JPH01248618A - 電子ビーム露光装置及び露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光装置及び露光方法Info
- Publication number
- JPH01248618A JPH01248618A JP7723888A JP7723888A JPH01248618A JP H01248618 A JPH01248618 A JP H01248618A JP 7723888 A JP7723888 A JP 7723888A JP 7723888 A JP7723888 A JP 7723888A JP H01248618 A JPH01248618 A JP H01248618A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- stage
- electron beam
- speed
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子ビーム露光装置に関し、
領域ごとのステージ移動速度をほぼ正確に決定すること
ができる電子ビーム露光装置を提供することを目的とし
、 所定の領域毎に定められた速度に従って移動するステー
ジと、前記所定の領域毎のパターンデータに従って露光
時間を設定する時間設定手段とを備えたステージ連続移
動型の電子ビーム露光装置において、少なくとも前記時
間設定手段を含めて装置を作動させ、前記時間設定手段
で設定された露光時間に基づいて前記速度を設定する速
度決定手段を設けるように構成する。
ができる電子ビーム露光装置を提供することを目的とし
、 所定の領域毎に定められた速度に従って移動するステー
ジと、前記所定の領域毎のパターンデータに従って露光
時間を設定する時間設定手段とを備えたステージ連続移
動型の電子ビーム露光装置において、少なくとも前記時
間設定手段を含めて装置を作動させ、前記時間設定手段
で設定された露光時間に基づいて前記速度を設定する速
度決定手段を設けるように構成する。
本発明は、電子ビーム露光装置に係り、詳しくは、特に
領域毎のステージ移動速度をほぼ正確に決定することが
できる電子ビーム露光装置に関する。
領域毎のステージ移動速度をほぼ正確に決定することが
できる電子ビーム露光装置に関する。
近年、例えば、ステージをステップ移動しながら露光を
行゛うステップ・アンド・リピート方式の電子ビーム露
光装置があるが、これはフィールトサイズを小さくして
デフレクタ（偏向器）によるビームの振幅を小さくする
とステージの移動回数が増えてスループットが下がると
いう欠点がある。
行゛うステップ・アンド・リピート方式の電子ビーム露
光装置があるが、これはフィールトサイズを小さくして
デフレクタ（偏向器）によるビームの振幅を小さくする
とステージの移動回数が増えてスループットが下がると
いう欠点がある。
このため、ステージを連続して移動させながら露光を行
う方式のステージ連続移動型電子ビーム露光装置が注目
されている。一般に電子ビーム露光装置は、光（紫外線
）を利用したフォト・エツチング技術が限界にきたため
、波長の短い電子ビームを利用しようとするもので、波
長が短いため微細加工に適している。
う方式のステージ連続移動型電子ビーム露光装置が注目
されている。一般に電子ビーム露光装置は、光（紫外線
）を利用したフォト・エツチング技術が限界にきたため
、波長の短い電子ビームを利用しようとするもので、波
長が短いため微細加工に適している。
ステージを連続して移動させながら露光を行う方式のス
テージ連続移動型電子ビーム露光装置は、ステージをス
テップ移動しながら露光を行う方式のステップ・アンド
・リピート方式の電子ビーム露光装置に較ベスループッ
トの点で優れていると考えられる。
テージ連続移動型電子ビーム露光装置は、ステージをス
テップ移動しながら露光を行う方式のステップ・アンド
・リピート方式の電子ビーム露光装置に較ベスループッ
トの点で優れていると考えられる。
第７図は従来の電子ビーム露光装置の露光方法を説明す
るための図、第８図は従来例のメインデフレクタによる
ビームの偏向を説明するための図、である。
るための図、第８図は従来例のメインデフレクタによる
ビームの偏向を説明するための図、である。
これらの図において、３１はウニハク３２はメインフィ
ールド、３３はサブフィールド、３４はステージ移動方
向である。
ールド、３３はサブフィールド、３４はステージ移動方
向である。
次に、その露光方法を簡単に説明する。
一般に、ステップ・アンド・リピート方式の電子ビーム
露光装置の場合は、第７図（ｂ）に示す斜線部Ａを露光
している間はメインデフレクタによるビームの偏向はス
テージ移動方向３４には行わないが、ステージ連続移動
方式の電子ビーム露光装置の場合にはサブフィールド３
３を露光し終わるごとに、メインデフレクタはステージ
を追いかけてビームの偏向を行う。具体的には、第７図
に示す斜線部Ａを露光し終わると、メインデフレクタは
再び第８図に示す■に戻されて、次の第７図に示す点線
部Ｂを露光する。
露光装置の場合は、第７図（ｂ）に示す斜線部Ａを露光
している間はメインデフレクタによるビームの偏向はス
テージ移動方向３４には行わないが、ステージ連続移動
方式の電子ビーム露光装置の場合にはサブフィールド３
３を露光し終わるごとに、メインデフレクタはステージ
を追いかけてビームの偏向を行う。具体的には、第７図
に示す斜線部Ａを露光し終わると、メインデフレクタは
再び第８図に示す■に戻されて、次の第７図に示す点線
部Ｂを露光する。
しかしながら、このような従来のステージ連続移動型の
電子ビーム露光装置にあっては、第８図に示すようにメ
インデフレクタにより精度よく偏向できる幅には限度が
あるため、やみくもにステージ速度を速（すると、第７
図に示す斜線部Ａを露光している間にステージが本来あ
るべき位置より移動し過ぎてしまい、第８図に示す■の
ようにビームが届かなくなってでしまうという問題点が
あった。このため、何らかの方法で第７図に示す斜線部
Ａや点線部Ｂごとの露光時間（露光所要時間のこと）に
応じたステージ移動速度を決定しなければならない。
電子ビーム露光装置にあっては、第８図に示すようにメ
インデフレクタにより精度よく偏向できる幅には限度が
あるため、やみくもにステージ速度を速（すると、第７
図に示す斜線部Ａを露光している間にステージが本来あ
るべき位置より移動し過ぎてしまい、第８図に示す■の
ようにビームが届かなくなってでしまうという問題点が
あった。このため、何らかの方法で第７図に示す斜線部
Ａや点線部Ｂごとの露光時間（露光所要時間のこと）に
応じたステージ移動速度を決定しなければならない。
そこで、本発明は、領域ごとのステージ移動速度をほぼ
正確に決定することができる電子ビーム露光装置を提供
することを目的としている。
正確に決定することができる電子ビーム露光装置を提供
することを目的としている。
本発明による電子ビーム露光装置は上記目的達成のため
、所定の領域毎に定められた速度に従って移動するステ
ージと、前記所定の領域毎のパターンデータに従って露
光時間を設定する時間設定手段とを備えたステージ連続
移動型の電子ビーム露光装置において、少なくとも前記
時間設定手段を含めて装置を作動させ、前記時間設定手
段で設定された露光時間に基づいて前記速度を設定する
速度決定手段を設けている。
、所定の領域毎に定められた速度に従って移動するステ
ージと、前記所定の領域毎のパターンデータに従って露
光時間を設定する時間設定手段とを備えたステージ連続
移動型の電子ビーム露光装置において、少なくとも前記
時間設定手段を含めて装置を作動させ、前記時間設定手
段で設定された露光時間に基づいて前記速度を設定する
速度決定手段を設けている。
本発明では、時間設定手段で設定された露光時間に基づ
いて速度を決定する速度決定手段が設けられる。
いて速度を決定する速度決定手段が設けられる。
したがって、実際にビームが滞在している露光時間を領
域ごとに求めることができ、この露光時間に基づいて領
域ごとの移動速度をほぼ正確に求めることができる。
域ごとに求めることができ、この露光時間に基づいて領
域ごとの移動速度をほぼ正確に求めることができる。
第１図は本発明に係る電子ビーム露光装置の一実施例の
構成を示す装置概略図（図示例はステージ連続移動型電
子ビーム露光装置である）、第２図は一実施例の構成を
示すフローチャート、第３図は一実施例のパターンとビ
ームの進行方向の状態を示す図である。
構成を示す装置概略図（図示例はステージ連続移動型電
子ビーム露光装置である）、第２図は一実施例の構成を
示すフローチャート、第３図は一実施例のパターンとビ
ームの進行方向の状態を示す図である。
これらの図において、１はＣＰＵ、２はバッファメモリ
、３はシーケンスコントローラ、４はパターンジェネレ
ータ（本発明に係る時間設定手段に該当する）、５はス
テージ制御部、６はステージ、７はＤＡコンバータ、８
はアンプ、９はコラム、１０はパターンデータ、１１は
速度計算機（本発明に係る速度決定手段に該当する）、
１２は電子銃、１３はアライメントコイル、１４はビー
ム形成スリット、１５はビーム形成デフレクタ、１６は
集束レンズ、１７はメインデフレクタ、１８はサブデフ
レクタ、１９はレーザ、２０はミラー、２１は被露光物
、２２はモータ、２３は制御部で、バッファメモリ２、
シーケンスコントローラ３、パターンジェネレータ４及
び速度計算機１１で構成されている。
、３はシーケンスコントローラ、４はパターンジェネレ
ータ（本発明に係る時間設定手段に該当する）、５はス
テージ制御部、６はステージ、７はＤＡコンバータ、８
はアンプ、９はコラム、１０はパターンデータ、１１は
速度計算機（本発明に係る速度決定手段に該当する）、
１２は電子銃、１３はアライメントコイル、１４はビー
ム形成スリット、１５はビーム形成デフレクタ、１６は
集束レンズ、１７はメインデフレクタ、１８はサブデフ
レクタ、１９はレーザ、２０はミラー、２１は被露光物
、２２はモータ、２３は制御部で、バッファメモリ２、
シーケンスコントローラ３、パターンジェネレータ４及
び速度計算機１１で構成されている。
なお、第２図に示すＣＰＵＩはパターンデータ１０に基
づいて露光データをバッファメモリ２に送るとともに、
ステージデータをステージ制御部５に送る機能を有して
いる。ステージ制御部５は送られたステージデータに基
づいてステージ６を制御する機能を有している。シーケ
ンスコントローラ３はステージ６の誤差をレーザ測定器
で観測されたデータに基づいて補正を行う機能を有して
いる。ＤＡコンバータ７はディジタル信号で送られた露
光データをアナログ信号に変えてアンプ８に送り、アン
プ８はデフレクタに電流（電圧）を供給する機能を有し
ている。
づいて露光データをバッファメモリ２に送るとともに、
ステージデータをステージ制御部５に送る機能を有して
いる。ステージ制御部５は送られたステージデータに基
づいてステージ６を制御する機能を有している。シーケ
ンスコントローラ３はステージ６の誤差をレーザ測定器
で観測されたデータに基づいて補正を行う機能を有して
いる。ＤＡコンバータ７はディジタル信号で送られた露
光データをアナログ信号に変えてアンプ８に送り、アン
プ８はデフレクタに電流（電圧）を供給する機能を有し
ている。
また、ビームのショット方法としては、通常最初にショ
ットするところは隣の領域の影響を受けるため長目にシ
ョットし、次にショットするところは近接・効果により
短目にショットするものである。
ットするところは隣の領域の影響を受けるため長目にシ
ョットし、次にショットするところは近接・効果により
短目にショットするものである。
次に、その動作原理について説明する。
サブフィールドごとに露光する場合（ここではメインデ
フレクタ１７でサブフィールドの中心へビームをもって
いる場合である）のステージ６の移動速度を決定する場
合について説明する。
フレクタ１７でサブフィールドの中心へビームをもって
いる場合である）のステージ６の移動速度を決定する場
合について説明する。
まず、第３図に示す矢印のように露光を行うように露光
データを区切って作製し、その列ごとの露光データに基
づいて空露光（ここではウェハ露光前にウェハ露光と全
く同等の動作を露光制御系にさせている）を行い、メイ
ンデフレクタ１７へ送られる信号を追って観測する。次
いで、メインデフレクタ１７により偏向されるビームの
ステージ移動方向の座標を単位時間ごとにＣＰＵＩ内の
メモリに格納する。そして、サブフィールドの長さを、
メインデフレクタ１７によって偏向されたビームが第７
図に示すような斜線部Ａや点線部已に滞在する時間（本
発明に係る露光時間に該当する）で割った値をステージ
６の移動速度とする。この移動速度が、実際に例えばレ
ジストを露光する際の速度となる。
データを区切って作製し、その列ごとの露光データに基
づいて空露光（ここではウェハ露光前にウェハ露光と全
く同等の動作を露光制御系にさせている）を行い、メイ
ンデフレクタ１７へ送られる信号を追って観測する。次
いで、メインデフレクタ１７により偏向されるビームの
ステージ移動方向の座標を単位時間ごとにＣＰＵＩ内の
メモリに格納する。そして、サブフィールドの長さを、
メインデフレクタ１７によって偏向されたビームが第７
図に示すような斜線部Ａや点線部已に滞在する時間（本
発明に係る露光時間に該当する）で割った値をステージ
６の移動速度とする。この移動速度が、実際に例えばレ
ジストを露光する際の速度となる。
すなわち、上記実施例では、第２図に示すようにパター
ンジェネレータ４を含めて装置を一端空露光で作動させ
、パターンジェネレータ４で設定された露光時間に基づ
いてステージ６の移動速度を決定する速度計算機１１を
設けているため、実際にビームが滞在している露光時間
を領域ごとに求めることができ、この露光時間に基づい
て領域ごとの移動速度をほぼ正確に求めることができる
。
ンジェネレータ４を含めて装置を一端空露光で作動させ
、パターンジェネレータ４で設定された露光時間に基づ
いてステージ６の移動速度を決定する速度計算機１１を
設けているため、実際にビームが滞在している露光時間
を領域ごとに求めることができ、この露光時間に基づい
て領域ごとの移動速度をほぼ正確に求めることができる
。
したがって、第７図に示すような斜線部Ａを露光してい
る間に、ステージ６が本来あるべき装置より移動し過ぎ
てしまい、第８図に示す■のようにビームが届かなくな
ってしまうというようなことがほとんどなくなる。
る間に、ステージ６が本来あるべき装置より移動し過ぎ
てしまい、第８図に示す■のようにビームが届かなくな
ってしまうというようなことがほとんどなくなる。
また、空露光をしないで予めＣＰＵＩで領域ごとのステ
ージ６の移動速度を決定させて、これに基づいて実際に
ウェハ露光を行う場合も考えられるが、この場合はパタ
ーンジェネレータ４がかわ、ったり、その他システムが
かわるとＣＰＵＩのソフトを組みなおさなければならず
ソフト負担が多いという問題があるが、上記実施例では
、上記のような問題もな（、複雑な計算をしないでも行
えるという利点がある。
ージ６の移動速度を決定させて、これに基づいて実際に
ウェハ露光を行う場合も考えられるが、この場合はパタ
ーンジェネレータ４がかわ、ったり、その他システムが
かわるとＣＰＵＩのソフトを組みなおさなければならず
ソフト負担が多いという問題があるが、上記実施例では
、上記のような問題もな（、複雑な計算をしないでも行
えるという利点がある。
なお、上記実施例では、実際にＥＢ照射してウェハ露光
前にウェハ露光と全（同等の動作を露光制御系にさせる
空露光を行う場合について説明したが、零発゛明はこれ
に限定されるものではな（、少な（とも空露光した隙、
パターンジェネレータ４で第７図に示すような斜線部Ａ
や、点線部Ｂに滞在する時間（本発明に係る露光時間に
該当する）がわかればよ（、ステージを動かさないで空
露光する場合であってもよく、ＥＢ照射せずに空露光す
る場合であってもよい。
前にウェハ露光と全（同等の動作を露光制御系にさせる
空露光を行う場合について説明したが、零発゛明はこれ
に限定されるものではな（、少な（とも空露光した隙、
パターンジェネレータ４で第７図に示すような斜線部Ａ
や、点線部Ｂに滞在する時間（本発明に係る露光時間に
該当する）がわかればよ（、ステージを動かさないで空
露光する場合であってもよく、ＥＢ照射せずに空露光す
る場合であってもよい。
上記実施例は、サブフィールドごとのステージの移動速
度を決定する場合について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではな（、メインフィールドごとの速度
を決定する好ましい態様の場合であってもよい。上記実
施例は象、激な加減速を行うと振動が発生しやすく、制
御が複雑になる傾向があるが、この実施例ではメインフ
ィールドを等速で移動させて解消するものである。具体
的には、第４図に示す始点Ｃと終点りを結んだ直線の傾
きが、メインフィールドの大きさをその露光時間で割っ
たものであり、言ってみれば平均速度ともいえる。ステ
ージがこの直線に沿って移動するとき、メインデフレフ
・夕による振り戻しＥは第４図に示すようになる。この
値がメインデフレクタの偏向能力（直線Ｘと直線Ｙの縦
軸方向の距離）を越えると露光できないので、この場合
は第５図に示すように、平均速度を小さくする。今度は
上の直線Ｘよりも破線２が上になるので、この場合は第
６図に示すように上になる破線Ｚの部分を横軸方向へ平
行移動する。つまり、ステージが追いつくまで待つこと
になる。なお、第４図はステージが速すぎて露光が追い
つかない状態を示しており、第５図はステージが遅くて
露光が終わっているが次の領域までステージが来ていな
い状態を示しており、第６図はステージが追いついて来
るまで露光を一端ストップして待っている状態を示して
いる。
度を決定する場合について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではな（、メインフィールドごとの速度
を決定する好ましい態様の場合であってもよい。上記実
施例は象、激な加減速を行うと振動が発生しやすく、制
御が複雑になる傾向があるが、この実施例ではメインフ
ィールドを等速で移動させて解消するものである。具体
的には、第４図に示す始点Ｃと終点りを結んだ直線の傾
きが、メインフィールドの大きさをその露光時間で割っ
たものであり、言ってみれば平均速度ともいえる。ステ
ージがこの直線に沿って移動するとき、メインデフレフ
・夕による振り戻しＥは第４図に示すようになる。この
値がメインデフレクタの偏向能力（直線Ｘと直線Ｙの縦
軸方向の距離）を越えると露光できないので、この場合
は第５図に示すように、平均速度を小さくする。今度は
上の直線Ｘよりも破線２が上になるので、この場合は第
６図に示すように上になる破線Ｚの部分を横軸方向へ平
行移動する。つまり、ステージが追いつくまで待つこと
になる。なお、第４図はステージが速すぎて露光が追い
つかない状態を示しており、第５図はステージが遅くて
露光が終わっているが次の領域までステージが来ていな
い状態を示しており、第６図はステージが追いついて来
るまで露光を一端ストップして待っている状態を示して
いる。
（効 果〕
本発明によれば、領域ごとのステージ移動速度をほぼ正
確に決定することができ、かつ複雑な計算をしないで行
えるという効果がある。
確に決定することができ、かつ複雑な計算をしないで行
えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る電子ビーム露光装置の一実施例の
構成を示す装置概略図、 第２図は一実施例の構成を示すフローチャート、第３図
は一実施例のパターンとビームの進行方向の状態を示す
図、 第４図〜第６図は他の実施例のビームの滞在時間とステ
ージ移動方向座標との関係を示す図、第７図は従来例の
露光方法を説明する図、第８図は従来例のメインデフレ
クタによるビームの偏向を説明する図である。 １・・・・・・ＣＰＵ。 ２・・・・・・バッファメモリ、 ３・・・・・・シーケンスコントローラ、４・・・・・
・パターンジェネレータ、５・・・・・・ステージ制御
部、 ６・・・・・・ステージ、 ７・・・・・・ＤＡコンバータ、 ８・・・・・・アンプ、 ９・・・・・・コラム、 １０・・・・・・パターンデータ、 １１・・・・・・速度計算機。 第３図 第４図 把の実施４ｇ１のビ゛−ムの潴ｄ酵呼ｒ１１とステーレ
移動方同万博票とのｒａイｊト１≧、テｔ、す図 第５図 他の実施伊」のビ°−ムのヲ帯在時聞にズテーシ導多勤
方ｂＶ証譚との嬰佛悸丁図 第６図
構成を示す装置概略図、 第２図は一実施例の構成を示すフローチャート、第３図
は一実施例のパターンとビームの進行方向の状態を示す
図、 第４図〜第６図は他の実施例のビームの滞在時間とステ
ージ移動方向座標との関係を示す図、第７図は従来例の
露光方法を説明する図、第８図は従来例のメインデフレ
クタによるビームの偏向を説明する図である。 １・・・・・・ＣＰＵ。 ２・・・・・・バッファメモリ、 ３・・・・・・シーケンスコントローラ、４・・・・・
・パターンジェネレータ、５・・・・・・ステージ制御
部、 ６・・・・・・ステージ、 ７・・・・・・ＤＡコンバータ、 ８・・・・・・アンプ、 ９・・・・・・コラム、 １０・・・・・・パターンデータ、 １１・・・・・・速度計算機。 第３図 第４図 把の実施４ｇ１のビ゛−ムの潴ｄ酵呼ｒ１１とステーレ
移動方同万博票とのｒａイｊト１≧、テｔ、す図 第５図 他の実施伊」のビ°−ムのヲ帯在時聞にズテーシ導多勤
方ｂＶ証譚との嬰佛悸丁図 第６図
Claims (1)
- 所定の領域毎に定められた速度に従って移動するステ
ージと、前記所定の領域毎のパターンデータに従って露
光時間を設定する時間設定手段とを備えたステージ連続
移動型の電子ビーム露光装置において、少なくとも前記
時間設定手段を含めて装置を作動させ、前記時間設定手
段で設定された露光時間に基づいて前記速度を設定する
速度決定手段を設けたことを特徴とする電子ビーム露光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63077238A JP2559455B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63077238A JP2559455B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01248618A true JPH01248618A (ja) | 1989-10-04 |
| JP2559455B2 JP2559455B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=13628284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63077238A Expired - Fee Related JP2559455B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2559455B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04291913A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-16 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子線露光装置、及び荷電粒子線露光方法 |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP63077238A patent/JP2559455B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04291913A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-16 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子線露光装置、及び荷電粒子線露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2559455B2 (ja) | 1996-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4185171B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法及びその露光装置 | |
| JP2000150367A (ja) | 荷電ビ―ム描画装置 | |
| US7741614B2 (en) | Lithography system and lithography method using the same | |
| JP3335011B2 (ja) | マスク及びこれを用いる荷電粒子ビーム露光方法 | |
| JP3310400B2 (ja) | 電子ビーム露光方法および露光装置 | |
| JPH0922118A (ja) | 荷電粒子線によるパターン転写方法および転写装置 | |
| JPH0691005B2 (ja) | 荷電ビ−ム描画方法 | |
| JPH01248618A (ja) | 電子ビーム露光装置及び露光方法 | |
| JP2002151387A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| JP6350023B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び方法 | |
| JPH0653129A (ja) | 電子ビーム露光方法 | |
| JPH0536594A (ja) | 露光処理システム装置，荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法 | |
| JP2559454B2 (ja) | 電子ビーム露光装置及び露光方法 | |
| JP3161101B2 (ja) | 荷電粒子線描画装置 | |
| JPH04309213A (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| JPH1154403A (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| JP2504434B2 (ja) | 荷電粒子ビ―ム描画方法 | |
| JPS62149126A (ja) | 荷電ビ−ム露光方法 | |
| JPH10242025A (ja) | 可変面積型電子ビーム描画方法 | |
| JP2002184681A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法 | |
| JP4528325B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法及びその露光装置 | |
| JP2002222759A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| JPS631741B2 (ja) | ||
| JPH1079346A (ja) | 荷電粒子線転写装置 | |
| JPS62272527A (ja) | 放射ビ−ムによる描画装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |