JP4746081B2 - 走査露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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であって、前記ショット内の計測点のフォーカスを、その計測点を含む領域が露光される前に、計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいて前記ステージのフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記領域を前記投影光学系の像面に位置決めすることを前記ショットに対する前記走査露光の間に繰り返
す走査露光装置において、
前記感光基板上のショットについて、所定の計測点に対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
ショットのレイアウト、露光順序および走査方向に基づいて、前記所定の計測点と前記最初の計測点との間の位置関係を、前記感光基板上の複数のショットそれぞれに関して決定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置である。
前記工程で露光された感光基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法である。
本発明の実施例の走査露光装置は、投影光学系310と、感光基板であるウエハを保持するステージであるフォーカスステージ312とを有する。投影光学系310を介して原版であるレチクル309のパターンの一部を感光基板上であるウエハ上に投影し且つ投影光学系310の光軸に対し垂直にレチクル309とウエハとを共に走査することにより、レチクル309のパターンをウエハ上に転写する。ウエハ上のショット内の計測点のフォーカスをその計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいてフォーカスステージ312のフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記計測点を投影光学系310の像面に位置決めする。
先読みフォーカス制御でフォーカス精度を向上させるためには、スキャン開始時のフォーカス第一計測点のフォーカス計測値(フォーカス誤差)ができるだけ小さい値になるようにウエハステージの初期目標値(飛び込み目標座標)を指定する必要がある。しかしながら、スキャン開始時のフォーカス第一計測点のフォーカス計測値はウエハ表面であることから、ウエハのロットやユーザープロセスに応じて変動要素を持っている。
lのpoint lのデータ(一点鎖線枠111で囲まれた部分)のみとなり、プログラム実装上非常に現実的な構成となる。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して、感光剤を塗布した基板(ウェハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その露光された基板を現像する工程と、を経ることにより形成、製造される。現像された基板を加工する工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を含む。
Claims (4)
- 投影光学系と、感光基板を保持するステージとを有し、前記投影光学系を介して原版のパターンの一部を前記感光基板上に投影し且つ前記投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と前記感光基板とを共に走査することにより、前記原版のパターンを前記感光基板上のショットに転写する走査露光を行う走査露光装置であって、前記ショット内の計測点のフォーカスを、その計測点を含む領域が露光される前に、計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいて前記ステージのフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記領域を前記投影光学系の像面に位置決めすることを前記ショットに対する前記走査露光の間に繰り返す走査露光装置において、
前記感光基板上のショットについて、所定の計測点に対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
ショットのレイアウト、露光順序および走査方向に基づいて、前記所定の計測点と前記最初の計測点との間の位置関係を、前記感光基板上の複数のショットそれぞれに依って個別に決定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置。 - 前記記憶手段に記憶された前記フォーカス制御目標値は、同じロット内の複数の感光基板にわたって得られた対応する計測点に関する複数のフォーカス制御目標値を平均したものである、ことを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。
- 前記所定の計測点と前記最初の計測点との間の位置関係を前記感光基板上の複数のショットそれぞれに依って個別に編集するためのユーザーインターフェースを有する、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の走査露光装置。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の露光装置を用いて感光基板を露光する工程と、
前記工程で露光された感光基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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