JP2014093495A - 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この露光装置は、基板3を保持して移動可能であり、基板3を表面に吸着保持する吸着部13と、基板3を表面から離間可能とする昇降機構と、第1マーク43とを含む基板保持部7と、投影光学系4を介さずに、第1マーク43、または基板3に形成されている第2マークを検出する複数の位置検出系8a、8bと、基板保持部7との間で基板3を搬送する搬送機構50とを備える。ここで、搬送機構50との基板3の受け渡しの際に基板保持部7が移動を停止する第1位置と、昇降機構が駆動し、基板3を吸着部に吸着保持させる、または吸着保持を解除させる際に基板保持部7が移動を停止する第2位置とが異なる。そして、少なくとも1つの位置検出系8bは、基板保持部7が第2位置にあるときに第1マーク43を検出可能である。
【選択図】図5
Description
まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置の構成について説明する。図1は、本実施形態の露光装置1の構成を示す概略図である。この露光装置1は、一例として、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・リピート方式にてレチクル(原版)2に形成されているパターン(例えば回路パターン)を被処理基板であるウエハ3上(基板上)に転写露光する投影型露光装置とする。なお、図1では、投影光学系4の光軸(本実施形態では鉛直方向)に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で露光時のレチクル2およびウエハ3の走査方向にX軸を取り、X軸に直交する非走査方向にY軸を取っている。露光装置1は、照明系5と、レチクルステージ6と、投影光学系4と、ウエハステージ7と、位置検出系8と、制御部9とを備える。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置について説明する。本実施形態に係る露光装置の特徴は、ウエハステージ7に含まれるウエハステージ基準マーク(WSマーク)を第1実施形態にてチャック13上に設置したのに換えて、ウエハステージ7上に設置している点にある。図6は、第1実施形態に係る図5に対応した、本実施形態に係る露光装置によるウエハ3の交換動作を説明する概略図である。なお、図6において、図5に示す第1実施形態に係る露光装置1と同一構成には同一の符号を付し、説明を省略する。この場合、ウエハステージ基準マーク51は、その表面とチャック13に吸着保持された状態のウエハ3の表面とのZ軸方向の高さ位置が略同一となるように設置される。これにより、例えば、図6(b)に示すように、計測位置(第1実施形態と同様に回避位置と同義)にて、第2位置検出系8bは、チャック13の上昇駆動の完了を待つことなく、上昇駆動の開始からWSマーク51の検出を実施することができる。したがって、本実施形態の露光装置は、ウエハステージ7の第2の動作分の時間を短縮させるだけでなく、第2位置検出系8bによる検出開始時間を早まらせることができるので、ベースライン計測にかかる時間をさらに短縮させることができる。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイスなど)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
2 レチクル
3 ウエハ
4 投影光学系
5 照明系
7 ウエハステージ
8a 第1位置検出系
8b 第2位置検出系
13 チャック
43 ウエハステージ基準マーク
50 ハンド
WM ウエハマーク
Claims (10)
- 照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能であり、前記基板を表面に吸着保持する吸着部と、前記基板を前記表面から離間可能とする昇降機構と、第1マークとを含む基板保持部と、
前記投影光学系を介さずに、前記第1マーク、または前記基板に形成されている第2マークを検出する複数の位置検出系と、
前記基板保持部との間で前記基板を搬送する搬送機構と、を備え、
前記搬送機構との前記基板の受け渡しの際に前記基板保持部が移動を停止する第1位置と、前記昇降機構が駆動し、前記基板を前記吸着部に吸着保持させる、または吸着保持を解除させる際に前記基板保持部が移動を停止する第2位置とが異なり、
少なくとも1つの前記位置検出系は、前記基板保持部が前記第2位置にあるときに前記第1マークを検出可能である、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1マークは、前記吸着部に設置され、
前記昇降機構は、前記吸着部を昇降させる昇降駆動部と、前記吸着部が下降しているときに前記基板を一時的に支持する複数のピンと、を有し、
前記基板保持部が前記第2位置にあるときに前記第1マークを検出可能とする前記位置検出系は、前記基板が前記吸着部に吸着保持された後に、前記第1マークの検出を開始する、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記第1マークは、前記基板保持部に設置され、
前記昇降機構は、前記吸着部を昇降させる昇降駆動部と、前記吸着部が下降しているときに前記基板を一時的に支持する複数のピンと、を有し、
前記基板保持部が前記第2位置にあるときに前記第1マークを検出可能とする前記位置検出系は、前記基板が前記吸着部に吸着保持される前から、前記第1マークの検出を開始する、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記基板保持部が前記第2位置にあるときに前記第1マークを検出可能とする前記位置検出系は、観察領域を可変とする駆動機構を有することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記複数の位置検出系は、前記駆動機構を有する前記位置検出系の他に、観察領域を固定とする少なくとも1つの前記位置検出系を含むことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記観察領域を固定とする位置検出系と、前記観察領域を可変とする位置検出系とが検出した前記第1マークを基準として、2つの前記位置検出系の距離を算出し、該距離の値に基づいて、前記2つの位置検出系が、検出タイミングの少なくとも一部が重なりあいながら少なくとも2つの前記第2マークを検出した際の、該第2マークの間の距離を補正する制御部を備えることを特徴とする請求項4または5に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記複数の位置検出系に対し、前記第1マークの検出を予め設定した前記基板の複数枚ごとに実施させることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記原版を保持して移動可能であり、第3マークを含む原版保持部と、
前記投影光学系を介して前記第1マークと前記第3マークとの相対位置を検出可能とするスコープと、を備え、
前記制御部は、前記スコープと前記複数の位置検出系とに対し、露光領域の基準点と前記複数の位置検出系のそれぞれの観察領域の基準点との間のベースライン量を計測させ、
前記ベースライン量を基準として、前記露光領域に前記基板上のパターン転写領域が合うように、前記基板保持部を移動させる、
ことを特徴とする請求項6または7に記載の露光装置。 - 前記基板を表面に吸着保持する吸着部と前記基板を前記表面から離間可能とする昇降機構と第1マークとを含む移動可能な基板保持部と、
前記第1マークまたは前記基板に形成されている第2マークを検出する複数の位置検出系と、
前記基板保持部との間で前記基板の受け渡しを行う搬送機構と、を備え、
前記搬送機構との前記基板の受け渡しの際に前記基板保持部が移動を停止する第1位置と、前記昇降機構が駆動し、前記基板を前記吸着部に吸着保持させる、または吸着保持を解除させる際に前記基板保持部が移動を停止する第2位置とが異なり、
少なくとも1つの前記位置検出系は、前記基板保持部が前記第2位置にあるときに前記第1マークを検出可能である、
ことを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
その露光した基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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