KR960018773A - 노광 방법 및 그 장치 - Google Patents

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Abstract

[목적]
트루픗을 극단으로 저하시키지 않고 각 노광 쇼트 위치에서 정확하게 레벨링 및 합초를 행한다.
[구성]
웨이퍼 전체의 경사 보정(글로밭레벨링)이 제1노광 쇼트로의 위치 결정을 위한 웨이퍼의 이동중에 행해지며(스텝 110), 각 노광 쇼트로의 위치 결정후에 각 노광 위치에서의 레벨링(칩 레벨링)이 행해진다(스텝 112). 따라서, 레벨링 동작이 분할되고 각 노광 위치에서의 레벨링 보정량이 작아지고 노광 위치에선 단시간으로 레벨링이 완료된다. 또. 스텝(118)에서 스텝(114)에서 구해진 초점에서의 위치 어긋남량에 따른 양만큼 차노광 쇼트 이동중에 웨이퍼를 광축 방향을 따라서 초점측으로 이동시키므로 각 노광 쇼트로 위치 결정된 때엔 대체적인 합초가 이뤄지고 있다.

Description

노광 방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 제1실시예에 대한 스텝앤드리피드형의 노광 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면.

Claims (9)

  1. 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 거쳐서 감광기판상의 복수의 쇼트 영역의 각각에 순차 전사하는 스텝앤드리피트 방식의 노광 방법에 있어서, 상기 감광기판상의 복수의 계측점의 각각에 있어서의 투영 광학계의 광축 방향의 위치를 계측하는 제1공정과, 상기 복수의 쇼트 영역의 1개를 투영 광학계의 이미지 필드내에 위치 결정하기 위한 상기 감광기판의 이동중에 상기 계측 결과에 의거해서 상기 투영 광학계의 상면과 상기 감광기판의 표면과의 상대적인 경사를 보정하는 제2공정과, 상기 투영 광학계의 상면에 대한 상기 1개의 쇼트영역의 표면의 경사량과 초점 어긋남량을 검출하고 그 검출 결과에 의거해서 감광기판을 경사시킴과 더불어 광축 방향으로 이동하는 제3의 공정과, 상기 마스크패턴을 1개의 쇼트영역에 전사하는 동시에 제3의 공정에서의 감광기판의 경사량에 의거해서 다음에 마스크패턴을 전사해야 할 1개의 쇼트 영역과는 다른 쇼트 영역의 표면의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량을 구하는 제4공정과; 상기 다른 쇼트 영역을 투영 광학계의 이미지 필드내에 위치 결정하기 위한 감광기판의 이동중에 상기 구해진 위치 어굿남량에 따른 양만큼 감광기판을 광축 방향으로 이동하는 제5공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1공정에 있어서 감광 기판상의 계측점은 적어도 3개의 쇼트 영역의 각각의 동일 위치에 실정되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1공정은 감광 기판상의 몇개의 쇼트 영역의 각각에 부설된 어라이먼트마크의 위치를 계측하는 공정과 계측된 복수의 위치를 통계 처리하므로서 감광기판상의 모든 쇼트 영역의 위치를 결정하는 공정을 포함하며, 상기 계측점이 설정되는 적어도 3개의 쇼트 영역은 상기 얼라이먼트 마크의 위치가 계측되는 몇개의 쇼트 영역에 포함되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1공정에 있어서 감광기판상의 계측점은 마스크의 패턴을 전사가능한 모든 쇼트 영역의 각각에 설정되는 동시에 그 각 쇼트 영역내의 계측점은 프로세스 단차가 비교적 작아지는 위치에 정해지고, 상기 제4공정에 있어서 다른 쇼트 영역의 표면의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량을 구할 때, 제1의 공정에서 얻어진 쇼트 영역간의 편차를 사용하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 마스크의 패턴을 감광 기판상의 쇼트 영역에 전사하는데 앞서서 그 쇼트 영역의 표면을 투영 광학계의 상면에 합치시킬 때, 상기 제1공정에서 얻어진 모든 쇼트 영역의 위치 정보중, 해당 쇼트 영역에 인접하는 쇼트 영역의 위치 정보를 써서 감광기판을 경사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  6. 마스크를 조명하면서 그 마스크상의 조명 영역에 대해서 마스크를 주사하는 동시에 조명 영역과 투영광학계에 관해서 공역인 노광 영역에 대해서 감광기판을 마스크의 주사에 동기해서 주사하므로서 마스크의 패턴을 투영 광학계를 거쳐서 감광 기판의 복수의 쇼트 영역상에 순차 노광하는 주사현 노광 방법에 있어서, 상기 감광기판상의 복수의 계측점의 각각에 있어서의 투영 광학계의 광축 방향의 위치를 계측하는 제1공정과, 상기 복수의 소트 영역의 1개를 노광 개시 위치에 위치 결정하기 위한 상기 감광기판의 이동중에 계측 결과에 의거해서 투영 광학계의 상면과 감광기판의 표면과의 상대적인 경사를 보정하는 제2공정과; 상기 감광기판의 1개의 쇼트 영역과 마스크를 동기해서 주사 노광하면서 투영 광학계의 상면에 대한 1개의 쇼트 영역의 표면의 경사량과 초점 어긋남량을 검출하고 그 검출결과에 의거해서 노광 영역에 있어서의 1개의 쇼트 영역의 표면이 투영 광학계의 상면과 평행으로 되는 동시에 투영 광학계의 초점 위치와 일치하게 감광 기판을 경사하는 동시에 광축 방향으로 이동하는 제3공정과, 상기 1개의 쇼트 영역의 주사 노광 종료시의 감광기판의 경사량에 의거해서 다음에 마스크 패턴을 전사해야 할 1개의 쇼트 영역과는 다른 쇼트 영역의 표면의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량을 구하는 제4공정과, 상기 다른 쇼트 영역을 노광 개시 위치에 위치 결정하기 위한 감광기판의 이동중에 구해진 위치 어굿남량에 따른 양만큼 감광 기판을 광축 방향으로 이동하는 제5공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 마스크의 주사간에 생기는 마스크의 광축 방향에 있어서의 위치 변동에 의한 투영광학계의 상면의 광측 방향의 위치의 변동분을 제3공정에 있어서의 검출결과에 의거해서 감광 기판을 광축 방향으로 이동하기 위한 이동량에 들이고 또한, 제4공정에 있어서의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량에 들이는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  8. 마스크에 형성된 패턴의 상을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계를 가지며 마스크의 패턴상을 감광기판상의 복수의 쇼트 영역의 각각에 순차 전사하는 스텝 앤드리피트방식의 노광 장치에 있어서, 상기 감광기판을 유지하고 투영 광학계의 광축 방향으로 이동하는 동시에 투영 광학계의 상면에 대해서 경사가능한 가동 부재와, 그 가동 부재를 얹고 투영 광학계의 광축과 수직인 면내에서 2차원 이동하는 기판 스테이지와, 상기 기판 감광기판 표면의 투영 광학계의 광축 방향의 위치를 광학적으로 검출하는 제1검출 수단과, 상기 투영 광학계의 상면에 대한 감광기판상의 쇼트 영역의 표면의 경사를 광학적으로 검출하는 제2검출 수단과, 상기 제1검출수단을 써서 감광기판의 복수의 계측점의 각각에 있어서의 광축방향의 위치를 계측하고 그 계측된 복수의 위치에 의거해서 가동부재를 경사시키므로서 투영 광학계의 상면과 감광기판의 표면과의 상대적인 경사를 보정하는 제1레벨링 수단과, 상기 기판 스테이지의 이동 위치를 모니터하면서 감광기관상의 복수의 쇼트 영역이 마스크의 패턴상으로 순차 노광되게 기판 스테이지의 이동 위치를 제어하는 제1제어 수단과, 상기 경사 보정된 감광기판상의 1개의 쇼트 영역의 표면이 투영 광학계의 초점 위치에 일치하게 제1검출 수단의 출력에 의거해서 가동 부재를 구동하는 합초 수단과, 상기 1개의 쇼트 영역의 표면이 투영 광학계의 상면과 평행으로 상기 제2검출 수단의 출력에 의거해서 가동부재를 구동하는 제2레벨링 수단과, 상기 제2레벨링 수단에 의해서 구동되는 감광 기판상의 쇼트 영역의 표면의 경사량에 의거해서 다음에 마스크 패턴을 전사해야 할 1개의 쇼트 영역과는 다른 쇼트 영역의 표면의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량을 구하고 제1제어 수단에 의한 기판 스테이지의 이동중에 위치 어긋남량에 따른 양만큼 감광기판을 광축 방향으로 이동하게 가동 부재의 이동을 제어하는 제2제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  9. 마스크상의 조명 영역에 대해서 그 마스크를 주사하는 마스크스테이지와, 상기 마스크상의 패턴의 상을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계와, 조명 영역과 투영 광학계에 관해서 공역인 노광 영역에 대해서 감광기판을 마스크의 주사와 동기해서 주사하는 2차원 이동가능한 기판 스테이지를 구비하고, 상기 감광기판상의 복수의 쇼트 영역을 순차 노광하는 주사형 노광 장치이며, 상기 2차원 이동가능한 기판상에 설치되고 또한 감광기판을 유지한 채 상기 투영 광학계의 광축 방향으로 이동하는 동시에 투영 광학계의 상면에 대해서 경사가능한 가동부재와, 상기 감광기판 표면의 투영 광학계의 광축 방향의 위치 및 투영 광학계의 상면에 대한 경사를 광학적으로 검출하는 검출 수단과, 상기 검출 수단을 써서 감광 기판상의 복수의 계측점의 각각에 있어서의 광축 방향의 위치를 계측하고 그 계측된 복수의 위치에 의거해서 가동 부재를 기울이므로서 투영 광학계의 상면과 감광기판의 표면과의 상대적인 경사를 보정하는 제1레벨링 수단과, 상기 기판 스테이지의 이동 위치를 모니터하면서 감광 기판상의 복수의 소트영역이 마스크의 패턴상으르 순차 노광되게 기판 스테이지의 이동 위치를 제어하는 제1제어 수단과, 상기 감광 기판의 1개의 쇼트 영역과 마스크가 동기해서 주사되어 있는 동안에 노광 영역내에 존재하는 그 1개의 쇼트 영역의 표면이 투영 광학계의 초점 위치에 일치하고 또한 투영 광학계의 상면과 평행으로 되게 검출 수단의 출력에 의거해서 가동 부재를 구동하는 제2레벨링 수단과, 상기 제2레벨링 수단에 의해서 구동된 감광 기판상의 쇼트 영역의 표면의 주사 노광 종료시의 경사량에 의거해서 다음에 마스크패턴을 전사해야 할 1개의 쇼트 영역과는 다른 쇼트 영역의 표면의 투영 광학계의 상면에서의 위치 어긋남량을 구하고 제1제어 수단에 의한 기판 스테이지의 이동중에 위치 어긋남량에 따른 양만큼 상기 감광 기판을 상기 광축 방향으로 이동하게 상기 가동 부재의 이동을 제어하는 제2제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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