CN115616868A - 曝光装置和制造物品的方法 - Google Patents
曝光装置和制造物品的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115616868A CN115616868A CN202210823560.1A CN202210823560A CN115616868A CN 115616868 A CN115616868 A CN 115616868A CN 202210823560 A CN202210823560 A CN 202210823560A CN 115616868 A CN115616868 A CN 115616868A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- section
- stage
- substrate
- drive
- constant acceleration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
本公开涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置,用于对基板中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光,包括:载物台,被配置为保持基板;驱动器,被配置为驱动载物台;以及控制器,被配置为在根据驱动曲线来控制驱动器的同时控制对多个拍摄区域中的每个拍摄区域的扫描曝光,其中驱动曲线包括其中载物台在第一方向上以恒定加速度被驱动的第一区段、其中载物台在与第一方向相反的第二方向上以恒定加速度被驱动的第二区段,以及连接第一区段和第二区段的连接区段,并且其中执行扫描曝光的时段包括连接区段的至少一部分。
Description
技术领域
本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。
背景技术
作为在半导体器件等的制造过程中使用的光刻装置,已知一种曝光装置(所谓的扫描曝光装置),其经由投影光学系统在相对扫描原件和基板的同时对基板进行曝光,从而将原件的图案转移到基板上。这种曝光装置一般在以恒定速度移动基板的同时执行基板的扫描曝光。但是,为了提高吞吐量(生产率),期望在使基板加速和/或减速的同时执行基板的扫描曝光。日本专利No.5406861提出了一种技术,该技术在根据由正弦波形成的加速度曲线(profile)移动基板的同时,在基板的加速度和速度中的每一个作为正弦波改变的区段中对基板进行曝光。另外,日本专利公开No.2010-16166提出了一种在恒定加速度期间(即,在速度线性改变的区段中)对基板进行曝光的技术。
在日本专利No.5406861和日本专利公开No.2010-16166中的每一个中描述的基板的加速度曲线被应用于扫描曝光装置的情况下,可以在基板的扫描曝光期间降低基板的定位误差,但在诸如以更短时间执行扫描曝光之类的吞吐量方面仍有改善的余地。
发明内容
本发明例如提供了一种曝光装置,该曝光装置可以在扫描曝光期间在降低基板的定位误差的同时提高吞吐量。
根据本发明的一个方面,提供了一种曝光装置,用于对基板中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光,包括:载物台,被配置为保持基板;驱动器,被配置为驱动载物台;以及控制器,被配置为在根据用于驱动载物台的驱动曲线来控制驱动器的同时控制对多个拍摄区域中的每个拍摄区域的扫描曝光,其中驱动曲线包括其中载物台在第一方向上以恒定加速度被驱动的第一恒定加速度区段、其中载物台在与第一方向相反的第二方向上以恒定加速度被驱动的第二恒定加速度区段,以及连接第一恒定加速度区段和第二恒定加速度区段使得载物台的加速度连续改变的连接区段,并且其中执行扫描曝光的时段包括连接区段的至少一部分。
本发明的其它特征将通过以下参考附图对示例性实施例的描述而变得清楚。
附图说明
图1是示出曝光装置的布置的示意图;
图2是示出基板载物台的移动的轨迹的示例的视图;
图3是示出第一实施例(示例1)的驱动曲线的视图;
图4是示意性地示出基板载物台和光源的控制系统的框图;
图5是示出最短时间驱动曲线的视图;
图6是示出连接区段的比率与载物台驱动时间之间的关系的视图;
图7是示出通过将示例1的驱动曲线与相关技术的驱动曲线重叠和比较而获得的结果的视图;
图8是示出第一实施例(示例2)的驱动曲线的视图;
图9是示出第一实施例(示例3)的驱动曲线的视图;
图10是示出第二实施例的驱动曲线的视图;以及
图11是示出相关技术的驱动曲线的视图。
具体实施方式
在下文中,将参考附图详细描述实施例。注意的是,以下实施例并非旨在限制要求保护的发明的范围。在实施例中描述了多个特征,但是并不限制发明要求所有此类特征,并且可以适当地组合多个此类特征。此外,在附图中,相同的附图标记被赋予相同或相似的配置,并且省略对其的重复描述。
<第一实施例>
将描述根据本发明的第一实施例。在说明书和附图中,将在其中水平表面被定义为X-Y平面的XYZ坐标系上指示方向。一般而言,用作曝光目标基板的基板S放置在基板载物台上,使得基板S的表面变得与水平表面(X-Y平面)平行。因而,在以下的描述中,将沿着基板S的表面的平面中彼此正交的两个方向定义为X轴方向和Y轴方向,并将与X轴方向和Y轴方向正交的方向定义为Z轴方向。在以下描述中,“X轴方向”可以被定义为包括+X方向和-X方向。这也适用于“Y轴方向”和“Z轴方向”。注意的是,在这个实施例中,相对扫描原件M和基板S的方向(扫描方向)被定义为Y轴方向(+Y方向或-Y方向)。
图1是示出这个实施例的曝光装置10的布置的示意图。曝光装置10可以包括光源11、照明光学系统12、原件保持机构13、投影光学系统14和基板保持机构15。曝光装置10还可以包括第一检测器16、第二检测器17和控制器18。控制器18由包括诸如CPU(中央处理单元)之类的处理器、存储器等的计算机构成,并控制曝光装置10的相应单元。即,控制器18控制在相对扫描原件M(例如,掩模版或掩模)和基板S(例如,晶片或玻璃板)的同时将形成在原件M上的图案转印到基板S上的过程,即,基板S的扫描曝光。注意的是,在这个实施例中,光源11被提供为曝光装置10的组件,但光源11可以不是曝光装置10的组件。
照明光学系统12通过使用光屏蔽构件(诸如照明光学系统12中包括的遮蔽叶片)将从诸如准分子激光器之类的光源11发射的光整形为在X轴方向上长的例如带状(band-like)或弓形(arcuate)的曝光光(狭缝状(slit-shaped)光),并用曝光光照亮原件M的一部分。原件M和基板S分别由原件保持机构13和基板保持机构15保持,并经由投影光学系统14布置在光学共轭位置(投影光学系统14的物平面和像平面)。投影光学系统14具有预定的投影倍率,并通过使用曝光光将形成在原件M上的图案投影到基板上。
原件保持机构13可以包括例如使用真空力、静电力等保持原件M的原件载物台13a、以及驱动原件载物台13a(原件M)的原件驱动单元(驱动器)13b。原件驱动单元13b包括例如诸如线性马达之类的致动器,并且可以被配置为在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向和围绕相应轴的旋转方向上驱动原件载物台13a(原件M)。因而,原件驱动单元13b可以在基板S的扫描曝光期间在作为扫描方向的Y轴方向(+Y方向或-Y方向)上驱动原件载物台13a(原件M)。原件载物台13a的位置可以被第一检测器16检测到。第一检测器16包括例如激光干涉仪。第一检测器16可以朝着在原件载物台13a上设置的反射器13c发射激光束,并使用由反射器13c反射的激光束来检测原件载物台13a的位置。注意的是,在这个实施例的第一检测器16中使用激光干涉仪,但本发明不限于此,并且例如可以使用编码器。
基板保持机构15可以包括例如使用真空力、静电力等保持基板S的基板载物台15a,以及驱动基板载物台15a(基板S)的基板驱动单元15b。基板驱动单元15b包括例如诸如线性马达之类的致动器,并且可以在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向和围绕相应轴的旋转方向上驱动基板载物台15a(基板S)。因而,基板驱动单元15b可以在基板S的扫描曝光期间在作为扫描方向的Y轴方向(+Y方向或-Y方向)上驱动基板载物台15a(基板S)。基板载物台15a的位置可以被第二检测器17检测到。第二检测器17包括例如激光干涉仪。第二检测器17可以朝着在基板载物台15a上设置的反射器15c发射激光束,并使用由反射器15c反射的激光束来检测基板载物台15a的位置。注意的是,在这个实施例的第二检测器17中使用激光干涉仪,但本发明不限于此,并且例如可以使用编码器。
在如上所述配置的曝光装置10中,在基板S的扫描曝光期间,原件驱动单元13b和基板驱动单元15b以与投影光学系统14的投影倍率相匹配的速度比在Y轴方向上相对扫描原件载物台13a和基板载物台15a。由此,可以将原件M上的图案转印到基板S的拍摄区域(更具体而言,拍摄区域上的抗蚀剂(感光材料))上。通过针对基板S中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域依次重复如上所述的扫描曝光,可以完成对一个基板S的曝光过程。
图2是示出随着投影光学系统14相对于基板S的相对移动的基板载物台15a的移动的轨迹的示例的视图。图2示出了基板S中的多个拍摄区域的阵列(拍摄布局)。在图2中所示的示例中,基板S包括64个拍摄区域。各个拍摄区域中的数字指示该拍摄区域的计数(曝光次序),并且各个拍摄区域中的箭头指示在各个拍摄区域的扫描曝光期间基板载物台15a(基板S)的扫描方向。虚线示意性地指示在执行基板载物台15a在拍摄区域当中的步进移动时的移动方向。例如,着眼于第一拍摄区域和第二拍摄区域,在沿-Y方向扫描基板载物台15a的同时对第一拍摄区域执行扫描曝光之后,在开始第二拍摄区域的曝光之前执行基板载物台15a在-X方向上的步进移动。然后,在完成步进移动之后,在沿+Y方向扫描基板载物台15a(基板S)的同时执行第二拍摄区域的扫描曝光。
在此,作为常规的曝光技术,如图11中所示,可以使用这样的技术,其中在根据由正弦波形成的加速度曲线移动基板的同时,在其中基板的加速度和速度中的每一个都作为正弦波改变的区段中对基板进行曝光。这种技术有时被称为正弦波曝光,并且在提高吞吐量(生产率)方面是有利的。但是,在常规的曝光技术(正弦波曝光)中,虽然可以降低基板在基板的扫描曝光期间的定位误差,但在诸如以更短时间执行扫描曝光之类的吞吐量方面仍有改善的余地。
这个实施例的曝光装置10在根据用于在Y轴方向上驱动基板载物台15a的驱动曲线来控制基板驱动单元15b的同时控制基板S中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域上的扫描曝光。这个驱动曲线可以被形成(设置)为能够在降低基板S的定位误差的同时提高吞吐量。下面将描述应用于这个实施例的曝光装置10的驱动曲线的配置示例。注意的是,驱动曲线可以被理解为包括加速度曲线、速度曲线和位置曲线。
[示例1]
将描述应用于这个实施例的曝光装置10的驱动曲线的示例1。图3是示出在这个实施例的曝光装置10中用于控制基板载物台15a沿Y轴方向的驱动的驱动曲线的示例的视图。图3仅示出了对基板S的多个拍摄区域的扫描曝光中使用的驱动曲线的一部分。在图3中,指示基板载物台15a的加速度的随时间转变的加速度曲线在上段中示出,并且指示基板载物台15a的速度的随时间转变的速度曲线在下段中示出。注意的是,下面将描述基板载物台15a的驱动曲线,但是类似的配置可以应用于原件载物台13a的驱动曲线。
图3中所示的驱动曲线(加速度曲线)由第一恒定加速度区段2A、第二恒定加速度区段2B和连接它们的连接区段1形成。在包括连接区段1的至少一部分的时段中执行一个拍摄区域的扫描曝光。
第一恒定加速度区段2A是其中基板载物台15a以恒定加速度在第一方向上被驱动的区段。第二恒定加速度区段2B是其中基板载物台15a以恒定加速度在与第一方向相反的第二方向上被驱动的区段。第一方向是+Y方向和-Y方向之一,并且第二方向是+Y方向和-Y方向中的另一个。从提高吞吐量的观点出发,可以将基板载物台15a在第一恒定加速度区段2A和/或第二恒定加速度区段2B中的加速度的绝对值设置为基板驱动单元15b可以驱动基板载物台15a的最大加速度Acc_max。
连接单元1是在驱动加速度方向彼此不同的第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B之间设置的区段,并且连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B使得基板载物台15a的加速度连续且平滑地(逐渐地)改变。在图3中所示的示例中,当从第一恒定加速度区段2A连接到第二恒定加速度区段2B时,连接区段1是加速度单调改变(减小)的区段,使得加速度的斜率(导数系数)变为负。当从第二恒定加速度区段2B连接到第一恒定加速度区段2A时,连接区段1是加速度单调改变(增加)的区段,使得加速度的斜率(导数系数)变为正。连接区段1可以被理解为用弧线连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B以便不包括基板载物台15a以恒定速度移动的时段(恒定速度时段)的区段。另外,连接区段1可以被形成为以连接区段1的中心点为对称点的点对称弯曲形状。在示例1中,连接区段1可以被形成为使得基板载物台15a的加速度以正弦波形状改变。包括这种连接区段1的驱动曲线(加速度曲线)在其整个范围内由可微分弧线形成。因此,当根据这个驱动曲线来驱动基板载物台15a时,加速度的急剧改变被抑制,并且可以减少扫描曝光期间基板载物台15a的定位误差。
为了使得能够以高准确性定位基板载物台15a,可以将连接区段1中的加速度的波形(正弦波)的频率设置为等于或低于通过基板驱动单元15b驱动基板载物台15a的控制系统的带宽的频率。由此,获得促进基板载物台15a的定位控制的驱动曲线。因此,可以将在加速度在第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B之间急剧改变时会发生的基板载物台15a的定位误差抑制到最小。即,可以在加速/减速期间以高准确性实现扫描曝光。
在此,示例1中的连接区段1中的驱动曲线(加速度曲线)不限于单个正弦波,并且可以由多个正弦波形成。另外,连接区段1中的驱动曲线可以通过重叠具有不同频率的多个正弦波来形成,或者可以通过连接以时间间隔划分的多个正弦波来形成。而且在这种情况下,多个正弦波中的每个正弦波的频率可以等于或低于基板载物台15a的控制系统的带宽。从提高基板载物台15a的定位准确性的观点出发,期望第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B通过连接区段1连续且平滑地连接,以使驱动曲线在整个范围中可微分。
在示例1中,在连接区段1中执行一个拍摄区域的扫描曝光,并且在第一恒定加速度区段2A或第二恒定加速度区段2B中执行基板载物台15a在拍摄区域之间在X轴方向上的步进移动。如以上参考图2已经描述的,在曝光装置10中,重复执行操作,其中在沿Y轴方向扫描基板载物台15a的同时执行拍摄区域的扫描曝光之后,执行沿X轴方向到相邻的下一个拍摄区域的步进移动,并且执行下一个拍摄区域的扫描曝光。因此,图3中所示的示例1的驱动曲线是其中连接区段1和恒定加速度区段(2A或2B)交替且重复排列的曲线,从而可以对基板S中的多个拍摄区域连续执行扫描曝光。
在示例1中,在连接区段1中执行拍摄区域的扫描曝光,其中基板载物台15a的加速度以正弦波形状改变。因而,扫描曝光期间基板载物台15a的速度也以正弦波形状改变,并且曝光时间(即,曝光量)会针对扫描方向上在拍摄区域中的每个位置相应地改变。因此,为了使拍摄区域中的曝光量恒定(均匀),可以根据基板载物台15a的速度来改变基板S的照度(即,施加到基板S的光的强度)。例如,通过调整光源11使得基板S的照度根据基板载物台15a的速度而改变,可以使拍摄区域中的曝光量恒定(均匀)。更具体而言,当基板载物台15a的速度高时,可以调整光源11以减小基板S的照度。当基板载物台15a的速度低时,可以调整光源11以增加基板S的照度。
图4是示意性地示出基板载物台15a和光源11的控制系统的框图。控制器18可以包括输出上述驱动曲线的输出单元18a、控制基板载物台15a的驱动的载物台控制器18b,以及控制基板S的曝光量的曝光控制器18c。在此,输出单元18a可以被配置为获取由曝光装置10的外部计算机生成的驱动曲线,或者可以被配置为基于指示基板S中的多个拍摄区域的阵列和尺寸的信息来生成驱动曲线。
载物台控制器18b基于从输出单元18a输出的驱动曲线来控制基板载物台15a的驱动。载物台控制器18b包括例如PID补偿器,并且基于驱动曲线中基板载物台15a的目标位置与由第二检测器17检测到的基板载物台15a的当前位置之间的偏差来计算用于驱动基板载物台15a的驱动指令值。然后,计算出的驱动指令值被供应给基板驱动单元15b。因此,载物台控制器18b可以根据驱动曲线来控制基板载物台15a的驱动。此外,载物台控制器18b可以基于基板载物台15a的当前位置与目标位置之间的偏差来获得基板载物台15a的控制误差。基板载物台15a的控制误差可以被理解为基板载物台15a的控制偏差,并且可以包括例如基板载物台15a的速度偏差和/或加速度偏差。
曝光控制器18c基于从输出单元18a输出的驱动曲线中的基板载物台15a的目标速度来控制光源11的输出(即,从光源11发射的光的强度),使得基板S的曝光量变成目标曝光量。当执行光源11的PWM(脉冲宽度调制)控制时,曝光控制器18c可以控制供应给光源11的脉冲串的宽度和间隔。此外,曝光控制单元18c可以基于通过由传感器等检测被施加到基板S的光的强度而获得的结果来对光源11的输出执行反馈控制。另外,曝光控制器18c可以从载物台控制器18b获取关于基板载物台15a的控制误差(例如,速度偏差或加速度偏差)的信息,并基于该信息调整光源11的输出以跟随基板载物台15a的实际速度或加速度。
接下来,将描述在应用示例1中的基板载物台15a的驱动曲线时的效果的验证结果。例如,在日本专利No.5406861中描述的相关技术中,如图11中所示,在根据其中加速度一般以正弦波形状改变的驱动曲线来驱动基板载物台的同时,执行多个拍摄区域的扫描曝光。即,在相关技术的驱动曲线中,不存在与示例1的驱动曲线中的第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B对应的区段。此外,在相关技术的驱动曲线中,最高优先级是降低基板载物台的定位误差,而用于对多个拍摄区域执行扫描曝光的顺序驱动曲线一般能够以具有低于基板载物台控制系统的带宽的频率的正弦波形状形成。相关技术的这种驱动曲线可以降低基板载物台的定位误差,但仍有进一步降低吞吐量的空间。
另一方面,图5示出了为最大程度地提高理论上的吞吐量而形成的驱动曲线(下文中有时称为最短时间驱动曲线)。图5中所示的最短时间驱动曲线包括其中基板载物台15a的加速度恒定的第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B,但连接区段1的时间宽度被设置为最小。第一恒定加速度区段2A和/或第二恒定加速度区段2B中的基板载物台15a的加速度的绝对值被设置成基板驱动单元15b可以驱动基板载物台15a的最大加速度Acc_max。如上所述的最短时间驱动曲线是矩形波曲线,被形成为使得第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B阶梯式地切换,并且基板载物台15a的加速度在连接区段1中不会连续且平滑地改变。因此,当使用最短时间驱动曲线来控制基板载物台15a的驱动时,可以提高吞吐量,但基板载物台15a的定位误差增加。总之,吞吐量的提高与基板载物台15a的定位误差具有折衷关系。即,存在这种倾向,随着连接区段1的时间宽度增加,吞吐量减小,而随着连接区段1的时间宽度减小,定位误差增加。
将图5中所示的最短时间驱动曲线与图11中所示的相关技术的驱动曲线进行比较,在相关技术的驱动曲线(图11)中,几乎没有以加速度的绝对值为最大加速度Acc_max来驱动基板载物台的区段。通过计算针对图5中所示的驱动曲线和图11中所示的驱动曲线中的每个执行一个拍摄区域的扫描曝光所需的基板载物台15a的驱动时间,发现相关技术的驱动曲线要求最短时间驱动曲线的驱动时间的大约1.57倍。注意的是,在下文中有时将执行一个拍摄区域的扫描曝光所需的基板载物台15a的驱动时间称为“载物台驱动时间”。
图6示出了连接区段1(正弦波区段)的比率与载物台驱动时间之间的关系。连接区段1的比率可以被定义为连接区段1的时间与一个恒定加速度区段(第一恒定加速度区段2A或第二恒定加速度区段2B)和一个连接区段1的总时间的比率。当根据图5中所示的最短时间驱动曲线来驱动基板载物台15a时,连接区段1的比率为0%。这种情况下的载物台驱动时间被定义为T。另一方面,当基板载物台15a根据图11中所示的相关技术的驱动曲线被驱动时,连接区段1的比率为100%,并且载物台驱动时间为1.57T。即,根据图6中所示的关系,发现随着连接区段1的比率增加,载物台驱动时间增加并且吞吐量减小。
另一方面,当如图5中所示的最短时间驱动曲线中那样连接区段1的比率为0%时,基板载物台15a的控制不能跟随加速度的改变,因此基板载物台15a的定位误差会增加。一般而言,曝光装置中使用的基板载物台难以跟随频率为300Hz或更大的驱动曲线。由于图5中所示的矩形波驱动曲线在连接区段1中包括高频分量,因此很可能出现大的定位误差。此外,弧线可以被分解成三角级数(傅立叶级数),并且已知驱动曲线的弧线中包括的三角级数的频率越低,基板载物台15a的控制跟随性越高。矩形波理论上由无限多个各自具有无限高频率的正弦波形成,并且连接区段1与恒定加速度区段(第一恒定加速度区段2A或第二恒定加速度区段2B)的连接点处于不可微分状态。出于这些原因,发现当使用图5中所示的最短时间驱动曲线时,很可能发生基板载物台15a的定位误差。因此,连接区段1可以被形成为使得,当连接区段1被分解成三角级数(傅立叶级数)时,三角级数的频率等于或低于基板载物台15a的控制系统的带宽。这种配置也可以应用于示例1的驱动曲线(图3)。
如从上述验证结果可以看出的,在示例1的驱动曲线(图3)中,通过提供第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B,实现了吞吐量的提高。此外,通过形成连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B的连接区段1以使得基板载物台15a的加速度连续改变,实现了基板载物台15a的定位误差的降低。即,通过使用示例1的驱动曲线,可以实现载物台驱动时间的缩短(提高吞吐量)和基板载物台15a的定位误差的降低。
在此,在示例1的驱动曲线中,连接区段1的比率被设置为大于0%且小于100%的值,优选地大于15%且小于85%的值,并且更优选地大于30%且小于70%的值。另外,第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B中的每一个可以被设置为相对于非曝光时段的至少1/10或更多(可替代地,1/5或更多,或者1/2或更多)。非曝光时段是扫描曝光和下一次扫描曝光之间的时段。非曝光时段可以被理解为其中未对基板S进行曝光的时段,即,其中来自投影光学系统14的光未被应用于基板S的时段。
图7示出了通过重叠和比较图3中所示的示例1的驱动曲线和图11中所示的相关技术的驱动曲线而获得的结果。在图7中,加速度曲线在上段中示出,速度曲线在中间段示出,并且位置曲线在下段中示出。在图7中,实线指示示例1的驱动曲线,并且虚线指示相关技术的驱动曲线。另外,在图7中,示例1的驱动曲线(实线)的最大加速度Acc_max等于相关技术的驱动曲线(虚线)的最大加速度Acc_max。如从图7可以看出的,示例1的驱动曲线(实线)的周期比相关技术的驱动曲线(虚线)的周期短。即,在使用示例1的驱动曲线(实线)的情况下,与使用相关技术的驱动曲线(虚线)的情况相比,可以提高在一个拍摄区域的扫描曝光中基板载物台15a的速度,并因此提高吞吐量。
[示例2]
将描述应用于这个实施例的曝光装置10的驱动曲线的示例2。示例2基本上继承了示例1中描述的内容,并且下文将要描述的内容以外的其它事项遵循示例1中描述的内容。
如上面已经描述的,在这个实施例的驱动曲线中,还可以根据载物台驱动时间的缩短与定位误差的降低之间的平衡(比率)来调整连接区段1的时间宽度。例如,当优先要缩短载物台驱动时间时,可以调整时间宽度的设定参数以减小连接区段1的时间宽度。当优先要降低定位误差时,可以调整时间宽度的设定参数,以增加连接区段1的时间宽度。在示例2中,将描述与示例1相比优先要降低基板载物台15a的定位误差并增加了连接区段1的时间宽度的示例。
图8是示出这个实施例的曝光装置10中用于控制基板载物台15a沿Y轴方向的驱动的驱动曲线的示例的视图。图8仅示出了在对基板S的多个拍摄区域的扫描曝光中使用的驱动曲线的一部分。另外,在图8中,加速度曲线在上段中示出,并且速度曲线在下段中示出。
在图8中所示的示例2的驱动曲线中,与图3中所示的示例1的驱动曲线相比,连接区段1的时间宽度大,并且在连接区段1的部分时段中执行一个拍摄区域的扫描曝光。在如上所述的示例2的驱动曲线(图8)中,与示例1的驱动曲线(图3)相比,由于载物台驱动时间较长,因此吞吐量降低,但与相关技术的驱动曲线(图11)相比,吞吐量可以提高。此外,在示例2的驱动曲线中,与示例1的驱动曲线相比,基板载物台15a的控制跟随性能够提高,因此示例2的驱动曲线能够对于降低基板载物台15a的定位误差是有利的。因此,在曝光装置10中,当叠加准确性比生产率更重要时,应用示例2的驱动曲线是有效的。
[示例3]
将描述应用于这个实施例的曝光装置10的驱动曲线的示例3。示例3基本上继承了示例1、示例2中描述的内容,并且以下要描述的内容以外的事项遵循示例1、示例2中描述的内容。在示例3中,将描述其中优先要提高吞吐量(缩短载物台驱动时间)以便与示例1相比减小连接区段1的时间宽度的示例。
图9是示出在这个实施例的曝光装置10中用于控制基板载物台15a沿Y轴方向的驱动的驱动曲线的示例的视图。图9仅示出了在对基板S的多个拍摄区域的扫描曝光中使用的驱动曲线的一部分。另外,在图9中,加速度曲线在上段中示出,并且速度曲线在下段中示出。
在图9中所示的示例3的驱动曲线中,与图3中所示的示例1的驱动曲线相比,连接区段1的时间宽度小,并且在包括连接区段1作为一部分的时段中执行一个拍摄区域的扫描曝光。更具体而言,在包括连接区段1、与连接区段1连续的第一恒定加速度区段2A的一部分以及与连接区段1连续的第二恒定加速度区段2B的一部分的时段中执行一个拍摄区域的扫描曝光。由此,扫描曝光期间基板载物台15a的速度改变变为通过将直线与正弦波组合而获得的波形。因此,虽然要求根据速度改变对光源11进行输出控制,但与示例1的驱动曲线(图3)相比,可以减小连接区段1的比率(即,可以缩短载物台驱动时间)并且可以提高吞吐量。另一方面,在示例3的驱动曲线(图9)中,与示例1的驱动曲线(图3)相比,形成连接区段1的正弦波的周期减小,因此基板载物台15a的控制跟随性减小,并且可能发生基板载物台15a的定位误差。因此,在曝光装置10中,当生产率比叠加准确性更重要时,应用示例3的驱动曲线是有效的。
<第二实施例>
将描述根据本发明的第二实施例。在第一实施例中,已经描述了其中驱动曲线的连接区段1被形成为正弦波形状的示例。在第二实施例中,将描述其中连接区段1被形成为除正弦波形状以外的形状的示例。注意的是,第二实施例基本上继承了第一实施例,并且将在下面描述的内容以外的事项遵循在第一实施例中描述的内容。
图10是示出在曝光装置10中用于控制基板载物台15a沿Y轴方向的驱动的驱动曲线的示例的视图。在图10中所示的这个实施例的驱动曲线中,在第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B之间提供有连接区段1,并且连接区段1形成为由四次多项式表达的弯曲形状,使得基板载物台15a的加速度连续且平滑地改变。在连接区段1中,当从第一恒定加速度区段2A连接到第二恒定加速度区段2B时,加速度单调改变(减小),使得加速度的斜率(导数系数)变为负。另外,在连接区段1中,当从第二恒定加速度区段2B连接到第一恒定加速度区段2A时,加速度单调改变(增加),使得加速度的斜率变为正。连接区段1可以被理解为用弧线连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B以便不包括基板载物台15a以恒定速度移动的时段(恒定速度时段)的区段。即,在连接区段1中,加速度可以瞬间变为0,但加速度持续为0的时段(即,加速度为0且加速度的导数系数也为0的时段)不包括。在如上所述的驱动曲线中,由于连接区段1的弧线由低频三角级数形成,因此基板载物台15a的控制跟随性高,并且可以降低定位误差。此外,由于提供了第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B,因此还可以实现吞吐量的提高。即,可以同时实现吞吐量的提高和定位误差的降低二者。
在此,在这个实施例中已经描述了连接区段1被形成为由四次多项式表达的弯曲形状的示例,但本发明不限于此。连接区段1可以被形成为由三次多项式或五次或更高次多项式表达的弯曲形状。而且在这种情况下,期望连接区段1由连续且平滑地连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B的弧线形成,并且加速度在该区段内单调增加或单调减小。只要可以在一定程度上减小定位误差并且可以在一定程度上平滑地连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B,连接区段1就可以由通过一次或二次多项式表达的弧线形成。
另外,连接区段1不限于由正弦波或多项式表达的形状。只要可以连接第一恒定加速度区段2A和第二恒定加速度区段2B使得加速度连续改变(即,不包括恒定速度时段),就可以应用各种弯曲形状(波形)。例如,可以将由正弦波的平方形成的波形、正态分布的累积分布函数弧线等应用于连接区段1。另外,连接区段1可以通过重叠多个波形来形成,或者可以通过连接以时间间隔划分的多个波形来形成。
<物品的制造方法的实施例>
根据本发明的实施例的制造物品的方法适用于制造物品,例如诸如半导体器件之类的微器件或具有微结构的元件。根据本实施例的制造物品的方法包括通过使用上述曝光装置在施加到基材上的感光剂上形成潜影图案的步骤(基材曝光步骤),以及使在形成步骤中已经在上面形成潜影图案的基材显影(处理)的步骤。此外,该制造方法包括其它众所周知的步骤(例如,氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂去除、切割、键合、封装等)。与常规方法相比,根据本实施例的制造物品的方法在物品的性能、质量、生产率和生产成本中的至少一个方面是有利的。
<其它实施例>
本发明的(一个或多个)实施例还可以通过读出并执行记录在存储介质(其也可以被更完整地称为“非瞬态计算机可读存储介质”)上的计算机可执行指令(例如,一个或多个程序)以执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能和/或包括用于执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能的一个或多个电路(例如,专用集成电路(ASIC))的系统或装置的计算机来实现,以及通过由系统或装置的计算机通过例如从存储介质读出并执行计算机可执行指令以执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能和/或控制一个或多个电路执行上述(一个或多个)实施例中的一个或多个实施例的功能而执行的方法来实现。计算机可以包括一个或多个处理器(例如,中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)),并且可以包括单独计算机或单独处理器的网络,以读出并执行计算机可执行指令。计算机可执行指令可以例如从网络或存储介质提供给计算机。存储介质可以包括例如硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、分布式计算系统的存储装置、光盘(诸如紧凑盘(CD)、数字多功能盘(DVD)或蓝光盘(BD)TM)、闪存设备、存储卡等中的一个或多个。
本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现,即,通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给系统或装置,该系统或装置的计算机或是中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)读出并执行程序的方法。
虽然已经参考示例性实施例描述了本发明,但是应该理解的是,本发明不限于所公开的示例性实施例。所附权利要求的范围应被赋予最广泛的解释,以便涵盖所有此类修改以及等同的结构和功能。
Claims (12)
1.一种曝光装置,用于对基板中的多个拍摄区域中的每个拍摄区域执行扫描曝光,所述曝光装置包括:
载物台,被配置为保持基板;
驱动器,被配置为驱动载物台;以及
控制器,被配置为在根据用于驱动载物台的驱动曲线来控制驱动器的同时控制对所述多个拍摄区域中的每个拍摄区域的扫描曝光,
其中驱动曲线包括其中载物台在第一方向上以恒定加速度被驱动的第一恒定加速度区段、其中载物台在与第一方向相反的第二方向上以恒定加速度被驱动的第二恒定加速度区段,以及连接第一恒定加速度区段和第二恒定加速度区段使得载物台的加速度连续改变的连接区段,以及
其中执行扫描曝光的时段包括连接区段的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线中的连接区段形成为弯曲形状,使得载物台的加速度在第一恒定加速度区段中的加速度和第二恒定加速度区段中的加速度之间单调改变。
3.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线中的连接区段形成为正弦波形状。
4.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线中的连接区段形成为由多项式表达的形状。
5.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线中的连接区段形成为以连接区段的中心点为对称点的点对称弯曲形状。
6.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线中的连接区段形成为使得,当连接区段被分解成三角级数时,三角级数的频率不高于载物台的驱动的控制系统的带宽。
7.根据权利要求1所述的装置,其中
驱动曲线在整个范围内由可微分弧线形成。
8.根据权利要求1所述的装置,其中
在连接区段的部分时段中执行扫描曝光。
9.根据权利要求1所述的装置,其中
在包括整个连接区段、与连接区段连续的第一恒定加速度区段的一部分以及与连接区段连续的第二恒定加速度区段的一部分的时段中执行扫描曝光。
10.根据权利要求1所述的装置,其中
在驱动曲线的第一恒定加速度区段和/或第二恒定加速度区段中,载物台的加速度的绝对值被设置成驱动器能够驱动载物台的最大加速度。
11.根据权利要求1所述的装置,其中
连接区段用弧线连接第一恒定加速度区段和第二恒定加速度区段以不包括其中载物台以恒定速度移动的时段。
12.一种制造物品的方法,该方法包括:
通过使用根据权利要求1至11中的任一项所述的曝光装置在基板上形成图案;
处理上面已形成图案的基板以制造制品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021115831A JP2023012289A (ja) | 2021-07-13 | 2021-07-13 | 露光装置、および物品の製造方法 |
JP2021-115831 | 2021-07-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115616868A true CN115616868A (zh) | 2023-01-17 |
Family
ID=82492880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210823560.1A Pending CN115616868A (zh) | 2021-07-13 | 2022-07-13 | 曝光装置和制造物品的方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11762299B2 (zh) |
EP (1) | EP4120022A1 (zh) |
JP (1) | JP2023012289A (zh) |
KR (1) | KR20230011232A (zh) |
CN (1) | CN115616868A (zh) |
TW (1) | TW202305519A (zh) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004247487A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Canon Inc | 走査露光装置 |
JP2008227007A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Toshiba Corp | 液浸露光方法及び液浸露光装置 |
JP2010016166A (ja) | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Canon Inc | 走査型露光装置および露光方法、ならびにデバイス製造方法 |
JP5489534B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2014-05-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2011109014A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Canon Inc | 走査型露光装置 |
JP5406861B2 (ja) | 2011-01-01 | 2014-02-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2015201526A (ja) * | 2014-04-07 | 2015-11-12 | キヤノン株式会社 | プロファイル生成方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2021
- 2021-07-13 JP JP2021115831A patent/JP2023012289A/ja active Pending
-
2022
- 2022-06-29 KR KR1020220079334A patent/KR20230011232A/ko unknown
- 2022-06-29 EP EP22181796.8A patent/EP4120022A1/en active Pending
- 2022-07-06 US US17/858,263 patent/US11762299B2/en active Active
- 2022-07-06 TW TW111125273A patent/TW202305519A/zh unknown
- 2022-07-13 CN CN202210823560.1A patent/CN115616868A/zh active Pending
-
2023
- 2023-08-15 US US18/233,920 patent/US20230393486A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023012289A (ja) | 2023-01-25 |
KR20230011232A (ko) | 2023-01-20 |
US20230013155A1 (en) | 2023-01-19 |
EP4120022A1 (en) | 2023-01-18 |
TW202305519A (zh) | 2023-02-01 |
US11762299B2 (en) | 2023-09-19 |
US20230393486A1 (en) | 2023-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7411678B2 (en) | Alignment apparatus, control method thereof, exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device by exposure apparatus controlled by the same control method | |
JP2010016166A (ja) | 走査型露光装置および露光方法、ならびにデバイス製造方法 | |
CN112764324B (zh) | 光刻系统的扫描方法和光刻系统 | |
US6809798B1 (en) | Stage control method, exposure method, exposure apparatus and device manufacturing method | |
US11762299B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
US9329498B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
JP2010272673A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
US20100123891A1 (en) | Scanning exposure apparatus and device manufacturing method | |
US9557657B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
JP2015201526A (ja) | プロファイル生成方法、露光装置およびデバイス製造方法 | |
US20220035260A1 (en) | Exposing apparatus and method for manufacturing article | |
US20230034598A1 (en) | Control device, lithography apparatus, and article manufacturing method | |
CN214751320U (zh) | 光刻系统 | |
US20240184267A1 (en) | Generating method, pattern forming method, article manufacturing method, storage medium, and information processing apparatus | |
KR102573120B1 (ko) | 노광 방법, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 | |
TW202347046A (zh) | 曝光裝置,曝光方法及物品的製造方法 | |
JP2022002292A (ja) | ステージ装置、パターン形成装置、及び物品の製造方法 | |
JP2022119065A (ja) | 露光装置、および物品製造方法 | |
JP2018081238A (ja) | 走査露光装置およびその制御方法ならびに物品製造方法 | |
JPH09251955A (ja) | 露光方法および装置、ならびにデバイス製造方法 | |
TW202318114A (zh) | 曝光裝置、曝光方法及物品之製造方法 | |
JP6053316B2 (ja) | リソグラフィー装置、および、物品製造方法 | |
JP2019184928A (ja) | 露光装置、および物品の製造方法 | |
JP2006190776A (ja) | 描画装置 | |
JP2000286177A (ja) | ステージ制御方法および制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |