JP2005116779A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 原版を保持して移動する原版ステージと、
   基板を保持して移動する基板ステージと、
   前記原版のパターンの一部を前記基板上に投影する投影光学系と、
   前記原版のパターンおよび前記投影光学系を介して前記基板の露光領域がスキャン露光されるように、前記原版ステージの移動を制御し、さらに、前記露光領域が、アライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、かつ該アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御する制御手段と、
   オフアクシスアライメントスコープを有し、前記オフアクシスアライメントスコープを用いて、前記アライメント計測位置に位置する前記露光領域に付随する複数のアライメントマークについて、前記アライメント計測を同時に行うアライメント計測手段とを具備することを特徴とする露光装置。
2. 前記制御手段は、前記基板の各露光領域が、まず前記アライメント計測位置に位置し、次に前記アライメント計測の結果に基づいてスキャン移動するように、前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記スキャン露光が開始されるまでに前記露光領域が前記アライメント計測位置から移動する距離は、前記基板ステージが静止状態から前記スキャン移動の方向に加速を開始してから前記スキャン移動の速度に整定するのに要する距離に一致することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記アライメント計測手段は、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークをそれぞれ撮像する複数のオフアクシスアライメントスコープを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記オフアクシスアライメントスコープは、撮像素子と、前記露光領域に付随する複数のアライメントマークの像を前記撮像素子上に投影する手段とを備え、前記撮像素子により、前記複数のアライメントマークを同時に撮像することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記スキャン移動の方向において前記投影光学系に関し互いに反対側に存在する２組の前記アライメント計測位置および前記アライメント計測手段を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記制御手段は、前記露光領域の１つについて一方の前記アライメント計測位置を経てスキャン露光が完了した後、前記スキャン移動の方向に直交する方向において隣接する別の露光領域についてスキャン露光を行う場合、該完了の後、他方の前記アライメント計測位置に該別の露光領域が位置するように前記基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記オフアクシスアライメントスコープのベースライン補正量を計測する手段を具備することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。