JP2005175334A - 露光方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レチクルに形成されたパターンを被処理体上の複数のショットに露光する露光方法であって、前記被処理体上の複数のショットの平面度を各々計測するステップと、前記被処理体上の複数のショットのうち、前記計測ステップで求めた前記平面度が所定の範囲外であるショットを特定ショットと特定するステップと、前記被処理体の複数の箇所の計測点を測定して位置情報を取得するステップであって、前記特定ステップで特定された前記特定ショットの位置情報を、前記特定ショット以外のショットの位置情報よりも詳細に取得するステップと、前記取得ステップで取得した前記特定ショットの位置情報を利用して前記被処理体の位置及び傾きの少なくとも一方を制御するステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。
【選択図】 図1
Description
100 計測ステーション
111及び112 照明光学系
113 ビームスプリッタ
114 対物レンズ
115 ハーフミラー
116 CCDカメラ
117 内部参照鏡
200 露光ステーション
260 検出系
261 照明レンズ
262 マスク
263 光路合成プリズム
264 フォーカスマーク投影光学系
265 フォーカス受光光学系
266 光路分割プリズム
267 拡大検出光学系
268 位置検出素子
270 制御部
Claims (8)
- レチクルに形成されたパターンを被処理体上の複数のショットに露光する露光方法であって、
前記被処理体上の複数のショットの平面度を各々計測するステップと、
前記被処理体上の複数のショットのうち、前記計測ステップで求めた前記平面度が所定の範囲外であるショットを特定ショットと特定するステップと、
前記被処理体の複数の箇所の計測点を測定して位置情報を取得するステップであって、前記特定ステップで特定された前記特定ショットの位置情報を、前記特定ショット以外のショットの位置情報よりも詳細に取得するステップと、
前記取得ステップで取得した前記特定ショットの位置情報を利用して前記被処理体の位置及び傾きの少なくとも一方を制御するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 前記特定ステップは、前記複数のショットの平均の平面度に対して所定の閾値外のショットを前記特定ショットとすることを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 前記特定ステップは、前記特定ショットのうち、前記平面度が前記露光を行なえない範囲のショットを不良ショットとして特定するステップを有することを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 前記取得ステップは、前記特定ショット以外のショットを第1の計測点で計測するステップと、
前記特定ショットを前記第1の計測点の数よりも多い第2の計測点で計測するステップとを有することを特徴とする請求項1記載の露光方法。 - 請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の露光方法を行うことができる露光モードを有することを特徴とする露光装置。
- レチクルに形成されたパターンを被処理体上の複数のショットに露光する露光装置であって、
前記被処理体上の複数のショットの平面度を各々検出する第1の検出手段と、
前記第1の検出手段が検出した前記平面度に応じて、前記複数のショットの位置情報を各々検出する第2の検出手段とを有し、
前記第2の検出手段により検出した前記位置情報に基づいて、前記複数のショットの各々の位置及び傾きの少なくとも一方を制御することを特徴とする露光装置。 - 前記露光装置は、前記レチクルと前記被処理体とを同期させて走査しつつ露光を行う走査型露光装置であることを特徴とする請求項5又は6記載の露光装置。
- 請求項5乃至7記載のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003415891A JP4497908B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 露光方法及び装置 |
US11/012,617 US7106419B2 (en) | 2003-12-15 | 2004-12-15 | Exposure method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003415891A JP4497908B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 露光方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005175334A true JP2005175334A (ja) | 2005-06-30 |
JP4497908B2 JP4497908B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=34650604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003415891A Expired - Fee Related JP4497908B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 露光方法及び装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7106419B2 (ja) |
JP (1) | JP4497908B2 (ja) |
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- 2003-12-15 JP JP2003415891A patent/JP4497908B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US20050128454A1 (en) | 2005-06-16 |
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JP4497908B2 (ja) | 2010-07-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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