JP2014524920A5 - - Google Patents

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  1. 式I
    Figure 2014524920
    の化合物の結晶多形。
  2. 5.9°、11.0°および25.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の多形。
  3. 5.9°、11.0°、17.6°、22.6°、25.9°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項2に記載の多形。
  4. 5.9°、11.0°、14.8°、17.6°、22.6°、24.0°、25.9°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項に記載の多形。
  5. 図1のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  6. 174〜177℃の融点を特徴とする、請求項2からのいずれか一項に記載の多形。
  7. 8.2°、13.3°、14.5°、21.2°および26.6°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  8. 8.2°、9.6°、13.3°、14.5°、21.2°、22.8°、25.4°および26.6°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項に記載の多形。
  9. 図2のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  10. 209〜212℃の融点を特徴とする、請求項ら9のいずれか一項に記載の多形。
  11. 6.2°、17.8°および26.2°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  12. 6.2°、17.8°、22.0°、26.2°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項11に記載の多形。
  13. 6.2°、12.1°、15.6°、17.8°、22.0°、26.2°、26.9°および28.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項12に記載の多形。
  14. 図3のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  15. 198〜200℃の融点を特徴とする、請求項11から14のいずれか一項に記載の多形。
  16. 12.4°、20.3°および26.6°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  17. 11.3°、12.4°、20.3°、21.4°および26.6°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項16に記載の多形。
  18. 11.3°、12.4°、15.0°、17.9°、20.3°、21.4°、24.8°および26.6°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項17に記載の多形。
  19. 図4のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  20. 204〜207℃の融点を特徴とする、請求項16から19のいずれか一項に記載の多形。
  21. 6.0°、11.1°、17.7°、24.1°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  22. 6.0°、8.8°、11.1°、11.9°、14.9°、17.7°、24.1°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項21に記載の多形。
  23. 図5のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  24. 190〜193℃の融点を特徴とする、請求項21から23のいずれか一項に記載の多形。
  25. 7.1°、10.6°、18.8°、22.2°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  26. 7.1°、9.4°、10.6°、16.5°、18.8°、21.3°、22.2°および26.9°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項25に記載の多形。
  27. 図6のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  28. 200〜203℃の融点を特徴とする、請求項25から27のいずれか一項に記載の多形。
  29. 6.9°、11.7°、15.1°、21.1°および25.8°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  30. 6.9°、7.5°、11.7°、15.1°、19.3°、21.1°、22.6°および25.8°±0.2°付近の回折角2θに特性ピークを有するX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項29に記載の多形。
  31. 図7のように示されるX線粉末回折パターンを特徴とする、請求項1に記載の式Iの化合物の多形。
  32. 式Iの化合物を調製する方法であって、
    Figure 2014524920
    (a)化合物1の合成
    不活性ガス中で、4−ニトロ−o−フタロニトリル、フェノール、KCOおよびDMSOをフラスコに添加して室温で45〜50時間撹拌し反応させ、次いで55℃〜65℃に加熱して1.5〜2.5時間反応させて、冷却後、沈殿させ、ろ過して化合物1を得た。
    (b)化合物2の合成
    CHOHに溶解させた化合物1を40〜60%のNaOHに添加し、反応が完了するまで加熱して還流させ次いで濃HClを添加してpH値を2.5〜3.5に調整し沈殿物をろ過して乾燥し、化合物2を得た。
    (c)化合物3の合成
    化合物2を氷酢酸と無水酢酸に溶解させ、反応が完了するまで加熱して還流させ溶媒をロータリーエバポレーターで除去して化合物3を得た。
    (d)化合物4の合成
    THFに溶解させた化合物3とイソシアノ酢酸メチルを、DBU(18−ジアザビシクロウンデカ−7−エン)に室温で滴加し、0.5〜1.5時間室温で撹拌しアルカリ性条件下で酢酸エチルを用いて洗浄して不純物を除去した後、水相のpH値を希HClで2.5〜3.5に調整し酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した後、無水NaSOで乾燥させ、ろ過し、得られた抽出物をロータリーエバポレーターで蒸留して化合物4を得た。
    (e)化合物5の合成
    CHOH中の化合物4を濃HClに添加し、次いで55℃〜65℃に加熱して3.5〜4.5時間反応させ生じた沈殿をろ過し、クロマトグラフィーで精製し、化合物5を得た。
    (f)化合物6の合成
    POCl中で化合物5を65℃〜75℃に加熱して2.5〜3.5時間反応させ、次いで冷却して氷中に注ぎ、POClを完全に分解させた後、得られた沈殿物をろ過して水で洗浄し、化合物6を得た。
    (g)化合物7の合成
    不活性ガス中で、化合物6、ジオキサン、Pd[P(C、KCOおよびトリメチルボランを混合し、2.5〜3.5時間加熱して還流および撹拌し、次いで室温で45〜50時間撹拌し濃縮後、得られた混合物を酢酸エチルで抽出し、水で洗浄し、乾燥させ、ろ過し、次いでロータリーエバポレーターで蒸留した後にクロマトグラフィーを通して更に精製し、化合物7を得た。
    (h)化合物8の合成
    化合物7をエタノールと1.5〜2.5NのNaOHの混合物に添加し、1〜2時間還流させろ過によって不純物を除去した後、得られた混合物をロータリーエバポレーターで蒸留してエタノールを除去し次いで得られた淡黄色の沈殿物をろ過し、水で洗浄し、乾燥して化合物8を得た。
    (i)化合物9の合成
    化合物8、グリシンメチルエステル塩酸塩およびPyBOPをジクロロメタンに添加し、次いでトリエチルアミンとビス(イソプロピル)エチルアミンを添加し、室温で2.5〜3.5時間撹拌しろ過後、有機相を水で洗浄し、乾燥し、ろ過した後、回転蒸発させ、シリカゲルカラムによって更に精製し、化合物9を得た。
    (j)化合物10、すなわち式Iの化合物の合成
    THF中の化合物9を0.5〜1.5NのNaOHに添加し、室温で0.5〜1.5時間撹拌し回転蒸発によってTHFを除去した後、残渣のpH値を希HClで約3に調整し、酢酸エチルで更に洗浄し、ろ過し、乾燥させ、化合物10、すなわち式Iの化合物を得た。
    という各ステップを含む方法。
  33. 式Iの化合物の結晶多形を調製する方法であって、
    a)式Iの化合物を、室温でメタノール/メチルtert−ブチルエーテルの混合溶媒に溶解させた後に自然沈降させるステップ、および請求項2から6のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    b)式Iの化合物の過剰量を、H O/アセトニトリル(3:1)もしくはH O/エタノールの混合溶媒中で室温もしくは50℃にて、またはメタノール/H Oの混合溶媒中で室温にて少なくとも48時間スラリー化するステップ、および請求項7から10のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    c)式Iの化合物を、メタノール/アセトニトリルの混合溶媒に室温で溶解させた後、自然沈降させるステップ、および請求項11から15のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    d)式Iの化合物の過剰量を、H O、CH Cl 、酢酸イソプロピル、EtOAc、または酢酸イソプロピル/ヘプタンの混合溶媒中で50℃にて少なくとも48時間スラリー化するステップ、および請求項11から15のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    e)式Iの化合物の過剰量を、メチルtert−ブチルエーテル、酢酸イソプロピル/ヘプタンの混合溶媒または酢酸エチル/ヘプタンの混合溶媒中で室温にて少なくとも48時間スラリー化するステップ、および請求項16から20のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    f)式Iの化合物の過剰量を、酢酸エチル/ヘプタンの混合溶媒中で50℃にて少なくとも48時間スラリー化するステップ、および請求項16から20のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    g)式Iの化合物の過剰量を、メチルtert−ブチルエーテル/ヘプタンの混合溶媒中で50℃にて少なくとも48時間スラリー化するステップ;または、式Iの化合物のメタノール溶液に貧溶媒として水を添加するステップ、および請求項21から24のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    h)式Iの化合物の過剰量を、アセトニトリル/H O(1:1)またはTHF/H Oの混合溶媒中で室温にて少なくとも48時間スラリー化するステップ、および請求項25から28のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    i)式Iの化合物を室温でメタノール/酢酸エチルの混合溶媒に溶解させた後に、工程e)またはf)で調製される結晶形を結晶化種として用いて自然沈降させるステップ、および請求項16から20のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ、あるいは
    j)工程g)で調製される結晶多形を約180℃に加熱するステップ、および請求項29から31のいずれか一項に記載の結晶多形に達する生成した結晶を回収するステップ
    を含む方法。
  34. 請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形の治療有効量、および薬学的に許容される添加物、補助薬または担体を含む、医薬組成物。
  35. 請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形が85wt%以上の純度を有する、請求項34に記載の医薬組成物。
  36. 請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形が99wt%以上の純度を有する、請求項34に記載の医薬組成物。
  37. 請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形をwt%〜99wt%含む、請求項34から36のいずれか一項に記載の医薬組成物。
  38. HIFレベルまたはHIF活性に関係する疾患、障害、または病状の治療における使用のための請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形。
  39. 虚血、貧血、または虚血もしくは貧血に伴う疾患、障害もしくは病状の治療における使用のための請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形。
  40. 対象の虚血、貧血、創傷治癒、自己移植、同種移植、異種移植、全身性高血圧、サラセミア、糖尿病、がんもしくは炎症性障害、またはこれらの二種以上の組み合わせから選択される疾患、障害もしくは病状の治療における使用のための請求項1から31のいずれか一項に記載の結晶多形。
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