JP2000286177A - ステージ制御方法および制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージの速度、加速度等の最適化に加え
て、描画あるいは検査などの処理終了後から次の移動開
始点への移動開始までの時間を短縮し、ひいては描画装
置あるいは検査装置のスループットを向上させることが
可能なステージ制御方法を提供する。 【解決手段】 ステージ移動中に描画処理あるいは検査
処理を行なう処理行程の動作条件と、次の処理行程開始
点へ移動する移動行程の動作条件を設定し、前記処理行
程の後に引き続移動行程を行なう一連の動作開始の指示
を行なう動作指示工程２と、前記処理行程の動作条件
と、前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理行程の
開始点から前記移動行程の終点までの一連のステージ動
作の制御を行なうステージ動作制御行程３を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置、収束イオンビーム描画装置など半導体製造装置ある
いは半導体検査装置の試料を移動させるステージの制御
方法および制御装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年ＬＳＩなど半導体デバイスの集積度
はますます高くなってきており、それに伴い半導体デバ
イスのパターンはいよいよ微細化、高密度化している。
このような微細化したデバイスを製造するには、高度な
リソグラフィ技術を駆使した製造装置の使用が不可欠で
ある。

【０００３】電子ビーム描画装置などの荷電粒子を用い
た描画装置は、ビームを高速に偏向し、複雑なパターン
を高精度に描画することができるため、微細なパターン
の半導体デバイスの製造に広く用いられている。

【０００４】特に、ステージを連続移動した状態で、可
変形状のビームを試料に照射してパターンを形成できる
ステージ連続移動可変成形ビーム描画装置は、そのスル
ープットの高さから今後の半導体デバイス製造の主流と
なりつつある。

【０００５】ところが、近年の半導体デバイスの集積度
の急激な上昇により描画する図形数が加速度的に増加
し、描画に必要な時間が膨大になりスループットが極端
に低下することが予想されている。

【０００６】そのため、ステージ連続移動可変成形ビー
ム方式の描画装置においてもスループット向上のための
いろいろな工夫がされてきている。

【０００７】また、この描画装置などで製造されたマス
クなどの欠陥を検査する検査装置などでも同様な理由に
より、スループットの向上が求められている。

【０００８】ステージ連続移動方式の描画装置では、描
画する試料すなわちマスク上のパターンをフレームとい
う帯状の領域に分けて、ステージを特定方向に連続移動
させ、その移動中にビームを照射してそのフレームのパ
ターンを描画する。一つのフレームを描画した後は隣の
フレームにステップ移動してまた描画し、これを繰返し
行なうことによりマスク全体のパターン描画を行なう。

【０００９】検査装置では、同様にフレームと言うマス
ク上の帯状の部分をステージを連続移動させて光学的手
段で画像を取り込み、検査処理を行なう。

【００１０】どちらの場合も、マスク上を細かな帯状の
エリアに分けてステージの連続移動を行なうため、非常
に多くのステージ連続移動、ステップ移動を行なう必要
がある。

【００１１】描画装置の場合、ステージの移動は実際に
描画している時間の他に、ステージを加速してから描画
を開始する点まで空走する助走区間、描画を終了してか
ら、減速し停止後、停止を確認する時間、次の移動開始
点に移動する設定を行なう時間、次の動作指示をしてか
ら実際に移動を開始して次の移動開始点に移動する時間
が必要である。この描画をしている時間以外は全てむだ
時間となりこの部分が多いほどスループットが低下して
しまう。

【００１２】描画以外の時間の内、助走区間と減速区間
については描画精度維持のための加速度制限と速度安定
化時間の必要から短縮の限界があり、また加速度につい
てもステージのハードウエアによる制限がある。また、
次の移動開始点への移動時間についてもステージのハー
ドウエアからくる制限から最大速度、加速度が制限され
る。

【００１３】そこで、以上を最適化した状態でスループ
ットをさらに向上させるには、描画終了後減速してから
次の移動開始点に移動を開始するまでの時間を短縮する
しかないが、先に述べたように動作毎に動作条件を設定
し移動命令を出す方式では時間の短縮は難しいという問
題があった。

【００１４】また、この方式では装置制御ＣＰＵなど上
位の制御装置が、頻繁にステージの動作処理を行なわな
くてはならず、処理が煩雑になるという問題があった。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】上述のごとく、ステー
ジを連続移動させて、マスクの描画あるいは検査を行な
う装置では、ステージの速度、加速度の条件を最適化す
るだけではハードウエア、精度の面から限界があり、そ
れ以上のスループット向上は難しいという問題があっ
た。

【００１６】そこで本発明は、ステージの速度、加速度
等の最適化に加えて、描画あるいは検査などの処理終了
後から次の移動開始点への移動開始までの時間を短縮
し、ひいては描画装置あるいは検査装置のスループット
を向上させることが可能なステージ制御装置を提供する
ことを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の発明では、ステージを移動させて試
料の露光を行なう描画装置あるいは試料面の検査を行な
う検査装置のステージ制御方法において、前記ステージ
移動中に描画処理あるいは検査処理を行なう処理行程の
動作条件と、次の処理行程開始点へ移動する移動行程の
動作条件とを設定し、前記処理行程の後に引き続移動行
程を行なう一連の動作を指示する動作指示工程と、前記
処理行程の動作条件と、前記移動行程の動作条件を用い
て、前記処理行程の開始点から前記移動行程の終点まで
の一連のステージ動作の制御を行なうステージ動作制御
行程を有することを特徴としている。

【００１８】また、請求項２記載の発明においては、請
求項１に記載の発明において、前記ステージ動作制御行
程は前記処理行程と前記移動行程の動作条件により、一
連のステージ動作の軌跡を算出し、その軌跡に基づいて
ステージを軌跡制御する軌跡制御行程を有することを特
徴としている。

【００１９】また、請求項３記載の発明においては、請
求項２に記載の発明において、前記軌跡制御工程は、前
記処理行程の終点近傍でステージが停止することなく移
動行程に移行するような軌跡を算出することを特徴とし
ている。

【００２０】さらに、請求項４記載の発明においては、
請求項２に記載の発明において、前記軌跡制御工程は、
前記処理行程で前記ステージの減速が開始された時点近
傍で移動行程が開始されるような軌跡を算出することを
特徴としている。

【００２１】また上記目的を達成するために、請求項５
に記載の発明では、ステージを移動させて試料の露光を
行なう描画装置あるいは試料面の検査を行なう検査装置
のステージ制御装置において、前記ステージ移動中に描
画処理あるいは検査処理を行なう処理行程の動作条件
と、次の処理行程開始点へ移動する移動行程の動作条件
と、前記処理行程の後に引き続移動行程を行なう一連の
動作の開始指示を取得する動作指示取得手段と、前記動
作指示取得手段により取得された前記処理行程の動作条
件と、前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理行程
の開始点から前記移動行程の終点までの一連のステージ
動作の制御を行なうステージ動作制御手段を有すること
を特徴としている。

【００２２】また、請求項５記載の発明では、請求項４
記載の発明のおいて、前記ステージ動作制御手段は前記
処理行程と前記移動行程の動作条件により、一連のステ
ージ動作の軌跡を算出し、その軌跡に基づいてステージ
を軌跡制御する軌跡制御行程を有することを特徴として
いる。

【００２３】また請求項６記載の発明では、請求項５記
載の発明において、前記軌跡制御手段は、前記処理行程
の終点近傍でステージが停止することなく移動行程に移
行するような軌跡を算出することを特徴としている。

【００２４】またさらに、請求項７に記載する発明にお
いては、請求項５記載の発明において、前記軌跡制御手
段は、前記処理行程で前記ステージの減速が開始された
時点近傍で移動行程が開始されるような軌跡を算出する
ことを特徴としている。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら発明の
実施形態を説明する。

【００２６】まず本発明を使用する描画装置および検査
装置の動作を簡単に説明する。

【００２７】図１０は電子ビームなどの荷電粒子を試料
に露光することにより試料にパターンを描画する描画装
置の概略構成図である。

【００２８】描画装置１００は電子ビームなどを試料１
０５に照射し、試料に集積回路などのパターンの描画を
行なう描画装置である。

【００２９】実際の描画は、全体制御部（ＣＰＵ）１１
６がまず試料室１０２内部に設置され、試料１０５を搭
載したステージ１０４を描画のための移動開始点に移動
させる。

【００３０】そこで、全体制御部は磁気ディスク１１７
などからパターンデータをデータメモリ１１１に転送
し、ここで近接効果補正などのデータ加工を行い、この
パターンデータを実際に描画する図形に分割し、その描
画位置を算出するパターン発生部１１０へ転送する。こ
の準備が整った時点で全体制御部はステージ制御部１１
３にステージ動作を指令し試料１０５を移動させる。こ
の試料１０５の位置をステージ１０４上のレーザミラー
１０６などにより検出し、その位置を位置検出部１１２
から得ることにより、偏向制御部１０９ではパターン発
生部１１０から転送される図形と位置データの基づき、
電子光学系１０１内部の図示されていない電子ビームを
偏向させて試料１０５上の所望の位置に電子ビームを照
射して描画を行なう。

【００３１】以上説明した描画装置では、使用するビー
ムを電子ビームを例として説明しているが、このビーム
の種類は収束イオンビームを用いたものでも動作は同様
であり、以下説明する発明はビームの種類には全く制限
されないものである。また、さらにレーザビームなどを
使用する描画装置でも偏向の偏向制御部の内部処理、偏
向原理の違いのみであり、以下説明する本発明の効果に
は影響を与えないことを明記しておく。

【００３２】また、図１０に示した全体制御部（ＣＰ
Ｕ）はその処理内容により、機能を分割して複数のＣＰ
Ｕに分割された状態においても本発明はなんらその効果
に影響を受けないことを明記しておく。

【００３３】図１１は光学的に試料面を観察することに
より試料面上のパターンの欠陥等を検査する検査装置の
概略構成図である。

【００３４】実際の検査は、全体制御部（ＣＰＵ）２１
６がまず、試料２０５を搭載したステージ２０４を検査
のための移動開始点に移動させる。

【００３５】そこで、全体制御部は磁気ディスク２１７
などからパターンデータをデータメモリ２１１に転送
し、ここで各種補正などのデータ加工を行い、このパタ
ーンデータを実際に検査する図形に分割し、その図形を
ビットマップに展開するビット展開部２１０へ転送す
る。この準備が整った時点で全体制御部２１６はステー
ジ制御部２１３にステージ動作を指令し試料２０５を移
動させる。この試料２０５の位置をステージ２０４上の
レーザミラー２０６などにより検出し、その位置を位置
検出部２１２から得ることにより、データ比較部２０７
ではビット展開部２１０から転送され、参照データ発生
部２０８で比較用のデータに変換されたイメージと、光
学系２０１とイメージセンサ２０２によって得られた試
料面上のイメージを比較し、試料２０５上のパターン上
に欠陥などがないかを判別し、欠陥がある場合には欠陥
記録部２０９に保存する。

【００３６】以上説明した検査装置では、検査に使用す
るものを水銀ランプなどの光を利用したものを例として
説明しているが、この他レーザビームおよび、レーザビ
ームをスキャンして光学像を得るもの、さらには電子ビ
ームなどで試料面上のイメージを得るものでも、以下に
説明する本発明の効果には影響を受けないことを明記し
ておく。

【００３７】また、図１１に示した全体制御部（ＣＰ
Ｕ）はその処理内容により、機能を分割して複数のＣＰ
Ｕに分割された状態においても本発明はなんらその効果
に影響を受けないことを明記しておく。

【００３８】図８は上述した描画装置および検査装置に
おいて試料面上の描画あるいは検査処理の行程を示した
図である。

【００３９】試料８０上の描画処理あるいは検査処理す
る範囲８１は処理するパターンデータにより定められる
が、そのパターンは予め一回のステージ動作で処理が行
なえる幅に合わせて８２ａ、８２ｂ、８２ｃといったフ
レームに分割されている。したがって、この試料の処理
範囲８１全面を処理するには、各フレーム８２ａを処理
した後、８２ｂ、８３ｃと順次フレームを処理してい
く。

【００４０】図８ではステージの往復動作で処理を行な
う方法での処理点、すなわち図示していないステージの
動きを矢印で示している。

【００４１】まず、ステージを移動開始点８５に移動さ
せた後、描画などを行なうステージ動作すなわち処理行
程８３ａを行なう。処理行程８３ａの終点８６で停止
後、次の処理行程８３ｂの開始点８７までののステージ
動作すなわち移動行程８４ａを行なう。以下処理行程８
３ｂ、移動行程８４ｂを行なう処理を続けることによ
り、処理範囲８１を全面にわたって描画あるいは検査な
どの処理を行なう。

【００４２】また図９は図８に示した処理行程とは異な
る処理行程を示した図である。

【００４３】この試料９０では図８に示したものと同様
に処理範囲９１が短冊状のフレーム９２ａ、９２ｂ、９
３ｃなどのように形成されるが、実際の処理は常にステ
ージが一定方向に移動している時にに行われる。つま
り、最初の処理行程９３ａの開始点９５に移動後、処理
行程９３ａを行い、処理行程の終点９６で停止した後次
の処理行程の開始点９７まで戻る移動行程９４ａを行な
って、前の処理行程９３ａと同じ方向の移動による処理
行程９３ｂを行なう動作を繰り返す。

【００４４】この処理の仕方は特に移動方向の違いによ
る描画または検査処理の精度の悪化を避けるために行わ
れる。

【００４５】図７は従来の描画あるいは検査処理を行な
う場合のステージ制御手順を示した図である。

【００４６】図７では例えば図８に示したような試料の
描画あるいは検査の行程を行なう際の、１フレーム分の
処理を行なう際の全体制御部（ＣＰＵ）の処理（左側）
とステージ制御部の処理（右側）の流れを示している。

【００４７】全体制御部では、描画などの処理を行なう
ステージ動作（処理行程）の移動速度、移動距離、加速
度などの条件を設定し、ステージ制御部に動作開始を指
示する動作指示工程７２を実行し、それを受けてステー
ジ制御部は処理行程の動作条件を受け取り、その動作条
件からステージの移動軌跡を生成し、ステージを実際に
移動させ描画を行なう処理行程を実行し、ステージの静
定を確認するステージ動作制御工程７３を実行し、その
後全体制御部に報告する。全体制御部では、次の処理工
程開始点へ移動する移動行程の動作条件を設定し、動作
開始を指示する動作指示工程７４を再び実行する。これ
を受けて再びステージ制御部ではその動作条件を取得
し、ステージの移動軌跡を生成し実際にステージを次の
処理行程開始点に移動させ、動作終了後ステージの静定
を確認するステージ動作制御工程７５を実施し、その
後、全体制御部では次のフレーム処理の準備を行い、以
降のフレームに関して同様の処理を繰返して試料全体の
処理を行なう。

【００４８】以上のような制御方法では、図７に示した
ように１フレームの処理を行なうために処理行程と移動
行程おのおのに対して全体制御部側については同様の動
作条件の設定、指示２回実行し、ステージ制御部につい
ても動作条件の取得、軌跡生成、ステージ静定確認等を
２回実行するため、全体制御部側、ステージ制御部とも
処理が効率的ではない。

【００４９】特に処理行程、移動行程の動作終了後のス
テージ静定の確認には０．１ｓｅｃから０．２ｓｅｃ程
度の時間を要するため、全フレーム（１００から２００
フレーム）で合計すると数十秒にも達すする。

【００５０】そこで本発明では、こういった無駄時間を
極力削減し、描画装置あるいは検査装置のスループット
を向上させる方法を提案する。

【００５１】図１は本発明のステージ制御方法の実施例
を示すフロー図である。

【００５２】図１の左側の処理が全体制御部側の処理、
右側の処理がステージ制御部の処理である。

【００５３】全体制御部では、現在処理を行なおうとす
るフレームの処理行程の動作条件と次のフレームの処理
行程の開始点までの移動行程の動作条件を同時に設定
し、処理行程後に引き続き移動行程を実行する一連の動
作の開始を指示する（動作指示工程７）。ステージ制御
部ではこの動作指示行程を受けて、以下に示すステージ
動作制御工程３を行なう。

【００５４】処理行程および移動行程の動作条件を全体
制御部から受け取る（９） 処理行程および移動行程を含めた動作パターンに動作条
件をあてはめ、処理行程と移動行程を含めた一連のステ
ージ動作を確定する（１０） 処理行程および移動行程を連続させた一連のステージ動
作の移動軌跡を算出する（１１） 算出された移動軌跡をもとにステージを軌跡制御し、処
理行程に引く続き移動行程の動作を行なう（１２） ステージの静定を確認し全体制御部に報告する（１３）
以上のような制御方法を採用するすることにより、１フ
レームの処理に関する 全体制御部側からのステージ制御部への動作指示行程２
は一回のみとなる。またステージ制御部の処理に関して
のも、動作条件の取得、軌跡の生成、静定の確認等のス
テージ動作制御工程３は１回のみで１フレームの処理が
終了する。

【００５５】その結果、全体制御部では、ステージ制御
部との通信（４および５）が半減し、ステージ動作制御
工程３実行中に次のフレームの処理の準備等を行い効率
的な処理を行なうことが可能となる。

【００５６】また、ステージ制御部についても、軌跡の
生成、ステージの静定の確認が一回で済むのでそれに必
要な時間を削減し、実際のステージ動作に必要な時間を
短縮することができる。

【００５７】図２は本発明にかかるステージ制御装置の
構成を示す図である。

【００５８】図２に示したステージ制御装置２１は、全
体制御部２０からの指示２２により、描画あるいは検査
を行なう試料２５を搭載するステージ２４の位置をレー
ザミラー２６、２７を用いる位置検出部２３で検出し、
その位置データをもとにステージ２４のモータなどの駆
動装置２８、２９を制御する。

【００５９】このステージ制御装置２１は主に、実際の
ステージの動作制御を行なうステージ動作制御手段３１
と、上位の全体制御部（ＣＰＵ）２０から動作条件、動
作指令を取得し、ステージ動作制御手段３１に伝達する
動作指示取得手段３０とから構成されている。

【００６０】この動作指示取得手段３０はボードコンピ
ュータなどで実現されており、全体制御部２０との通信
は、ネットワーク、ＶＭＥバス、シリアル回線などで接
続されている。この通信経路により、全体制御部（ＣＰ
Ｕ）からステージの処理行程および移動行程の動作条
件、動作指示などがステージ制御装置に伝達され、この
動作指示手段内部で条件の加工、動作指示の解析を行
い、さらにステージ動作制御手段３１に詳細な動作条
件、動作指示を伝達する。

【００６１】ステージ動作制御手段３１はＤＳＰなどを
搭載するモータコントロールボードなどで構成されてお
り、その内部に予め設定してある動作プログラム３２に
動作指示取得手段３０から伝達された速度、移動距離、
加速時間などの動作条件を当てはめ、処理行程から移動
行程までの一連のステージ動作を確定する。

【００６２】確定されたステージ動作プログラム３２は
動作指示手段３０からの開始指示により、軌跡制御手段
３３で処理行程と移動行程を合わせた一連動作の移動軌
跡に変換され、その軌跡に基づいてステージ２４の駆動
手段２８、２９が軌跡制御される。

【００６３】以上のようなステージ制御装置とすること
により、先に述べたように描画などを行なう処理行程と
次の処理行程開始点までの移動を行なう移動行程とを効
率的に行い無駄時間を極力削減してスループットを向上
することが可能な描画装置あるいは検査装置が実現可能
となる。

【００６４】なお、以上の実施例ではステージ制御装置
２１の動作指示取得手段３０をボードＰＣなどを使用
し、ステージ動作制御手段としてＤＳＰなどを用いたモ
ータコントロールボードを使用した例を示したが、ステ
ージ動作制御手段として用いたモータコントロールボー
ドに動作指示取得手段３０の機能を持たすことが可能な
場合には、モータコントロールボードで本発明のステー
ジ制御装置を構成することも可能である。同様に動作指
示取得手段３０に使用したようなボードＰＣにステージ
動作制御手段３１の機能を持たせることが可能な場合に
はボードＰＣで本発明のステージ制御装置を構成するこ
とも可能である。

【００６５】次に本発明のステージ制御方法の軌跡制御
行程およびステージ制御装置の軌跡制御手段について詳
しく説明する。

【００６６】図３はステージの位置軌跡と速度軌跡の対
応を示した図である。

【００６７】ステージの位置軌跡は図３に示したよう
に、ステージの加速区間３５の加速度、定速区間３６の
速度、減速区間３７の減速度、目標位置３９により軌跡
３８のように決定される。図２に示した軌跡制御手段で
は、動作指示手段３０から得られた動作条件によりステ
ージ動作プログラム３２で定められたステージ動作パタ
ーンが軌跡生成アルゴリズム３４により、一連の動作の
各時点でのステージ位置に変換される。そして２軸同時
軌跡制御手段３５によって各時点において指定されたス
テージ位置となるようにステージの軌跡制御が行われ
る。なお、この２軸同時軌跡制御手段は位置検出部２３
からの位置と、その時点における生成された軌跡上の位
置の差分に各種処理を加えてモータなどの駆動手段２
８、２９に駆動信号を出力するサーボ手段である。

【００６８】なお、位置の軌跡は速度の軌跡と１対１の
対応が可能なので、以下の説明では動作の状況が説明し
易い速度の軌跡を用いて軌跡制御の説明を行なう。ま
た、速度の軌跡は台形型速度軌跡となっているが、この
加速時の速度軌跡はＳ字加速や、その他の加速軌跡でも
以下で説明する本発明の効果には何ら影響を与えないこ
とを明記しておく。

【００６９】図４は図８に示した描画あるいは検査処理
行程を実施した場合のステージの動きを示した摸式図で
ある。従来のステージ制御方法およびステージ制御装置
では、フレーム４０の処理を行なう処理行程４４の開始
点４１からステージが移動を開始してフレーム４０の処
理を終えた後減速し、処理行程の終点４２で停止した
後、次の処理行程４７の開始点４３への移動（移動行
程）４６を行い、次のフレームの処理の準備ができ次第
次の処理行程４７を開始する。

【００７０】本発明のステージ制御方法では、処理行程
４４の減速開始点４８から移動行程４６を開始し次の処
理行程開始点４３に停止することなく向かう軌跡４９を
生成して動作を行なう。

【００７１】図５（ａ）は従来のステージ制御方法で行
なう場合に生成されるステージの軌跡を示した図、図５
（ｂ）は本発明のステージ制御方法により生成されるス
テージの軌跡を示した図である。

【００７２】図５（ａ）ではあるフレームの処理５４ａ
の途中からのステージのＸ軸、Ｙ軸速度軌跡を示してい
る。先にも記したように、実際には位置制御で動作が実
施されるが、説明の容易さから、以下全て速度軌跡を用
いて説明する。

【００７３】従来例では処理行程５１ａ途中の描画など
の処理が終わりステージ動作が終了しても、ステージの
静定時間５５が立たないと完全に処理行程５１ａは完了
しない。静定後移動行程５６の動作条件設定、起動生成
などの事前処理５８が終了後、移動行程５３ａが開始さ
れる。この移動行程５３ａが終了後、やはり位置の静定
を待って、次のフレーム処理が開始され、次の処理行程
５２ａが開始される。

【００７４】本発明のステージ制御方法では、図５
（ｂ）に示すように、処理行程５１ｂの減速開始点５７
から移動行程５３ｂを開始し、処理行程５１ｂの減速終
了から移動行程５３の減速が開始するように軌跡を生成
する。このような軌跡を生成することにより、このフレ
ーム処理５４ｂは従来例に比べ、処理行程５１ａの静定
時間５５、移動行程５３ａの事前処理時間５８および処
理行程５１ａの減速時間５９だけ処理に必要な時間が短
縮できる。具体的な数値としては、減速時間０．１ｓｅ
ｃ程度、静定時間０．２ｓｅｃ程度、事前処理時間０．
１ｓｅｃ程度など合計０．４ｓｅｃ程度の量になり、全
フレームで合計すると数十秒から数分程度の時間短縮が
可能となる。

【００７５】また図６（ａ）は図９に示したように、常
に同じ方向にステージが移動している時に描画などの処
理を行なう処理行程を従来のステージ制御方法で行なっ
た場合のステージの速度軌跡を示した図、図６（ｂ）は
本発明のステージ制御方法で行なった場合の速度軌跡を
示した図である。

【００７６】従来方式では図６（ａ）に示したように、
一つのフレーム処理６４ａの内、連続移動で描画などを
行なう処理行程６１ａ終了後の静定時間および次の移動
行程のための事前処理を含んだ無駄時間６６がある。そ
の後の移動行程６３ａ、６４ａでは隣のフレームの処理
行程開始点に移動するため、Ｘ軸およびＹ軸の同時動作
を行なう。

【００７７】本発明の制御方式では、図６（ｂ）に示す
ように、処理行程６１ｂの終了点６７で停止することな
く連続して、逆方向に移動を開始するように移動軌跡を
生成する。これにより、処理行程６１ｂと移動行程６３
ｂ、６４ｂを一つの動作として連続させ、従来例で生じ
ていた無駄時間６６だけ時間を短縮できる。

【００７８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
描画あるいは検査などの処理終了後、次の移動開始点へ
の移動開始までの時間を短縮することができ、スループ
ットをさらに向上させることが可能な、した半導体デバ
イスの描画装置あるいは検査装置のステージ制御方法お
よび制御装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかるステージ制御方法の実施例を示
すフロー図。

【図２】本発明にかかるステージ制御装置の実施例を示
すブロック図。

【図３】本発明にかかるステージ制御装置の軌跡制御手
段の軌跡生成原理を示す図。

【図４】図８に示した処理行程実行時のステージ動作の
様子を示した図。

【図５】図８に示した処理行程実行時のステージ速度軌
跡の詳細を示した図。

【図６】図９に示した処理行程実行時のステージ速度軌
跡の詳細を示した図。

【図７】従来例のステージ制御方法を示したフロー図。

【図８】ステージの往復両方向で処理を行なう処理行程
を示した図。

【図９】ステージの一定方向移動のみで処理を行なう処
理行程を示した図。

【図１０】電子線描画装置の概略構成を示すブロック
図。

【図１１】基板検査装置の概略構成を示すブロック図。

【符号の説明】

２、７２、７４…動作指示行程 ３、７３、７５…ステージ動作制御行程 ２０、１１６、２１６…全体制御部（ＣＰＵ） ２１…ステージ制御装置 ２３、１１２、２１２…位置検出部 ２４…ステージ ２５…試料 ２８、２９…駆動手段 ３０…動作指示取得手段 ３１…ステージ動作制御手段 ３２…ステージ動作プログラム ３３…軌跡制御手段 ３４…軌跡生成アルゴリズム ３５…２軸同時軌跡制御手段 ５１ａ、５１ｂ、６１ａ、６１ｂ…処理行程 ５２ａ、５２ｂ、６２ａ、６２ｂ…次のフレームの処理
行程 ５３ａ、５３ｂ、６３ａ、６３ｂ、６４ａ、６４ｂ…移
動行程 １００…電子線描画装置 ２００…基板検査装置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ステージを移動させて試料の露光を行な
   う描画装置あるいは試料面の検査を行なう検査装置のス
   テージ制御方法において、前記ステージ移動中に描画処
   理あるいは検査処理を行なう処理行程の動作条件と、次
   の処理行程開始点へ移動する移動行程の動作条件とを設
   定し、前記処理行程の後に引き続き移動行程を行なう一
   連の動作を指示する動作指示工程と、前記処理行程の動
   作条件と、前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理
   行程の開始点から前記移動行程の終点までの一連のステ
   ージ動作の制御を行なうステージ動作制御行程を有する
   ことを特徴とするステージ制御方法。
2. 【請求項２】 前記ステージ動作制御行程は前記処理行
   程と前記移動行程の動作条件により、一連のステージ動
   作の軌跡を算出し、その軌跡に基づいてステージを軌跡
   制御する軌跡制御行程を有することを特徴とする請求項
   １記載のステージ制御方法。
3. 【請求項３】 前記軌跡制御工程は、前記処理行程の終
   点近傍でステージが停止することなく移動行程に移行す
   るような軌跡を算出することを特徴とする請求項２記載
   のステージ制御方法。
4. 【請求項４】 前記軌跡制御工程は、前記処理行程で前
   記ステージの減速が開始された時点近傍で移動行程が開
   始されるような軌跡を算出することを特徴とする請求項
   ２記載のステージ制御方法。
5. 【請求項５】 ステージを移動させて試料の露光を行な
   う描画装置あるいは試料面の検査を行なう検査装置のス
   テージ制御装置において、前記ステージ移動中に描画処
   理あるいは検査処理を行なう処理行程の動作条件と、次
   の処理行程開始点へ移動する移動行程の動作条件と、前
   記処理行程の後に引き続移動行程を行なう一連の動作の
   開始指示を取得する動作指示取得手段と、前記動作指示
   取得手段により取得された前記処理行程の動作条件と、
   前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理行程の開始
   点から前記移動行程の終点までの一連のステージ動作の
   制御を行なうステージ動作制御手段を有することを特徴
   とするステージ制御装置。
6. 【請求項６】 前記ステージ動作制御手段は前記処理行
   程と前記移動行程の動作条件により、一連のステージ動
   作の軌跡を算出し、その軌跡に基づいてステージを軌跡
   制御する軌跡制御手段を有することを特徴とする請求項
   ５記載のステージ制御装置。
7. 【請求項７】 前記軌跡制御手段は、前記処理行程の終
   点近傍でステージが停止することなく移動行程に移行す
   るような軌跡を算出することを特徴とする請求項６記載
   のステージ制御装置。
8. 【請求項８】 前記軌跡制御手段は、前記処理行程で前
   記ステージの減速が開始された時点近傍で移動行程が開
   始されるような軌跡を算出することを特徴とする請求項
   ６記載のステージ制御装置。