JP2005116779A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 原版3を保持して移動する原版ステージ3aと、基板5を保持して移動する基板ステージ7と、原版のパターンの一部を基板上に投影する投影光学系4と、原版のパターンが投影光学系を介して基板上の各露光領域に対してスキャン露光されるように、原版ステージを制御するとともに、基板の各露光領域が、アライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、該アライメント計測の結果に基づいて投影光学系下でスキャン移動するように基板ステージを制御する制御手段10とを備えた露光装置において、アライメント計測位置に位置する露光領域に付随する複数のアライメントマークについて、アライメント計測を同時に行うアライメント計測手段6,9を設ける。
【選択図】 図1
Description
図8は液晶パネルの製造のフローチャートである。ステップ1(アレイ設計工程)では液晶アレイの回路設計を行なう。ステップ2(マスク製造工程)では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
一方、ステップ3(基板製造工程)ではガラス基板を製造する。ステップ4(アレイ製造工程)は所謂「前工程」と呼ばれ、前記用意したマスクとガラス基板とを用いてリソグラフィ技術によってガラス基板上に実際のアレイ回路を形成する。
次のステップ5(パネル製造工程)は所謂「後工程」と呼ばれ、別途の工程で製造されているカラーフィルタと張合わされた後周辺部を封止され、液晶が注入される工程である。ステップ6(検査工程)ではステップ5のあとで、タブやバックライト組み立てがされ、エージングが加えられた液晶パネルモジュールの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て液晶パネルが完成し、これがステップ7(出荷)される。
ステップ15(現像工程)では露光したガラス基板を現像する。ステップ16(エッチング工程)では現像したレジスト以外の部分を削り取る。ステップ17(レジスト剥離工程)ではエッチングがすんで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
尚本実施例の製造方法を用いれば高精度な液晶パネルを容易に製造することができる。
1b ミラー
1c 集光レンズ
1d ミラー
2 アライメントスコープ
3 マスク
3a マスクステージ
3b 基準プレート
4 投影光学系
4a 露光領域
5 基板
5a 露光領域
5b アライメントマーク
5c 次の露光領域
6 オフアクシスアライメントスコープ
6a 照明手段
6b 光学手段
6c 撮像手段
7 基板ステージ
7a 基準マーク
8 基板ステージ定盤
9 画像処理装置
10 制御装置
Claims (9)
- 原版を保持して移動する原版ステージと、
基板を保持して移動する基板ステージと、
前記原版のパターンの一部を前記基板上に投影する投影光学系と、
前記原版のパターンが前記投影光学系を介して前記基板上の各露光領域に対してスキャン露光されるように、前記原版ステージを制御するとともに、前記基板の各露光領域が、アライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、該アライメント計測の結果に基づいて前記投影光学系下でスキャン移動するように前記基板ステージを制御する制御手段と、
前記アライメント計測位置に位置する露光領域に付随する複数のアライメントマークについて、前記アライメント計測を同時に行うアライメント計測手段とを具備することを特徴とする露光装置。 - 前記制御手段は、前記基板ステージの制御を、前記基板の各露光領域ごとに、まずアライメント計測が行われるアライメント計測位置に位置し、次に該アライメント計測の結果に基づいて前記投影光学系下でスキャン移動するように行うものであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記アライメント計測位置に位置する露光領域が、それについて前記スキャン露光が開始されるまでに移動する距離は、前記基板ステージが静止状態から前記スキャン移動の方向に加速を開始し、前記スキャン移動の速度に整定するのに要する距離に一致することを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記アライメント計測手段は、前記アライメント計測位置に位置する露光領域に付随する複数のアライメントマークをそれぞれ別個にかつ同時に撮像する複数の撮像手段を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記アライメント計測手段は、前記アライメント計測位置に位置する露光領域に付随する複数のアライメントマークの像を1つの撮像素子上に投影する手段を備え、該撮像素子により、前記複数のアライメントマークを重ねて同時に撮像するものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記アライメント計測位置およびアライメント計測手段は、前記投影光学系を中心とする対象位置に2組が存在することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記露光領域の1つについて一方の前記アライメント計測位置を経てスキャン露光が完了した後、スキャン移動方向に直行する方向に隣接する別の露光領域についてスキャン露光を行う場合、該スキャン露光完了の直後、スキャン移動方向については所定の距離を空走してから減速するとともに、該直交方向についてはステップ移動することにより、他方の前記アライメント計測位置に対し、該別の露光領域が位置するように前記基板ステージを制御するものであることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記原版ステージ上の原版側基準マークおよび前記基板ステージ上の基板側基準マークを前記投影光学系を介して同時に観察することにより両基準マークを位置合せしたときの前記基板ステージの位置から、前記アライメント計測手段の各観察位置に前記基板側基準マークが位置するように前記基板ステージを移動したときの各移動量を各観察位置についてのベースライン補正量として計測する手段を具備することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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