JP2009060116A - 走査露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を保持するステージを有し、投影光学系を介して原版のパターンの一部を基板上に投影し、投影光学系の光軸に対し垂直に原版と基板を走査し、原版のパターンを基板上に転写し、基板上のショット内の計測点のフォーカスを計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、フォーカス計測値に基づいてステージのフォーカス制御目標値を算出し、フォーカス制御目標値に基づいて計測点を投影光学系の像面に位置決めする露光装置で、基板上の第1ショットに対するフォーカス計測値から得られた、ステージの傾きを含むフォーカス制御目標値を記憶する手段と、基板上の第2ショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を記憶手段に記憶されたステージの傾きを含むフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段とを有する。
【選択図】図1
Description
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られた、前記ステージの傾きを含むフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶された前記ステージの傾きを含むフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置である。
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
ショットのレイアウト、露光順序および走査方向に基づいて、前記第1のショットと前記第2のショットとの参照関係を決定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置である。
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
前記第1のショットと前記第2のショットとの参照関係を編集するためのユーザーインターフェースと、
を有することを特徴とする走査露光装置である。
前記工程で露光された感光基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法である。
本発明の実施例の走査露光装置は、投影光学系310と、感光基板であるウエハを保持するステージであるフォーカスステージ312とを有する。投影光学系310を介して原版であるレチクル309のパターンの一部を感光基板上であるウエハ上に投影し且つ投影光学系310の光軸に対し垂直にレチクル309とウエハとを共に走査することにより、レチクル309のパターンをウエハ上に転写する。ウエハ上のショット内の計測点のフォーカスをその計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいてフォーカスステージ312のフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記計測点を投影光学系310の像面に位置決めする。
先読みフォーカス制御でフォーカス精度を向上させるためには、スキャン開始時のフォーカス第一計測点のフォーカス計測値(フォーカス誤差)ができるだけ小さい値になるようにウエハステージの初期目標値(飛び込み目標座標)を指定する必要がある。しかしながら、スキャン開始時のフォーカス第一計測点のフォーカス計測値はウエハ表面であることから、ウエハのロットやユーザープロセスに応じて変動要素を持っている。
lのpoint lのデータ(一点鎖線枠111で囲まれた部分)のみとなり、プログラム実装上非常に現実的な構成となる。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して、感光剤を塗布した基板(ウェハ、ガラスプレート等)を露光する工程と、その露光された基板を現像する工程と、を経ることにより形成、製造される。現像された基板を加工する工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等を含む。
Claims (5)
- 投影光学系と、感光基板を保持するステージとを有し、前記投影光学系を介して原版のパターンの一部を前記感光基板上に投影し且つ前記投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と前記感光基板とを共に走査することにより、前記原版のパターンを前記感光基板上に転写する走査露光装置であって、前記感光基板上のショット内の計測点のフォーカスをその計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいて前記ステージのフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記計測点を前記投影光学系の像面に位置決めする走査露光装置において、
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られた、前記ステージの傾きを含むフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶された前記ステージの傾きを含むフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置。 - 前記記憶手段に記憶された前記フォーカス制御目標値は、同じロット内の複数の感光基板にわたって得られたフォーカス制御目標値を平均したものである、ことを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。
- 投影光学系と、感光基板を保持するステージとを有し、前記投影光学系を介して原版のパターンの一部を前記感光基板上に投影し且つ前記投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と前記感光基板とを共に走査することにより、前記原版のパターンを前記感光基板上に転写する走査露光装置であって、前記感光基板上のショット内の計測点のフォーカスをその計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいて前記ステージのフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記計測点を前記投影光学系の像面に位置決めする走査露光装置において、
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
ショットのレイアウト、露光順序および走査方向に基づいて、前記第1のショットと前記第2のショットとの参照関係を決定する手段と、
を有することを特徴とする走査露光装置。 - 投影光学系と、感光基板を保持するステージとを有し、前記投影光学系を介して原版のパターンの一部を前記感光基板上に投影し且つ前記投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と前記感光基板とを共に走査することにより、前記原版のパターンを前記感光基板上に転写する走査露光装置であって、前記感光基板上のショット内の計測点のフォーカスをその計測点が露光される前に計測するフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に基づいて前記ステージのフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて前記計測点を前記投影光学系の像面に位置決めする走査露光装置において、
前記感光基板上の第1のショットに対するフォーカス計測値から得られたフォーカス制御目標値を記憶する手段と、
前記感光基板上の第2のショットに対して最初の計測点でフォーカス計測を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段と、
前記第1のショットと前記第2のショットとの参照関係を編集するためのユーザーインターフェースと、
を有することを特徴とする走査露光装置。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の露光装置を用いて感光基板を露光する工程と、
前記工程で露光された感光基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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CN112327579A (zh) * | 2019-08-05 | 2021-02-05 | 佳能株式会社 | 曝光装置以及物品的制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0555105A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Canon Inc | 半導体焼付露光装置 |
JPH0697046A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-04-08 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH0837150A (ja) * | 1994-05-18 | 1996-02-06 | Nikon Corp | 走査露光方法 |
JPH08227854A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-09-03 | Nikon Corp | 露光方法及びその装置 |
JPH0927445A (ja) * | 1995-07-13 | 1997-01-28 | Nikon Corp | ショットマップ作成方法 |
JPH0945608A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-14 | Canon Inc | 面位置検出方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0555105A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Canon Inc | 半導体焼付露光装置 |
JPH0697046A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-04-08 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH0837150A (ja) * | 1994-05-18 | 1996-02-06 | Nikon Corp | 走査露光方法 |
JPH08227854A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-09-03 | Nikon Corp | 露光方法及びその装置 |
JPH0927445A (ja) * | 1995-07-13 | 1997-01-28 | Nikon Corp | ショットマップ作成方法 |
JPH0945608A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-14 | Canon Inc | 面位置検出方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112327579A (zh) * | 2019-08-05 | 2021-02-05 | 佳能株式会社 | 曝光装置以及物品的制造方法 |
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