JP2005116779A5 - - Google Patents

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KR100856564B1 (ko) * 2007-07-25 2008-09-04 (주)와이티에스 레이저 마킹 시스템의 스캔헤드 틀어짐에 따른 마킹 오프셋자동 보정 방법
JP5581017B2 (ja) * 2009-07-22 2014-08-27 凸版印刷株式会社 露光方法、並びに露光装置
JP6271831B2 (ja) * 2012-11-07 2018-01-31 キヤノン株式会社 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP6462993B2 (ja) * 2014-04-02 2019-01-30 キヤノン株式会社 露光装置および物品製造方法
WO2016074876A1 (en) * 2014-11-13 2016-05-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP7328809B2 (ja) * 2019-07-01 2023-08-17 キヤノン株式会社 検出装置、露光装置、および物品製造方法

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