KR100629390B1 - 광학계 위치제어수단을 갖는 반도체 제조용 노광장치 및이를 이용한 노광방법 - Google Patents

광학계 위치제어수단을 갖는 반도체 제조용 노광장치 및이를 이용한 노광방법 Download PDF

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Abstract

반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법이 제공된다. 이때의 노광장치는 웨이퍼에 주사되도록 소정 광을 제공하는 조명계와, 웨이퍼가 안착되며 조명계에서 광이 주사됨에 따라 웨이퍼를 움직여주도록 웨이퍼이동유닛을 구비한 웨이퍼 안착부와, 웨이퍼 안착부와 조명계의 사이에 마련되며 웨이퍼 측으로 주사되는 광을 소정패턴으로 패터닝하는 레티클과 웨이퍼이동유닛이 웨이퍼를 움직임에 따라 발생되는 레티클의 진동오차를 보정하는 레티클위치 보정유닛을 구비한 레티클 지지부와, 웨이퍼 안착부와 레티클 지지부의 사이에 마련되며 상기 패터닝된 광을 웨이퍼의 타겟부 상으로 투영시키는 광학계 및, 웨이퍼의 노광시 광학계의 움직임을 계측하고 광학계의 위치를 보정하도록 마련된 광학계 위치제어수단을 포함한다. 따라서, 제공된 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법에 따르면, 웨이퍼이동유닛의 빠른 움직임 등으로 인한 진동오차가 광학계의 위치보정 등으로 인해 모두 해소될 수 있기 때문에 이 진동에 따라 발생되는 다이나믹 퍼포먼스 에러 또한 모두 감쇄되거나 최소화된다.
노광

Description

광학계 위치제어수단을 갖는 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법{Exposure equipment for manufacturing semiconductor having means to control position for optic system and Exposing method using the same}
도 1은 본 발명에 따른 노광장치의 일실시예를 도시한 개념도,
도 2는 본 발명에 따른 광학계 위치제어수단의 일실시예를 도시한 블럭도,
도 3은 본 발명에 따른 노광방법의 일실시예를 도시한 블럭도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 노광장치 110 : 조명계
130 : 레티클 지지부 131 : 레티클
133 : 레티클 스테이지 150 : 광학계
170 : 웨이퍼 안착부 171 : 웨이퍼 스테이지
본 발명은 반도체 제조용 노광장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼(Wafer) 노광시 발생되는 에러(Error)를 최소화하도록 광학계 위치제어수단을 갖는 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법에 관한 것이다.
일반적으로 하나의 완전한 반도체 소자를 제작하기 위해서는 순수 실리콘 웨이퍼(Silicon wafer)를 가공 및 연마한 후, 그 실리콘 웨이퍼 상에 사진공정, 식각공정, 박막증착공정, 확산공정 등 여러가지 공정을 반복하여 소정 회로패턴(Pattern)을 갖는 박막을 복층으로 적층함으로써 제작된다.
이와 같은 공정 중에서 미리 설계된 회로패턴을 실리콘 웨이퍼 상에 찍는 공정을 사진공정이라고 하며, 이와 같은 사진공정은 크게 감광막 도포공정, 노광공정, 현상공정 등으로 이루어진다.
이때, 노광공정은 소정 광학계를 이용하여 레티클(Reticle)에 형성된 회로패턴을 감광막이 도포된 웨이퍼 상에 광학적으로 축소하여 전사시키는 공정으로, 스캐너(Scanner)와 같은 노광장치에 의해 수행되고 있다.
한편, 웨이퍼 상에 매우 정교한 회로를 가공하기 위해서는 레티클에 형성된 회로패턴이 웨이퍼 상의 각 타겟부{Target part,'샷(Shot)' 이라고도 칭함}에 매우 정확하게 전사되도록 노광장치를 계속 점검하고 보정하는 것이 매우 중요하다.
특히, 레티클에 형성된 회로패턴을 웨이퍼 상의 각 타겟부에 매우 빠르게 전사시켜나가는 노광장치의 경우에는 소정 광을 제공하는 조명계의 노광에 따라 웨이퍼가 안착된 웨이퍼 스테이지를 매우 빠르게 움직여야 하기 때문에 이 빠른 움직임에 따라 진동이 발생되어 통상 다이나믹 퍼포먼스 에러(Dynamic performance error)라 불리우는 전사 이미지불량을 초래할 수도 있으므로 이와 같은 정확한 회로패턴 전사의 점검 및 보정작업은 매우 중요하다.
따라서, 최근에는 이와 같은 다이나믹 퍼포먼스 에러를 감쇄시키기 위한 여 러가지 방법들이 제안 및 실시되고 있다.
예를 들면, 다이나믹 퍼포먼스 에러를 감쇄시키기 위한 방법에는 소정 진공상태를 유지하여 광학계 등을 발생되는 진동으로부터 차단하는 에이엠 컨트롤(AM control) 방법이나 진동에 따라 웨이퍼 스테이지에서 발생되는 오차성분을 레티클 스테이지에서 보정하는 레티클 보정방법 등이 있다. 이 경우, 진동에 따라 발생되는 다이나믹 퍼포먼스 에러는 이러한 방법들에 의하여 일정부분 감쇄되기 때문에 다이나믹 퍼포먼스 에러로 인해 발생되는 전사 이미지불량 또한 일정부분 개선된다.
그러나, 최근 전사 및 가공되고 있는 회로선폭은 110 나노(Nano) 이하로 점차 미세해지고 있기 때문에 이와 같은 방법만으로는 전사 이미지불량을 더욱 개선하지 못하고 결국 전사 이미지불량을 초래할 수 밖에 없는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로서, 본 발명의 목적은 다이나믹 퍼포먼스 에러를 최소화할 수 있는 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법을 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 제 1관점에 따르면, 웨이퍼에 주사되도록 소정 광을 제공하는 조명계와, 웨이퍼가 안착되며 조명계에서 광이 주사됨에 따라 웨이퍼를 움직여주도록 웨이퍼이동유닛을 구비한 웨이퍼 안착부와, 웨이퍼 안착부와 조명계의 사이에 마련되며 웨이퍼 측으로 주사되는 광을 소정패턴으로 패터닝하는 레티클과 웨이퍼이동유닛이 웨이퍼를 움직임에 따라 발생되는 레티클의 진동오차를 보정하는 레티클위치 보정유닛을 구비한 레티클 지지부와, 웨이퍼 안착부와 레티클 지지부의 사이에 마련되며 상기 패터닝된 광을 웨이퍼의 타겟부 상으로 투영시키는 광학계 및, 웨이퍼의 노광시 광학계의 움직임을 계측하고 광학계의 위치를 보정하도록 마련된 광학계 위치제어수단을 포함하는 반도체 제조용 노광장치가 제공된다.
여기서, 상기 광학계 위치제어수단은 소정 보정값에 따라 광학계의 위치를 보정하는 광학계위치 보정유닛 및, 웨이퍼이동유닛과 레티클위치 보정유닛에 각각 연결되어 광학계위치 보정유닛이 보정해야할 보정값을 연산하고 상기 연산된 값을 통해 광학계위치 보정유닛을 제어하는 제어유닛을 구비한다.
이때, 상기 제어유닛은 웨이퍼이동유닛과 레티클위치 보정유닛에 각각 연결되고 웨이퍼이동유닛의 움직임 데이타와 이 움직임 데이타에 따른 레티클위치 보정유닛의 보정 데이타를 미리 계산된 기준데이타와 비교하여 보정될 상기 광학계의 위치 보정값을 연산하는 데이타비교기와, 데이타비교기가 연산한 위치 보정값에 따라 광학계위치 보정유닛이 광학계의 위치를 보정하도록 광학계위치 보정유닛을 제어하는 유닛 제어기를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 광학계 위치제어수단은 광학계위치 보정유닛에 의해 보정되는 광학계의 움직임을 감지하는 광학계 감지센서를 더 구비할 수 있다. 이 경우, 상기 광학계 감지센서는 광학계의 외주면에 장착되어 광학계의 X방향 움직임과 Y방향 움직임을 각각 감지하는 적어도 2개이상의 지오폰 센서(Geophone sensor)일 수 있다.
또한, 상기 광학계위치 보정유닛은 광학계의 외주면에 장착되어 광학계의 X방향위치와 Y방향위치를 각각 보정하는 적어도 2개이상의 모터를 포함할 수 있다.
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한편, 본 발명의 제 2관점에 따르면, 조명계에서 제공하는 광을 소정 회로패턴이 형성된 레티클과 광학계를 경유시켜 웨이퍼의 타겟부로 주사함으로 웨이퍼를 노광하는 노광단계와, 조명계에서 제공하는 광이 웨이퍼의 전면적에 주사되도록 웨이퍼이동유닛을 이용하여 웨이퍼를 움직이는 웨이퍼 움직임단계와, 웨이퍼를 움직임에 따라 발생되는 레티클의 진동오차를 레티클위치 보정유닛을 이용하여 보정하는 레티클위치 보정단계와, 웨이퍼의 움직임 데이타와 레티클위치 보정 데이타를 통해 광학계의 위치 보정값을 연산하는 제1연산단계와, 제1연산단계에서 연산된 위치 보정값에 따라 광학계의 외주면에 장착된 광학계위치 보정유닛을 이용하여 광학계의 위치를 보정하는 광학계위치 보정단계를 포함하는 반도체 제조용 노광장치의 노광방법이 제공된다.
이때, 상기 노광방법은 상기 광학계위치 보정단계 후, 광학계의 움직임을 감지하는 광학계 감지센서를 이용하여 광학계위치 보정단계에 의해 보정된 광학계의 위치를 계측하는 광학계위치 계측단계를 더 포함할 수 있다.
그리고, 상기 노광방법은 상기 광학계위치 계측단계 후, 광학계위치 계측단계에서 계측한 광학계의 위치값과 제1연산단계에서 연산한 광학계의 위치 보정값을 상호 비교하여 상기 값들이 같을 경우는 광학계의 위치 보정을 종료하고, 상기 값들이 다를 경우는 광학계위치 보정단계에서 다시 광학계의 위치를 보정하도록 하는 데이타 비교단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 광학계위치 계측단계에서 계측한 광학계의 위치값과 제1연산단계에서 연산한 광학계의 위치 보정값이 상호 다를 경우, 상기 광학계위치 보정단계에서 광학계의 위치를 다시 보정할 수 있도록 광학계위치 계측단계에서 계측한 광학계의 위치값과 제1연산단계에서 연산한 광학계의 위치 보정값을 상호 비교하여 다시 새로운 위치보정값을 연산하는 제2연산단계를 더 포함할 수 있다.
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이하, 도면을 참조하여 본 발명 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법의 바람직한 일실시예를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 제조용 노광장치(100)는 웨이퍼(90)가 안착되는 웨이퍼 안착부(170), 웨이퍼(90)에 주사되도록 소정 광을 제공하는 조명계(110), 웨이퍼 안착부(170)와 조명계(110)의 사이에 마련되며 웨이퍼(90)로 주사되는 광을 소정패턴으로 패터닝하도록 레티클(131)을 구비한 레티클 지지부(130), 웨이퍼 안착부(170)와 레티클 지지부(130)의 사이에 마련되며 레티클(131)에 의해 패터닝된 광을 웨이퍼(90)의 타겟부 상으로 투영시키는 광학계(150), 웨이퍼(90)의 노광시 광학계(150)의 움직임을 계측하고 보정하도록 마련된 광학계 위치제어수단(160) 및, 노광장치(100)를 전반적으로 제어하는 중앙 제어부(미도시)를 포함한다.
보다 구체적으로 설명하면, 웨이퍼 안착부(170)는 웨이퍼(90)가 안착되도록 마련된 웨이퍼 스테이지(Wafer stage,171)와, 웨이퍼 스테이지(171)를 지지하는 웨이퍼 지지대(173) 및, 공정의 진행에 따라 웨이퍼(90)가 안착된 웨이퍼 스테이지(171)를 X방향 또는 Y방향 등으로 소정거리 움직여주는 웨이퍼이동유닛(175)으로 구성된다. 이때, 웨이퍼이동유닛(175)은 모터 등으로 구현될 수 있다. 구체적으로, 조명계(110)에서 제공되는 광은 웨이퍼(90) 상의 일부분 곧, 타겟부에만 주사되는 바, 웨이퍼이동유닛(175)은 이 조명계(110)에서 광이 제공됨에 따라 웨이퍼(90)를 X방향 또는 Y방향 등으로 소정거리만큼 움직여 이 제공되는 광이 웨이퍼(90) 상의 전면적에 주사되도록 하는 역할을 한다.
조명계(110)는 웨이퍼(90)의 상부에서 웨이퍼(90) 측으로 소정 광을 주사하는 역할을 하며, 소정파장의 광을 발산하는 광원부(111)와, 광원부(111)에서 발산된 광을 웨이퍼(90) 측으로 반사시켜주는 반사유닛(114)으로 구성된다. 이때, 광원부(111)의 광원으로는 248나노미터의 파장을 갖는 불화크립톤(KrF) 엑시머 레이저나 193나노미터의 파장을 갖는 불화아르곤(ArF) 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있고, 반사유닛(114)으로는 다수개의 미러(Mirror)를 사용할 수 있다.
레티클 지지부(130)는 조명계(110)에서 웨이퍼(90) 측으로 주사한 광이 경유하도록 조명계(110)와 웨이퍼 안착부(170)의 사이 곧, 웨이퍼 안착부(170)의 상부에 마련되며, 웨이퍼(90) 측으로 주사되는 광이 패터닝되도록 소정 회로패턴이 형성된 레티클(131)과, 이 레티클(131)이 안착되도록 마련된 레티클 스테이지(133) 와, 레티클 스테이지(133)를 지지하는 레티클 지지대(135) 및, 공정의 진행에 따라 레티클(131)이 안착된 레티클 스테이지(133)를 Y방향 등으로 미세하게 움직여주는 레티클위치 보정유닛(137)으로 구성된다.
구체적으로, 웨이퍼이동유닛(175)은 조명계(110)에서 제공하는 광이 웨이퍼(90) 상의 전면적에 주사되도록 웨이퍼(90)를 움직이는 역할을 하는 바, 웨이퍼이동유닛(175)의 상부에 배치된 레티클(131) 및 레티클 지지부(130)는 이 웨이퍼이동유닛(175)이 웨이퍼(90)를 움직임에 따라 발생되는 진동으로 인하여 미세하게 흔들리게 된다. 따라서, 레티클(131)은 원래 설치되어야할 위치(이하, '세트 포인트'라 칭함)에서 소정거리만큼 미세하게 움직일 수 있게 되는 바, 레티클위치 보정유닛(137)은 레티클(131)이 안착된 레티클 스테이지(133)를 Y방향 등으로 미세하게 움직임으로써 웨이퍼이동유닛(175) 등에서 발생되는 진동오차를 일정부분 보정하는 역할을 한다.
광학계(150)는 레티클(131)에 의해 소정패턴으로 패터닝된 광을 웨이퍼(90) 상의 타겟부 측으로 투영시키는 역할을 하며, 중공의 원통타입으로 형성된 경통(152)과 경통(152) 내부에 설치되는 다수개의 렌즈(153)로 구성된다. 이때, 렌즈(153)들에는 레티클(131)에 의해 패터닝된 광을 소정크기로 축소투영시켜주는 축소투영렌즈를 포함함이 바람직하다.
한편, 광학계 위치제어수단(160)은 소정보정값에 따라 광학계(150)의 위치를 보정하는 광학계위치 보정유닛(155)과, 광학계위치 보정유닛(155)에 의해 보정되는 광학계(150)의 움직임을 감지하도록 경통(152)의 외주면에 설치된 다수개의 광학계 감지센서(154) 및, 광학계위치 보정유닛(155)과 광학계 감지센서(154)에 각각 연결되어 광학계(150)의 움직임 등을 인지함과 아울러 광학계위치 보정유닛(155)이 보정해야할 보정값을 연산하고 이를 통해 광학계위치 보정유닛(155)을 제어하는 제어유닛(157)으로 구성된다.
구체적으로, 광학계위치 보정유닛(155)은 경통(152)의 외주면에 설치되어 경통(152)을 홀딩하는 경통클램프(156)와, 경통클램프(156)에 결합되어 경통(152)을 포함한 광학계(150) 전체의 위치를 보정하는 액튜에이터(Actuator)로 구성된다. 이때, 엑튜에이터는 광학계(150)의 X방향위치와 광학계(150)의 Y방향위치를 각각 보정하는 적어도 2개이상의 모터를 포함함이 바람직하다.
광학계 감지센서(154)는 경통(152)을 포함한 광학계(150) 전체의 움직임을 감지할 수 있는 센서로 설치됨이 바람직하다. 예를 들면, 광학계 감지센서(154)는 경통(152)의 외주면에 장착되어 광학계(150)의 X방향 움직임과 광학계(150)의 Y방향 움직임을 각각 감지하는 적어도 2개이상의 지오폰 센서로 설치됨이 바람직하다.
그리고, 제어유닛(157)은 웨이퍼이동유닛(175)과 레티클위치 보정유닛(137)에 각각 연결되되 웨이퍼이동유닛(175)의 움직임 데이타와 이에 따른 레티클위치 보정유닛(137)의 보정 데이타를 미리 계산된 기준데이타와 비교하여 보정될 광학계(150)의 위치보정값을 연산하는 데이타비교기(158)와, 이 데이타비교기(158)가 연산한 위치보정값에 따라 광학계위치 보정유닛(155)이 광학계(150)의 위치를 보정하도록 광학계위치 보정유닛(155)을 제어하는 유닛 제어기(159)를 포함한다. 이때, 데이타비교기(158)는 웨이퍼이동유닛(175)의 움직임 데이타와 레티클위치 보정유닛 (137)의 보정 데이타 외에 광학계위치 보정유닛(155)의 보정 데이타도 인지하여 이 보정 데이타가 미리 계산된 기준데이타와 일치하는지의 여부를 판단하는 역할도 수행한다. 따라서, 광학계위치 보정유닛(155)의 보정 데이타가 미리 계산된 기준데이타와 다를 경우, 데이타비교기(158)는 이 광학계위치 보정유닛(155)의 보정 데이타와 미리 계산된 기준데이타를 비교한 다음 새로 보정될 광학계(150)의 위치보정값을 다시 연산하게 된다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 이상과 같이 구성된 본 발명 반도체 제조용 노광장치(100)의 노광방법에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
먼저, 웨이퍼(90)와 레티클(131) 등이 마련되면, 조명계(110)는 웨이퍼(90) 상의 타겟부로 광이 주사되도록 소정 광을 노광한다(S10). 따라서, 조명계(110)에서 제공한 광은 레티클 스테이지(133)에 안착된 레티클(131)과 레티클(131)의 하부에 마련된 광학계(150)를 경유하여 웨이퍼(90) 상의 일 타겟부로 주사된다.
이후, 일 타겟부에 광이 주사되면, 웨이퍼이동유닛(175)은 일 타겟부에 이웃하는 타 타겟부들에도 광이 주사되도록 광이 주사됨에 따라 웨이퍼(90)를 X,Y 등의 방향으로 빠르게 움직이게 된다(S20). 이에, 웨이퍼(90) 상의 전면적에는 조명계(110)에서 제공한 광이 모두 주사되는 것이다.
한편, 이와 같은 노광공정시 웨이퍼이동유닛(175)의 빠른 움직임 및 이에 따른 진동에 의해 레티클(131)이 원래 설치되어야할 위치인 세트 포인트에서 소정거리만큼 미세하게 움직여지면, 중앙제어부는 이를 감지한 다음 소정 보정값을 연산하여 레티클위치 보정유닛(137)으로 소정 시그날을 전송하게 된다. 이에 레티클위 치 보정유닛(137)은 레티클(131)이 안착된 레티클 스테이지(133)를 소정방향으로 미세하게 움직임으로써 웨이퍼이동유닛(175) 등으로부터 발생되는 진동오차를 일정부분 보정하게 된다(S30).
그리고, 이와 같은 웨이퍼이동유닛(175)의 빠른 움직임에 의해 진동이 발생되면, 제어유닛(157)에 마련된 데이타비교기(158)는 웨이퍼이동유닛(175)의 움직임 데이타와 이에 따른 레티클위치 보정유닛(137)의 보정 데이타를 미리 계산된 기준데이타와 비교하여 보정될 광학계(150)의 위치보정값을 연산하게 된다(S40).
이후, 보정될 광학계(150)의 위치보정값이 연산되면, 데이타비교기(158)는 이 위치보정값을 유닛 제어기(159)로 전송하게 되고, 유닛 제어기(159)는 이러한 위치보정값에 따라 광학계위치 보정유닛(155)을 제어하게 된다. 따라서, 광학계위치 보정유닛(155)은 이 유닛 제어기(159)의 제어에 따라 광학계(150)의 위치를 보정하게 되는 것이다(S50).
이후, 광학계(150)의 위치가 보정되면, 광학계 감지센서(154)는 광학계(150)의 움직임을 감지하여 광학계위치 보정유닛(155)에 의해 보정된 광학계(150)의 위치를 계측하게 되고(S60), 이 계측된 데이타를 데이타비교기(158)에 다시 전송하게 된다. 이에 데이타비교기(158)는 이 광학계위치 보정유닛(155)의 보정 데이타와 미리 계산된 기준데이타를 비교하여 이 두 데이타가 일치하는지의 여부를 판단하게 된다(S70). 따라서, 이 비교한 데이타가 상호 일치할 경우, 광학계(150)의 보정은 잘 이루어졌기 때문에 노광장치(100)는 광학계(150)의 보정을 종료하고 노광을 계속 진행하게 된다.
그러나 만일, 이와 같은 비교 데이타가 상호 다를 경우, 데이타비교기(158)는 광학계위치 보정유닛(155)의 보정 데이타와 미리 계산된 기준데이타를 비교한 다음 새로 보정될 광학계(150)의 위치보정값을 다시 연산하게 된다(S80). 이에 유닛 제어기(159)는 이와 같이 다시 연산된 위치보정값에 따라 광학계위치 보정유닛(155)을 다시 제어하게 되는 바, 광학계위치 보정유닛(155)은 이 유닛 제어기(159)의 제어에 따라 광학계(150)의 위치를 다시 보정하게 되는 것이다(S50). 따라서, 광학계(150)의 위치는 이와 같은 작업들의 반복에 의해 매우 정확하게 보정되어지는 바, 웨이퍼이동유닛(175)으로부터 발생되는 진동오차는 모두 해소되는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조용 노광장치 및 이를 이용한 노광방법에 따르면, 웨이퍼이동유닛의 빠른 움직임 등으로 인한 진동오차가 광학계의 위치보정 등으로 인해 모두 해소될 수 있기 때문에 이 진동에 따라 발생되는 다이나믹 퍼포먼스 에러도 모두 감쇄되거나 최소화된다. 따라서, 본 발명에 따르면, 종래 다이나믹 퍼포먼스 에러로 인해 발생되는 전사 이미지불량을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이상, 본 발명은 도시된 특정실시예를 참고로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 그러므로 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구의 범위와 이와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

Claims (16)

  1. 웨이퍼에 주사되도록 소정 광을 제공하는 조명계;
    상기 웨이퍼가 안착되며, 상기 조명계에서 광이 주사됨에 따라 상기 웨이퍼를 움직여주도록 웨이퍼이동유닛을 구비한 웨이퍼 안착부;
    상기 웨이퍼 안착부와 상기 조명계의 사이에 마련되며, 상기 웨이퍼 측으로 주사되는 광을 소정패턴으로 패터닝하는 레티클과 상기 웨이퍼이동유닛이 상기 웨이퍼를 움직임에 따라 발생되는 상기 레티클의 진동오차를 보정하는 레티클위치 보정유닛을 구비한 레티클 지지부;
    상기 웨이퍼 안착부와 상기 레티클 지지부의 사이에 마련되며, 상기 패터닝된 광을 상기 웨이퍼의 타겟부 상으로 투영시키는 광학계; 및,
    상기 웨이퍼의 노광시 상기 광학계의 움직임을 계측하고 상기 광학계의 위치를 보정하도록 마련된 광학계 위치제어수단을 포함하되,
    상기 광학계 위치제어수단은 소정 보정값에 따라 상기 광학계의 위치를 보정하는 광학계위치 보정유닛 및, 상기 웨이퍼이동유닛과 상기 레티클위치 보정유닛에 각각 연결되어 상기 광학계위치 보정유닛이 보정해야할 보정값을 연산하고 상기 연산된 값을 통해 상기 광학계위치 보정유닛을 제어하는 제어유닛을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1항에 있어서, 상기 제어유닛은
    상기 웨이퍼이동유닛과 상기 레티클위치 보정유닛에 각각 연결되고 상기 웨이퍼이동유닛의 움직임 데이타와 상기 움직임 데이타에 따른 상기 레티클위치 보정유닛의 보정 데이타를 미리 계산된 기준데이타와 비교하여 보정될 상기 광학계의 위치 보정값을 연산하는 데이타비교기와, 상기 데이타비교기가 연산한 위치 보정값에 따라 상기 광학계위치 보정유닛이 상기 광학계의 위치를 보정하도록 상기 광학계위치 보정유닛을 제어하는 유닛 제어기를 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 광학계 위치제어수단은
    상기 광학계위치 보정유닛에 의해 보정되는 상기 광학계의 움직임을 감지하는 광학계 감지센서를 더 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치.
  9. 제 1항에 있어서, 상기 광학계위치 보정유닛은 상기 광학계의 외주면에 장착되어 상기 광학계의 X방향위치와 Y방향위치를 각각 보정하는 적어도 2개이상의 모터를 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치.
  10. 제 8항에 있어서, 상기 광학계 감지센서는 상기 광학계의 외주면에 장착되어 상기 광학계의 X방향 움직임과 Y방향 움직임을 각각 감지하는 적어도 2개이상의 지오폰 센서인 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치
  11. 조명계에서 제공하는 광을 소정 회로패턴이 형성된 레티클과 광학계를 경유시켜 웨이퍼의 타겟부로 주사함으로 상기 웨이퍼를 노광하는 노광단계;
    상기 조명계에서 제공하는 광이 상기 웨이퍼의 전면적에 주사되도록 웨이퍼이동유닛을 이용하여 상기 웨이퍼를 움직이는 웨이퍼 움직임단계;
    상기 웨이퍼를 움직임에 따라 발생되는 상기 레티클의 진동오차를 레티클위치 보정유닛을 이용하여 보정하는 레티클위치 보정단계;
    상기 웨이퍼의 움직임 데이타와 상기 레티클위치 보정 데이타를 통해 상기 광학계의 위치 보정값을 연산하는 제1연산단계;
    상기 제1연산단계에서 연산된 위치 보정값에 따라 상기 광학계의 외주면에 장착된 광학계위치 보정유닛을 이용하여 상기 광학계의 위치를 보정하는 광학계위치 보정단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치의 노광방법.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 제 11항에 있어서, 상기 광학계위치 보정단계 후, 상기 광학계의 움직임을 감지하는 광학계 감지센서를 이용하여 상기 광학계위치 보정단계에 의해 보정된 상기 광학계의 위치를 계측하는 광학계위치 계측단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치의 노광방법.
  15. 제 14항에 있어서, 상기 광학계위치 계측단계 후, 상기 광학계위치 계측단계에서 계측한 상기 광학계의 위치값과 상기 제1연산단계에서 연산한 상기 광학계의 위치 보정값을 상호 비교하여 상기 값들이 같을 경우는 상기 광학계의 위치 보정을 종료하고, 상기 값들이 다를 경우는 상기 광학계위치 보정단계에서 다시 상기 광학계의 위치를 보정하도록 하는 데이타 비교단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치의 노광방법.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 광학계위치 계측단계에서 계측한 상기 광학계의 위치값과 상기 제1연산단계에서 연산한 상기 광학계의 위치 보정값이 상호 다를 경우, 상기 광학계위치 보정단계에서 상기 광학계의 위치를 다시 보정할 수 있도록 상기 광학계위치 계측단계에서 계측한 상기 광학계의 위치값과 상기 제1연산단계에서 연산한 상기 광학계의 위치 보정값을 상호 비교하여 다시 새로운 위치보정값을 연산하는 제2연산단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 노광장치의 노광방법.
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