
| US6500676B1 (en) * | 2001-08-20 | 2002-12-31 | Honeywell International Inc. | Methods and apparatus for depositing magnetic films |
| US7153399B2 (en) * | 2001-08-24 | 2006-12-26 | Nanonexus, Inc. | Method and apparatus for producing uniform isotropic stresses in a sputtered film |
| US6986015B2 (en) * | 2001-12-10 | 2006-01-10 | Incipient, Inc. | Fast path caching |
| US6959373B2 (en) * | 2001-12-10 | 2005-10-25 | Incipient, Inc. | Dynamic and variable length extents |
| US7013379B1 (en) * | 2001-12-10 | 2006-03-14 | Incipient, Inc. | I/O primitives |
| US6973549B1 (en) * | 2001-12-10 | 2005-12-06 | Incipient, Inc. | Locking technique for control and synchronization |
| US7599360B2 (en) * | 2001-12-26 | 2009-10-06 | Cisco Technology, Inc. | Methods and apparatus for encapsulating a frame for transmission in a storage area network |
| US20030126132A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-03 | Kavuri Ravi K. | Virtual volume management system and method |
| US20030217129A1 (en) * | 2002-05-15 | 2003-11-20 | Lucent Technologies Inc. | Self-organizing intelligent network architecture and methodology |
| US7379990B2 (en) * | 2002-08-12 | 2008-05-27 | Tsao Sheng Ted Tai | Distributed virtual SAN |
| US20050138184A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Sanrad Ltd. | Efficient method for sharing data between independent clusters of virtualization switches |
| US7818515B1 (en) * | 2004-08-10 | 2010-10-19 | Symantec Operating Corporation | System and method for enforcing device grouping rules for storage virtualization |
| US7409495B1 (en) * | 2004-12-22 | 2008-08-05 | Symantec Operating Corporation | Method and apparatus for providing a temporal storage appliance with block virtualization in storage networks |
| US7130960B1 (en) * | 2005-04-21 | 2006-10-31 | Hitachi, Ltd. | System and method for managing disk space in a thin-provisioned storage subsystem |
| JP5057656B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2012-10-24 | 株式会社日立製作所 | ストレージシステム及びストレージシステムの運用方法 |
| JP2007308758A (ja) | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Denso Corp | 成膜装置及び成膜方法 |
| JP5259626B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-08-07 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタ装置、スパッタ成膜方法 |
-
2008
- 2008-12-24 JP JP2009547117A patent/JP5259626B2/ja active Active
- 2008-12-24 WO PCT/JP2008/073478 patent/WO2009081953A1/ja not_active Ceased
-
2010
- 2010-06-24 US US12/822,860 patent/US8877019B2/en active Active
-
2013
- 2013-04-24 JP JP2013091769A patent/JP5695119B2/ja active Active
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