JP2014239193A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 62
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Images
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013122024A JP5986538B2 (ja) | 2013-06-10 | 2013-06-10 | 露光装置および物品の製造方法 |
| CN201410245805.2A CN104238278B (zh) | 2013-06-10 | 2014-06-05 | 曝光装置以及制造物品的方法 |
| CN201611027383.7A CN106444300B (zh) | 2013-06-10 | 2014-06-05 | 曝光装置以及制造物品的方法 |
| US14/299,244 US9557657B2 (en) | 2013-06-10 | 2014-06-09 | Exposure apparatus and method of manufacturing article |
| KR1020140069354A KR101784045B1 (ko) | 2013-06-10 | 2014-06-09 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013122024A JP5986538B2 (ja) | 2013-06-10 | 2013-06-10 | 露光装置および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014239193A JP2014239193A (ja) | 2014-12-18 |
| JP2014239193A5 true JP2014239193A5 (enExample) | 2016-07-07 |
| JP5986538B2 JP5986538B2 (ja) | 2016-09-06 |
Family
ID=52005226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013122024A Active JP5986538B2 (ja) | 2013-06-10 | 2013-06-10 | 露光装置および物品の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9557657B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5986538B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101784045B1 (enExample) |
| CN (2) | CN106444300B (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111345031B (zh) * | 2019-04-25 | 2021-10-15 | 深圳市大疆创新科技有限公司 | 无人机及其拍摄控制方法 |
| JP7466403B2 (ja) * | 2020-08-03 | 2024-04-12 | キヤノン株式会社 | 制御装置、リソグラフィー装置、制御方法および物品製造方法 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5343270A (en) * | 1990-10-30 | 1994-08-30 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| JPH06260384A (ja) * | 1993-03-08 | 1994-09-16 | Nikon Corp | 露光量制御方法 |
| US5617182A (en) * | 1993-11-22 | 1997-04-01 | Nikon Corporation | Scanning exposure method |
| US6118515A (en) * | 1993-12-08 | 2000-09-12 | Nikon Corporation | Scanning exposure method |
| JP3451604B2 (ja) * | 1994-06-17 | 2003-09-29 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置 |
| JPH0992611A (ja) * | 1995-09-21 | 1997-04-04 | Canon Inc | 走査型露光装置および方法 |
| JPH09115825A (ja) * | 1995-10-19 | 1997-05-02 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置 |
| JP3514401B2 (ja) | 1996-01-16 | 2004-03-31 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置および方法ならびに半導体デバイスの製造方法 |
| JP3728610B2 (ja) * | 1996-07-04 | 2005-12-21 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置及び露光方法 |
| US6646715B1 (en) * | 1997-01-14 | 2003-11-11 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus and method with run-up distance control |
| JP3428872B2 (ja) * | 1997-08-29 | 2003-07-22 | キヤノン株式会社 | 露光方法および装置 |
| JPH11204421A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Nikon Corp | 露光装置の制御方法、露光装置、露光方法及び素子製造方法 |
| US6285438B1 (en) * | 1999-05-19 | 2001-09-04 | Nikon Corporation | Scanning exposure method with reduced time between scans |
| JP4585649B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2002110526A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-12 | Canon Inc | 走査露光方法及び走査露光装置 |
| KR100585108B1 (ko) * | 2003-11-14 | 2006-06-01 | 삼성전자주식회사 | 스캔 방식의 노광 장치를 이용한 웨이퍼 노광 방법 |
| JP4625673B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2011-02-02 | 株式会社東芝 | 露光方法及び露光装置 |
| US8236467B2 (en) * | 2005-04-28 | 2012-08-07 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8330936B2 (en) * | 2006-09-20 | 2012-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2009010202A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 露光方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP5489534B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2014-05-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP5498243B2 (ja) * | 2010-05-07 | 2014-05-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP5406861B2 (ja) * | 2011-01-01 | 2014-02-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2013
- 2013-06-10 JP JP2013122024A patent/JP5986538B2/ja active Active
-
2014
- 2014-06-05 CN CN201611027383.7A patent/CN106444300B/zh active Active
- 2014-06-05 CN CN201410245805.2A patent/CN104238278B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-06-09 KR KR1020140069354A patent/KR101784045B1/ko active Active
- 2014-06-09 US US14/299,244 patent/US9557657B2/en active Active
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