JP2014083510A - 容器回転装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理対象物の取り出しを容易に行うことが可能な容器回転装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の内部を第１回転室１５と第２回転室１５とに区画し、筒形回転容器１０の筒壁１１と一体に回転する第１終端壁１４と、筒形回転容器１０に設けられて、第１終端壁１４と第１回転室１５を挟んで対向した第１始端壁１２と、第１終端壁１４の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室１５内に開口した第１終端開口２４と、第２回転室１６内に開口した第２始端開口２５とを両端部に有し、処理対象物Ｓが通過可能な移送路２３Ｒと、移送路２３Ｒのうち第２始端開口２５を第１終端開口２４より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器１０の回転方向を切り替えるためのモータ３１とを備えている。
【選択図】図２

Description

本発明は、中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器を備えた容器回転装置に関する。

従来より、筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら所定の処理を行うことが可能な容器回転装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開平１１−１７９１８４号公報（段落［００４４］〜［００４５］、第１図）

ところが、上述した従来の容器回転装置では、処理対象物を筒形回転容器から手作業で掻き出す必要があり面倒であった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、処理対象物の取り出しを容易に行うことが可能な容器回転装置の提供を目的とする。

上記目的を達成するためになされた請求項１の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項２の発明は、請求項１に記載の容器回転装置において、第１回転室における筒壁の内側面に沿って中心軸回りに螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる第１螺旋ガイドと、第２回転室における筒壁の内側面に沿って中心軸回りに螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第２回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第２回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第２螺旋ガイドとを備えたところに特徴を有する。

請求項３の発明は、請求項２に記載の容器回転装置において、第１終端開口における逆回転方向の後側縁部に端部が接続された第１螺旋ガイドと、第２始端開口における正回転方向の後側縁部に端部が接続された第２螺旋ガイドとの一方又は両方を備えたところに特徴を有する。

請求項４の発明は、請求項２又は３に記載の容器回転装置において、第１回転室のうち第１螺旋ガイドの内側でその第１螺旋ガイドとは逆巻の螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第１サブ螺旋ガイドを備えたところに特徴を有する。

請求項５の発明は、請求項１乃至４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器を正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した第２始端開口と、筒形回転容器を逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した第１終端開口との一方又は両方を備えたところに特徴を有する。

請求項６の発明は、請求項１乃至５の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、平板状の第１終端壁と、全体が溝形構造でその長手方向の一端が閉塞された閉塞端をなす一方、他端が開口した開放端をなし、第１終端壁における第２回転室側の面の外縁部に設けられて、第１終端壁との間に移送路及び第２始端開口を形成する移送ダクトと、第１終端壁のうち移送ダクトの閉塞端側の一端部に覆われた部分に貫通形成された第１終端開口とを備えたところに特徴を有する。

請求項７の発明は、請求項１乃至６の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１終端壁に移送路を複数備えたところに特徴を有する。

請求項８の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて筒内中心部に向けて流下させるリフターとを備えたところに特徴を有する。

請求項９の発明は、請求項８に記載の容器回転装置において、第１終端壁の中心に固定され、センター孔より大きな先端開口を有し、雰囲気生成手段としての噴射ノズルから噴射された噴射物質を第１回転室の内側中心部の周囲に向けて反射する椀形反射部材を備えたところに特徴を有する。

請求項１０の発明は、請求項８又は９に記載の容器回転装置において、第１終端壁から突出し、椀形反射部材を支持する反射部材支持突部と、第１終端壁のうち椀形反射部材との対向位置に貫通形成された通気孔と、筒形回転容器に設けられて、筒壁のうち第２回転室における第１終端壁と反対側の端部が回転可能に連結され、第１終端壁との間に第２回転室を挟んで対向した第２終端壁を有すると共に上下方向が常に一定に固定された固定蓋と、固定蓋の下端部に設けられ、処理対象物を排出するための排出口と、固定蓋の上端部に設けられ、筒形回転容器内のガスを排気するための排気口と、を備えたところに特徴を有する。

請求項１１の発明は、請求項１０に記載の容器回転装置において、第２終端壁を貫通して延びた供給管を有し、供給管を通して第２終端壁内に処理対象物を供給する処理対象物フィーダーを備えたところに特徴を有する。

請求項１２の発明は、請求項８乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、処理対象物を加熱するための処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、処理雰囲気によって加熱された処理対象物を冷却するための冷却水を貯留する第１回転室とを備えたところに特徴を有する。

請求項１３の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、凝固液を貯留する第１回転室と、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、溶融した樹脂、金属、その他の溶融物の液滴又は、凝固可能な溶液の液滴をセンター孔を通して第１回転室内の凝固液に注ぐ液滴注出手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項１４の発明は、請求項１２又は１３に記載の容器回転装置において、第２回転室における筒壁の内側面から張り出して、第１終端壁との間で凝固液を貯留する貯液用の第２螺旋ガイドを備えたところに特徴を有する。

請求項１５の発明は、請求項１４に記載の容器回転装置において、第１回転室内のうち貯液用の第２螺旋ガイドと第１終端壁との間に凝固液を供給するための凝固液供給管と、第１回転室内のうち貯液用の第２螺旋ガイドと第１終端壁との間における凝固液の液面位置を検出する浮球と、凝固液供給管の先端部に設けられ、浮球の位置が基準位置より下方に位置したときに開状態になって凝固液供給管から凝固液を供給させる一方、浮球が基準位置以上に位置したときに閉状態になって凝固液供給管からの凝固液の供給を停止させる開閉弁とを備えたところに特徴を有する。

請求項１６の発明は、請求項１乃至１５の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒壁の下方に設けられかつ上面が開口し、冷却水を貯留した冷却水貯留容器と、筒壁から側方に張り出し、筒形回転容器が回転したときに冷却水貯留容器内の冷却水を順次に汲み上げて筒壁の外面に掛ける複数のバケットとを備えたところに特徴を有する。

請求項１７の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、センター孔に挿通された液体供給管と、液体供給管の先端部に設けられ、第１回転室内の最下部より正回転方向の前側位置に向けて斜め下方に霧、液、ガスを噴出する吹付ノズルとを備えたところに特徴を有する。

請求項１８の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、一端部がセンター孔内に受容されて、センター孔の外側斜め下方に向かって延びた流下樋と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて流下樋に向けて流下させるリフターとを備えたところに特徴を有する。

請求項１９の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、センター孔に挿通され、第１回転室内で回転する回転シャフトと、回転シャフトから側方に張り出した粉砕ブレードと、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて粉砕ブレードに向けて流下させるリフターとを備えたところに特徴を有する。

請求項２０の発明は、請求項８，１８，１９の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の内面に突出形成され、センター孔の回りに並べられた複数のリフターと、各リフターに設けられ、第１始端壁の内面から突出すると共にセンター孔の外縁部から筒壁の内側面に向かって延びかつ、筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲したリフター底壁と、各リフターに設けられ、リフター底壁のうち第１始端壁から離れた側の縁部から正回転方向の前側に突出し、第１始端壁との間に処理対象物を収容可能なリフター側壁とを備えたところに特徴を有する。

請求項２１の発明は、請求項８、１８，１９，２０の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室における筒壁の内側面から突出して筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁の両側に１対のリフター側壁を対向配置してなり、リフター底壁が筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、１対のリフター側壁がリフター底壁から正回転方向の前方に突出した構造を有しかつ、筒内中心部の回りに並べられた複数のリフターを備えたところに特徴を有する。

請求項２２の発明は、請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒壁の外面に宛われて放射熱で筒形回転容器を加熱する加熱源を備えたところに特徴を有する。

請求項２３の発明は、請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、センター孔に挿通され、第１回転室内で発熱する内部ヒーター又は、前記第１回転室内で発光する紫外線ランプ、赤外線ランプ、レーザー又は、光ファイバー、ミラー等の光伝達手段又は、前記第１回転室内にガスを噴射するガス噴射ノズルとを備えたところに特徴を有する。

請求項２４の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒壁と一体に回転し、第１回転室を挟んで第１終端壁と対向した第１始端壁と、第１始端壁の中心部に貫通形成されたセンター孔と、センター孔の開口縁に接続され、センター孔を通して第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、センター孔の開口縁と雰囲気生成手段との接続部分を気密状態にシールするシール部材と、筒壁と一体に回転し、第２回転室を挟んで第１終端壁と対向した第２終端壁と、第２終端壁の中心部に貫通形成されたサブセンター孔と、第２終端壁におけるサブセンター孔の開口縁から第２回転室の外部に突出したセンター筒部と、センター筒部に嵌合した嵌合部を有し、筒形回転容器内の空気を吸引するための吸引手段と、センター筒部と嵌合部との間を気密状態にシールするサブ摺動シールとを備えたところに特徴を有する。

請求項２５の発明は、請求項１乃至２４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が処理対象物を第２回転室外に排出するための排出大開口になったメッシュ構造のセンターコーンと、第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で正回転方向の前側に屈曲して第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、サブ移送路のうち第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、センターコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたところに特徴を有する。

請求項２６の発明は、請求項１乃至２４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が処理対象物を第２回転室外に排出するための排出大開口になったアウターコーンと、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、アウターコーンの内側に配置され、大径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転するメッシュ構造のインナーコーンと、第１終端壁のうちインナーコーンに囲まれた部分に貫通形成され、インナーコーンの篩目を通過しなかった処理対象物を第１回転室に受け入れるための戻し孔と、第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で正回転方向の前側に屈曲して第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、サブ移送路のうち第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、インナーコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたところに特徴を有する。

請求項２７の発明は、請求項２６に記載の容器回転装置において、インナーコーンの篩目より大きな粒状の粉砕メディアを収容した第１回転室を備えたところに特徴を有する。

請求項２８の発明は、請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒壁の軸方向に延びた直線部を有し、その直線部が筒壁の周方向全体に亘って分散配置された複数のガス通気路と、筒壁の内側面に開口し、各ガス通気路に連通した複数のガス噴出口と、回転不能に固定された固定リングと、固定リングに回転可能に連結されかつ筒形回転容器と一体に回転する回転リングとを有すると共に、それら固定リングと回転リングとの間に、複数のガス通気路の一端部が共通して連通した環状通気路を有したロータリージョイントと、固定リングに接続され、環状通気路にガスを送給するガス送給手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項２９の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室内に充填されかつ液状の処理対象物が流下可能な空隙を有する充填部材と、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１終端壁の中心に貫通形成された終端センター孔と、センター孔から第１回転室内にガスを供給するためのガス供給手段と、終端センター孔から第２回転室内に流入したガスを排気するための排気口とを備えたところに特徴を有する。

請求項３０の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の回転に伴って自重で移動して、筒形回転容器に衝撃を付与する打撃体を備えたところに特徴を有する。

より具体的には、例えば、第１回転室の内側で回転半径方向に延びたガイドパイプと、ガイドパイプの内側に収容され、筒形回転容器の回転に伴いガイドパイプの両端部間を往復動して筒形回転容器に衝撃を付与する打撃子とを備えた構成とすればよい。

また、上記構成において、ガイドパイプの両端部が筒壁の外面に露出した配置としてそのガイドパイプの両端部に、打撃子を磁力によってガイドパイプの端部に保持する磁気吸着部を設けると共に、打撃子の両端面から押圧ピンを突出させて、磁気吸着部に貫通形成されたピン挿通孔に挿通可能とし、筒形回転容器の鉛直上方に固定配置され、筒壁の外周面から突出した押圧ピンを押下して磁気吸着部よる打撃子の保持を解除する押下手段を備えた構成としてもよい。

また、別の構成として、例えば、第１回転室の中心軸と平行な回動軸を中心に回動自在に軸支された打撃部材を設けて、その打撃部材の回動領域の途中に筒壁の内面から突出した被打撃部を配置した構成としてもよい。

さらに別の構成として、例えば、筒形回転容器の内面又は外面から突出した支持ベースに筒形回転容器の中心軸と平行な回動軸を設け、その回動軸に回動自在に軸支されかつ筒壁の内面又は外面に当接することで回動範囲が規制された打撃部材を備えた構成としてもよい。

請求項３１の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器から排気されたガスに含まれる粒子状物質を遠心分離する遠心力集塵部と、ガスに含まれる粒子状物質をフィルターにて濾過分離する１対のフィルター集塵部と、フィルターにガスの通過方向とは逆向きにエアを通過させてフィルターに付着した粒子状物質を払い落とすための逆洗手段と、フィルターから払い落とされた粒子状物質を貯留する粒子貯留容器と、１対のフィルター集塵部の何れか一方と遠心力集塵部との間を連通させかつ他方と遠心力集塵部との間を遮断することが可能な切替バルブとを備えたところに特徴を有する。

請求項３２の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、水平な回転軸回りで回転駆動される回転受容部と、回転受容部の内側に挿抜可能に受容されて、回転受容部と一体回転するか又は回転受容部の内側で転動する筒形回転容器とを備えたところに特徴を有する。

請求項３３の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１終端壁の中心に貫通形成された終端センター孔と、センター孔及び終端センター孔に挿通され、第１回転室内で回転する回転シャフトと、回転シャフトに固定された撹拌部材とを備えたところに特徴を有する。

請求項３４の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の第１始端壁と第１終端壁とに設けられて、第１回転室に貯留された電解液に接液可能な１対のリング形電極を備えところに特徴を有する。

請求項３５の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室の筒壁内面から中心部に向かって略板状に突出しかつ、筒形回転容器の軸方向で所定の隙間を空けて配置された複数の撹拌板と、複数の各撹拌板に設けられて、それら撹拌板の並び方向で所定のギャップを空けて突き合わされた放電電極対とを備えたところに特徴を有する。

請求項３６の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室内に配置された陰極電極及び陽極電極と、第１回転室に貯留された導電性液体中にそれら陰極電極と陽極電極とを浸漬した状態で、陰極電極と陽極電極との間に電圧を印加して陰極電極の近傍にプラズマを発生させるためのプラズマ用電源とを備えたところに特徴を有する。

請求項３７の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の外側に配置されたマイクロ波照射装置と、第１回転室内に配置され、マイクロ波を捕捉して第１回転室内に貯留された液体中に定常波を発生させるアンテナとを備えたところに特徴を有する。

請求項３８の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室内に設けられかつ、第１回転室に貯留された液体に浸漬されてその液体中に超音波を放射する超音波放射手段と、第１回転室に貯留された液体に浸漬されてその液体中に光を照射する光照射手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項３９の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器の外面のうち少なくとも第１回転室の側方部分を覆って筒形回転容器と一体回転すると共に、内部に熱媒体を循環させることで筒形回転容器を加熱又は冷却するための熱交換ジャケットを備えたところに特徴を有する。

請求項４０の発明は、請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器を中心軸方向で複数分割してなる容器構成体と、容器構成体同士を固定するための固定手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項４１の発明は、請求項４０に記載の容器回転装置において、複数の容器構成体の少なくとも１つは構造を異ならせて複数種類設けられ、筒形回転容器を構成する複数の容器構成体の組み合わせを変更可能としたところに特徴を有する。

［請求項１の発明］
本発明によれば、筒形回転容器の第１回転室に処理対象物を収容した状態で、筒形回転容器を正方向に回転させた場合、移送路の第２始端開口が第１終端開口より先行して回転するので、第１終端開口が第１回転室の下部に溜まった処理対象物の中を通っても、処理対象物が移送路を通って第２回転室に移動することはない。これに対し、筒形回転容器を逆方向に回転させると、移送路の第１終端開口が第２始端開口より先行して回転するので、第１終端開口が第１回転室の下部に溜まった処理対象物の中を通過する際に移送路に進入した処理対象物が、筒形回転容器の逆回転に伴って第２始端開口に向かって移動して、第２回転室に移送される。

つまり、筒形回転容器を正回転させている間は、処理対象物を第１回転室内に留めて流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行うことができ、筒形回転容器を逆回転させることで、処理対象物を第１回転室から排出させることができる。このように、処理対象物の取り出しを機械的操作で行うことができるから、処理対象物の取り出しが従来より容易になる。

［請求項２の発明］
請求項２の発明によれば、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる第１螺旋ガイドと、第２回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第２螺旋ガイドとを備えたから、筒形回転容器からの処理対象物の取り出しをスムーズに行うことができる。

［請求項３の発明］
請求項３の発明によれば、第１螺旋ガイドの端部を、第１終端開口における逆回転方向の後側縁部に接続することで、筒形回転容器を逆回転させたときに、処理対象物を第１終端開口に向けて推進させることができる。また、第２螺旋ガイドの端部を、第２始端開口における正回転方向の後側縁部に接続することで、筒形回転容器を正回転させたときに、処理対象物を第２始端開口に向けて推進することができる。

［請求項４の発明］
請求項４の発明によれば、筒形回転容器を回転させた場合に、第１回転室の下部に溜まった処理対象物の下層部分と上層又は中層部分とを筒形回転容器の中心軸方向で互いに逆向きに移動させることができ、筒形回転容器の回転による相乗効果で、処理対象物を三次元的に移動させて流動撹拌することができる。

［請求項５の発明］
請求項５の発明によれば、第２始端開口を、筒形回転容器を正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口させることで、筒形回転容器を正回転させた場合に、処理対象物を移送路の第２始端開口から第１終端開口に向けて移動させる推進力を得ることができる。また、第１終端開口を、筒形回転容器を逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口させることで、筒形回転容器を逆回転させた場合に、処理対象物を移送路の第１終端開口から第２始端開口に向けて移動させる推進力を得ることができる。

［請求項７の発明］
請求項７の発明によれば、複数の移送路を備えたことで、第１回転室から第２回転室への処理対象物の移送を迅速に行うことができる。

［請求項８の発明］
請求項８の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物を、第１回転室の筒内中心部に生成させた、プラズマ、光エネルギー、加熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気の中を通過させることができる。

［請求項９の発明］
請求項９の発明によれば、噴射ノズルから噴射された噴射物質を反射して第１回転室の比較的広い範囲に行き渡らせることができる。また、処理対象物を噴射物質と共に噴射ノズルから第１回転室に供給した場合に、処理対象物を受け止めて第１回転室内に貯めることができる。

［請求項１３の発明］
請求項１３の発明によれば、第１回転室内に貯留された凝固液中に、センター孔を通して金属、樹脂その他の溶融物の液滴又は、凝固液との接触で凝固可能な溶液の液滴が注がれることで、粒状物質を製造することができる。ここで、凝固液とは、液滴注出手段から供給された液滴と接触することでその液滴を凝固（冷却による凝固や化学反応による凝固及び、異種物質界面操作を含む）させることが可能な液体のことである。具体的には、金属、樹脂その他の溶融物の液滴を凝固（冷却凝固）させる場合、凝固液は水でよい。また、液滴注出手段によって注がれた液滴と化学反応をすることで液滴を凝固（例えば、ゲル化）させる溶液を凝固液としてもよい。

［請求項１４の発明］
請求項１４の発明によれば、第２回転室に貯留した凝固液を、筒形回転容器の正回転によって第１回転室に送給することができる。

［請求項１５の発明］
請求項１５の発明によれば、第２回転室に貯留された凝固液を一定量に保持することができる。

［請求項１６の発明］
請求項１６の発明によれば、筒形回転容器の回転によってバケットが汲み上げた冷却水で、筒形回転容器を外側から冷やすことができる。

［請求項１７の発明］
請求項１７の発明によれば、吹付ノズルから噴出した霧、液、ガス等を第１回転室の下部に溜まった処理対象物に向けて吹き付けることができる。

［請求項１８の発明］
請求項１８の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物を、流下樋に落下させて、外部に排出することができる。

［請求項１９の発明］
請求項１９の発明によれば、第１回転室の下部に溜まっている処理対象物をリフターですくい上げて、回転中の粉砕ブレードに向けて落下させることで、処理対象物の粉砕を行うことができる。

［請求項２０及び２１の発明］
請求項２０及び２１の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物は、筒形回転容器の正回転に伴ってリフター底壁上を筒内中心部に向かって移動して徐々に排出される。

［請求項２２の発明］
請求項２２の発明によれば、筒形回転容器を外側から加熱することができる。なお、本発明における加熱源としては、ヒーター、バーナー等が挙げられる。

［請求項２３の発明］
請求項２３の発明によれば、第１回転室内の処理対象物を内部ヒーターによって加熱することができる。又は、光エネルギーで処理対象物の処理を行うことができる。又は、ガス噴射ノズルから噴射されたガス雰囲気下で処理対象物の処理を行うことができる。

［請求項２４の発明］
請求項２４の発明によれば、真空下で、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気による処理を行うことができる。

［請求項２５の発明］
請求項２５の発明によれば、筒形回転容器を正回転させた場合に、第１回転室内の処理対象物が、サブ移送路を通ってメッシュ構造等の孔を有するセンターコーン内に送給され、そのセンターコーン内を排出大開口に向かって移動する過程で、処理対象物が粒径によって篩い分け（分級）される。

［請求項２６の発明］
請求項２６の発明によれば、筒形回転容器を正回転させた場合に、第１回転室内の処理対象物が、サブ移送路を通ってインナーコーン内に送給され、インナーコーンを通過する過程で、処理対象物が粒径によって篩い分け（分級）される。即ち、インナーコーンの篩目を通過した処理対象物は、アウターコーンの内側を通って排出大開口から第２回転室外に排出される。一方、インナーコーンの篩目を通過しなかった処理対象物は、第１終端壁の戻し孔を通って第１回転室に戻される。

［請求項２７の発明］
請求項２７の発明によれば、筒形回転容器の回転により、第１回転室内に収容した粉砕メディアによって処理対象物が粉砕され、その粉砕された処理対象物が、インナーコーンによって分級される。ここで、粉砕メディアは処理対象物と共にインナーコーンに送給されるが、インナーコーンの篩目を通過しないので第１回転室に戻される。

［請求項２８の発明］
請求項２８の発明によれば、第１回転室内で流動する処理対象物に対してガスを吹き込むことができ、処理対象物の流動化促進ないし、選択した反応性ガスの直接接触による反応促進を行うことができる。

［請求項２９の発明］
請求項２９の発明によれば、筒形回転容器の回転に伴って充填部材の空隙を流下する液状の処理対象物にガスを接触させることができる。具体的には、空気によって処理対象物の水分を蒸発させて処理対象物を濃縮する濃縮器又は、充填部材に生物触媒（例えば、好気性菌、嫌気性菌）を定着させ、酸素過多空気（好気性菌の場合）又は無酸素ガス（嫌気性菌の場合）を接触させるバイオリアクターとして利用することができる。又は、溶媒を処理ガスと接触させて化合物を生成する反応装置として利用することができる。

［請求項３０の発明］
請求項３０の発明によれば、ガイドパイプ内を往復動する打撃子が、筒形回転容器に衝撃を与えることで、筒形回転容器の内面に付着した付着物を払い落とすことができる。

［請求項３１の発明］
請求項３１の発明によれば、筒形回転容器から排気されたガスに含まれる粒子状物質を除去することができる。ここで、フィルター集塵部は、その濾過性能を維持するために、定期的に逆洗を行ってフィルターに付着した粒子状物質を払い落とす必要があるが、フィルター集塵部を１つしか備えていない場合には、逆洗を行う圧縮エアーにより吸引元の圧力変動が発生するため、逆洗を行っている間、そのフィルター集塵部による集塵を中断せざるを得ず、筒形回転容器による処理も中断する必要がある。これに対し、本発明によれば、フィルター集塵部を２つ備え、それら２つの何れか一方と遠心力集塵部との間を連通させ、他方と遠心力集塵部との間を遮断することができるから、他方のフィルター集塵部で逆洗を行いながら、一方のフィルター集塵部と遠心力集塵部とで粒子状物質の集塵を行うことができる。これにより、筒形回転容器による処理をフィルター集塵部の逆洗に拘わらず、連続的に行うことができる。

［請求項３３の発明］
請求項３３の発明によれば、筒形回転容器に対して相対回転する撹拌部材によって、第１回転室内の処理対象物を撹拌することができる。

［請求項３４の発明］
請求項３４の発明によれば、処理対象物の電気めっき処理や電解研磨処理等を行うことが可能になる。

［請求項３５の発明］
請求項３５の発明によれば、第１回転室に貯留された液体を撹拌板で撹拌することで、液体中に気泡を取り込むと共に、放電電極対の間で放電を行うことで、液中プラズマを発生させることが可能になる。

［請求項３６の発明］
請求項３６の発明によれば、陰極電極の近傍にプラズマを発生させ、そのプラズマ熱によって陰極電極を局所的に融解させた後、導電性液体で凝固させることで、陰極電極と同じ材質のナノ微粒子を製造することが可能になる。

［請求項３７の発明］
請求項３７の発明によれば、第１回転室内に貯留された液体中にアンテナが浸かった状態で、マイクロ波を照射することで、液中プラズマを発生させることが可能になる。

［請求項３８の発明］
請求項３８の発明によれば、超音波と光の何れか一方又は両方のエネルギーによって処理対象物の処理を行うことが可能になる。

［請求項３９の発明］
請求項３９の発明によれば、熱交換ジャケット内を循環する熱媒体によって第１回転室内の処理対象物を加熱又は冷却することができる。

［請求項４０の発明］
請求項４０の発明によれば、筒形回転部材の内部構造が複雑になっても比較的容易に製造することができる。また、複数の容器構成体にばらすことで、目や手の届き難い場所のメンテナンスを容易に行うことが可能になる。

［請求項４１の発明］
請求項４１の発明によれば、処理対象物の種類や処理内容に応じて、筒形回転容器の構造を容易にカスタマイズすることができる。

本発明の第１実施形態に係る容器回転装置の側面図 容器回転装置における筒形回転容器の側断面図 図２のＡ−Ａ切断面における断面図 （Ａ）移送ダクトの平面図、（Ｂ）第１終端壁の正面図 移送ダクトの断面斜視図 移送ダクトの閉塞端側の断面図 （Ａ）リフターの平面図、（Ｂ）図２のＢ−Ｂ切断面における断面図 リフターの（Ａ）正面図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）斜視図 正回転しているリフターの正面図 正回転しているリフターの正面図 正回転しているリフターの正面図 過熱水蒸気発生装置の概念図 椀形反射部材の断面図 バーナーを備えた容器回転装置の側面図 プラズマ発生装置を備えた容器回転装置の側面図 カバーを取り付けた状態のリフターの斜視図 （Ａ）スプレーノズルを備えた容器回転装置の側断面図、（Ｂ）センター孔近傍の拡大図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 （Ａ）エアロダイナミックレンズの側断面図、（Ｂ）Ｆ−Ｆ切断面における断面図 （Ａ）エアロダイナミックレンズ構造を有したプラズマトーチの側面図、（Ｂ）エアロダイナミックレンズの側断面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 第２実施形態に係る容器回転装置の側面図 （Ａ）筒形回転容器の第１回転室における正断面図、（Ｂ）第１回転室の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 第３実施形態に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）移送ダクト及びサブ移送ダクトの平面図、（Ｂ）第１終端壁の正面図 正回転時のサブ移送路の移動軌跡を示す概念図 処理対象物フィーダーを備えた容器回転装置の側断面図 第２回転室側から見た第１終端壁の斜視図 第４実施形態に係る容器回転装置の側断面図 ボールタップを備えた筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 第２回転室の拡大断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）第５実施形態に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）粉砕ブレードの正面図、（Ｃ）粉砕ブレードの側面図 （Ａ）容器回転装置の側断面図、（Ｂ）分級部の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 第６実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）側面図、（Ｂ）Ｊ−Ｊ切断面における断面図、（Ｃ）その部分拡大図 （Ａ）回転リングのＫ−Ｋ切断面における断面図、（Ｂ）固定リングのＬ−Ｌ切断面における断面図 （Ａ）図４２のＩ−Ｉ切断面における断面図、（Ｂ）その部分拡大図 第７実施形態に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）第８実施形態に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）リフターの斜視図 第９実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）側断面図、（Ｂ）Ｋ−Ｋ切断面における断面図 容器回転装置の側断面図 第１０実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）第１回転室の断面図、（Ｂ）その部分拡大図 変形例に係る容器回転装置の第１回転室における断面図 第１１実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）第１回転室の断面図、（Ｂ）ハンマーの側面図、（Ｃ）ハンマーの正面図 （Ａ）筒形回転容器の逆回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図、（Ｂ）ハンマーによる打撃が行われたときの第１回転室の断面図 （Ａ）筒形回転容器の正回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図、（Ｂ）筒形回転容器の回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図 払い落とし機構の正面図 筒形回転容器が逆回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図 （Ａ）払い落とし機構の側面図、（Ｂ）筒形回転容器の側断面図 （Ａ）筒形回転容器の第１回転室の断面図、（Ｂ）ハンマーの移動軌跡を示した図 （Ａ）第１２実施形態に係る粒子回収装置の処理フロー図、（Ｂ）粒子回収装置と筒形回転容器との概念図 （Ａ）遠心力集塵機の部分断面図、（Ｂ）バランスウェイト近傍部分の拡大図、（Ｃ）バランスウェイト近傍部分の拡大図 （Ａ）〜（Ｄ）排出シュートからの粒子状物質の排出動作を示す図、（Ｅ）サイクロン排出口が閉鎖された状態を示す図 （Ａ）変形例に係る第１弁体の断面図、（Ｂ）変形例に係る第１弁体の側面図 （Ａ）濾過集塵機の側面図、（Ｂ）フィルターユニットの断面図 貯留兼排出機の平面図 第１３実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）断面図、（Ｂ）正面図、（Ｃ）部分拡大図、（Ｄ）部分拡大図 回転受容部に筒形回転容器を固定した状態の（Ａ）側面図、（Ｂ）正面図、（Ｃ）部分拡大図 （Ａ）回転受容部に筒形回転容器を固定した状態の正面図、（Ｂ）ワイヤーの側面図、（Ｃ）ワイヤー係止片の平面図 （Ａ）〜（Ｄ）各ワイヤーの係止状態を示す図 回転受容部と筒形回転容器の（Ａ）側面図、（Ｂ）正面図 第１５実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）平面図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）正面図 （Ａ）電気めっき処理又は電解研磨処理のフローチャート、（Ｂ）無電解めっき処理のフローチャート 筒形回転容器の側断面図 （Ａ）図７１におけるＷ−Ｗ切断面における断面図、（Ｂ）Ｖ−Ｖ切断面における断面図 第１６実施形態に係る容器回転装置を利用した（Ａ）ナノ微粒子製造のフローチャート、（Ｂ）液体無害化処理のフローチャート （Ａ）容器回転装置の平面図、（Ｂ）筒形回転容器の側断面図 （Ａ）撹拌板列の側面図、（Ｂ）撹拌板による気泡取り込み作用の概念図、（Ｃ）撹拌板の三面図、（Ｄ）放電ピースの三面図 （Ａ）撹拌板列の平面図、（Ｂ）撹拌板列の拡大図、（Ｃ）放電ギャップの拡大図 （Ａ）第１７実施形態に係る容器回転装置の断面図、（Ｂ）Ｕ−Ｕ切断面における断面図、（Ｃ）電極ホルダの側面図 （Ａ）電極ホルダの側断面図、（Ｂ）Ｎ−Ｎ切断面における断面図、（Ｃ）ジョイントの側断面図 容器回転装置を使用したナノ微粒子製造のフローチャート 第１８実施形態に係る電極ホルダの（Ａ）側面図、（Ｂ）断面図、（Ｃ）正面図、（Ｄ）〜（Ｆ）対向電極の平面図 変形例に係る電極ホルダの（Ａ）正面図、（Ｂ）側面図 第１９実施形態に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）図８２のＱ−Ｑ切断面における断面図、（Ｂ）アンテナの側面図、（Ｃ）アンテナの正面図 （Ａ）第２０実施形態に係るエネルギー放出部の側断面図、（Ｂ）超音波放射体の側面図、（Ｃ）筒形回転容器の断面図、（Ｄ）エネルギー放出部の変形例の側面図 第２１実施形態の容器回転装置による（Ａ）湿式バレル研磨処理のフローチャート、（Ｂ）乾式バレル研磨処理のフローチャート 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正面図 （Ａ）流路切替板及びその近傍部分の断面図、（Ｂ）流路切替板の第２位置を示す図、（Ｃ）流路切替板の第１位置を示す図 （Ａ），（Ｂ）逆回転時におけるトロンメル内の処理対象物等の動向を示す図、（Ｃ）正回転時の移送ダクトにおける処理対象物等の動向を示す図 （Ａ）〜（Ｃ）逆回転時の移送ダクトおける処理対象物等の動向を示す図、（Ｄ）〜（Ｆ）逆回転時のトロンメルにおけるメディアの動向を示す図 処理対象物の粉砕・分散処理のフローチャート 第２２実施形態に係るスチームプラズマ発生装置の概念図 （Ａ）プラズマトーチの側断面図、（Ｂ）インナー管の三面図、（Ｃ）電極支持管の断面図、（Ｄ）プラズマトーチの側断面図、（Ｅ）Ｑ−Ｑ切断面における断面図、（Ｆ）プラズマトーチの側断面図 （Ａ）変形例に係るプラズマトーチの側断面図、（Ｂ）変形例に係る過熱水蒸気又はバーナー炎を放射するトーチの断面図、（Ｃ）及び（Ｄ）変形例に係るプラズマトーチの側断面図、（Ｅ）ガイド壁部の側面図 （Ａ）第２３実施形態に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｂ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｃ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図 （Ａ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｂ）多孔板の平面図、（Ｃ）混合室における流体の流れを示す概念図 渦発生ノズルの外面に設けたタービュレータの概念図 （Ａ）変形例に係る多孔板の平面図、（Ｂ）ディンプルの断面図、（Ｃ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｄ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｅ）変形例に係る渦発生ノズルの正面図 （Ａ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｂ）変形例に係る渦発生ノズルの側断面図、（Ｃ）変形例に係る渦発生ノズルの側断面図、（Ｄ）〜（Ｆ）変形例に係る環状堰部の側断面図 混相流処理の処理フロー図 （Ａ）第２４実施形態に係る筒形容器の斜視図、（Ｂ）筒形容器の断面図、（Ｃ）筒形回転容器の断面図 （Ａ）機能ユニットの側断面図、（Ｂ）機能ユニットを筒形容器の内側から見た図、（Ｃ）機能ユニットを筒形容器の外側から見た図、（Ｄ）機能ユニットの平面図 （Ａ）第２５実施形態に係る容器回転装置による処理フロー図、（Ｂ）変形例に係る容器回転装置による処理フロー図 （Ａ）容器回転装置の側断面図、（Ｂ）変形例に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）インロー部の側断面図、（Ｂ）インロー部の拡大図、（Ｃ）シール面の拡大図、（Ｄ）変形例に係るインロー部の側断面図、（Ｅ）変形例に係るインロー部の側断面図、（Ｆ）連結パイプの基端部の拡大図、（Ｇ）嵌合軸部と嵌合筒部の嵌合部分の拡大図 第２６実施形態に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）連結シャフトに組み付けられた円筒カラー、コイルバネ、ナットの側面図、（Ｃ）プラズマ発生部の平面図、（Ｄ）矩形突変の側面図 変形例に係る第１容器構成体の平断面図、（Ｂ）第１容器構成体の正面図 （Ａ）畝状突起の正面図、（Ｂ）畝状突起の側面図、（Ｃ）畝状突起の側面図、（Ｄ）畝状突起の正面図 （Ａ）第２７実施形態に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）Ｒ−Ｒ切断面における断面図、（Ｄ）第１配管部のＲ−Ｒ切断面における断面図、（Ｅ）第１配管部のＳ−Ｓ切断面における断面図 （Ａ）図１０８のＴ−Ｔ切断面における断面図、（Ｂ）第１配管部の部分拡大断面図、（Ｃ）熱媒体給排管の部分拡大断面図、（Ｄ）〜（Ｆ）筒形回転容器の回転に伴う気泡の動向を示す図、（Ｇ）ジャケット底部の断面図、（Ｈ）フレキシブル管の断面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 撹拌部材の（Ａ）側面図、（Ｂ）平面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図、（Ｃ）撹拌子の拡大図 （Ａ）複数の容器構成体に分割された筒形回転容器の側断面図、（Ｂ）交換用の容器構成体の側断面図 （Ａ）撹拌壁の三面図、（Ｂ）撹拌壁及びサブ撹拌壁の三面図 （Ａ），（Ｂ）ノッカの側断面図 （Ａ）容器回転装置の側面図、（Ｂ）外輪の正面図、（Ｃ）外輪の側面図 容器回転装置の側断面図 （Ａ）筒形回転容器の側断面図、（Ｂ）固定支持ユニットの側面図、（Ｃ）ガイド連結部の側断面図、（Ｄ）ガイド連結部の断面図、（Ｅ）スリーブナットの半断面図、（Ｆ）スリーブナットと連結棒の連結状態を示す断面図、（Ｇ）螺旋ガイドを固定支持ユニットによって支持した状態の正面図、（Ｈ）固定支持ユニットと螺旋ガイドの連結部分を拡大した図 （Ａ）筒形回転容器の斜視図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）Ｒ−Ｒ切断面における断面図、（Ｄ）逆回転方向への移動軌跡を示す図 容器回転装置の側断面図

［第１実施形態］
以下、図１〜２４に基づいて、本発明の第１実施形態に係る容器回転装置１００について説明する。図１における符号１０は、粉粒体、液体、その他流動性を有する処理対象物Ｓを収容可能な筒形回転容器である。筒形回転容器１０は、円筒形をなすと共に中心軸Ｊ１が水平になるように配置されており、その中心軸Ｊ１回りに回転駆動される。

筒形回転容器１０は軸方向の一端部（図１における左端。以下、「終端部」という）が開放した筒壁１１を有して、その筒壁１１の他端部（図１における右端。以下、「始端部」という）が第１始端壁１２にて閉塞されている。また、筒壁１１の内周面における軸方向の中間部から円板形の第１終端壁１４が張り出しており、その第１終端壁１４によって、筒形回転容器１０の内部が軸方向で隣り合った第１回転室１５と第２回転室１６とに区画されている。即ち、第１終端壁１４と第１始端壁１２との間に第１回転室１５が形成され、第１終端壁１４より終端部側に第２回転室１６が形成されている。ここで、第１終端壁１４の中心部には通気孔１４Ａが貫通形成されていて、その通気孔１４Ａ（図４参照）によって第１回転室１５と第２回転室１６とが連通している。

筒形回転容器１０は、複数の支持ローラー３０（転輪）によって回転可能に支持されている。即ち、筒壁１１の外周面には軸方向に離して１対の外輪１１Ｒ，１１Ｒ（タイヤ）が設けられており、それら各外輪１１Ｒが、それぞれ１対の支持ローラー３０，３０の上に載置されている（図３参照）。

筒形回転容器１０は、スプロケット１１Ｓ，３１Ｓ及びチェーン（図示せず）によってモータ３１（本発明の「回転方向切替手段」に相当する）に連結されており、予め定められた正回転方向とその逆の逆回転方向とに回転駆動される。本実施形態における「正回転方向」とは、筒形回転容器１０を第１始端壁１２側（第１回転室１５側）から見たときの反時計回り方向（図面中、矢印Ｘ１で示す方向）のことであり、「逆回転方向」とは、筒形回転容器１０を第１始端壁１２側から見たときの時計回り方向（図面中、矢印Ｘ２で示す方向）のことである（図３参照）。

筒形回転容器１０における筒壁１１の終端部には、上下方向が常に一定になるように固定された固定蓋３２が設けられている。固定蓋３２は、筒壁１１に対して回転可能に連結されており、固定蓋３２と筒壁１１との連結部分は摺動シール３２Ｓによって気密状態にシールされている。固定蓋３２は、第２回転室１６を挟んで第１終端壁１４と対向した第２終端壁３２Ａを有し、その第２終端壁３２Ａの一部は開閉可能な扉となっている。また、固定蓋３２の下端部には、処理対象物Ｓを排出するための排出口３２Ｃが設けられ、固定蓋３２の上端部には筒形回転容器１０内のガスを排気するための排気口３２Ｂが設けられている。

筒形回転容器１０の外側には、筒壁１１の外面に宛われて放射熱で筒形回転容器１０を加熱する加熱源としてのヒーター３３が設けられている。このヒーター３３によって、第１回転室１５に収容された処理対象物Ｓを加熱処理することができる。

第１回転室１５内には、筒壁１１の内周面から張り出した第１螺旋ガイド１７が設けられている。第１螺旋ガイド１７は、筒形回転容器１０の中心軸Ｊ１回りに螺旋状に延びたリボン形をなしており、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４から離れる側（第１始端壁１２に近づく側）に推進させる一方、逆回転させた場合に、処理対象物Ｓを第１終端壁１４に近づく側（第１始端壁１２から離れる側）に推進させる。なお、本実施形態の第１螺旋ガイド１７は、第１終端壁１４と第１始端壁１２との間で筒壁１１の内周面を約１周旋回している。また、第１回転室１５には、筒壁１１の周方向で１８０度位相をずらして２つの第１螺旋ガイド１７が備えられている。なお、第１螺旋ガイド１７は、例えば、筒壁１１の内周面に溶接されていてもよいし、図示しない固定部材（ビス）によって着脱可能に固定されていてもよい。

第２回転室１６内には、筒壁１１の内周面から張り出した第２螺旋ガイド１８が設けられている。第２螺旋ガイド１８は、筒形回転容器１０の中心軸Ｊ１回りに螺旋状に延びたリボン形をなしており、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第２回転室１６内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４に近づく側（第２回転室１６の終端口１３から離れる側）に推進させる一方、逆回転させた場合に処理対象物Ｓを第１終端壁１４から離れる側（第２回転室１６の終端口１３に近づく側）に推進させる。なお、本実施形態の第２螺旋ガイド１８は、終端口１３から第１終端壁１４までの間で筒壁１１の内周面を約３／４周（２７０度）旋回している。また、第２回転室１６には、筒壁１１の周方向で１８０度位相をずらして２つの第２螺旋ガイド１８が備えられている。なお、第２螺旋ガイド１８は、例えば、筒壁１１の内周面に溶接されていてもよいし、図示しない固定部材（ビス）によって着脱可能に固定されていてもよい。

筒形回転容器１０における第１始端壁１２の中心には、センター孔１２Ａが貫通形成され、そのセンター孔１２Ａには接続管３４が回転可能に接続されている。接続管３４は、その先端がセンター孔１２Ａに嵌合しかつ、先端寄り位置から側方に張り出した固定フランジ４５と第１始端壁１２との間に挟まれた摺動シール１２Ｓによって、接続管３４とセンター孔１２Ａとの嵌合部分が気密状態にシールされている。

接続管３４からは処理物供給管３５が分岐して延びており、その処理物供給管３５に、処理対象物Ｓを供給するためのフィーダー３６が接続されている。

接続管３４には、第１回転室１５のうち、センター孔１２Ａの延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成装置が接続されている。例えば、図２に示すように、雰囲気生成装置として、過熱水蒸気発生装置４０を接続した場合には、筒内中心部に過熱水蒸気による熱処理雰囲気を生成することができる。また、図１４に示すように、送風機組込型のバーナー４９を接続した場合には、第１回転室１５の筒内中心部に、火炎による熱処理雰囲気を生成することができる。また、図１５に示すように、プラズマ発生装置４２を接続した場合には、第１回転室１５の筒内中心部に、プラズマによる処理雰囲気を生成することができる。

ここで、図１２には、過熱水蒸気発生装置４０の構成の一例が示されている。同図に示すように、過熱水蒸気発生装置４０は、霧化器４０Ａによって霧化された水蒸気を、加熱配管４０Ｂの外側からヒーター３３等の熱で加熱して、過熱水蒸気を生成する。また、接続管３４に接続された過熱水蒸気トーチ４１（本発明の請求項９に係る「噴射ノズル」に相当する）には、送風配管４０Ｄと過熱水蒸気配管４０Ｃとが接続されており、送風配管４０Ｄから供給される風量によって過熱水蒸気の風量及び温度を任意に調節することが可能となっている。なお、図１における符号５７は、過熱水蒸気トーチ４１を固定支持するための支持ベースである。

図１５に示すように、プラズマ発生装置４２は、接続管３４に接続されたプラズマトーチ４２Ａと、その外側に配置された誘導コイル４２Ｂとを備えている。誘導コイル４２Ｂに高周波電力が印加されると、プラズマトーチ４２Ａ内に供給された作動ガスがプラズマ状態になってプラズマ雰囲気が生成される。

図２に示すように、第１回転室１５のうち、センター孔１２Ａの対向位置には椀形反射部材１９が設けられている。椀形反射部材１９は、第１始端壁１２に向かって開放しかつセンター孔１２Ａより大きな先端開口を有した椀形（ドーム形）をなしている。また、図１３に示すように、椀形反射部材１９は、第１終端壁１４における通気孔１４Ａの側方位置から突出した複数の反射部材支持突部１９Ｓによって通気孔１４Ａから離して支持されている。椀形反射部材１９における球状内面１９Ａの中央部には先端開口に向かって突出した略円錐形のセンター突起１９Ｔが設けられている。そして、椀形反射部材１９は、その球状内面１９Ａとセンター突起１９Ｔとによって、過熱水蒸気トーチ４１から第１回転室１５内に噴射された過熱水蒸気（本発明の「噴射物質」に相当する）を、第１回転室１５の筒内中心部の側方に向けて放射状に反射させるようになっている。なお、第１回転室１５内の過熱水蒸気を含むガスは、椀形反射部材１９の後側に回り込んで通気孔１４Ａから第２回転室１６へと流れ込み、終端口１３及び排気口３２Ｂを通って筒形回転容器１０の外部に排気される。

第１回転室１５のうちセンター孔１２Ａの側方位置には、第１回転室１５の下部に溜まっている処理対象物Ｓを、第１回転室１５の筒内中心部に供給するためのリフター２０が備えられている。図７（Ｂ）に示すように、リフター２０は、筒形回転容器１０における第１始端壁１２の内面と筒壁１１の内周面とに固定されており、筒形回転容器１０と一体に回転する。また、リフター２０は、筒内中心部の側方に配置されて、周方向に複数並べて配置されている。各リフター２０は、筒壁１１側に形成されたポケット部２１と、ポケット部２１から筒内中心部に向かって延びたシュート部２２とから構成されている。より詳細には、図８（Ａ）〜同図（Ｃ）に示すようにリフター底壁２０Ａは、第１始端壁１２に対して直角な帯状をなしており、筒内中心部から径方向外側に向かって延びかつ、途中で筒壁１１の内周面に近づくに従って正回転方向Ｘ１の後側（逆回転方向Ｘ２の前側）に向かうように屈曲又は湾曲している。また、リフター側壁２０Ｂは、リフター底壁２０Ａのうち第１始端壁１２から離れた側の縁部から正回転方向Ｘ１の前側に突出しており、第１始端壁１２との間に処理対象物Ｓを収納可能となっている。ここで、リフター底壁２０Ａ及びリフター側壁２０Ｂを網状にして、その網目を通過しなかった処理対象物Ｓの粒子だけが、リフター２０によって筒内中心部に供給されるようにしてもよい。

筒形回転容器１０を正回転させると、図９（Ａ）から同図（Ｂ）への変化に示すように第１回転室１５の下部に溜まっている処理対象物Ｓの中をリフター２０のポケット部２１が次々に通過して、各ポケット部２１に処理対象物Ｓがすくい取られる。また、ポケット部２１にすくい取られた処理対象物Ｓは、図１０（Ａ）から同図（Ｂ）への変化に示すように、筒形回転容器１０の正回転に伴って、徐々にシュート部２２側へと移動する。さらに、図１１（Ａ）から同図（Ｂ）への変化に示すように、リフター２０の傾斜が所定の角度を越えると、シュート部２２の先端から処理対象物Ｓが落下し始め、リフター２０が筒内中心部の真上位置に到達するまでの間に、リフター２０内の全ての処理対象物Ｓが落下する。そして、リフター２０から落下した処理対象物Ｓは、筒内中心部に生成された処理雰囲気（例えば、過熱水蒸気）の中を通過する。

ところで、本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０を停止及び正回転させた場合に、第１回転室１５から第２回転室１６への処理対象物Ｓの移動を禁止する一方、筒形回転容器１０を逆回転させた場合に、第１回転室１５から第２回転室１６へと処理対象物Ｓを移送することが可能な移送ダクト２３を備えている。移送ダクト２３は、第１終端壁１４における第２回転室１６側の面の外縁部に設けられて円弧状に延びている。また、図５に示すように、移送ダクト２３は、全体が溝形構造で、正回転方向Ｘ１の後端部が閉塞された閉塞端をなす一方、正回転方向Ｘ１の前端部が開口した開放端をなしており、第１終端壁１４との間で、後述する移送路２３Ｒ及び第２始端開口２５を形成している。また、移送ダクト２３（移送路２３Ｒ）は、筒壁１１の内周面に沿って１８０度未満の円弧状になっており、中心軸Ｊ１に対する点対称位置（１８０度回転対称な位置）に対をなして配置されている（図４（Ｂ）参照）。

図６に示すように、第１終端壁１４のうち、移送ダクト２３の閉塞端で覆われた部分には、第１終端壁１４を貫通して第１回転室１５内に開放した第１終端開口２４が備えられている。図示しないが、第１終端開口２４における逆回転方向の後側縁部には、第１螺旋ガイド１７の端部が接続されている。

移送ダクト２３の開放端と第１終端壁１４との間には、筒形回転容器１０を正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した第２始端開口２５が形成されている。また、移送ダクト２３と第１終端壁１４との間に形成された移送路２３Ｒは、図５に示すように、四方を壁で囲まれた矩形断面を有している。詳細には、移送路２３Ｒは、筒形回転容器１０の筒壁１１と、第１終端壁１４と、第１終端壁１４から第２回転室１６内に突出しかつ筒壁１１の内周面と平行に延びた円弧状の第１ダクト構成壁２３Ａと、第１ダクト構成壁２３Ａのうち第１終端壁１４から離れた側の縁部から径方向外側に突出して筒壁１１の内周面に接合した円弧状の第２ダクト構成壁２３Ｂとで囲まれている。移送ダクト２３における第２ダクト構成壁２３Ｂは、移送ダクト２３の開放端（第２始端開口２５）から閉塞端寄り位置まで第１終端壁１４と平行になっており、閉塞端寄り位置から第１終端開口２４における正回転方向の後側縁部に向かうに従って徐々に第１終端壁１４に接近するように傾斜している（図６参照）。

ここで、本実施形態では、第１終端開口２４が第１終端壁１４に貫通形成されていて、筒形回転容器１０の中心軸Ｊ１と平行な方向を向いて開放しているが、移送ダクト２３を、第１終端壁１４における第１回転室１５側の面に設けて、第１終端開口２４を、筒形回転容器１０を逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口させた構造としてもよい。また、移送ダクト２３の両端部を、第１回転室１５側の面と第２回転室１６側の面とに分けて設けて、第２始端開口２５を正回転方向の前方に向かって開口させると共に、第１終端開口２４を逆回転方向の前方に向かって開口させた構造としてもよい。

本実施形態の容器回転装置１００の構成は以上であって、次に動作について説明する。フィーダー３６によって筒形回転容器１０の第１回転室１５内に処理対象物Ｓを供給し、筒形回転容器１０を正回転させると、第１螺旋ガイド１７が、第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓを第１終端壁１４から第１始端壁１２へと推進させる。

また、第１始端壁１２に固定された複数のリフター２０が、第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓの中を次々と通り抜けて、各リフター２０のポケット部２１に処理対象物Ｓがすくい取られる。処理対象物Ｓをすくい取ったリフター２０は、正回転に伴って上方へ移動すると共に、徐々にシュート部２２に向かって下るように傾斜して、処理対象物Ｓがポケット部２１からシュート部２２へと徐々に移動する。そして、リフター２０が筒内中心部の斜め上方位置から真上位置に至るまでの間に亘って、リフター２０内の処理対象物Ｓが徐々に処理雰囲気（過熱水蒸気、火炎或いはプラズマ）の中に落下する。そして、処理雰囲気を通過する際に、処理対象物Ｓに対して処理が行われる。処理雰囲気を通過した処理対象物Ｓは、第１回転室１５の下部に落下し、リフター２０によって繰り返し処理雰囲気中に投入される。換言すれば、筒形回転容器１０を正回転させることで、処理雰囲気に連続的に処理対象物Ｓが投入される。

ここで、接続管３４から第１回転室１５内に吹き込んだ過熱水蒸気や火炎の気流によって、処理対象物Ｓの一部が、第１終端壁１４側へと吹き飛ばされることがあるが、その吹き飛ばされた処理対象物Ｓは、椀形反射部材１９にて受け止められるから、処理対象物Ｓが、第１終端壁１４の通気孔１４Ａを通って第２回転室１６に流出することを防ぐことができる。

ところで、筒形回転容器１０の回転が停止した状態で、移送ダクト２３の第１終端開口２４が、第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓの中に埋もれている場合、第２始端開口２５は、第１終端開口２４より高所に位置している。従って、筒形回転容器１０の回転が停止した状態で、第１回転室１５内の処理対象物Ｓが移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）を通って第２回転室１６に移動することはない。

また、筒形回転容器１０の正回転では、移送ダクト２３の第２始端開口２５が第１終端開口２４に対して先行するように回転するから、処理対象物Ｓは、移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）を第１終端開口２４から第２始端開口２５に向かって移動することが不可能である。詳細には、第１終端開口２４が、第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓの中に進入すると、その第１終端開口２４から移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に処理対象物Ｓが一時的に進入するが、正回転に伴って第１終端開口２４が上方に向かって移動すると、処理対象物Ｓは第１終端開口２４から吐き出される。しかも、第２ダクト構成壁２３Ｂにおける第１終端開口２４との対向部分が傾斜している（図６参照）から、処理対象物Ｓを残らず全部吐き出すことができる。このように、筒形回転容器１０を正回転させている間は、第１回転室１５内の処理対象物Ｓが移送ダクト２３（移送路２３Ｒ）を通って第２回転室１６に移送されることはなく、第１回転室１５内に処理対象物Ｓを留めることができる。

さて、第１回転室１５内で処理を行った処理対象物Ｓを、筒形回転容器１０から取り出す場合には、筒形回転容器１０を逆回転させる。筒形回転容器１０を逆回転させると、第１螺旋ガイド１７が、第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓを第１始端壁１２側から第１終端壁１４側へと推進させる。

第１回転室１５内に溜まった処理対象物Ｓの中を第１終端開口２４が潜ることで、移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に処理対象物Ｓが進入する。詳細には、第１螺旋ガイド１７が第１終端開口２４における逆回転方向の後側縁部に接続されているから、第１螺旋ガイド１７によって推進された処理対象物Ｓが第１終端開口２４から移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に押し込まれる。移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の逆回転に伴い、移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）を第２始端開口２５に向かって移動してやがて第２回転室１６に排出される。つまり、筒形回転容器１０を逆回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓが第２回転室１６に移送される。

さらに、第２回転室１６に移送された処理対象物Ｓは、第２回転室１６に備えた第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側から第２回転室１６の終端口１３へと推進される。そして、処理対象物Ｓは第２回転室１６の終端口１３から第２回転室１６外に零れ落ちて、固定蓋３２の排出口３２Ｃから排出される。

このように、本実施形態によれば、第１回転室１５に処理対象物Ｓを収容した状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させた場合、移送路２３Ｒのうち第２始端開口２５が第１終端開口２４より先行して回転するので、第１終端開口２４が第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物Ｓの中を通っても、処理対象物Ｓが移送路２３Ｒを通って第２回転室１６に移送されることはない。これに対し、筒形回転容器１０を逆方向に回転させると、移送路２３Ｒのうち第１終端開口２４が第２始端開口２５より先行して回転するので、第１終端開口２４が第１回転室１５の下部に溜まった処理対象物の中を通過する際に移送路２３Ｒに進入した処理対象物Ｓが、筒形回転容器１０の逆回転に伴って第２始端開口２５に向かって移動して、第２回転室１６に移送される。

つまり、筒形回転容器１０を正回転させている間は、処理対象物Ｓを第１回転室１５内に留めて加熱処理等の処理を行うことができ、筒形回転容器１０を逆回転させることで、処理対象物Ｓを第１回転室１５から排出させることができるので、処理対象物Ｓの取り出しを機械的操作で行うことができ、従来よりも容易に行うことができる。

ここで、本実施形態の容器回転装置１０は、処理対象物Ｓの撹拌、混合以外に、以下のような用途に使用することができる。例えば、過熱水蒸気や火炎による熱処理雰囲気に処理対象物Ｓとしての粉粒体を通過させれば、粉粒体の乾燥、焼成、炭化、改質、造粒、或いは、粒子表面に付着した微粒子の焼却を行うことができる。また、処理対象物Ｓとしての液体を熱処理雰囲気に通過させれば、液体の濃縮、油分の焼却、改質、化学反応を行うことができる。また、プラズマ雰囲気に処理対象物Ｓとしての粉粒体を通過させれば、粒子表面の改質（酸化・還元）、化学反応や、粒子表面に付着した微粒子の除去を行うことができる。なお、過熱水蒸気発生装置４０やバーナー４９の替わりに、電子線照射装置やレーザー照射装置を使用して微粒子の焼却を行ってもよい。

図１６〜図２４には、本実施形態の容器回転装置１００の構成の一部を変更した変形例が示されている。

処理対象物Ｓとしての粉粒体を筒内中心部に生成した熱処理雰囲気で加熱して造粒を行う場合に、リフター２０の上面を、図１６に示すようにメッシュ状のカバー２６で覆っておき、所定の粒径まで成長していない粒子だけが、カバー２６の網目を通過してリフター２０にすくい上げられ、熱処理雰囲気に投入されるような構成としてもよい。このようにすれば、造粒物の過剰な大径化を防止して、粒径を揃えることができる。ここで、カバー２６の網目より大きい粒子（造粒物）がカバー２６の上に載って持ち上げられることを防止するために、カバー２６に下り勾配を設けておくことが好ましい。

図１７（Ａ）に示すように、第１回転室１５の筒内中心部にミスト雰囲気を生成するスプレーノズル４６を設けて、リフター２０から落下した処理対象物Ｓがミスト雰囲気を通過するように構成してもよい。なお、図１７（Ａ）における符号４６Ａはミストとなる液体用の配管であり、符号４６Ｂは液体をミスト化するための噴射ガス用の配管である。バインダー液のミスト雰囲気を生成すれば、処理対象物Ｓとしての粉粒体の造粒を行うことができる。また、任意の液体によって粉粒体の調質を行うことができる。造粒を行う場合には、リフター２０に対して上記したメッシュ状のカバー２６（図１６参照）を適用してもよい。

図１８に示すように、排気口３２Ｂ、排出口３２Ｃ、処理物供給管３５、接続管３４のそれぞれにバルブ３７を設けて、筒形回転容器１０を密閉することが可能な構成としてもよい。この構成によれば、過熱水蒸気又は火炎によって温度制御を行いながら低酸素雰囲気下で、処理対象物Ｓとしての木質チップ、プラスチックス等の有機物の炭化・精錬を行うことが可能になる。また、処理ガス雰囲気下で、金属、鉱物等の組成改質ガス処理を行うことが可能になる。

第１回転室１５にバーナー４９の熱を吹き込んで、その熱で処理対象物Ｓとしての樹脂粒子の炭化処理ないし、低融点の処理対象物Ｓの処理を行う場合に、第１回転室１５内の樹脂等が溶融し固着しないように、筒壁１１を外側から冷却してもよい。例えば、図１９に示すように、筒形回転容器１０の下方に冷却水貯留容器５０を配置すると共に、筒壁１１の外周面に複数のバケット５１を一体に設けておき、筒形回転容器１０の正回転に伴ってバケット５１が冷却水貯留容器５０内の冷却水を汲み上げて筒壁１１の外面に掛けるような構成としてもよい。なお、バケット５１を挟んだ両側に水切り円盤５２を設けておき、冷却水が掛かる範囲を制限すると共に、掛けられた冷却水が確実に冷却水貯留容器５０に戻るようにしておくとよい。

また、上記第１実施形態では、処理対象物Ｓが第１回転室１５に直接供給されていたが、図１９に示すように、第２回転室１６を経由して第１回転室１５に供給するようにしてもよい。具体的には、例えば、フィーダー３６が第２終端壁３２Ａを貫通して延びた供給管（図示せず）を有し、供給管内に配置されたスクリューをモータで回転駆動することで、供給管から第２回転室１６内に処理対象物Ｓを供給する構成（所謂、スクリューフィーダー）とすればよい。第２回転室１６に供給された処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０を正回転させることで、第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側へと送給され、移送ダクト２３の第２始端開口２５から移送ダクト２３に進入する。移送ダクト２３に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転によって移送ダクト２３内を第１終端開口２４へと移動して第１回転室１５に送給される。

図２０及び図２１に示すように、筒形回転容器１０の筒内中心部の周りに並べられた複数のリフター２０を第１始端壁１２と第１終端壁１４との中間に追加して備えた構成としてもよい。このリフター２０は、第１回転室１５における筒壁１１の内側面から突出して筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁２０Ａの両側に１対のリフター側壁２０Ｂを対向配置してなり、リフター底壁２０Ａが筒壁１１の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、１対のリフター側壁２０Ｂ，２０Ｂがリフター底壁２０Ａから正回転方向の前方に突出した構造を有している。

処理対象物Ｓが液体である場合には、図２１に示すように、接続管３４とは別に処理物供給管３８を設けて、その処理物供給管３８から第１回転室１５内に液体の処理対象物Ｓを供給するようにしてもよい。

図２２（Ｂ）に示すように、接続管３４の内部に旋回ガス流を発生させると共に、接続管３４と第１始端壁１２（センター孔１２Ａ）との間を、公知なエアロダイナミックレンズ５３（図２２（Ａ）参照）によって接続した構成としてもよい。

エアロダイナミックレンズ５３は、筒状のハウジングと、ハウジングの内部に設けられた複数のプレートとを有し、各プレートの中心開口に、ガスと処理対象物Ｓとしての粉粒体との混合流体（エアロゾル）を通過させることにより、混合流体中の粉粒体の粒子をビーム状に絞り込むことができる。エアロダイナミックレンズ５３は、タングステン、モリブデン等の金属、黒鉛、高融点カーボン、石英ガラス等の無機材料で構成することが好ましい。

また、図２３（Ａ）に示すように、プラズマ発生装置４２のプラズマトーチ４２Ａの内部に作動ガスを旋回流にして供給すると共に、プラズマトーチ４２Ａ自体を上記したエアロダイナミックレンズの構造としてもよい。

また、図２３（Ｂ）に示すように、エアロダイナミックレンズ５３に対して外側からエネルギーを付与するエネルギー源５４を備えた構成としてもよい。エネルギー源５４は、光（ＵＶ，ＥＵＶ、赤外線等）を照射する光源（エキシマランプ、ハロゲンランプ等）、電子線を照射する電子源、熱を付与する熱源（誘導加熱装置）等の中から、必要な処理に応じて任意に選択すればよい。

図２４に示すように、複数のリフター２０で囲まれた領域に、リフター２０から落下した処理対象物Ｓが通過する管状の処理部５５を配置して、その処理部５５の内側を通過する処理対象物Ｓに、熱、プラズマ、紫外線、赤外線、レーザー、その他エネルギーないし、処理ガスを付与して処理を行うようにしてもよい。また、処理対象物Ｓが通過する管状の処理部５５の上部に、処理部５５内を通過する処理対象物Ｓの流量を調整するための、上向きに拡径した円錐台形状筒（ロート）を設け、円錐台形状筒下部の口径を調整可能とし、処理対象物Ｓの物性に合わせ口径を変更して、処理を行ってもよい。

［第２実施形態］
図２５及び図２６に基づいて本発明の第２実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１実施形態との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは、粉粒体のことである。

図２５に示すように、第１回転室１５の内側には、第１螺旋ガイド１７に加えて、第１サブ螺旋ガイド２７が設けられている。第１サブ螺旋ガイド２７は、第１螺旋ガイド１７よりも内側で螺旋状に旋回したリボン形をなしており、例えば、第１始端壁１２と第１終端壁１４とによって両持ち支持されるか、第１螺旋ガイド１７と立体交差した部分で第１螺旋ガイド１７に溶接されている。第１サブ螺旋ガイド２７は、第１螺旋ガイド１７とは逆巻の螺旋になっていて、筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１始端壁１２から第１終端壁１４側へと推進させる。また、筒形回転容器１０を逆回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４から第１始端壁１２側へと推進させる。つまり、図２６（Ｂ）に示すように、筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５の下部に堆積した処理対象物Ｓの下層部分が、第１螺旋ガイド１７によって第１始端壁１２側へと推進されるのに対し、処理対象物Ｓの中層又は上層部分が、第１サブ螺旋ガイド２７によって第１終端壁１４側へと推進される。

図２５に示すように、第１始端壁１２に形成されたセンター孔１２Ａには、処理物供給管３８が回転可能に接続されている。処理物供給管３８から側方に張り出した固定フランジ４５と第１始端壁１２との間には摺動シール１２Ｓが挟まれており、処理物供給管３８とセンター孔１２Ａとの接続部分は気密状態にシールされている。

また、センター孔１２Ａには、処理物供給管３８とは別に液体供給管６０が挿通されている。液体供給管６０は、第１サブ螺旋ガイド２７の回転領域の内側に配置されており、その先端部に吹付ノズル６１を備えている。なお、吹付ノズル６１を備えた液体供給管６０を複数備えていてもよい。

液体供給管６０は、第１回転室１５内でクランク状に屈曲しており、吹付ノズル６１が、第１回転室１５内の最下部より正回転方向の前側位置に向けて斜め下方に霧を噴射するように配置されている（図２６（Ａ）参照）。即ち、第１回転室１５の下部に堆積している処理対象物Ｓの堆積層の表面に向けて霧又は液を吹き付けるように構成されている。

筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５の下部に堆積している処理対象物Ｓが筒壁１１との摩擦によって正回転方向に引き上げられ、堆積層の頂部で重力が摩擦力を上回って堆積層の表面を流下する。その堆積層の表面に霧を噴射することで、霧の粒子を処理対象物Ｓの粒子表面に均一に付着させることができる。また、ヒーター３３の熱によって、処理対象物Ｓを乾燥又は焼成することで、処理対象物Ｓの粒子表面のコーティング或いは調質を行うことができる。なお、吹付ノズル６１からガスを吹き付けるようにしてもよい。

図２７及び図２８には、本実施形態の変形例が示されている。図２７に示す容器回転装置１００は、センター孔１２Ａに挿通されて第１回転室１５内で発熱する内部ヒーター６２（例えば、遠赤外線セラミックスヒータ）を備えている。この容器回転装置１００は、乾燥装置、焼成装置又は焙煎装置として利用することができる。また、内部ヒーター６２を紫外線ランプに置き換えれば、紫外線滅菌装置や紫外線硬化処理装置として使用することができ、レーザー又は電子線の照射装置に置き換えれば、レーザー又は電子線照射処理装置として利用することができる。さらに、処理ガス噴射装置に置き換えれば、ガス噴霧滅菌装置として利用することができる。

また、図２８に示す容器回転装置１００では、筒形回転容器１０のセンター孔１２Ａに、流下樋２７０が挿通されている。流下樋２７０は、第１回転室１５の内側に配置された端部から外側に配置された端部に向かって下り傾斜した排出姿勢と、外側の端部が内側の端部より上方に位置した排出禁止姿勢（図示せず）との間で回動可能となっている。そして、リフター２０から落下した処理対象物Ｓを、流下樋２７０の内側端部で受けるように構成されている。なお、流下樋２７０を排出姿勢と排出禁止姿勢との間で回動させる替わりに、流下樋２７０を排出姿勢としたまま、センター孔１２Ａに対して進退可能としてもよい。即ち、流下樋２７０の端部を第１回転室１５の内側に配置してリフター２０から落下した処理対象物Ｓを受けることが可能な排出位置と、流下樋２７０の全体を筒形回転容器１０の外側に配置した排出禁止位置との間で往復動可能としてもよい。

この容器回転装置１００は、粉粒体又は液体の処理対象物Ｓを撹拌混合して流下樋２７０から排出させる撹拌混合装置、粉粒体等の処理対象物Ｓを加熱溶融してその溶融状態の処理対象物Ｓを流下樋２７０から排出させる溶融装置、或いは、粉粒体等の処理対象物Ｓを溶媒に溶かしてその溶液を流下樋２７０から排出させる溶解装置、溶解反応装置として利用することができる。

［第３実施形態］
図２９〜図３１に基づいて本発明の第３実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１及び第２実施形態との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは、粉粒体のことである。

図２９に示すように、接続管３４の内部には、１つ或いは複数のスプレーノズル４６が挿通されている。スプレーノズル４６は、第１回転室１５の筒内中心部にバインダー液のミスト雰囲気を生成する。

第１始端壁１２に設けられたリフター２０の上面は、例えば、図１６に示すように、下り勾配を有したメッシュ状のカバー２６で覆われており、成長途中の比較的小さい粒子だけが、カバー２６の網目を通過してリフター２０にすくい上げられ、ミスト雰囲気に投入される。

図２９に示すように、第２回転室１６には、第１終端壁１４から第２回転室１６の終端口１３に向かって拡径した円錐台形状のトロンメル６５（本発明の請求項２５に係る「センターコーン」に相当する）が設けられている。トロンメル６５はメッシュ構造になっていて、そのメッシュの篩目より小さい粒子だけを通過させる構成となっている。トロンメル６５の小径側端部は第１終端壁１４に固定されていて、筒形回転容器１０と一体回転する。また、トロンメル６５の大径側端部は、筒形回転容器１０の終端口１３から突出しており、その大径側端部の開口は、篩目を通過しなかった処理対象物Ｓを第２回転室１６外に排出するための排出大開口６５Ａになっている。ここで、トロンメル６５の篩目を軸方向又は周方向に延びたスリット構造とすれば、メッシュ構造にした場合に起こり易い目詰まりを抑制したり、近球状の処理対象物Ｓを転動移動通過させることができ、分級性能をより向上させることができる。

第１終端壁１４には、第１回転室１５と第２回転室１６との間を連絡した移送ダクト２３に加えて、第１回転室１５とトロンメル６５の内部とを連絡したサブ移送ダクト６７が備えられている。図３０（Ａ）に示すように、サブ移送ダクト６７は、第１終端壁１４における第２回転室１６側の面に設けられている。図３０（Ｂ）に示すように、サブ移送ダクト６７は、第１終端壁１４の中心部から径方向の外側へ向かい、途中で正回転方向Ｘ１の前側に屈曲して第１終端壁１４の外縁部（筒壁１１の内周面）に沿って円弧状に延びたサブ移送路６７Ｒと、サブ移送路６７Ｒのうち円弧状部分の先端に設けられ、第１終端壁１４を貫通して第１回転室１５内に開口した第１終端サブ開口６８と、サブ移送路６７Ｒのうち第１終端サブ開口６８の反対側の端部に設けられて、トロンメル６５の小径側端部に連通した第２始端サブ開口６９とを備えている。

そして、図３１（Ａ）から同図（Ｅ）への変化に示すように、第１終端サブ開口６８が、第１回転室１５の下部に堆積した処理対象物Ｓの中を潜るときに、第１終端サブ開口６８からサブ移送路６７Ｒに進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転に伴ってサブ移送路６７Ｒ内を移動して、第２始端サブ開口６９からトロンメル６５内に送給される。

本実施形態の構成は以上である。次に本実施形態の動作を説明する。筒形回転容器１０を正方向に回転させながら、スプレーノズル４６からバインダー液のミストを噴出させると、リフター２０によってすくい上げられた処理対象物Ｓがバインダー液のミスト雰囲気を通過して、処理対象物Ｓの粒子にバインダー液の微粒子が付着する。また、第１回転室１５の下部に堆積している処理対象物Ｓは、第１螺旋ガイド１７と第１サブ螺旋ガイド２７によって撹拌される。これらにより、処理対象物Ｓの粒子同士が付着し合って徐々に成長する。ここで、リフター２０は、所定の粒径まで成長していない粒子だけをすくい上げてミスト雰囲気に供給するようになっている。換言すれば、所定の粒径以上に成長した造粒物にバインダー液が掛からないようにすることで、造粒物の過剰な大径化を防止して粒径を揃えることができる。

筒形回転容器１０の正回転中に移送ダクト２３（移送路２３Ｒ）を通って第１回転室１５から第２回転室１６に処理対象物Ｓが移動することはないが、サブ移送ダクト６７（サブ移送路６７Ｒ）を通って第１回転室１５からトロンメル６５に処理対象物Ｓが送給される。トロンメル６５に送給された処理対象物Ｓは、トロンメル６５内を小径側端部から大径側端部へと向かって転動する。このとき、所定の粒径に達していない粒子は、トロンメル６５の篩目を通過して第２回転室１６内に落下する。一方、所定の粒径以上に成長した粒子（造粒物）は、トロンメル６５の篩目を通過することなく排出大開口６５Ａまで到達し、排出大開口６５Ａからこぼれ落ちて第２回転室１６外に排出される。

トロンメル６５の篩目を通過して第２回転室１６内に落下した処理対象物Ｓは、第２回転室１６の第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側に推進され、第２始端開口２５から移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入する。移送ダクト２３に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転に伴って第１終端開口２４へと向かい、第１回転室１５に戻される。つまり、所定の粒径以上に成長した粒子だけが筒形回転容器１０の外部に排出され、所定の粒径に達していない成長途中の粒子は、筒形回転容器１０から排出されることなく第１回転室１５に戻される。

このように、本実施形態によれば、処理対象物Ｓの造粒と、粒径による篩い分け（分級）とを同時進行で行うことができ、所定の粒径以上に成長した粒子を、随時、第１回転室１５から排除することができるから、粒径の揃った造粒物を製造することができる。

図３２及び図３３には、本実施形態の変形例が示されている。図３２に示す容器回転装置１００は、第２終端壁３２Ａを貫通して延びた供給管３６Ｐを有し、供給管３６Ｐ内に挿通されたスクリュー３６Ｓをモータ３６Ｍで回転駆動することで、供給管３６Ｐから第２回転室１６内に処理対象物Ｓを供給するフィーダー３６（本発明の請求項１１に係る「処理対象物フィーダー」に相当する）を備えている。筒形回転容器１０を正回転させた状態で、フィーダー３６から第２回転室１６に処理対象物Ｓを供給すると、その処理対象物Ｓが第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側へと推進されて、第２始端開口２５から移送ダクト２３に進入する。移送ダクト２３内に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転によって第１終端開口２４へと向かって移動し、第１回転室１５に供給される。このような構成とすれば、第１回転室１５にて造粒を行いながら、その第１回転室１５に原料である処理対象物Ｓを供給することができ、造粒物を連続製造することができる。

ここで、図３３に示すように、第２回転室１６に備えられた第２螺旋ガイド１８の先端部を、移送ダクト２３の第２始端開口２５の一側部（第２ダクト構成壁２３Ｂ）に接続すれば、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第２螺旋ガイド１８によって第２回転室１６内の処理対象物Ｓを第２始端開口２５に向けて推進させることができ、移送ダクト２３を経由した第１回転室１５への処理対象物Ｓの供給を、よりスムーズに行うことができる。

［第４実施形態］
図３４に基づいて本発明の第４実施形態を説明する。以下の説明では、第１〜第３実施形態との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

筒形回転容器１０の先端に接続された接続管３４には、送風機組込型のバーナー４９が接続されており、接続管３４から分岐した処理物供給管３５に、フィーダー３６が接続されている。本実施形態の処理対象物Ｓは、例えば、樹脂の破砕チップであり、その破砕チップは、バーナー４９の火炎によって加熱されて溶融し、直後に第１回転室１５に貯留された冷却水Ｗ（本発明の「凝固液」に相当する）中に投入されて冷却固化される。冷却固化した樹脂の粒子は、筒形回転容器１０の正回転によってトロンメル６５へと送給される。そして、所定の粒径以上のものだけがトロンメル６５の排出大開口６５Ａから第２回転室１６外へと排出され、所定の粒径より小さいものは、第２回転室１６の第２螺旋ガイド１８と移送ダクト２３とによって第１回転室１５に戻される。本実施形態の容器回転処理装置１０は、例えば、医療廃棄物や産業廃棄物の溶融処理装置として利用することができる。

ここで、冷却水供給管７０（本発明の「凝固液供給管」に相当する）は第２回転室１６内に挿入されており、その冷却水供給管７０から供給された冷却水Ｗを、第２回転室１６の第２螺旋ガイド１８と第１終端壁１４との間で貯留することが可能となっている。そして、第２回転室１６に供給された冷却水Ｗは、筒形回転容器１０を正回転させることで第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側に送給され、第２始端開口２５から移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入する。移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入した冷却水Ｗは、筒形回転容器１０の正回転によって移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）を第１終端開口２４へと移動して、第１回転室１５に供給される。また、過剰に供給された冷却水Ｗは、第１終端壁１４に形成された通気孔１４Ａからオーバーフローして第２回転室１６に戻される。

ここで、第１回転室１５内の冷却水Ｗは、蒸発したり、樹脂の粒子と共に筒形回転容器１０の外部に持ち出されたりして減少する。そこで、図３５（Ａ）及び同図（Ｂ）に示すように、ボールタップ９０等の定水位弁（本発明の「開閉弁」に相当する）を冷却水供給管７０の先端部に設けてもよい。ボールタップ９０は、浮球９１の位置が基準位置より下方に位置したときに開状態になって冷却水供給管７０から冷却水Ｗが供給される一方、浮球９１が基準位置以上に位置したときに閉状態になって冷却水供給管７０からの冷却水Ｗの供給が停止する。ここで、浮球９１が第２螺旋ガイド１８と接触すると、ボールタップ９０が正確に作動しなくなるので、第２螺旋ガイド１８のうち、筒形回転容器１０が回転した場合に浮球９１の下方を通過する部分は、筒壁１１の内周面からの張り出し量を小さくしておくことが好ましい（図３６参照）。

具体的には、例えば、第２螺旋ガイド１８を、筒形回転容器１０の終端口１３から第１終端壁１４までの間で、筒形回転容器１０の内周面を２巻以上旋回させると共に、浮球の下方を通過する部分の張り出し量を、少なくとも冷却水Ｗの供給が開始される下限水位よりも低くして、その低くなった部分に浮球９１を配置する。これにより、冷却水Ｗを第２螺旋ガイド１８と第１終端壁１４との間で貯留すると共に、浮球９１と第２螺旋ガイド１８との干渉による水位の誤検出を防止することができる。

図３７及び図３８には本実施形態の変形例が示されている。図３７に示す容器回転装置１００は、予め、溶融状態にした樹脂、金属、その他の溶融物の液滴をセンター孔１２Ａに挿通されたフィーダー３６（本発明の請求項１３に係る「液滴注出手段」に相当する）から、第１回転室１５の冷却水中に注ぐことで粒状物を生成し、その粒状物をトロンメル６５によって分級することが可能な構成となっている。

また、図示しないが、樹脂、金属、その他の溶融物に替えて、ゲル化可能な溶液（高分子化合物の溶液）の液滴をフィーダー３６から注出させるようにし、第１回転室１５内に貯留された凝固液としてのゲル化剤中に、ゲル化可能な溶液の液滴を滴下することで、その溶液の液滴を凝固（ゲル化）させて、粒状物を生成するようにしてもよい。

また、図３８に示す容器回転装置１００は、第１回転室１５で撹拌混合されている処理対象物Ｓの懸濁液に、送液管９４から凝集剤、増粘剤、ゲル化剤、固化剤、架橋剤、バインダー等の液体を供給して液中造粒を行うと共に、造粒物をトロンメル６５によって分級することが可能な構成となっている。

［第５実施形態］
図３９〜図４０に基づいて本発明の第５実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第４実施形態との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

図３９（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０の第１始端壁１２におけるセンター孔１２Ａには、モータ２２０の回転シャフト２２１が挿通されており、その先端から側方に張り出した粉砕ブレード２２２（図３９（Ｂ）及び同図（Ｃ）参照）が、複数のリフター２０によって囲まれた中心領域で回転可能となっている。

筒形回転容器１０の正回転によってリフター２０にすくい上げられた処理対象物Ｓは、粉砕ブレード２２２に向かって落下し、その粉砕ブレード２２２によって粉砕される。

筒形回転容器１０の第２回転室１６内には、筒形回転容器１０と一体に回転する分級機構部２３０が備えられている。図４０（Ａ）に示すように、分級機構部２３０は、アウターコーン２３１と、その内側に配置されたトロンメル２３２（本発明の「インナーコーン」に相当する）と、その内側に配置された中心筒部２３３とから構成されている。

詳細には、アウターコーン２３１は、第２回転室１６の中心軸に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁１４に固定されて第１終端壁１４と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が処理対象物Ｓを第２回転室１６外に排出するための排出大開口２３１Ａになっている。

トロンメル２３２は、第２回転室１６の中心軸に沿って延びた円錐台形状をなして、アウターコーン２３１と同軸に配置され、大径側端部が第１終端壁１４に固定されて筒形回転容器１０と一体に回転可能となっている。トロンメル２３２は両端部が開放しており、その大径側端部が、第１終端壁１４に形成された通気孔１４Ａの開口縁に接続されて、トロンメル２３２の内部と第１回転室１５とが連通している。通気孔１４Ａは、本発明の請求項２６に係る「戻し孔」に相当する。

中心筒部２３３は、第２回転室１６の中心軸に沿って延びた円筒状をなして、アウターコーン２３１及びトロンメル２３２と同軸に配置され、一端部がサブ移送ダクト６７に連結されて第１終端壁１４と一体に回転可能となっている。中心筒部２３３の内側には中心螺旋ガイド２３４が設けられている。中心螺旋ガイド２３４は、中心筒部２３３の内周面から張り出しており、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、中心筒部２３３内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４から離れる側（筒形回転容器１０の終端口１３側）へと送給するように旋回している。また、中心筒部２３３のうち第１終端壁１４側の端部にサブ移送ダクト６７が接続されて、第２始端サブ開口６９によりサブ移送路６７Ｒと中心筒部２３３の内部とが連通している。

アウターコーン２３１とトロンメル２３２及び、トロンメル２３２と中心筒部２３３は、それぞれ連結棒２３５にて連結されている。また、トロンメル２３２は中心筒部２３３よりも終端口１３側に突出しており、アウターコーン２３１はトロンメル２３２よりも終端口１３側に突出している。しかも、アウターコーン２３１は、筒形回転容器１０の終端口１３から突出している。

筒形回転容器１０を正回転させると、フィーダー３６から第２回転室１６に供給された処理対象物Ｓが、第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側へと推進され、第２始端開口２５から移送ダクト２３内へと進入する。移送ダクト２３内に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転によって移送ダクト２３内を第１終端開口２４へと向かって移動して、第１終端開口２４から第１回転室１５内に供給される。

処理対象物Ｓは、第１螺旋ガイド１７と第１サブ螺旋ガイド２７とによって第１回転室１５内で撹拌される。また、第１回転室１５の下部に堆積した処理対象物Ｓの中を、複数のリフター２０が次々に通過して処理対象物Ｓを上方にすくい上げると共に、粉砕ブレード２２２の上方から落下させる。そして、高速回転している粉砕ブレード２２２によって処理対象物Ｓが粉砕される。

また、筒形回転容器１０の正回転中に、第１回転室１５の下部に堆積した処理対象物Ｓの中を、サブ移送ダクト６７の第１終端サブ開口６８が通過することで、一部の処理対象物Ｓがサブ移送ダクト６７に進入する。この処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転に伴ってサブ移送ダクト６７内を移動して中心筒部２３３内へと送給される。

図４０（Ｂ）に示すように、中心筒部２３３内に送給された処理対象物Ｓは、中心螺旋ガイド２３４によって筒形回転容器１０の終端口１３側に送給され、中心筒部２３３からトロンメル２３２の小径側端部に落下する。

処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の内側を第１終端壁１４に向かって移動する過程で分級される。即ち、比較的細かく粉砕された処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の篩目を通過してアウターコーン２３１内に落下する。一方、粉砕が不十分な処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の篩目を通過することなく大径側端部に到達して、通気孔１４Ａから第１回転室１５内に戻される。

トロンメル２３２の篩目を通過してアウターコーン２３１内に落下した比較的細かい処理対象物Ｓは、アウターコーン２３１内を排出大開口２３１Ａに向かって移動して、第２回転室１６外に排出される。つまり、処理対象物Ｓの粉砕を行いながら、同時に分級を行って、細かく粉砕された処理対象物Ｓだけを、筒形回転容器１０から排出させることができる。

なお、粉砕処理を行いながら、ヒーター３３によって処理対象物Ｓを加熱して、乾燥、焼成等を行ってもよい。

図４１には、本実施形態の変形例が示されている。この容器回転装置１００は、処理対象物Ｓの粉砕処理を第１回転室１５に充填した粒状の粉砕メディア２３６（粉砕ボール）によって行うように構成されている。

第１回転室１５のうち第１始端壁１２寄り位置には、粉砕メディア２３６の通過を禁止するメッシュ板（図示せず）が配置されていて、粉砕メディア２３６によって所定の粒径以下まで粉砕された処理対象物Ｓのみがリフター２０の回転領域に進入可能となっている。筒形回転容器１０を正回転させることでリフター２０にすくい上げられた処理対象物Ｓは、センター孔１２Ａに挿通された排出シュート２３７に落とされ、排出シュート２３７の下端部から排出される。

また、第１回転室１５内で粉砕された処理対象物Ｓは、粉砕メディア２３６と共にサブ移送ダクト６７及び中心筒部２３３を通ってトロンメル２３２の小径側端部に排出される。粉砕メディア２３６及び粉砕が不十分な処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の篩目を通過することなく、トロンメル２３２の大径側端部から第１回転室１５に戻される。一方、十分に細かく粉砕された処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の篩目を通ってアウターコーン２３１内に落下し、その排出大開口２３１Ａから第２回転室１６外へと排出される。

なお、粉砕処理によって第１回転室１５内に発生した浮遊粉塵を、筒形回転容器１０のセンター孔１２Ａから第１回転室１５に挿入した吸引管２３８によって、篩目分離することなく、浮遊微粒子物質として吸引回収してもよい。

本実施形態によれば、筒形回転容器１０を正回転させることで、移送ダクト２３を通じて第１回転室１５に粉砕メディア２３６を供給することができ、筒形回転容器１０を逆回転させることで、移送ダクト２３を通じて第１回転室１５から粉砕メディア２３６を排出させることができるから、粉砕メディア２３６の出し入れが容易になる。

［第６実施形態］
図４２〜図４４に基づいて本発明の第６実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第５実施形態との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは粉粒体又は液体、気体のことである。

図４２（Ａ）及び同図（Ｂ）に示すように、本実施形態の容器回転装置１００は、筒壁１１の軸方向に延びた直線部を有し、その直線部が周方向全体に亘って分散配置された複数のガス通気路３０１と、筒壁１１の内側面に開口し、各ガス通気路３０１に連通した複数のガス噴出口３０２と、回転不能に固定された固定リング３１２と、固定リング３１２に回転可能に連結されかつ筒形回転容器１０と一体に回転する回転リング３１１とを有すると共に、それら固定リング３１２と回転リング３１１との間に、複数のガス通気路３０１の一端部が共通して連通した環状通気路３１３を有したロータリージョイント３１０と、固定リング３１２に接続され、環状通気路３１３にガスを送給するガス送給手段としてのガス供給管３１４とを備えている。

詳細には、図４２（Ａ）に示すように、筒壁１１の外周面には、複数のガス配管３００が互いに平行に配設されている。ガス配管３００の内部はガス通気路３０１となっていて、筒壁１１の内側面に開口したスリット状のガス噴出口３０２によってガス通気路３０１と第１回転室１５内とが連通している（図４４（Ａ）及び同図（Ｂ）参照）。

筒形回転容器１０における第１始端壁１２には、ロータリージョイント３１０が設けられている。ロータリージョイント３１０は、第１始端壁１２に固定されて筒形回転容器１０と一体回転する回転リング３１１と、回転リング３１１に回転可能に連結された固定リング３１２とを備え、それら回転リング３１１と固定リング３１２との間に環状通気路３１３が形成されている。

詳細には、回転リング３１１と固定リング３１２は、摺動シール３１５を挟んだ状態で筒形回転容器１０の軸方向で合体している。図４３（Ａ）に示すように、回転リング３１１の外縁部寄り位置には、固定リング３１２との合体面に開放した環状溝３１１Ａが形成され、その環状溝３１１Ａの外周壁には、ガス通気路３０１の一端開口が形成されている（図４３（Ｂ）参照）。また、図４３（Ｂ）に示すように、固定リング３１２には、１対のガス供給管３１４が突出して設けられており、そのガス供給管３１４に接続された図示しないガス供給源から、環状通気路３１３にエアーが供給される。

ここで、図４３（Ｂ）に示すように、固定リング３１２のうち、回転リング３１１との合体面からは狭窄突壁３１２Ａが突出しており、その狭窄突壁３１２Ａが環状溝３１１Ａの内周壁に宛がわれている。これにより、環状通気路３１３のうち上側の約半周分の流路断面積が、下側の約半周分の流路断面積よりも小さくなっている。また、固定リング３１２のうち、回転リング３１１との合体面の下端部から分断壁３１２Ｂが突出しており、その分断壁３１２Ｂが環状溝３１１Ａの内側に嵌合している。これにより、環状通気路３１３は、１対のガス供給管３１４，３１４との連通部分の中間位置で分断されている。

ガス供給管３１４から供給されたエアーは、環状通気路３１３を経由して複数のガス通気路３０１へと流入し、ガス噴出口３０２から第１回転室１５内に噴出し、第１回転室１５の下部に貯まっている処理対象物Ｓをエアーレーションすることができる。ここで、環状通気路３１３のうち、上側の半周分の流路断面積は、下側の半周分の流路断面積より狭くなっているから、第１回転室１５のうち、処理対象物Ｓが貯まっていない部分よりも、貯まっている部分で比較的多くのエアーを噴出させることができる。

また、筒形回転容器１０を正回転させた場合、処理対象物Ｓが筒壁１１との摩擦によって正回転方向に偏るから、２つのガス供給管３１４のうち、分断壁３１２Ｂよりも正回転方向の前側に位置するガス供給管３１４からエアーを供給することで、処理対象物Ｓにより多くのエアーを供給することができる。

同様に、筒形回転容器１０を逆回転させた場合、処理対象物Ｓが筒壁１１との摩擦によって逆回転方向に偏るから、２つのガス供給管３１４のうち、分断壁３１２Ｂよりも逆回転方向の前側に位置するガス供給管３１４からエアーを供給することで、処理対象物Ｓにより多くのエアーを供給することができる。

本実施形態の容器回転装置１００によれば、処理対象物Ｓが粉粒体の場合に、エアーレーションによって処理対象物Ｓの流動性を向上させることができる。また、熱風でエアーレーションを行えば、処理対象物Ｓの乾燥を行うことができる。また、処理対象物Ｓが液体の場合に、効率よくエアーを溶け込ませることができる。さらに、エアーの替わりに、例えば、酸化性ガス、還元性ガス、その他反応性ガスを供給すれば、それらガスによる化学的処理を行うことができる。

［第７実施形態］
図４５に基づいて本発明の第７実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第６実施形態との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

第１始端壁１２におけるセンター孔１２Ａの開口縁には、プラズマトーチ４２Ａが一体回転可能に接続されており、プラズマ雰囲気が、センター孔１２Ａを通して第１回転室１５の筒内中心部に生成されるようになっている。プラズマトーチ４２Ａと第１始端壁１２との接続部分はシール部材４３Ｓによって真空シールされている。なお、プラズマ雰囲気以外の処理雰囲気（例えば、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料等の処理雰囲気）を発生させてもよい。

筒形回転容器１０のうち、第１始端壁１２とは反対側の終端部には、第１終端壁１４との間で第２回転室１６を形成した第２終端壁３３０が設けられ、その第２終端壁３３０の中心にサブセンター孔３３１が貫通形成されている。また、第２回転室１６内には、その中心軸に沿って延びた円錐台形状のセンター筒部３３２が配置され、その小径端部が第１終端壁１４における通気孔１４Ａの周縁部に固定されて一体に回転可能となっている。また、センター筒部３３２は、サブセンター孔３３１を貫通して第２回転室１６の外側に突出している。ここで、センター筒部３３２とサブセンター孔３３１との嵌合部分は気密状態にシールされている。

センター筒部３３２のうち、第２回転室１６内に配置された部分の筒壁はメッシュ構造になっていて、処理対象物Ｓを粒径によって篩い分ける「回転篩（トロンメル）」となっている。

センター筒部３３２の大径側端部は、固定蓋３２内に収納された回収品ホッパ３３３に接続されている。回収品ホッパ３３３の側壁には、嵌合孔３３４（本発明の「嵌合部」に相当する）が貫通形成されており、その嵌合孔３３４の内側にセンター筒部３３２の大径側端部が嵌合している。嵌合孔３３４とセンター筒部３３２との嵌合部分は、サブ摺動シール３３４Ｓによって気密状態にシールされている。また、回収品ホッパ３３３のシュート３３５にはバルブ３７が備えられている。

第２終端壁３３０のうち、サブセンター孔３３１の上方位置には、処理対象物供給口３３７が設けられている。処理対象物供給口３３７には、フィーダー３６（スクリューフィーダー）の供給管３６Ｐが挿通可能となっており、そのフィーダー３６から第２回転室１６に、処理対象物Ｓを供給することができる。なお、フィーダー３６の供給管３６Ｐは、処理対象物供給口３３７に対して進退させることが可能となっており、処理対象物供給口３３７は開閉蓋３３８によって閉塞することが可能となっている。

回収品ホッパ３３３には真空ポンプ３３６が接続されている。即ち、回収品ホッパ３３３のバルブ３７を閉じかつ処理対象物供給口３３７を開閉蓋３３８で閉じた状態で真空ポンプ３３６を作動させると、筒形回転容器１０内の空気が回収品ホッパ３３３を介して真空ポンプ３３６に吸引されて、筒形回転容器１０内が真空状態になる。その真空状態で第１回転室１５内の処理対象物Ｓを流動させながら、プラズマによる処理を行うことができる。なお、回収品ホッパ３３３及び真空ポンプ３３６が、本発明の「吸引手段」に相当する。

［第８実施形態］
図４６に基づいて本発明の第８実施形態を説明する。同図（Ａ）に示すように、本実施形態の筒形回転容器１０の第１回転室１５内には、樹脂製又は金属製の規則充填物（例えば、メッシュデミスター）又は不規則充填物（以下、纏めて「充填部材８０」という）が充填されている。以下の説明では、上記第１〜第７実施形態との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図４６（Ａ）に示すように、リフター２０は、第１始端壁１２及び第１終端壁１４に固定されると共に、それら第１始端壁１２と第１終端壁１４の中間部で筒壁１１にも固定されている。同図（Ｂ）に示すように、リフター２０の先端部はリフター先端壁２０Ｃによって閉塞されており、リフター２０の上面全体が開放している。また、リフター側壁２０Ｂの先端部には流出孔２０Ｂ１が貫通形成されている。なお、図４６（Ｂ）に示されているリフター２０は、第１始端壁１２と第１終端壁１４との中間部に配置されたリフター２０の１つである。

液状（液体又はスラリー）の処理対象物Ｓは、接続管３４を介して第１回転室１５に直接供給される。筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５の下部に溜まった液体又はスラリー状の処理対象物Ｓがリフター２０によって汲み上げられて、リフター２０の先端部でリフター側壁２０Ｂ，２０Ｂを貫通した流出孔２０Ｂ１，２０Ｂ１（図４６（Ｂ）参照）から流出する。処理対象物Ｓは、充填部材８０内に形成された空隙を流下して、再び第１回転室１５の下部に溜まる。

ここで、接続管３４に送風機８１（本発明の「ガス供給手段」に相当する）を接続すると共に、固定蓋３２の排気口３２Ｂに排風機８２を接続して、第１回転室１５内をガス（空気、除湿空気又は処理ガス）が通過するようにしてもよい。これにより、液状の処理対象物Ｓから水分を蒸発させて濃縮を行うことができる。なお、第１終端壁１４に形成された通気孔１４Ａは、本発明の「終端センター孔」に相当する。なお、送風機８１の替わりに、加圧ガスを供給する加圧給気装置（例えば、圧縮ガスボンベ）を接続してもよい。また、送風機８１を設けずに、筒形回転容器１０内のガスを排気口３２Ｂから吸引することで、接続管３４から第１位回転室１５内にガス（空気）を取り込むようにしてもよい。この場合、排風機８２が本発明の「ガス供給手段」に相当する。

また、本実施形態の容器回転装置１００は、充填部材８０に細胞、細菌、微生物等の生物触媒を定着させることでバイオリアクター（排水処理装置、放射能除染装置）として利用することができる。また、クロレラ等の緑藻類、細菌、微生物の繁殖装置や、発酵・熟成装置として利用することができる。また、溶媒と処理ガスとを接触させて化学反応を行わせる反応装置として利用することができる。

［第９実施形態］
図４７及び図４８に基づいて本発明の第９実施形態を説明する。なお、上記第１〜第８実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

筒形回転容器１０の第１始端壁１２には、複数のリフター８５が一体に設けられている。リフター８５は、第１始端壁１２の内面と筒壁１１の内周面とに固定されており（図４７（Ｂ）参照）、筒形回転容器１０と一体回転する。リフター８５のうち、筒壁１１と対向したリフター底壁８５Ａ及び、第１始端壁１２と対向したリフター側壁８５Ｂは、共に閉塞されており、正回転方向Ｘ１の前方を向いた前面開口８５Ｃのみが開放している。第１回転室１５には、ロータリージョイント８６を介してセンター孔１２Ａに接続された液体供給管６０から処理液が連続的に供給されており、その処理液は、リフター８５の前面開口８５Ｃから取り込まれて排出されるようになっている。図４７（Ａ）に示すように、第１回転室１５内には、粒状の処理対象物Ｓがほぼ満タンに近い状態まで収容されており、リフター８５によってすくい上げられた処理液は、処理対象物Ｓの粒子間に形成された空隙を通って流下する。リフター８５の前面開口８５Ｃは網状部材８７によって塞がれており、その網状部材８７の目開きは処理対象物Ｓの粒径よりも小さくなっている。従って、リフター８５内に処理対象物Ｓが進入することはない。

図４８に示すように、筒形回転容器１０の第２回転室１６には、筒形回転容器１０の中心軸に対して同心円状に配置されたアウターコーン２３１，トロンメル２３２，中心筒部２３３が備えられている。

筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓは、処理液と共にサブ移送ダクト６７及び中心筒部２３３を通ってトロンメル２３２の小径側端部に排出される。処理対象物Ｓは、トロンメル２３２の篩目を通過せずにトロンメル２３２の大径側端部に向かって移動し、トロンメル２３２及びアウターコーン２３１を貫通した側部開口２３１Ｂから下方に排出される。また、処理対象物Ｓは、第２螺旋ガイド１８の案内によって第２回転室１６の底部を第１終端壁１４側へ移動し、移送ダクト２３を通って第１回転室１５に戻される。一方、中心筒部２３３から排出された処理液は、トロンメル２３２の篩目を通過してアウターコーン２３１内に流下し、その排出大開口２３１Ａから第２回転室１６の外部へと排出される。つまり、トロンメル２３２によって処理対象物Ｓと処理液とを分離して、使用済みの処理液は筒形回転容器１０外へ排出し、処理対象物Ｓは第１回転室１５に戻すことができる。

筒形回転容器１０を逆回転させると、処理対象物Ｓが移送ダクト２３を通って第１回転室１５から第２回転室１６に移動して、第２螺旋ガイド１８の作用によって第２回転室１６の終端口１３から排出される。なお、固定蓋３２の内部には仕切壁３２Ｄが設けられていて、アウターコーン２３１の排出大開口２３１Ａから排出された処理液と、第２回転室１６の終端口１３から排出された処理対象物Ｓとを、固定蓋３２に備えた別々の排出口３２Ｃ，３２Ｃから排出することが可能となっている。

［第１０実施形態］
図４９及び図５０に基づいて本発明の第１０実施形態を説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の内面に付着した付着物（例えば、処理対象物Ｓ）を衝撃によって払い落とすための払い落とし機構を備えている。以下の説明では、払い落とし機構に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第９実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図４９（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０のうち第１回転室１５の内側には直管形のガイドパイプ４０１が設けられている。ガイドパイプ４０１は、第１回転室１５を直径方向に横切るように配置されており、その両端部が筒壁１１の内面に突き当てられている。筒壁１１のうちガイドパイプ４０１の両端部が突き当たった部分は、それぞれ磁気吸着部４０２，４０２となっている。

ガイドパイプ４０１内には、打撃子４１０が直動可能に収容されている。図４９（Ｂ）に示すように、打撃子４１０は、柱状をなしており、軸方向の両端部に金属製の打撃板４１１を備えると共に、その打撃板４１１から軸方向に押圧ピン４１２が突出している。押圧ピン４１２に対応して、磁気吸着部４０２にはピン挿通孔４０３が貫通形成されており、そのピン挿通孔４０３を押圧ピン４１２が貫通可能となっている。また、磁気吸着部４０２には磁石４０４が固定されており、その磁石４０４と打撃板４１１とが磁力によって吸着可能となっている。

筒形回転容器１０の上方には、押圧レバー４２０が配設されている。押圧レバー４２０は、駆動源４２２によって略水平な支軸４２１を中心にして回動し、丸みを帯びた先端部が筒壁１１の外周面に対して接離する。押圧レバー４２０及び駆動源４２２は、本発明の「押下手段」に相当する。

押圧レバー４２０の先端部が筒壁１１から離れた位置に配置された状態で筒形回転容器１１が回転した場合に、打撃子４１０の押圧ピン４１２と押圧レバー４２０とが接触することはなく、打撃子４１０は一方の磁気吸着部４０２に吸着された状態で筒形回転容器１０と一体回転する。処理対象物Ｓの処理中はこの状態にしておく。

これに対し、押圧レバー４２０の先端部が筒壁１１の外周面に近接配置された状態で筒形回転容器１１が回転した場合には、以下のようになる。即ち、打撃子４１０は、一方の磁気吸着部４０２に吸着したまま、押圧レバー４２０が待ち構える上端位置に向かって移動する。そして、打撃子４１０が押圧レバー４２０の下方を通過するときに、筒壁１１の外周面から突出した押圧ピン４１２が押圧レバー４２０の先端部と接触して、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の内側に押し込まれる。すると、磁石４０４と打撃板４１１との吸着が解除されて、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の中を自重で落下し、略鉛直下方に配置されたもう一方の磁気吸着部４０２に衝突する。このときの衝撃で、筒壁１１の内面に付着している付着物が払い落とされる。

磁気吸着部４０２と衝突した打撃子４１０は、その磁気吸着部４０２と吸着したまま、押圧レバー４２０が待ち構える上端位置まで移動する。そして、打撃子４１０が押圧レバー４２０の下方を通過するときに、再び押圧ピン４１２が押圧レバー４２０と接触して押し込まれ、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の中を自重で落下して、鉛直下方に配置された磁気吸着部４０２に衝突する。つまり、筒形回転容器１０が半回転する毎に、打撃子４１０がガイドパイプ４０１内を鉛直下方に落下して磁気吸着部４０２に衝突し、筒壁１１に付着した付着物を払い落とす。本実施形態によれば、ガイドパイプ４０１が鉛直になるまで打撃子４１０をガイドパイプ４０１の一端に保持し、ガイドパイプ４０１の一端が上端位置になったときに、打撃子４１０を落下させるので、筒壁１１に対して比較的大きい衝撃を与えることができ、付着物を効果的に払い落とすことができる。

本実施形態の変形例として、例えば、図５０に示すように、ガイドパイプ４０１を、筒形回転容器１０の筒壁１１と、第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７の内縁部との間に設け、筒形回転容器１０が１回転する毎に、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の中を筒壁１１から第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７に向かって落下して、第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７に衝撃を与えるような構成としてもよい。

また、図示しないが、１対のガイドパイプ４０１，４０１を十字形に交差させて各ガイドパイプ４０１，４０１内に打撃子４１０，４１０を収容し、筒形回転容器１０が１／４回転する毎に、打撃子４１０がガイドパイプ４０１内を落下して筒壁１１に衝撃を与えるような構成としてもよい。

また、上記実施形態では、磁気吸着部４０２によって吸着保持された打撃子４１０を押圧レバー４２０で押圧して打撃子４１０をガイドパイプ４０１内で鉛直落下させるように構成されていたが、磁気吸着部４０２を設けずにガイドパイプ４０１内を打撃子４１０が自由に往復動可能な構成としてもよい。こうすると、ガイドパイプ４０１が鉛直になる前の斜めの状態で、そのガイドパイプ４０１内を打撃子４１０が斜めに落下して筒壁１１に衝撃を与える。また、この場合、打撃子４１０は柱状である必要はなく、例えば、球状でもよい。

［第１１実施形態］
図５１〜図５７に基づいて本発明の第１１実施形態を説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の内面に付着した付着物（例えば、処理対象物Ｓ）を衝撃によって払い落とすための払い落とし機構４００を備えている。以下の説明では、払い落とし機構４００に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第９実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図５１（Ａ）に示すように、払い落とし機構４００は、筒形回転容器１０の筒壁１１の内周面から突出した杭状の被打撃部４３０と、その被打撃部４３０を筒形回転容器１０の回転（例えば、逆回転）に伴って打撃することが可能なハンマー４３１（本発明の「打撃部材」に相当する）とを備えている。

ハンマー４３１は、筒壁１１の内周面から第１回転室１５内に起立した支持ベース４３２に取り付けられている。図５１（Ｂ）に示すように、支持ベース４３２は、筒壁１１に対して直角な板状をなしており、その一方の側面から突出した回動軸４３３にハンマー４３１が回動自在に軸支されている。ハンマー４３１は、回動軸４３３に軸支された腕部４３１Ａの先端に打撃子４３１Ｂを備えている。図５１（Ｃ）に示すように、腕部４３１Ａの基端部の両側面からは台形状をなした１対の突片４３１Ｃ，４３１Ｃが張り出している。また、支持ベース４３２のうち回動軸４３３が突出した側面からはストッパピン４３４が突出している。ストッパピン４３４は、回動軸４３３よりも支持ベース４３２の先端側に配置されて回動軸４３３と平行になっている。なお、支持ベース４３２の基端部には抜け孔４３５が貫通形成されており、その抜け孔４３５を第１螺旋ガイド１７が通過している（図５１（Ｂ）参照）。

図５１（Ａ）に示すように、払い落とし機構４００が第１回転室１５の下端部に位置しているとき、ハンマー４３１は、打撃子４３１Ｂを逆回転方向Ｘ２の後側から被打撃部４３０に当接させた状態となっている。この位置から筒形回転容器１０を逆回転方向Ｘ２に回転させると、最初は、打撃子４３１Ｂが被打撃部４３０から徐々に離れていく（図５２（Ａ）参照）。払い落とし機構４００が第１回転室１５の斜め上側位置（図５２（Ａ）及び同図（Ｂ）における概ね１０時の位置）になると、一方の突片４３１Ｃがストッパピン４３４と当接してハンマー４３１の回動が禁止され、打撃子４３１Ｂと被打撃部４３０とが最も離れた状態になる。筒形回転容器１０がさらに回転して、払い落とし機構４００が斜め下側位置（図５２（Ａ）及び同図（Ｂ）における概ね４時の位置）になったときに、ハンマー４３１が倒立した状態から一気に振り下ろされて、打撃子４３１Ｂが筒形回転容器１０の回転方向（逆回転方向Ｘ２）の後側から被打撃部４３０に衝突する。即ち、筒形回転容器１０が１回転する毎に、ハンマー４３１が被打撃部４３０を１回打撃する。この衝撃で、筒形回転容器１０の筒壁１１に付着した付着物を払い落とすことができる。なお、本実施形態の筒形回転容器１０に備えられている払い落とし機構４００は１つだけであるが、払い落とし機構４００を筒壁１１の周方向にずらして複数備えていてもよい。

図５３（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０を正回転方向Ｘ１に回転させた場合は、払い落とし機構４００が上端位置に達する辺りでハンマー４３１が筒形回転容器１０の回転方向の前方に一気に回動して突片４３１Ｃとストッパピン４３４とが当接し、打撃子４３１Ｂと被打撃部４３０とが最も離れた状態になる。さらに筒形回転容器１０が回転すると、ハンマー４３１（打撃子４３１Ｂ）と被打撃部４３０とが徐々に接近し、払い落とし機構４００が下端位置に到達する直前にハンマー４３１と被打撃部４３０とが当接する。即ち、逆回転方向Ｘ２に回転させた場合のように、被打撃部４３０に向かってハンマー４３１を一気に振り下ろすような打撃は起きない。

本実施形態の変形例として、例えば、図５３（Ｂ）に示すように、払い落とし機構４００を筒形回転容器１０の筒壁１１の外面に設けるか又は、筒壁１１の内面に設けて、ハンマー４３１の回動範囲が筒壁１１によって規制される構成にしてもよい。即ち、筒壁１１の外面又は内面を直接ハンマー４３１によって叩く構成としてもよい。ここで、図５３（Ｂ）には、ハンマー４３１の動作説明のために、払い落とし機構４００が複数描かれているが、実際の払い落とし機構４００は１つである。但し、払い落とし機構４００を筒壁１１の周方向にずらして複数備えていてもよい。

また、図５４に示すように、ハンマー４３１の基端部に形成された回転軸孔４３１Ｄを、腕部４３１Ａの長手方向に延びた長孔形状にしておき、図５５に示すように、筒形回転容器１０の回転に伴い、ハンマー４３１が回動軸４３３回りの回転と、腕部４３１Ａの長手方向への移動とを行うような構成としてもよい。

また、筒壁１１の内周面から杭状に突出した被打撃部４３０ではなく、図５６（Ａ）に示すように、第１螺旋ガイド１７（又は第１サブ螺旋ガイド２７）をハンマー４３１によって打撃する構成としてもよい。このときの第１螺旋ガイド１７（又は第１サブ螺旋ガイド２７）は、本発明の「被打撃部」に相当する。

また、図５６（Ｂ）に示すように、移送ダクト２３、第１終端壁１４、リフター２０等から中心軸Ｊ１と平行に軸状の被打撃部４３０を突出させて、それら被打撃部４３０を、移送ダクト２３、第１終端壁１４、リフター２０等に回転可能に軸支された上記ハンマー（図示せず）によって打撃する構成にしてもよい。

また、図５７（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０における第１回転室１５の中心部に、例えば、第１始端壁１２又は第１終端壁１４から突出した軸体４４０が備えられている場合に、その軸体４４０をハンマー４３１によって打撃するようにしてもよい。また、上記第１実施形態等に適用されている椀形反射部材１９、上記第３実施形態等に適用されているトロンメル６５、上記第４実施形態等に適用されているアウターコーン２３１を、ハンマー４３１によって打撃するようにしてもよい。

［第１２実施形態］
図５８〜図６３に基づいて本発明の第１２実施形態を説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、固定蓋３２の排気口３２Ｂから排気された排気ガスに含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生した粉塵、煤塵、その他粒子）を回収するための粒子回収装置５００を備えている。以下の説明では、粒子回収装置５００に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第１１実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

粒子回収装置５００は、図５９（Ａ）に示す遠心力集塵機５０１（本発明の「遠心力集塵部」に相当する）と、図６２（Ａ）に示す濾過集塵機５０２とから構成されている。濾過集塵機５０２は、１対のフィルターユニット５４０，５４０（本発明の「フィルター集塵部」に相当する）を備え、遠心力集塵機５０１の排気筒５１７と１対のフィルターユニット５４０，５４０との間が切替バルブ５７０（図５８（Ａ）参照）を介して接続されている。

まずは、図５８〜図６１に基づいて遠心力集塵機５０１の説明を行う。図５９（Ａ）に示すように、遠心力集塵機５０１は、漏斗形状をなしたサイクロン容器５１０の下端寄り部分から筒状の排出シュート５２０が垂下した構造をなしている。サイクロン容器５１０の排出口５１１（以下、「サイクロン排出口５１１」という）は第１弁体５１３によって開閉可能とされ、排出シュート５２０の排出口５２１（以下、「シュート排出口５２１」という）は第２弁体５２３によって開閉可能とされている。第１弁体５１３及び第２弁体５２３は、共に下面開放の半球ドーム状をなしている。

第１弁体５１３は、サイクロン排出口５１１の上方から宙吊りにされている。詳細には、サイクロン容器５１０の筒壁を吊り腕５１４が水平方向に貫通しており、その吊り腕５１４の先端から下方に垂らされたワイヤー５１５の下端部に第１弁体５１３の頂部が連結されている。ワイヤー５１５の長さは、弛みを無くした状態で第１弁体５１３とサイクロン排出口５１１の開口縁との間に若干の隙間が形成されるように、予め調整ねじ５１６によって調整されている。即ち、通常時は、サイクロン容器５１０内で遠心分離された粒子状物質がサイクロン排出口５１１を通って排出シュート５２０内に流入するようになっている（図５９（Ａ）参照）。

第２弁体５２３も、第１弁体５１３と同様に、シュート排出口５２１の上方から宙吊りにされている。詳細には、図５９（Ｂ）に示すように、排出シュート５２０の筒壁を回転シャフト５２６が水平方向に貫通しており、その回転シャフト５２６のうち排出シュート５２０内に配置された先端部にリール５２４が固定されている。そのリール５２４から垂らされたワイヤー５２５の下端部に第２弁体５２３の頂部が連結されている。回転シャフト５２６の基端部には、バランスウェイト５２７が一体に設けられており、そのバランスウェイト５２７の付勢力（バランスウェイト５２７にかかる重力）によって、常には、シュート排出口５２１が第２弁体５２３によって閉塞されている（図５９（Ａ）参照）。なお、バランスウェイト５２７は、ウェイトシャフト５２７Ａの軸方向でウェイト５２７Ｂの位置を調節することが可能であり、付勢力（シュート排出口５２１の開閉し易さ）を任意に調節することが可能となっている（図５９（Ｃ）参照）。

遠心力集塵機５０１の作用を説明する。容器回転装置１００の排気口３２Ｂから排気された排気ガスは、サイクロン容器５１０の内周面に沿って旋回しながら下方に向かい、その過程で、排気ガスに含まれる粒子状物質が遠心分離される。排気ガスは、サイクロン容器５１０の中心部で上昇気流となり、サイクロン容器５１０の排気筒５１７から後述する濾過集塵機５０２へと排出される。

一方、排気ガスから遠心分離された粒子状物質は、サイクロン容器５１０の斜面を流下し、サイクロン排出口５１１の開口縁と第１弁体５１３との間に形成された隙間を通って排出シュート５２０内に流入する。シュート排出口５２１は第２弁体５２３によって閉塞されているから、粒子状物質は排出シュート５２０内に堆積する。

排出シュート５２０内に堆積した粒子状物質の重さがバランスウェイト５２７の付勢力に勝ると、第２弁体５２３が下方に押し下げられてシュート排出口５２１が開放し、図６０（Ａ）に示すように排出シュート５２０内の粒子状物質が排出される。また、バランスウェイト５２７は、排出シュート５２０の筒壁から突出したストッパ５２８と当接して倒立姿勢で停止し、シュート排出口５２１の開口縁と第２弁体５２３との間の隙間は一定に保たれる。なお、遠心力集塵機５０１で回収された粒子状物質が、処理対象物Ｓである場合には、シュート排出口５２１から排出された粒子状物質を、容器回転装置１００（筒形回転容器１０）に供給するようにしてもよい（図５８（Ｂ）参照）。より具体的には、例えば、図１に示すフィーダー３６を介して供給してもよいし、遠心力集塵機５０１から直接供給してもよい。

図６０（Ｃ）に示すように、排出シュート５２０内の粒子状物質の残量が少なくなって、シュート排出口５２１を通過する粒子状物質の量が少なくなると、シュート排出口５２１の開口縁と第２弁体５２３との間の空隙から排出シュート５２０内に空気が逆流する。すると、図６０（Ｅ）に示すように、シュート排出口５２１から逆流した空気によって第１弁体５１３が押し上げられて、サイクロン排出口５１１が閉塞される。これにより、逆流した空気によってサイクロン容器５１０内で粒子状物質が舞上がるという事態を回避することができる。

また、弁体５１３が押し上げられてサイクロン排出口５１１が閉塞されたことで、排出シュート５２０内に粒子状物質が流入しなくなり、排出シュート５２０内の粒子状物質が全量排出されるか極少量になると、図６０（Ｄ）に示すように、バランスウェイト５２７が一気に横向きに倒れる。すると、ワイヤー５２５がリール５２４に巻き取られ、第２弁体５２３が引き上げられてシュート排出口５２１が閉塞される。シュート排出口５２１が閉塞されると、第１弁体５１３を押し上げる空気が流れ込まなくなるので、第１弁体５１３は自重で降下してサイクロン排出口５１１が開放される。これにより、サイクロン容器５１０内で遠心分離された粒子状物質が、再び排出シュート５２０内に堆積し始める。

このように、遠心力集塵機５０１は、電気的な駆動源を使用せずに第１弁体５１３及び第２弁体５２３を間欠的に開閉し、毎回ほぼ一定量の粒子状物質を自動的に排出する。

ここで、本実施形態では、第１弁体５１３をワイヤー５１５で吊り下げていたが、例えば、図６１（Ａ）に示すように、排出シュート５２０内に固定された支持ベース５３０からサイクロン排出口５１１に向かって垂直に立ち上がった支持ピン５３１と、第１弁体５１３の内面の頂部から垂下した下端開放のピン受容筒５３２とを設け、ピン受容筒５３２の下端から支持ピン５３１が挿入されて、支持ピン５３１の先端がピン受容筒５３２の奥部に設けられた軸受５３３に突き当てられた構成としてもよい。この構成では、シュート排出口５２１から逆流した空気によって第１弁体５１３が支持ピン５３１から浮き上がってサイクロン排出口５１１を閉塞する。ここで、支持ピン５３１は支持ベース５３０に対して螺合されており、支持ベース５３０からの突出高さを任意に調節することが可能となっている。これにより、サイクロン排出口５１１の開口縁と第１弁体５１３との間に形成される隙間の大きさを任意に調整することができる。

また、上記した第１弁体５１３は下面開放の半球ドーム状であったが、図６１（Ｂ）に示す第１弁体５３５のように平板状をなしていてもよい。詳細には、第１弁体５３５は、排出シュート５２０の側壁を貫通した水平な回転軸５３７に軸支されており、排出シュート５２０内で上下に回動可能となっている。通常、第１弁体５３５は、自重によって下端位置（二点鎖線で示した位置）に配置されていて、サイクロン排出口５１１が開放されており、シュート排出口（図示せず）から空気が逆流すると、その空気に押されて上方に回動し、サイクロン排出口５１１を閉塞する。第１弁体５３５にはバランスウェイト５３６が一体に備えられており、第１弁体５３５の回動し易さ（サイクロン排出口５１１の開閉し易さ）は、ウェイトシャフト５３６Ａの軸方向でウェイト５３６Ｂの位置を調節することで任意に設定することができる。以上が、遠心力集塵機５０１の説明である。

次に、図６２及び図６３に基づいて濾過集塵機５０２の説明を行う。図６２（Ａ）に示すように、濾過集塵機５０２は、１対のフィルターユニット５４０，５４０を備えており、それら各フィルターユニット５４０は、共通の貯留兼排出機５６０の上面に固定されている。

図６２（Ｂ）に示すように、フィルターユニット５４０は、上下方向に延びた円筒ケース５４１の内側に円筒状のフィルター５５３（バグフィルター）を備えている。円筒ケース５４１の側面には遠心力集塵機５０１から排出された排気ガスを取り込むための給気口５４２が設けられている。また、円筒ケース５４１の上端部には、吸引ファン５５４（図５８（Ａ）参照）に接続されかつ、その吸引力によってフィルター５５３を通過した排気ガスを排気するための排気口５４３と、フィルター５５３に付着した粒子状物質を払い落とすための逆洗手段とが備えられている。逆洗手段は、フィルター５５３の内側に圧縮エアを供給するためのエアタンク５４４及び電磁弁５４５とを有している。

円筒ケース５４１の下端寄り位置には漏斗部５４６が設けられており、その漏斗部５４６の下端開口５４６Ａが開閉弁５４７によって開閉可能となっている。開閉弁５４７は、半球状をなしており、ワイヤー５４８によって円筒ケース５４１の中心部に吊り下げられている。ワイヤー５４８の上端部には、開閉弁５４７を上下動させる（下端開口５４６Ａに対して接離させる）ための弁駆動部が設けられている。弁駆動部は、ワイヤー５４８の上端部に接続されて上下方向に伸縮可能な蛇腹筒部５４９と、蛇腹筒部５４９を円筒ケース５４１の中心軸上で収容保持した蛇腹収容器５５０と、蛇腹筒部５４９に対して給排気を行うための給排気口５５１とを備えている。給排気口５５１から蛇腹筒部５４９に空気が供給されると、蛇腹筒部５４９が伸長して開閉弁５４７が降下し、漏斗部５４６の下端開口５４６Ａが開放する。これに対し、給排気口５５１から空気が排気されると、蛇腹筒部５４９は収縮して開閉弁５４７が引き上げられ、漏斗部５４６の下端開口５４６Ａが閉塞される。

貯留兼排出機５６０は、粒子貯留容器５６１の内側にスクレイパー５６４を回転可能に備えてなる。粒子貯留容器５６１は、上下方向に扁平な円筒状をなしており、その上面を覆った蓋体５６６には、各フィルターユニット５４０の円筒ケース５４１と粒子貯留容器５６１とを連通する連通口（図示せず）が貫通形成されている。粒子貯留容器５６１の底壁５６２の中心からずれた位置には、排出孔５６３が貫通形成されている（図６３参照）。スクレイパー５６４は、底壁５６２の下面中央に固定されたモータ５６５（図６２（Ｂ）参照）によって回転駆動され、底壁５６２の上面と摺接しながら旋回する。図６３に示すように、スクレイパー５６４は、回転方向の後側に屈曲した平面視「く」の字形をなしており、その「く」の字の屈曲部分が排出孔５６３の上を通過する。そして、スクレイパー５６４は、底壁５６２の上面に落ちた粒子状物質を掻き取って「く」の字の屈曲部分に集め、排出孔５６３から落下させる。スクレイパー５６４によって粒子貯留容器５６１から排出された粒子状物質は、回収容器５６７（図５８（Ａ）参照）に集められる。ここで排出孔５６３は、粒子状物質を受ける機構に応じて底壁５６２の任意の位置に設ければよく、スクレイパー５６４における「く」の字の屈曲部分は、その排出孔５６３の位置に応じて粒子貯留容器５６１の半径方向の任意の位置に設ければよい。ここで、排出孔５６３には図示しない常時開の弁が上段に、常時閉の弁が下段に設けられていて、弁と弁の間はダクトで接続され、外部制御による自動開閉の２段の弁により、濾過集塵機５０２の気密が保たれている。以上が、濾過集塵機５０２の説明である。

ところで、本実施形態の説明の冒頭でも述べたように、遠心力集塵機５０１と１対のフィルターユニット５４０，５４０との間には切替バルブ５７０が備えられており、その切替バルブ５７０によって１対のフィルターユニット５４０，５４０のうちの何れか一方と遠心力集塵機５０１との間を連通させ、他方と遠心力集塵機５０１との間を遮断することが可能となっている。このような構成にすることで、以下のような効果を奏する。即ち、フィルターユニット５４０は、濾過性能を維持するために定期的に圧縮エアによる逆洗を行ってフィルター５５３に付着した粒子状物質を払い落とす必要があるが、フィルターユニット５４０を１つしか備えていない場合には、逆洗を行っている間、そのフィルターユニット５４０による集塵が中断されるので、筒形回転容器１０による処理も中断する必要がある。また、逆洗を行っている間、フィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１とが連通していると、遠心力集塵機５０１に圧縮エアが流入して悪影響を与える可能性がある。これに対し、本実施形態によれば、２つのフィルターユニット５４０と切替バルブ５７０とを備え、一方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１との間を連通させる一方で、他方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０４との間を遮断することができるから、他方のフィルターユニット５４０でフィルター５５３の逆洗を行いながら、一方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１とで粒子状物質の集塵を行うことができる。これにより、筒形回転容器１０による処理をフィルターユニット５４０の逆洗に拘わらず、連続的に行うことができる。

粒子回収装置５００の作用を纏める。筒形回転容器１０における固定蓋３２の排気口３２Ｂから排気された排気ガスは、遠心力集塵機５０１に取り込まれ、遠心力によって排気ガスに含まれる粒子状物質が分離される。遠心力集塵機５０１にて分離された粒子状物質は、間欠的にほぼ一定量ずつ排出シュート５２０から排出される。

遠心力集塵機５０１の排気筒５１７から排気された排気ガスは、切替バルブ５７０を介して連通した一方のフィルターユニット５４０に取り込まれる。そして、フィルター５５３によってほぼ完全に粒子状物質が除去された清浄な排気ガスが排気口５４３から大気放出される。なお、粒子状物質以外に有害物質が含まれている場合には、粒子回収装置５００から排気された排気ガスを、排ガス洗浄装置（図示せず）に通して有害物質を除去した後、大気放出するようにしてもよい。

切替バルブ５７０は定期的に切り替えられて、１対のフィルターユニット５４０，５４０は交互に遠心力集塵機５０１との接続が遮断される。遠心力集塵機５０１との接続が遮断された方のフィルターユニット５４０では、圧縮エアによるフィルター５５３の逆洗が行われ、フィルター５５３に付着した粒子状物質が払い落とされる。この間、もう一方のフィルターユニット５４０は遠心力分離機５０１と連通しており、フィルター５５３によって粒子状物質が濾過分離される。

フィルター５５３から払い落とされた粒子状物質は、粒子貯留容器５６１に貯留される。また、粒子貯留容器５６１に貯留された粒子状物質は、スクレイパー５６４によって集められて排出孔５６３から排出される。詳細には、排出孔５６３に備えた２段の弁が交互に開閉動作（タイマーにより、常時開の上段弁が閉じ、閉じ終わったら常時閉の下段弁を開いて粒子状物質の排出を行う。その後、下段弁を閉じ、閉じ終わったら、上段弁を開くという動作。レベルセンサを設けて、レベルセンサの感知により動作を制御してもよい。）をして粒子状物質が排出される。さらには、遠心力集塵機５０１にて分離された粒子状物質を、粒子貯留容器５６１に貯留し、処理対象物Ｓの筒形回転容器１０内の部外品として収容してもよい。

［第１３実施形態］
図６４に基づいて本発明の第１３実施形態を説明する。この容器回転装置１００は、筒形回転容器１０を周囲から加熱する加熱炉６０２を備えている。なお、上記実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図６４（Ａ）に示すように、本実施形態の容器回転装置１００は、モータ３１によって回転駆動される駆動シャフト６００の先端部に、基端部が閉塞しかつ先端部が開放した円筒形の回転受容部６０１を一体に備えており、その回転受容部６０１の先端側から筒形回転容器１０が挿入されている。筒形回転容器１０は、回転受容部６０１の内側に遊嵌状態で収容されており、回転受容部６０１が回転すると、その内側で筒形回転容器１０が転がって回転受容部６０１と同一方向に回転するように構成されている。

回転受容部６０１は加熱炉６０２の内側に収納されている。加熱炉６０２は、両端閉塞の円筒形をなし、その内周面にはヒータ６０３が固定されている。また、加熱炉６０２のうち、駆動シャフト６００が貫通した端部壁とは反対側の端部が、取り外し可能な蓋体６０４となっており、加熱炉６０２の筒壁には、内部のガスを排気するための排気筒６０５が設けられている。

図６４（Ｄ）には、同図（Ａ）における点線円で囲まれた部分が拡大して示されている。同図に示すように、筒形回転容器１０の第１始端壁１２には、センター孔１２Ａを囲んだ円環状のリップ部１２Ｒが突出形成されている。リップ部１２Ｒは断面半円形をなしており、その丸みを帯びた先端部が回転受容部６０１の基端壁と摺接可能となっている。このリップ部１２Ｒは、回転受容部６０１の内側で筒形回転容器１０を転動し易くするために設けられている。

図６４（Ｃ）には、同図（Ａ）における点線四角で囲まれた部分が拡大して示されている。同図に示すように、駆動シャフト６００の中心部を貫通した芯孔６００Ａには、配管６０７や図示しないセンサ（温度センサ、ガスセンサ等）が挿通されており、それら配管６０７等が回転受容部６０１の基端壁及び第１始端壁１２のセンター孔１２Ａを貫通して、第１回転室１５内に到達している。これにより、加熱炉６０２の外側から、筒形回転容器１０の第１回転室１５に所定の雰囲気ガス又は液体を供給したり、温度計測やガス検知等を行うことができる。

なお、加熱炉６０２は支持台６０８によって下方から支持されており、その支持台６０８のうち駆動シャフト６００を回転可能に支持した軸受部６０９は、ヒンジ６０８Ａを中心にして傾動可能となっている。さらに、駆動シャフト６００の基端部にはロータリジョイント６０６が接続され、これを介して雰囲気ガス又は液体の供給源と配管６０７とが接続されている。また、加熱炉６０２における駆動シャフト６００の貫通部分は、シール部材６１０によってシールされている。本実施形態によれば、筒形回転容器１０の全体を閉塞された加熱炉６０２内で加熱することができるから、より効果的に処理対象物Ｓに熱を付与することができる。

［第１４実施形態］
上記第１３実施形態では、回転受容部６０１の回転によって筒形回転容器１０が回転受容部６０１の内側で転がるように構成されていたが、本実施形態では、筒形回転容器１０と回転受容部６０１とが同心円状に配置されて、両者が一体回転するように構成されている。なお、以下の説明では、上記第１３実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図６５（Ａ）に示すように、回転受容部６０１の外面には１対のフランジ６１１，６１２が形成されている。フランジ６１２は、回転受容部６０１の先端部から外側に張り出しており、フランジ６１１は、回転受容部６０１の基端寄り部分から外側に張り出している。両フランジ６１１，６１２のうち回転受容部６０１の先端側を向いたフランジ面６１１Ａ，６１２Ａには、それぞれ複数ずつ（例えば４つずつ）固定具６２０が取り付けられており、それら固定具６２０が協働して筒形回転容器１０を回転受容部６０１の内側に固定している。

固定具６２０は、フランジ面６１１Ａ，６１２Ａの外縁寄り位置から回転受容部６０１の軸方向に突出した突出片６２１と、突出片６２１を回転受容部６０１の径方向に貫通した押しネジ６２３と、フランジ面６１１Ａ，６１２Ａに宛がって螺子止めされた位置決めプレート６２４と、位置決めプレート６２４から回転受容部６０１の軸方向に突出して押しネジ６２３の先端部が突き当てられたネジ当接片６２５及び、押しネジ６２３の基端部に螺合された緩止ナット６２６（図６５（Ｃ）参照）とを備えている。位置決めプレート６２４は、扇形の要部分を切除したような円弧板状をなしており、その内側の円弧部が筒形回転容器１０の外周面と同一の曲率となっている。

図６５（Ｂ）に示すように、固定具６２０は、回転受容部６０１を周方向に４等配した位置に設けられており、筒形回転容器１０を四方から挟んでいる。

図６５（Ａ）に示すように、回転受容部６０１の基端寄り部分には、回転受容部６０１の周方向に延びた長方形状の開口部６０１Ａが貫通形成されている。開口部６０１Ａは、固定具６２０の取り付け位置に応じて、回転受容部６０１を周方向に４等配した位置に形成されている。

固定具６２０に備えた位置決めプレート６２４は、それぞれ回転受容部６０１の内側に張り出しており、内側の円弧部が回転受容部６０１の内側に挿入された筒形回転容器１０の外周面にそれぞれ突き当てられている。

詳細には、位置決めプレート６２４をフランジ面６１１Ａ，６１２Ａに宛がって、押しネジ６２３を回転操作すると、ネジ当接片６２５が押しネジ６２３に押されて位置決めプレート６２４の内側の円弧部が筒形回転容器１０の外周面に突き当てられる。そして、全ての位置決めプレート６２４が筒形回転容器１０の外周面に突き当てられた状態で、それら位置決めプレート６２４をフランジ面６１１Ａ，６１２Ａに螺子止めすることで、筒形回転容器１０を回転受容部６０１に対して同心円状に配置（芯出し）することができる。

ここで、図６５（Ａ）に示すように、回転受容部６０１の先端側のフランジ６１２に取り付けられた位置決めプレート６２４には、係止爪６２７が一体に設けられている。係止爪６２７は、位置決めプレート６２４の内縁部から回転受容部６０１の軸方向に延びて先端が内側に直角曲げされており、それら係止爪６２７の先端が、筒形回転容器１０の終端部（終端口１３の開口縁）に係止されている。これら係止爪６２７によって、回転受容部６０１に対する筒形回転容器１０の軸方向への移動を禁止することができる。

図６６〜図６７には、回転受容部６０１内に挿入された筒形回転容器１０の固定構造の変形例が示されている。この固定構造は、複数本のワイヤー６３１によって筒形回転容器１０を固定したものである。図６６（Ａ）に示すように、各ワイヤー６３１は、筒形回転容器１０の筒壁１１に巻き付けられて両端部が回転受容部６０１に固定されている。詳細には、フランジ６１２のフランジ面６１２Ａからは、回転受容部６０１の軸方向に８つのワイヤー係止片６３０が突出している。これらワイヤー係止片６３０は中心軸Ｊ１に対して９０度回転対称な位置に配置されている。また、図示しないが、フランジ６１１のフランジ面６１１Ａにも同一複数のワイヤー係止片６３０が設けられている。

図６６（Ｃ）に示すように、各ワイヤー係止片６３０には、ワイヤー６３１の端部を側方から受容するＵ字形の係止溝６３０Ｍが形成されている。また、ワイヤー６３１の両端部には、ワッシャ６３６及び調節ナット６３５が取り付けられており、ワッシャ６３６が係止溝６３０Ｍの縁部に係止している。ここで、ワッシャ６３６は、所謂「球面ワッシャ」であり、ワイヤー係止片６３０のうちワッシャ６３６が重なる座面６３０Ａは、係止溝６３０Ｍに向かってすり鉢状に傾斜した凹面となっている。座面６３０Ａとワッシャ６３６とが凹凸係合することで、ワッシャ６３６を貫通したワイヤー６３１が係止溝６３０Ｍの先割れ部分から離脱することを防止している。

以下、図６７に示すように、８つのワイヤー係止片６３０を区別するために、時計回り方向で順にワイヤー係止片６３０Ａ，６３０Ｂ，６３０Ｃ・・・６３０Ｈとし、４本のワイヤー６３１を区別するためにワイヤー６３１Ａ，６３１Ｂ，６３１Ｃ，６３１Ｄとする。

図６７（Ａ）に示すように、ワイヤー６３１Ａは、一端がワイヤー係止片６３０Ａに係止されており、筒形回転容器１０の外側に半周巻き付けられて他端がワイヤー係止片６３０Ｆに係止されている。図６７（Ｂ）に示すように、ワイヤー６３１Ｂは、一端がワイヤー係止片６３０Ｂに係止されており、筒形回転容器１０の外側に半周巻き付けられて他端がワイヤー係止片６３０Ｅに係止されている。図６７（Ｃ）に示すように、ワイヤー６３１Ｃは、一端がワイヤー係止片６３０Ｃに係止されており、筒形回転容器１０の外側に半周巻き付けられて他端がワイヤー係止片６３０Ｈに係止されている。図６７（Ｄ）に示すように、ワイヤー６３１Ｄは、一端がワイヤー係止片６３０Ｄに係止されており、筒形回転容器１０の外側に半周巻き付けられて他端がワイヤー係止片６３０Ｇに係止されている。そして、各ワイヤー６３１Ａ〜６３１Ｄの両端に螺合された調節ナット６３５を締め付けることで、各ワイヤー６３１Ａ〜６３１Ｄが筒形回転容器１０を四方に引っ張り合った状態になる。即ち、ワイヤー６３１Ａとワイヤー６３１Ｂが互いに相反する方向に筒形回転容器１０を引っ張り合い、ワイヤー６３１Ｃとワイヤー６３１Ｄが互いに相反する方向に筒形回転容器１０を引っ張り合う。これにより、筒形回転容器１０が回転受容部１２の中央部で拘束され、回転受容部１２と一体回転可能に固定される。

図６５〜図６７に示した固定構造では、円筒形の回転受容部６０１の内側に筒形回転容器１０を挿入して、固定具６２０又はワイヤー６３１によって固定していたが、図６８（Ａ）に示すように、駆動シャフト６００の先端に固定されたカゴ形の回転受容部６５０によって筒形回転容器１０を保持してもよい。回転受容部６５０は、駆動シャフト６００の先端に固定された平板６５１と、その平板６５１の外縁部から駆動シャフト６００の軸方向に延びた複数の弾性板部６５２とから構成されている。平板６５１は、駆動シャフト６００を中心とした円形又は略円形をなしている。また、弾性板部６５２は、平板６５１から離れた先端部が自由端となった片持ち梁状をなすと共に、その長手方向の両端寄り部分でクランク状に屈曲して長手方向の中間部が回転受容部６５０の内側に突出している。回転受容部６５０の内側に筒形回転容器１０を挿入することで各弾性板部６５２が僅かに弾性変形した状態で筒形回転容器１０の外周面に当接し、それら複数の弾性板部６５２が協働して筒形回転容器１０を保持する。

［第１５実施形態］
以下、本発明の第１５実施形態を図６９〜図７２に基づいて説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の第１始端壁１２と第１終端壁１４とに設けられて、第１回転室１５に貯留された電解液に接液可能な１対のリング形電極７４０を備え、それらリング形電極７４０の間で通電して電解液に浸漬された処理対象物Ｓにめっき処理又は電解研磨処理を行うことが可能な構成となっている。なお、既に説明した第１乃至第１４実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図６９（Ｃ）に示すように、筒形回転容器１０は多角形（本実施形態では、六角形）の筒形をなしている。筒形回転容器１０は、その中心軸回りで可動ベース７２１に対して回転可能に支持されており、可動ベース７２１は、固定ベース７２０に対して筒形回転容器１０の中心軸と直交した水平軸回りで回動可能となっている。

図６９（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０の第１始端壁１２から軸方向に延びた駆動シャフト７２３は、可動ベース７２１に設けられた回転軸受部７２２によって回転可能に支持されており、その駆動シャフト７２３の基端部にはロータリージョイント７２４が接続されている。ロータリージョイント７２４には、洗浄液配管７２５が接続されている（図７１参照）。洗浄液配管７２５から供給された洗浄液は、駆動シャフト７２３の軸芯部を貫通した配管（図示せず）を通って、第１回転室１５内に突出した洗浄ノズル７２６から噴射されるようになっている。また、ロータリージョイント７２４にはバルブ７２７を介して排液配管が接続されている。駆動シャフト７２３の軸心部には、前記洗浄液が通る配管とは別のシャフト貫通路（図示せず）が形成されており、そのシャフト貫通路と、後述する排液ダクト７３０とによって、第１回転室１５内の液体を排出することが可能となっている。さらに、ロータリージョイント７２４には、バルブ７２８を介して乾燥機７２９が接続されており（図７１参照）、その乾燥機７２９からの温風をシャフト貫通路と排液シュート７３０とによって第１回転室１５内に送給することが可能となっている。なお、図示しないが、洗浄液が通る配管はシャフト貫通路の内側に挿通されている。

図７１に示すように第１始端壁１２の外面には、排液ダクト７３０が設けられている。図７２（Ａ）に示すように、排液ダクト７３０は、第１始端壁１２の中心部から径方向に向かって延び、途中で正回転方向に屈曲して第１始端壁１２の外縁部に沿って延びた排液路７３１と、排液路７３１の先端に設けられて第１始端壁１２を貫通して第１回転室１５内に開口した排液ダクト口７３２とを備えている。また、排液路７３１のうち、排液ダクト口７３２とは反対側の端部は、シャフト貫通路に連通している。なお、第１始端壁１２における第１回転室１５側の面は、六角形板状のフィルタ部材７３３（穿孔板、網等）によって構成されており（図７１参照）、そのフィルタ部材７３３によって排液シュート口７３１からの処理対処物Ｓの流出が防止されている。

図７１に示すように、第２回転室１６には、本発明に係る移送ダクト２３及び第２螺旋ガイド１８が設けられている。移送ダクト２３は、第１終端壁１４における第２回転室１６側の面に筒壁１１に沿うように設けられており、第１終端開口２４と第２始端開口２５との間で複数回屈曲した構造をなしている（図７２（Ｂ）参照）。第２螺旋ガイド１８は、第２始端開口２５の開口縁と筒形回転容器１０の終端口１３との間で螺旋状に延びている。

図７１に示すように、第２回転室１６の中心にはオーバーフロー移送管７３４が備えられている。オーバーフロー移送管７３４は第１終端壁１４の中心部から筒形回転容器１０の終端口１３に向かって延びている。オーバーフロー移送管７３４の基端部は第１終端壁１４によって閉塞されているのに対し、先端部は開放している。オーバーフロー移送管７３４の内側には排気管７３５が挿通されている。排気管７３５を通じて第１回転室１５内の気体を排気することができる。さらに、オーバーフロー移送管７３４にはフレキシブル管７３６が接続されている（図６９（Ｃ）参照）。フレキシブル管７３６は、オーバーフロー移送管７３４とその側方に配置されたオーバーフロー出口管７３７との間を接続している（図７２（Ｂ）参照）。フレキシブル管７３６は、オーバーフロー移送管７３４の基端部側面から筒形回転容器１０の径方向外側に向かって延び、途中で曲がって正回転方向に湾曲して延び、さらに内側に曲がってオーバーフロー出口管７３７の側面に接続されている。筒形回転容器１０が正方向Ｘ１に回転した場合に、規定量を超えた分の液体は、第１回転室１５からオーバーフロー出口管７３７に流入し、筒形回転容器１０の回転によってフレキシブル管７３６を通ってオーバーフロー移送管７３４に案内されて、オーバーフロー移送管７３４の先端開口から排出される。

図７２に示すように、第１始端壁１２及び第１終端壁１４のうち、第１回転室１５側の面には、それぞれリング形電極７４０が固定されている。リング形電極７４０は、筒形回転容器１０の回転中心と同心の円環状をなしており、筒形回転容器１０の外面に固定されたターミナル７４１と、駆動シャフト７２３の外面に設けられたスリップリング７４２とを介して外部のめっき用電源装置７４３に接続されている（図７１参照）。なお、駆動シャフト７２３の外面には、図示しないヒータとヒータ用電源装置との間を接続するためのスリップリング７４４が設けられている。

第１回転室１５における筒壁１１の内面には、複数の電路部材７４５が固定されている。電路部材７４５は、筒形回転容器１０の軸方向に延びた細軸状をなしており、筒形回転容器１０の軸方向の複数箇所で複数の電路構成体７４６，７４６に分断されている。

さて、本実施形態の容器回転装置１００は、処理対象物Ｓの表面にめっき処理（電気めっき処理又は無電解めっき処理）を行うためのめっき装置或いは、処理対象物Ｓを電気化学的に溶解させて研磨する電解研磨装置として使用することができる。図７０（Ａ）は、電気めっき処理及び電解研磨処理の処理フローの一例であり、同図（Ｂ）は無電解めっき処理の処理フローの一例である。ここで、図示しない自動制御盤を設けて、以下に説明する処理を自動制御で行うようにしてもよい。

電気めっき処理及び電解研磨処理では、最初にバルブ７２７，７２８を共に閉鎖した状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させ、その筒形回転容器１０の第２回転室１６に処理対象物Ｓと電解液とを定量供給し、それらを移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。次に、第１回転室１５内で処理対象物Ｓと電解液とを撹拌しながら、１対のリング形電極７４０，７４０の間で通電を行って、処理対象物Ｓに対して電気めっき処理又は電解研磨処理を行う。

電気めっき処理又は電解研磨処理が終了したら、筒形回転容器１０の正回転を継続したままバルブ７２７を開放する。すると、第１回転室１５内の電解液が排液ダクト７３０と駆動シャフト７２３のシャフト貫通路（図示せず）とを通って外部に排出される。次に、洗浄ノズル７２６から第１回転室１５内に洗浄液を噴射させて処理対象物Ｓ及び第１回転室１５の洗浄を行う。使用済みの洗浄液は、排液ダクト７３０及びシャフト貫通路を通って第１回転室１５から排出される。なお、洗浄液を第２回転室１６に供給し、筒形回転容器１０の正回転を利用して移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給するようにしてもよい。

洗浄処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め上方を向いた仰角姿勢（詳細には、仰角約７０度）とし、その状態でバルブ７２８を開放して乾燥機７２９から温風を送給する。温風は、シャフト貫通路及び排液ダクト７３０を通じて第１回転室１５内に送給される。このとき、筒形回転容器１０を正回転させているので、処理対象物Ｓを効率的に温風乾燥することができる。

乾燥処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め下方を向いた俯角姿勢（詳細には、俯角約５度）とし、その状態で、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、電気めっき処理又は電解研磨処理が施された処理対象物Ｓが、移送ダクト２３経由で第１回転室１５から第２回転室１６へと移送され、筒形回転容器１０の終端口１３から排出される。

図７０（Ｂ）に示すように無電解めっき処理では、１対のリング形電極７４０，７４０間で通電を行わないが、電解液（めっき液）の成分が変化するので、移送ダクト２３経由で第１回転室１５に電解液を適宜補充して、電解液の成分が一定になるように管理する。このとき、過剰な電解液は、オーバーフロー出口管７３７、フレキシブル管７３６、オーバーフロー移送管７３４を経て筒形回転容器１０の外部に排出される。めっき処理以降の処理内容（電解液の排出、処理対象物Ｓの洗浄、乾燥、排出）は、電気めっき処理及び電解研磨処理と同じである。なお、無電解めっき処理は、本実施形態の容器回転装置１０からリング形電極７４０、電路部材７４５、その他、通電に必要な構成部品を除外した構成でも行うことが可能である。

以上、電気めっき処理又は電解研磨処理の処理手段を述べたが、めっき用電源装置７４３を、高電圧低電流を印加または、高電圧パルスモード等を印加できる電源装置にし、プラズマを発生できる条件下で、プラズマ電解酸化または、プラズマ電解還元を行なってもよい。なお、上記した容器回転装置１００は、めっき処理等以外の電気化学的処理又は物理化学的処理（具体的には、酸素水素共存ガスの生成、排液処理等）に使用してもよい。上述した本実施形態の構成（リング形電極７４０等）を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第１６実施形態］
以下、本発明の第１６実施形態を図７３〜図７６に基づいて説明する。本実施形態は、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面から中心部に向かって略板状に突出しかつ、筒形回転容器１０の軸方向で所定の隙間を空けて配置された複数の撹拌板７５１と、複数の各撹拌板７５１に設けられて、それら撹拌板８５１の並び方向で所定のギャップを空けて突き合わされた放電電極対とを備え、撹拌板７５１によって第１回転室１５内に貯留された液体中に気泡を取り込むと共に放電電極対の間で液中プラズマ放電を行うことが可能な構成となっている。以下、上記第１５実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図７４（Ａ）には、本実施形態の容器回転装置１００が示されている。筒形回転容器１０の筒壁外面には、プラズマ用電源装置７５０が固定されており、筒形回転容器１０と一体回転可能となっている。プラズマ用電源装置７５０は、筒形回転容器１０の外面に固定されたターミナル７４１を介して、１対のリング形電極７４０，７４０（放電電極）に接続されており、スリップリング７４２を介して図示しない外部電源に接続されている。

図７５（Ｂ）に示すように、第１回転室１５内には、第１回転室１５内に収容された液体を筒形回転容器１０の回転によって撹拌すると共に、その液体中に気泡を含ませるための撹拌板７５１が備えられている。撹拌板７５１は、第１回転室１５の筒壁内面から回転中心に向かって直角に起立している。撹拌板７５１は、筒形回転容器１０の回転中心と平行な矩形板状をなしており、複数の撹拌板７５１が筒形回転容器１０の回転中心と平行に一列に整列配置されている（図７５（Ａ）参照）。同列に配置された撹拌板７５１は互いに間隔を空けて配置されており、列の両端部に配置された撹拌板７５１と第１始端壁１２及び第１終端壁１４との間にも隙間が設けられている（図７６（Ａ）及び同図（Ｂ）参照）。また、一列に配置された複数の撹拌板７５１からなる撹拌板列（図７５（Ａ）参照）が、筒形回転容器１０の回転方向に一定間隔（例えば、回転中心回りに６０度ずつ間隔を空けて）で複数列設けられている（図７５（Ｂ）参照）。

図７６（Ｂ）に示すように、各撹拌板７５１には大小複数の矩形孔７５２が貫通形成されていて、撹拌板７５１は全体として格子構造になっている。撹拌板７５１の中央部には比較的大きい矩形孔７５２が形成されており、その矩形孔７５２のうち第１始端壁１２側の開口縁からは傾斜板７５３が張り出している。図７５（Ｃ）に示すように、傾斜板７５３は、筒形回転容器１０の回転中心に対して傾斜しており、その傾斜板７５３にも比較的小さい矩形孔７５２が複数形成されている。また、筒形回転容器１０が正回転した場合、第１回転室１５内の液体は、傾斜板７５３によって第１終端壁１４側に案内される（図７６（Ａ）参照）。なお、撹拌板７５１は板金製であり、傾斜板７５３は撹拌板７５１から切り起こされている。

図７６（Ｂ）に示すように、撹拌板７５１のうち、筒形回転容器１０の筒壁内面から離れた両角部には、それぞれ放電ピース７５４（放電電極）が設けられている。図７５（Ｄ）に示すように、放電ピース７５４は、板金を扁平なコの字形に直角曲げしてなり、撹拌板７５１の両角部を板厚方向で挟むようにして取り付けられている。また、放電ピース７５４は先端が尖った放電端７５５を備えており、その放電端７５５が隣接した放電ピース７５４の放電端７５５又は、リング形電極７４０に突き合わされている。また、撹拌板７５１の両角部には、撹拌板７５１の並び方向に延びた長孔７５６が貫通形成されており（図７５（Ｃ）参照）、その長孔７５６の範囲内で放電ピース７５４をスライド移動させて任意の位置で固定することが可能となっている。即ち、隣接した放電ピース７５４（放電電極対）の放電端７５５同士の間の放電ギャップ及び、リング形電極７４０と放電ピース７５４の放電端７５５との間の放電ギャップの大きさを、任意に調節することが可能となっている。

筒形回転容器１０を正回転させると、図７５（Ｂ）に示すように、撹拌板７５１の作用によって液体中に気泡が取り込まれる。液体中に十分に気泡が取り込まれた状態で、１対のリング形電極７４０，７４０間に電圧を印加すると、リング形電極７４０と放電ピース７５４（放電端７５５）との間及び、隣り合った放電ピース７５４（放電端７５５）同士の間の放電ギャップに存在する気泡中にプラズマが発生して（液中プラズマ放電が起きて）、そのプラズマによって液体を処理することができる（図７６（Ｃ）参照）。具体的には、例えば、液体中の有害物質の無害化処理（分解、滅菌、消毒）や、液体に溶解している金属イオンをプラズマを利用して還元又は酸化してナノ微粒子として析出させることが可能となる。

図７３には、本実施形態の容器回転装置１００を使用した液中プラズマ処理の処理フローが示されている。同図（Ａ）に示すように、液中プラズマ処理によってナノ微粒子を製造する場合には、バルブ７２７，７２８を共に閉鎖した状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させ、その筒形回転容器１０の第２回転室１６にナノ微粒子の原料溶液を定量供給し、移送ダクト２３経由で第１回転室１５に送り込む。次に、第１回転室１５内で原料溶液を撹拌しながら、１対のリング形電極７４０，７４０の間で通電を行って原料溶液中にプラズマを発生させる。これにより、原料溶液中の金属イオンが還元又は酸化されて、金属のナノ微粒子が製造される。なお、ナノ微粒子の析出によって原料溶液の成分が変化するので、適宜、原料溶液を補充しながら処理を行うことが好ましい。

液中プラズマ処理が終了したら、筒形回転容器１０の正回転を継続したままバルブ７２７を開放する。すると、第１回転室１５内の原料溶液が排液ダクト７３０と駆動シャフト７２３のシャフト貫通路（図示せず）とを通って排出される。このときナノ微粒子は、フィルタ部材７３３を通過することなく第１回転室１５内に留まる。次に、洗浄ノズル７２６から第１回転室１５内に洗浄液を噴射させて処理対象物Ｓ及び第１回転室１５の洗浄を行う。使用済みの洗浄液は、排液ダクト７３０及びシャフト貫通路を通って第１回転室１５から排出される。なお、洗浄液を第２回転室１６に供給し、筒形回転容器１０の正回転を利用して移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給するようにしてもよい。

洗浄処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め上方を向いた仰角姿勢とし、その状態でバルブ７２８を開放して乾燥機７２９から温風を送給する。温風は、シャフト貫通路及び排液ダクト７３０を通じて第１回転室１５内に送給される。このとき、筒形回転容器１０が正回転しているから、ナノ微粒子を効率的に温風乾燥することができる。

乾燥処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め下方を向いた俯角姿勢とし、その状態で、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、製造されたナノ微粒子が、移送ダクト２３経由で第１回転室１５から第２回転室１６へと移送され、筒形回転容器１０の終端口１３から排出される。

ここで、乾燥処理を行う替わりに、洗浄処理後の第１回転室１５に所望の溶液を供給してから筒形回転容器１０を逆回転させれば、ナノ微粒子を溶液に分散させた状態で取り出すことができる。なお、第１回転室１５内の原料溶液が全て排出された後で筒形回転容器１０を逆回転させて、ナノ微粒子を無洗浄の状態で取り出してもよい。ここで、図示しない自動制御盤を設けて、上述した処理（ナノ微粒子の製造）を自動制御で行うようにしてもよい。

液中プラズマ処理によって有害物質を含む液体の無害化を行う場合には、図７３（Ｂ）に示すように、筒形回転容器１０を正方向に回転させた状態で、その筒形回転容器１０の第２回転室１６に処理対象物Ｓである液体を定量供給し、移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。次に、第１回転室１５内で液体を撹拌しながら、１対のリング形電極７４０，７４０の間で通電を行う。すると、液体中の有害成分がプラズマによって無害化される。

プラズマによる無害化処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め下方を向いた俯角姿勢とし、その状態で、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、無害化処理された液体が移送ダクト２３経由で第１回転室１５から第２回転室１６へと移送され、筒形回転容器１０の終端口１３から排出される。ここで、図示しない自動制御盤を設けて、上述した処理（液体の無害化処理）を自動制御で行うようにしてもよい。なお、上述した本実施形態の構成（放電電極、撹拌板等）を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第１７実施形態］
以下、本発明の第１７実施形態を、図７７〜図７９に基づいて説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０における第１回転室１５内に陰極電極と陽極電極とが配置され、第１回転室１５に貯留された導電性液体中にそれら陰極電極と陽極電極とを浸漬した状態で、陰極電極と陽極電極との間に電圧、電流を印加して陰極電極の近傍にプラズマを発生させ、そのプラズマ熱によって陰極電極を局所的に融解又はイオン化させた後、導電性液体で凝固ないしは析出させることで、陰極電極と同じ材質のナノ微粒子を製造することが可能な構成となっている。以下、本実施形態の構成を説明するが、上記第１５実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図７７（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０の第１回転室１５内には液中プラズマ発生部７６０が設けられている。液中プラズマ発生部７６０は、中空構造をなした回転ロッド７６１の先端部に一体に備えられており、回転ロッド７６１は、駆動シャフト７２３のシャフト貫通路（図示せず）に挿通されている。回転ロッド７６１の先端部は、第１始端壁１２のセンター孔１２Ａを貫通して第１回転室１５内に突出しており、回転ロッド７６１の基端部はロータリージョイント７２４を貫通して突出している。回転ロッド７６１は、これらロータリージョイント７２４とセンター孔１２Ａに嵌合された摺動シール７５９とによって回転可能に支持されている。回転ロッド７６１の基端部には側方に向かって突出した操作レバー７６１Ｒが一体に設けられており、その操作レバー７６１Ｒの操作により、回転ロッド７６１を回転させることができる。そして、回転ロッド７６１を回転させることで、液中プラズマ発生部７６０を、第１回転室１５内で１８０度離れた二位置の間で回転させることができる（図７７（Ｂ）参照）。

図７７（Ｂ）に示すように、液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１の先端部から側方に向かって張り出している。液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１から離れた先端側が三股に割れた先割れ構造をなしており、同一構造をなした３つの電極ホルダ７６２を有している。

図７８（Ａ）及び同図（Ｂ）には、電極ホルダ７６２の断面図が示されている。電極ホルダ７６２は、例えば円柱状をなしており、中心電極７６３と対向電極７６４とを保持している。

中心電極７６３は、細長棒状をなしており、電極ホルダ７６２の先端面の中心から突出している。中心電極７６３は電極ホルダ７６２の軸心部に挿し込まれており、中心電極７６３の基端部は、電極ホルダ７６２の内部でジョイント７６５を介してワイヤー７６６と接続されている。図７８（Ｃ）に示すように、ジョイント７６５は、螺子孔７６５Ａと、その螺子孔７６５Ａに収納されたスプリング７６５Ｂとを有しており、スプリング７６５Ｂを押し縮めた状態で、中心電極７６３の基端部が螺子孔７６５Ａに螺合されている。そして、スプリング７６５Ｂの弾発力によって中心電極７６３と螺子孔７６５Ａとの緩み止めがなされている。

ワイヤー７６６は、電極ホルダ７６２及び回転ロッド７６１の内部に形成された管路７６２Ａ（図７８（Ａ）参照）を通って回転ロッド７６１の基端部から導出されている。電極ホルダ７６２の先端中心部には、給電ケーブル７６７と導通接続された電極コンタクト７６８と、耐熱性の絶縁部材７６９とが嵌合されており、それら電極コンタクト７６８と絶縁部材７６９の軸心部を中心電極７６３が貫いている。中心電極７６３は、陰極電極と陽極電極との間の放電が適正な電流及び電圧で行われるように、ワイヤー７６６の押し引きによって軸方向に直動させることが可能であると共に、位置決めボルト７７０によって電極コンタクト７６８に接触するように押し付けられている（図７８（Ｂ）参照）。詳細には、電極ホルダ７６２は、その外面から軸心部まで到達した側部螺子孔７６２Ｂを有しており、その側部螺子孔７６２Ｂに位置決めボルト７７０が螺合されている。位置決めボルト７７０は、側部螺子孔７６２Ａに螺合した押し螺子７７０Ａと、押し螺子７７０Ａの先端にスプリング７７０Ｂを介して連結された押しピン７７０Ｃとから構成されている。スプリング７７０Ｂの弾発力によって中心電極７６３を側方から押しピン７７０Ｃで押すことで、中心電極７６３をスプリング７７０Ｂの弾発力によって電極コンタクト７６８に押し付けて接触させ導通を図っている。なお、スプリング７７０Ｂを設けたことで、中心電極７６３を軸方向に直動可能としつつ、電極コンタクト７６８に押し付けて接触させることができ、また、電極コンタクト７６８への押し付け力は、押し螺子７７０Ａの螺合操作によるスプリング７７０Ｂの弾発力調節によって調整することができる。

図７８（Ａ）に示すように、対向電極７６４は、電極ホルダ７６２の先端部に固定されたＬ字形の片持アーム７７１に固定されている。片持アーム７７１は、電極ホルダ７６２の内部で給電ケーブル７７２と導通接続されている。片持アーム７７１は、電極ホルダ７６２の先端面の外縁部寄り位置から中心電極７６３と平行に突出した第１アーム７７１Ａと、第１アーム７７１Ａの先端から直角に折れ曲がって電極ホルダ７６２の中心軸の延長線上に向かって延びた第２アーム７７１Ｂとから構成され、第２アーム７７１Ｂの先端部、即ち、中心電極７６３の延長線上に対向電極７６４が固定されている。具体的には、対向電極７６４は雄螺子部７６４Ａを有しており、その雄螺子部７６４Ａが第２アーム７７１Ｂの先端部に貫通形成された螺子孔７７１Ｃに螺合している。これにより、対向電極７６４が放電減（放電によって電極が消耗する現象）により消耗したときには、対向電極７６４のみを交換することができる。また、対向電極７６４の中心部（中心電極７６３の延長線上）を貫通孔７６４Ｂが貫通しており、例えば、中心電極７６３を誤って突出させ過ぎた場合には、中心電極７６３が貫通孔７６４Ｂに進入するようになっている。これにより、中心電極７６３が対向電極７６４に突き当たって破損することを防止することができる。また、中心電極７６３が放電滅により消耗した時には、中心電極７６３を貫通孔７６４Ｂに進入させて、消耗した中心電極７６３をジョイント７６５より取り去り、新しい中心電極７６３をジョイント７６５に取り付ける、中心電極７６３の交換作業が行える。さらには、放電は尖った先端部に発生しやすいことから、貫通孔７６４Ｂのうち中心電極７６３側の開口エッジの全周と中心電極７６３との間で安定した放電を行うことができ、対向電極７６４の放電滅による消耗を均等化できる。

片持アーム７７１の第１アーム７７１Ａは、電極ホルダ７６２に対して直動可能となっているが、常には、図７８（Ａ）に示すように、複数の止めネジ７７３によって固定されている。止めネジ７７３によって片持アーム７７１と給電ケーブル７７２との導通が図られており、止めネジ７７３を緩めることで、対向電極７６４と中心電極７６３の先端部との間の放電ギャップを調節することが可能となっている。また、各給電ケーブル７６７，７７２は、電極ホルダ７６２及び回転ロッド７６１内を通って回転ロッド７６１の基端部から導出され、プラズマ用電源装置７５０に接続されている。

さらに、図７８（Ａ）に示すように、電極ホルダ７６２の内部には、管路７６２Ａから分岐して延びたガス放出流路７７４が形成されている。ガス放出流路７７４は、電極ホルダ７６２の先端面に開放しており、回転ロッド７６１の基端部から管路７６２Ａ内に供給されたガス（例えば、空気）が、ガス放出流路７７４を通って電極ホルダ７６２の先端面から放出される。ここで、ガス放出流路７７４の下流端には、例えば、ナノサイズの孔を多数有した多孔質部材７７５が設けられており、この多孔質部材７７５をガスが通過することで、第１回転室１５内の導電性液体中により微細な気泡を発生させることができる。また、筒形回転容器１０を正回転（図７８（Ｂ）の実線矢印方向に回転）させることで、ガス放出流路７７４から放出された気泡が中心電極７６３と対向電極７６４との間に向けて流される（図７７（Ｃ）参照）。

図７３には、本実施形態の容器回転装置１００を使用してナノ微粒子を製造する場合の処理フローの一例が示されている。ナノ微粒子を製造する場合には、筒形回転容器１０を正方向に回転させながら、移送ダクト２３経由で規定量の導電性液体を第１回転室１５に供給する。また、回転ロッド７６１を回転させて、電極ホルダ７６２の先端が導電性液体中に没する位置（図７７（Ｂ）の実線で示した位置）に、液中プラズマ発生部７６０を配置する。また、ガス放出流路７７４にガスを供給して導電性液体中に微細な気泡を放出させる。その状態で、中心電極７６３を陰極電極とし、対向電極７６４を陽極電極として（処理内容により陽極と陰極を反転させてもよい）、それらの間に電圧、電流を印加する。すると、中心電極７６３と対向電極７６４との間でプラズマが発生し、陰極である中心電極７６３の表面温度が局所的に融点を超えて、一部が融解する。その融解した中心電極７６３の一部が、微細な液滴の状態で導電性液体によって冷やされることで、中心電極７６３と同じ材質のナノ微粒子が生成する。このとき、陰極電極と陽極電極との間の放電が適正な電流及び電圧で行われるよう、電流と電圧の値を計測管理し、中心電極７６３が放電滅によって消耗した分だけ自動でワイヤー７６６を繰り出して安定した放電状態を維持する。その後は、導電性液体の排出、ナノ微粒子の洗浄、乾燥、排出など、上記第１５実施形態で説明した処理フローに従って処理を行う。

ここで、液中プラズマによって製造されたナノ微粒子に対してめっき処理を行うことができる。具体的には、ナノ微粒子の洗浄が済んだ後で、第１回転室１５に電解液（めっき液）を供給する。また、操作レバー７６１Ｒの操作で回転ロッド７６１を回転させて、電極ホルダ７６２の先端部が電解液に浸からない位置（図７７（Ｂ）の一点鎖線で示した位置）に液中プラズマ発生部７６０を配置する。その状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させながら１対のリング形電極７４０，７４０の間に電圧を印加すると、ナノ微粒子の表面に金属被膜（めっき層）が形成される。めっき処理後は、電解液の排出、ナノ微粒子の洗浄、乾燥、排出等、上記第１５実施形態で説明した処理フローに従って処理を行う。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第１８実施形態］
以下、本発明の第１８実施形態を、図８０及び図８１に基づいて説明する。本実施形態は、対向電極７８０の構造が上記第１７実施形態とは異なる。詳細には、図８０（Ａ）に示すように、電極ホルダ７６２の外面には、１対の片持アーム７８１が固定されている。片持アーム７８１はクランク状に屈曲した導体で構成されかつ先端部以外の全体が絶縁被覆されている。片持アーム７８１のうち電極ホルダ７６２に固定された基端部は、電極ホルダ７６２の内部で給電ケーブル７７２と導通接続されている。

片持アーム７８１のうち、絶縁被覆されていない先端部には、それぞれ対向電極７８０，７８０が固定されている。対向電極７８０は長方形の平板状をなしており（図８０（Ｂ）参照）、ワイヤー状の中心電極７６３を挟んで対向配置されている（図８０（Ｃ）参照）。そして、中心電極７６３と対向電極７８０，７８０との間に電圧を印加することで、中心電極７６３の近傍部分にプラズマを発生させることができる。なお、中心電極７６３は消耗に応じて電極ホルダ７６２のボディから繰り出すことができる。その他の構成は上記第１７実施形態と同一である。

本実施形態によれば、中心電極７６３の近傍部分でプラズマを発生させて、ナノ微粒子を製造したり、液体中の有害物質の無害化（分解、滅菌）を行うことができる。

ここで、対向電極７８０は、図８０（Ｄ）に示す長方形板状に限定するものではなく、同図（Ｅ）に示すように網目構造（メッシュ構造）をなしたものでもよいし、同図（Ｆ）に示すように多数の穿孔を有した板材（例えばパンチングメタル）でもよい。また、図８１（Ａ）における上側の対向電極７８０のように、中心電極７６３を中心とした円弧形の湾曲形状であってもよいし、同図における下側の対向電極７８０のように、中心電極７６３側に開放したドーム形状（椀形状又はパラボラ形状）であってもよい。さらに、図８１（Ｂ）に示すように、本実施形態の片持アーム７８１及び対向電極７８０を、上記第１７実施形態の片持アーム７７１及び対向電極７６４と置き換えた構成としてもよい。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第１９実施形態］
以下、本発明の第１９実施形態を、図８２及び図８３に基づいて説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の外側に配置されたマイクロ波照射装置７９０，７９１と、第１回転室１５内に配置され、マイクロ波を捕捉して第１回転室１５内に貯留された液体中に定常波（定在波）を発生させるアンテナ７９４Ａ，７９５Ａとを備えている点が、上記第１７実施形態及び第１８実施形態とは異なる。第１７及び第１８実施形態と同一の構成については同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図８３（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０の下方には、複数のマイクロ波照射装置７９０，７９１が筒形回転容器１０の回転方向に沿って並べて配置されている。具体的には、筒形回転容器１０の鉛直下方に波長λ１のマイクロ波を照射するマイクロ波照射装置７９０が配置され、その両側に波長λ１より短い波長λ２のマイクロ波を照射するマイクロ波照射装置７９１，７９１が配置されている。これはマイクロ波同士の干渉を避けるためである。

図８２に示すように、第１回転室１５の内側には、液中アンテナユニット７９２が備えられている。図８３（Ａ）に示すように、液中アンテナユニット７９２は、回転ロッド７６１の側方に張り出した略扇形のアンテナベース７９３と、そのアンテナベース７９３に立設されたアンテナ７９４，７９５とを有する。１つのアンテナ７９４（７９５）は、針状の導体で構成された複数本（本実施形態で５本）のポール７９４Ａ（７９５Ａ）で構成され、各ポール７９４Ａ（７９５Ａ）の長さは、捕捉すべきマイクロ波の１／２波長分となっている（図８３（Ｂ）参照）。また、１つのアンテナ７９４（７９５）を構成する複数のポール７９４Ａ（７９５Ａ）は一直線上に並べて配置されており、隣り合ったポール７９４Ａ（７９５Ａ）同士は、捕捉すべきマイクロ波の１／４波長分の間隔で配置されている（図８３（Ｃ）参照）。

本実施形態では、３つのマイクロ波照射装置７９０，７９１，７９１に対応して、３組のアンテナ７９４，７９５，７９５を備えており、それらが共通のアンテナベース７９３に設けられている。２組のアンテナ７９５，７９５の各ポール７９５Ａが、波長λ２に対応した長さと間隔を空けて配置されており、残り１組のアンテナ７９４の各ポール７９４Ａが波長λ１に対応した長さと間隔を空けて配置されている。

第１回転室１５内に貯留された液体中に全てのポール７９４Ａ，７９５Ａが浸かった状態（図８３（Ａ）に示す状態）で、マイクロ波を照射すると、各ポール７９４Ａ，７９５Ａの先端部でプラズマが発生する。このプラズマによって、液体からナノ微粒子、分解生成物、合成化合物等を析出させたり、液体中の有害物質を無害化することができる。なお、本実施形態におけるプラズマの発生原理は、特許第３７６９６２５号公報に開示されている原理と同じである。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第２０実施形態］
以下、本発明の第２０実施形態を、図８４に基づいて説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の第１回転室１５内に設けられかつ、第１回転室１５に貯留された液体に浸漬されてその液体中に超音波を放射する超音波放射手段と、第１回転室１５に貯留された液体に浸漬されてその液体中に光を照射する光照射手段とを備え、それら超音波と光の何れか一方又は両方のエネルギーによって処理対象物Ｓの処理を行うことが可能となっている。以下、第１７実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図８４（Ｃ）に示すように、筒形回転容器１０の第１回転室１５内にはエネルギー発生部８００が設けられている。エネルギー発生部８００は、回転ロッド７６１の先端部から側方に向かって張り出している。エネルギー発生部８００は、回転ロッド７６１から離れた先端側が三股に割れた先割れ構造をなしており、同一構造をなした３つのエネルギー放出部８０１を有している。

図８４（Ａ）には、エネルギー放出部８０１の断面図が示されている。エネルギー放出部８０１は、超音波放射手段としての超音波放射体８０２と、光照射手段としての光ファイバー８０３とを保持している。

超音波放射体８０２は、エネルギー放出部８０１の先端部から突出しかつ先端が尖った棒状をなしている。図８４（Ｂ）に示すように、超音波発信器８０４によって駆動された超音波振動子８０５の振動エネルギーが、超音波放射体８０２の外面全体から放射可能となっている。

光ファイバー８０３は、エネルギー放出部８０１のボディ内に埋め込まれており、光源８０６から入射した光を、超音波放射体８０２の側方位置に向けて出射するようになっている。なお、図８４（Ａ）における符号８０７は保護ガラスであり、符号８０８はレンズである。

さらに、エネルギー放出部８０１にはガス放出流路７７４が形成されており、そのガス放出流路７７４の先端から放出されたガスが微細な気泡となって液体中に供給されるようになっている。

本実施形態の容器回転装置１００によれば、超音波放射体８０２から放射された超音波エネルギーによって液体中に超音波反応場が形成され、液体中での化学反応（分解反応、合成反応）を促進させることができる。また、光ファイバー８０３から出射された光によって、液体中での化学反応を促進させたり、光化学反応物を製造することができる。さらに、液体中に形成された超音波反応場に光が照射されることで、液体中での化学反応をさらに促進させることが可能になる。

なお、図８４（Ｄ）に示すように光ファイバー８０３の替わりにランプ８０９（例えば、紫外線ランプ）を備えていてもよい。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第２１実施形態］
以下、本発明の第２１実施形態を図８５〜図９０に基づいて説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、メディア８２１を用いた処理対象物Ｓの研磨（バレル研磨）又は粉砕・分散と、処理対象物Ｓの分級及び処理対象物Ｓとメディア８２１の篩い分けとを１つの装置で行うことが可能な構成となっており、筒形回転容器１０以外の構成は、上記第１５実施形態の構成と同一となっている。

筒形回転容器１０の内部には、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部が閉塞されたメッシュ状のアウター筒体と、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなしてアウター筒体の内側に配置され、大径側端部が第１回転室と連通しかつ第１終端壁と一体に回転するセンター筒体と、アウター筒体の大径側端部に形成され、アウター筒体の篩目を通過しなかった処理対象物又はメディアを、筒形回転容器の逆回転に伴ってセンター筒体に送り込むための連通路と、アウター筒部の接線方向に延びて移送路の中間部に接続され、筒形回転容器の逆回転に伴って移送路内を移動する処理対象物又はメディアをアウター筒部に送り込むための分岐路と、分岐路と移送路とを連通しかつ第１終端開口と第２始端開口との間で移送路を遮断した第１位置と、分岐路と移送路とを遮断しかつ移送路の第１終端開口と第２始端開口とを連通させた第２位置との間で移動する流路切替部材とが備えられている。以下の説明では、筒形回転容器１０のうち、上記第１５実施形態との相違点を中心に説明することとし、第１５実施形態と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図８６（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０のうち、第２回転室１６には、上記「アウター筒体」としてのトロンメル８１０（回転式篩）が設けられている。トロンメル８１０は、第１終端壁１４から筒形回転容器１０の終端口１３に向かって拡径した円錐筒形をなしており、大径側端部が円板形の端部壁８１１によって閉塞され、小径側端部が第１終端壁１４によって閉塞されている。

トロンメル８１０の内側には円錐筒形のセンター筒体８１２が配置されている。センター筒体８１２は、トロンメル８１０と同軸に配置されかつ、第１終端壁１４を貫通して第１回転室１５内に突出している。また、センター筒体８１２は、第２回転室１６から第１回転室１５に向かうに従って拡径しており、その小径側端部が、トロンメル８１０の端部壁８１１によって閉塞されている。センター筒体８１２の小径端部とトロンメル８１０の大径端部との間には、それらを連通させた連通路８１３が形成されている。連通路８１３は、センター筒体８１２の筒壁を貫通した側部開口８１３Ａと、その側部開口８１３Ａのうち逆回転方向の後側の開口縁からセンター筒体８１２の筒壁の接線方向に延びかつトロンメル８１０の筒壁に接続された接線ガイド壁８１３Ｂとを有している（図８９（Ｄ）参照）。これにより、筒形回転容器１０を逆回転させた場合に、図８９（Ｄ）〜同図（Ｆ）への変化に示すように、トロンメル８１０を通過せずにその大径側端部に到達したメディア８２１を、接線ガイド壁８１３Ｂによってセンター筒体８１２へと送給することが可能になる。ここで、センター筒体８１２の小径端部の内側には、センター筒体８１２の大径側端部に向かって下り傾斜したガイド板８１４が設けられている。ガイド板８１４を設けたことで、メディア８２１を速やかに連通路８１３から遠ざけることができ、連通路８１３におけるメディア８２１の詰まりを防止することができる。

図８７（Ｂ）に示すように、第１終端壁１４のうち第２回転室１６側を向いた面には、移送ダクト２３が設けられている。移送ダクト２３（移送路２３Ｒ）は、筒形回転容器１０の筒壁に沿って屈曲しながら延びている。移送ダクト２３は、筒形回転容器１０を停止及び正回転させた場合に、第１回転室１５から第２回転室１６への処理対象物Ｓ及びメディア８２１の移動を禁止する一方、筒形回転容器１０を逆回転させた場合に、第１回転室１５から第２回転室１６へと処理対象物Ｓ及びメディア８２１を移動させることが可能となっている。

図８７（Ｂ）及び同図（Ｃ）に示すように、移送ダクト２３における第１終端開口２４と第２始端開口２５との中間部と、トロンメル８１０の小径側端部との間には角筒形の分岐シュート８１５が設けられている。分岐シュート８１５は、トロンメル８１０の筒壁を貫通した側部開口８１０Ａの開口縁から、筒壁の接線方向に突出しており、移送ダクト２３の第１ダクト構成壁２３Ａを貫通したシュート入口８１５Ａの開口縁に接続されている。分岐シュート８１５の内部が上記した「分岐路」に相当する。

シュート入口８１５Ａは流路切替板８１６（上記した「流路切替部材」に相当する）によって閉塞可能となっている。流路切替板８１６は、金属製の薄板又は、樹脂製の薄板の裏面に金属又は磁石を貼り付けた部材で構成されており、シュート入口８１５Ａのうち、正回転方向の前方の開口縁にヒンジ８１７を介して接続されている（図８７（Ａ）参照）。ヒンジ８１７は、弾性部材（例えばゴム板）で構成されており、流路切替板８１６は、移送ダクト２３内で自重により回動可能となっている。即ち、流路切替板８１６は、図８７（Ｃ）に示すように、シュート入口８１５Ａを開放して移送ダクト２３と分岐シュート８１５を連通させると共に移送ダクト２３を第１終端開口２４と第２始端開口２５との間で遮断した第１位置と、図８７（Ｂ）に示すように、シュート入口８１５Ａを閉塞して移送ダクト２３と分岐シュート８１５との間を遮断すると共に、第１終端開口２４と第２始端開口２５とを連通させた第２位置との間で回動可能となっている。

図８７（Ａ）に示すように、第１ダクト構成壁２３Ａの近傍位置には、流路切替板８１６を第２位置に保持するための磁石８１８が設けられている。磁石８１８は、流路切替板８１６におけるヒンジ８１７とは逆側の回動先端部を吸引して、その回動先端部が第１ダクト構成壁２３Ａに宛がわれた状態に保持する。また、磁石８１８は、回動アーム８１９に固定されており、回動アーム８１９は、磁石８１８を第１ダクト構成壁２３Ａに当接（又は近接）させた保持位置（図８７（Ｂ）に示す位置）と、磁石８１８を第１ダクト構成壁２３Ａから離した保持解除位置（図８７（Ｃ）に示す位置）との間で回動可能となっている。回動アーム８１９が保持解除位置に配置されると、流路切替板８１６に及ぶ磁力が弱まって流路切替板８１６は自重によって回動自在となる。また、回動アーム８１９は、筒形回転容器１０の外面に取り付けられたロック機能付きの操作レバー８２０（図８７（Ａ）参照）の手動操作によって、保持位置と保持解除位置とに切り替えることが可能となっている。

本実施形態の構成は以上である。図８５には、本実施形態の容器回転装置１００を、バレル研磨装置として使用した場合の処理フローの一例が示されている。湿式のバレル研磨処理（同図（Ａ）参照）を行う場合には、流路切替板８１６を第２位置にして筒形回転容器１０を正回転させながら、第２回転室１６に処理対象物Ｓ、コンパウンド、メディア８２１及び液体（具体的には、水）を定量供給し、それらを移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。

筒形回転容器１０を正方向に回転させることで、メディア８２１、コンパウンド及び処理対象物Ｓが撹拌されて処理対象物Ｓが研磨される。研磨処理が終了したら、排液ダクト７３０から摩耗粉を含んだ液体を排出し、処理対象物Ｓの洗浄処理及び乾燥処理を行う。乾燥処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０を俯角姿勢とし、その状態で、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、図８８（Ｃ）に示すように、処理対象物Ｓ及びメディア８２１が移送ダクト２３を通って第１回転室１５から第２回転室１６へと移動し、筒形回転容器１０の終端口１３から排出される。

ここで、処理対象物Ｓの分級を行う場合には、乾燥処理の終了後に操作レバー８２０を手動操作して流路切替板８１６を第１位置に切り替えてから、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、図８９（Ａ）〜同図（Ｃ）への変化に示すように、処理対象物Ｓ及びメディア８２１が移送ダクト２３及び分岐シュート８１５を通ってトロンメル８１０内に送給され、処理対象物Ｓとメディア８２１とが篩い分けられる。即ち、図８８（Ａ）に示すように、処理対象物Ｓだけがトロンメル８１０の篩目を通過して第２回転室１６内に落下し、終端口１３から排出される。また、メディア８２１はトロンメル８１０の篩目を通過することなくその大径側端部に到達し、図８８（Ｂ）に示すように、連通路８１３を通ってセンター筒体８１２に送られ、センター筒体８１２を通って第１回転室１５内に戻される。処理対象物Ｓとメディア８２１の篩い分けが終了した後で、メディア８２１を取り出す場合には、流路切替板８１６を第２位置に切り替えて筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、メディア８２１が移送ダクト２３を通って第２回転室１６に移動し、終端口１３から排出される。

図８５（Ｂ）には、乾式のバレル研磨処理の処理フローが示されている。同図に示すように、乾式のバレル研磨処理では、湿式のバレル研磨処理（同図（Ａ）参照）の際に行っていた、摩耗粉を含む排液の排出及び処理対象物Ｓの乾燥処理が不要になる。なお、乾式のバレル研磨処理では、第１回転室１５内で発生した摩耗粉の粉塵を除去しながら処理を行ってもよい。具体的には、例えば、オーバーフロー移送管７３４に吸引ポンプを接続して、第１回転室１５内の粉塵をフレキシブル管７３６を通じて吸引除去すればよい。

図９０には、メディア８２１を用いた処理対象物Ｓの粉砕・分散処理の処理フローの一例が示されている。この処理でも、流路切替板８１６を第２位置（図８７（Ｂ）参照）にして、筒形回転容器１０を正方向に回転させた状態で、第２回転室１６に処理対象物Ｓとメディア８２１（湿式の場合は、さらに液体）を定量供給し、それらを移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。

処理対象物Ｓは、第１回転室１５内でメディア８２１と共に撹拌されることで、粉砕・分散される。粉砕・分散処理が終了したら、筒形回転容器１０の回転を停止し、俯角姿勢にし、流路切替板８１６を第１位置（図８７（Ｃ）参照）に切り替えてから、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、処理対象物Ｓ及びメディア８２１（湿式の場合は、さらに液体）が、移送ダクト２３及び分岐シュート８１５を通ってトロンメル８１０に送給され、処理対象物Ｓの分級並びに、処理対象物Ｓとメディア８２１の篩い分けが行われる。即ち、トロンメル８１０の篩目を通過した処理対象物Ｓは、終端口１３から排出され、篩目を通過しなかった処理対象物Ｓ及びメディア８２１は、センター筒体８１２を通って第１回転室１５に戻される。

引き続き処理対象物Ｓの粉砕・分散処理を行う場合には、筒形回転容器１０の回転を停止して、筒形回転容器１０を水平姿勢に戻し、流路切替板８１６を第２位置に切り替えてから、筒形回転容器１０を正回転させる。その状態で処理対象物Ｓ（湿式の場合は、さらに液体）を第２回転室１６に定量供給して、その処理対象物Ｓ（及び液体）を移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。以下、同様にしてメディア８２１による粉砕・分散処理を行い、その後、分級処理を行う。

分級処理の終了後、メディア８２１を取り出す場合には、筒形回転容器１０を一旦停止して流路切替板８１６を第１位置に切り替え、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、第１回転室１５内のメディア８２１（及び処理対象物Ｓの残留物）が、移送ダクト２３を通って第２回転室１６に移動し、終端口１３から排出される。さらに、操作レバー８２０（流路切替板８１６）の切り替えを、電磁ソレノイド、モータ、エアーシリンダー、その他のアクチュエータによって行うように構成してもよい。また、手動による切り替えと、アクチュエータによる切り替えとを選択できるようにしてもよい。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

［第２２実施形態］
以下、本発明の第２２実施形態を、図９１〜図９３に基づいて説明する。本実施形態は、本発明に係る「雰囲気生成手段」として、液体を気化させた蒸気をアーク放電によって電離させてプラズマを発生させるスチームプラズマ発生装置８３０を備えている点が、上記実施形態とは異なる。

図９１には、スチームプラズマ発生装置８３０の概念図が示されている。同図に示すように、スチームプラズマ発生装置８３０は、第１実施形態で説明した過熱水蒸気発生装置４０から過熱水蒸気を取り込んでプラズマジェットを生成すると共に、そのプラズマジェットに対して直接、過熱水蒸気を供給して、プラズマジェットの熱により過熱水蒸気をプラズマ化することが可能な構成となっている。

図９２（Ａ）には、スチームプラズマ発生装置８３０におけるプラズマトーチ８３１の断面図が示されている。プラズマトーチ８３１は、アウター管８３２の内側にインナー管８３５を備えた二重管構造をなしている。アウター管８３２の管壁内部には、冷却水の循環流路８３２Ａが形成されている。また、アウター管８３２の中心孔８３２Ｂのうち先端開口から少し奥まった位置には、プラズマジェットの噴射ノズル８３３が突出形成されている。アウター管８３２は導体で構成されており、噴射ノズル８３３の開口縁には、噴射ノズル８２３の中心に向かって僅かに突出した環状電極８３４が一体形成されている。

インナー管８３５はアウター管８３２の基端側から中心孔８３２Ａに挿入されており、円錐台形状をなした先端部が噴射ノズル８３３の円錐内面に突き当てられている。インナー管８３５の基端部には過熱水蒸気発生装置４０が接続され、インナー管８３５の内側を過熱水蒸気が通過可能となっている。インナー管８３５は絶縁体で構成され、そのインナー管８３５の内側には、導体で構成された電極支持管８３６が嵌合固定されている。図９２（Ｃ）に示すように、電極支持管８３６の内側には、その径方向で差し渡された支持板８３６Ａが備えられており、その支持板８３６Ａの中心を貫通した螺子孔に棒状電極８３９の基端部が螺合している。棒状電極８３９は、インナー管８３５の軸心部に配置され、その先端部は噴射ノズル８３３の中心、より詳細には、環状電極８３４で囲まれた放電領域の中心に配置されている（図９２（Ａ）参照）。

環状電極８３４はアウター管８３２を介してプラズマ用電源装置７５０（図９１参照）に接続されており、棒状電極８３９は電極支持管８３６を介してプラズマ用電源装置７５０に接続されている。それら環状電極８３４と棒状電極８３９の間に高電圧をかけることによって、環状電極８３４で囲まれた放電領域でアーク放電が起き、噴射ノズル８３３を通過する過熱水蒸気がそのアーク放電の熱によってプラズマ化されてプラズマジェットが噴射ノズル８３３から噴射される（図９２（Ｄ）参照）。

図９２（Ｄ）に示すように、アウター管８３２のうち、噴射ノズル８３３より先端側の内周面には蒸気噴出口８３２Ｃが設けられている。蒸気噴出口８３２Ｃは、噴射ノズル８３３から噴射されたプラズマジェットに対して直接、過熱水蒸気を供給して、プラズマジェットを増幅させるために設けられている。蒸気噴出口８３２Ｃは、例えば、アウター管８３２の軸方向に延びたスリット状をなしている（図９２（Ｅ）参照）。

インナー管８３５の先端内部にはフィン形突起８３７が形成されている。図９２（Ｂ）に示すように、フィン形突起８３７は、インナー管８３５の軸方向と平行な矩形薄板状をなしている。フィン形突起８３７を設けたことで、噴射ノズル８３３から噴射されるプラズマジェットの基端寄り部分に、局所的な陥没部が形成される（図９２（Ｄ）及び同図（Ｅ）参照）。蒸気噴出口８３２Ｃはその陥没部に対向するように配置されている。これにより、蒸気噴出口８３２Ｃから噴出した過熱水蒸気を、確実にプラズマジェット内に取り込むことができ、そのプラズマジェットの熱で過熱水蒸気を確実にプラズマ化することができる（図９２（Ｆ）参照）。

上記実施形態では、プラズマジェットに対して直接、過熱水蒸気を追加するための蒸気噴出口８３２Ｃを１つだけ備えていたが、図９３（Ａ）に示すように、蒸気噴出口８３２Ｃをプラズマトーチ８３１の軸方向及び周方向にずらして２つ以上備えていてもよい。つまり、過熱水蒸気の追加によって増幅されたプラズマジェットに対して、さらに過熱水蒸気を追加して、プラズマジェットをさらに増幅させることが可能な構成としてもよい。

また、図９３（Ｄ）に示すように、アウター管８３２の中心孔８３２Ｂの内面から突出した１対のガイド壁部８３８，８３８を蒸気噴射口８３２を挟んで対をなすように配置し、フィン形突起８３７によって形成されたプラズマジェットの陥没部が、１対のガイド壁部８３８にそれぞれ形成されたガイド斜面８３８Ａによって閉じられるようにしてもよい。図９３（Ｅ）に示すように、ガイド斜面８３８Ａは、アウター管８３２の内周面から離れた先端部に形成されており、噴射ノズル８３３から離れるに従って互いに接近すると共に、噴射ノズル８３３から離れるに従って幅狭になっている。これら両ガイド斜面８３８Ａによってプラズマジェットの流れをガイドして、陥没部を蒸気噴射口８３２の下流側で閉じさせることができる。

さらに、蒸気噴出口８３２Ｃから処理対象物Ｓをプラズマジェットに直接供給するようにしてもよい。ここで、図９３（Ｂ）に示すように、フィン形突起８３７を上記した各実施形態の接続管３４の内部に設けて過熱水蒸気又はバーナー炎の基端部に陥没部が形成されるようにし、その陥没部に処理物供給管３５から処理対象物Ｓを供給するように構成してもよい。なお、本実施形態では、アーク放電によってプラズマを発生させているが、他のプラズマ発生手段（高周波電源、高電圧パルス電源等）を用いてプラズマを発生させてもよい。上述した本実施形態のスチームプラズマ発生装置８３０を本実施形態以外の他の実施形態の容器回転装置に適用してもよい。

［第２３実施形態］
以下、本発明の第２３実施形態を図９４〜図９９に基づいて説明する。本実施形態は、第１の流体（例えば、過熱水蒸気、液体窒素、反応性ガス、水、溶液、溶媒、温風、温水、溶融物等）と、処理対象物Ｓを含む第２の流体との混相流（具体的には、気液二相流、固気二相流又は固液二相流）を生成することが可能な混相流生成装置８４０を備えている点が上記各実施形態とは異なる。

図９４（Ａ）に示すように、混相流生成装置８４０は、外筒体８４１とその内側に配置された内筒体８４５とを有している。外筒体８４１は両端開放の円筒形をなしており、外筒体８４１の基端部には、外部の流体供給手段から供給された第１の流体が流入する流入タンク８４２が設けられている。外筒体８４１の基端開口には多孔板８４３（図９５（Ｂ）参照）が嵌め込まれており、その多孔板８４３に形成された多数の吐出孔８４３Ａを通じて外筒体８４１の中心を貫通した混合室８４４内に第１の流体が供給されるように構成されている。吐出孔８４３Ａは、例えば、外筒体８４１の軸方向と平行になっている。なお、外筒体８４１の筒壁の内部には循環流路８４１Ａが形成されており、外部の冷温水供給手段から供給された冷水又は温水を循環させることで、外筒体８４１の混合室８４４内で生成される混相流を冷却又は加温することが可能となっている。

内筒体８４５は、多孔板８４３及び流入タンク８４２を貫通して外筒体８４１と平行に延びており、その先端部が外筒体８４１の混合室８４４内に配置されている。内筒体８４５の先端部には渦発生ノズル８４６が設けられている。渦発生ノズル８４６は、内筒体８４５の先端部から側方に膨出した中空球状をなしており、その渦発生ノズル８４６のうち外筒体８４１の先端開口を向いた前面部には、渦発生ノズル８４６を放射状に貫通した多数のノズル孔８４６Ａが形成されている。内筒体８４５の基端部は、処理対象物Ｓを含む第２の流体の供給装置に接続されており、ノズル孔８４６Ａから外筒体８４１の混合室８４４内に第２の流体を放出することが可能となっている。

図９５（Ｃ）に示すように、多孔板８４３を通過して混合室８４４内に進入した第１の流体は、図９５（Ｃ）の矢印で示したように、渦発生ノズル８４６の側方を迂回して流れる。このとき、第１の流体は、渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れ、渦発生ノズル８４６より下流側に渦が発生する。この渦は、第１の流体の流速を速めるに従って、双子渦、カルマン渦、乱流へと変化する。これにより、第１の流体と、渦発生ノズル８４６から混合室８４４内に放出された第２の流体とが混ざり合って混相流となり、その混相流の状態で外筒体８４１の先端開口から放出される。

ここで、図９４（Ｂ）に示すように、外筒体８４１の内側（混合室８４４内）に設けた点火装置８４８によって、第１の流体としての可燃性ガス（例えば、燃料ガス、水素、アセチレン、酸素、空気、一酸化炭素、プラズマガスなど）と、処理対象物Ｓを含む第２の流体との混相流に点火して、その燃焼炎によって処理対象物Ｓを処理するようにしてもよい。また、第１の流体としてのプラズマ生成ガスと処理対象物Ｓを含む第２の流体との混相流をプラズマ状態とし、そのプラズマによって処理対象物Ｓの処理を行うようにしてもよい。

また、図９４（Ｃ）に示すように、誘導結合形のプラズマトーチとしての外筒体８４１の内側に内筒体８４５を配置し、処理対象物Ｓを含む第２の流体と、第１の流体との混相流をプラズマ化することで処理対象物Ｓを処理するようにしてもよい。

さらに、図９５（Ａ）に示すように、第１及び第２の流体とは異なる第３の流体及び第４の流体を混合室８４４に供給して、これら４つの流体を混合室８４４内で混相流の状態にするようにしてもよい。

上記実施形態では、吐出孔８４３Ａが、外筒体８４１の軸方向と平行に多孔板８４３を貫通していたが、図９７（Ａ）に示すように、吐出孔８４３Ａから混合室８４４に流れ込んだ第１の流体が、内筒体８４５を中心とした旋回流となるように、吐出孔８４３Ａを外筒体８４１の軸方向に対して傾斜させてもよい。

また、渦発生ノズル８４６の外表面に、以下に説明するようなタービュレータを設けておき、渦発生ノズル８４６の外表面近傍を流れる第１の流体を乱流にすることで、第２の流体との混合が促進されるようにしてもよい。例えば、図９６（Ａ）〜同図（Ｃ）に示す渦発生ノズル８４６の外表面には、タービュレータとして、複数の三角フィン８４９が設けられている。これら三角フィン８４９は、内筒体８４５の中心軸を中心とした同一円周上に設けられかつ、その円周方向で一定間隔を空けて設けられている。また、三角フィン８４９は、渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の流れ方向と略平行に設けられ、渦発生ノズル８４６の外表面からの突出高さが、渦発生ノズル８４６の先端側に向かうに従って低くなっている。そして、図９６（Ｃ）に示すように、渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の層（境界層）は、三角フィン８４９によって流れが乱されて渦流又は乱流となり、その渦流又は乱流が継続的に発生する。

図９６（Ｄ）〜同図（Ｆ）に示す渦発生ノズル８４６の外表面には、タービュレータとして、複数の突条８５０が設けられている。これら突条８５０は、内筒体８４５を中心とした円周方向（渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の流れ方向と直交した方向）に延びかつ、その円周方向で一定間隔を空けて設けられている。渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の層（境界層）は、突条８５０によって流れが乱されて渦流又は乱流となり、その渦流又は乱流が継続的に発生する。

図９６（Ｇ）〜同図（Ｉ）に示す渦発生ノズル８４６の外表面には、タービュレータとして、渦発生ノズル８４６の外表面から起立した門形突部８５１が設けられている。門形突部８５１は、内筒体８４５を中心とした円周方向（渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の流れ方向と直交した方向）に延びかつ、その円周方向で一定の間隔を空けて設けられている。渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の層（境界層）は、門形突部８５１によって流れが乱されて渦流又は乱流となり、その渦流又は乱流が継続的に発生する。

さらに、図９７（Ｂ）に示すように、渦発生ノズル８４６の外表面を凹ませた多数のディンプル８５２を形成して、それらディンプル８５２にノズル孔８４６Ａの先端開口を接続してもよい。ディンプル８５２の形状は、図９７（Ｂ）に示すような円錐台形状でもよいし、球面状又は円錐状でもよい。渦発生ノズル８４６の外表面に沿って流れる第１の流体の一部がディンプル８５２の内側に流入して局所的な渦流又は乱流が発生するので、その乱流によって、第１の流体と、ノズル孔８４６Ａから吐出された第２の流体との混合をさらに促進することができる。

図９７（Ｃ）及び同図（Ｄ）に示すように、ノズル孔８４６Ａの孔径、数、配置等は、処理対象物Ｓの性状（流体の種別、粘性度や粉粒体の粒子径等）に応じて適宜変更してもよい。

また、図９７（Ｅ）に示すように、渦発生ノズル８４６の先端中央部に比較的大径なノズル孔８４６Ａを設けてここから第２の流体を噴射させると共に、渦発生ノズル８４６を構成する構成壁を軸方向に貫通した複数の貫通孔８４６Ｂを設けて、それら複数の貫通孔８４６Ｂを混合室８４４内に供給された第１の流体が通過するようにしてもよい。

上記実施形態では、渦発生ノズル８４６が球状をなしていたが、図９８（Ａ）に示すように、内筒体８４５の先端部を側方に張り出させた円板状をなしていてもよい。円板状にすることで、渦発生ノズル８４６の前面に比較的近い位置で渦流を発生させることができる。また、図９８（Ｂ）に示すように、渦発生ノズル８４６の前面に多数のディンプル８５２を形成してそれらディンプル８５２にノズル孔８４６Ａの先端開口を接続してもよい。また、渦発生ノズル８４６の外周面寄り位置を混合室８４４の軸方向に貫通した貫通孔８４６Ｂを設けて、混合室８４４に供給された第１の流体が、その貫通孔８４６Ａを通過するようにしてもよい。また、図９８（Ｃ）に示すように、渦発生ノズル８４６の前面を略円錐形の凹面としてもよい。

また、図９８（Ｄ）及び同図（Ｆ）に示すように、混合室８４４の内周面のうち渦発生ノズル８４６よりも下流側の位置から段付き状に突出した環状堰部８５３を設けてもよい。環状堰部８５３は、断面矩形状でもよいし、渦発生ノズル８４６側の面が円錐面で構成された断面三角形状でもよい。環状堰部８５３を設けたことで流路が絞られるので、第１の流体を加速させることができると共に、環状堰部８５３の下流側に渦流又は乱流を発生させて第１と第２の流体の混合をさらに促進させることができる。

また、図９８（Ｅ）に示すように、渦発生ノズル８４６の下流側位置に混合室８４４の内周面から若干離して配置されたドーナツ形の環状堰部８５４を設けてもよい。この環状堰部８５４は断面円形をなしており、混合室８４４の内周面から突出した複数の支持突起８５５によって支持されている。環状堰部８５４を設けたことで混合室８４４の流路が絞られるので、第１の流体を加速させることができると共に、環状堰部８５４の下流側に渦流又は乱流を発生させることができる。本実施形態の混相流生成装置８４０を、本実施形態以外の他の実施形態の容器回転装置１００に適用してもよい。

［第２４実施形態］
以下、本発明の第２４実施形態を、図１００及び図１０１に基づいて説明する。本実施形態の筒形回転容器１０は、上記第２１実施形態で説明したトロンメル８１０、センター筒体８１２、移送ダクト２３等を一体に備えた機能ユニット８６５を、汎用品である筒形容器８６０に組み付けてなる。本実施形態では筒形容器８６１として、例えば、ポットミル粉砕機で使用されるポット（図１００（Ａ）及び同図（Ｂ）参照）を流用している。筒形容器８６０は一端有底の円筒状をなし、容器底壁８６１（本発明の「第１始端壁」に相当する）と反対側の他端部には、容器筒壁８６２から中心に向かって張り出したネック部８６３が形成されている。

機能ユニット８６５は、筒形容器８６０の開口端に宛がって固定（螺子止め）された円板壁８６６を有し、その円板壁８６６の一側面から円筒壁８６７が突出している。円筒壁８６７は円板壁８６６と同心円状に配置されており、その内径は、筒形容器８６０の開口部８６４の内径と略同一となっている。そして、図１００（Ｃ）に示すように、円板壁８６６によって筒形容器８６０の内部空間である第１回転室１５と、円筒壁８６６の内部空間である第２回転室１６とが仕切られている。なお、円板壁８６６は、本発明の「第１終端壁」に相当する。

第２回転室１６に配置されたトロンメル８１０は、円板壁８６６から円筒壁８６６の開口端に向かって突出しており、円筒壁８６６と同心円状に配置されている。トロンメル８１０の内側には、円板壁８６６の中央部を貫通して筒形容器８６０（第１回転室１５）内に突出したセンター筒体８１２が配置されている。センター筒体８１２は円板壁８６６に固定されている。

移送ダクト２３は、第１回転室１５内で容器筒壁８６２の内周面に沿って円弧状に延びた第１ダクト８７１と、第２回転室１６内で円筒壁８６６の内周面に沿って円弧状に延びた第２ダクト８７２と、それら第１ダクト８７１と第２ダクト８７２とを連通した中間ダクト８７３とから構成されている。

第２ダクト８７２は、円板壁８６６における第２回転室１６側の面の外縁部に設けられて円弧状に延びている。図１０１（Ａ）に示すように、第２ダクト８７２は、円板壁８６６から第２回転室１６内に突出しかつ円筒壁８６６の内周面と平行に延びた円弧状のダクト底壁８７２Ａと、ダクト底壁８７２Ａのうち円板壁８６６から離れた側の縁部から径方向外側に突出して円筒壁８６６の内周面に接合した円弧状のダクト側壁８７２Ｂとを有しており、円弧状に湾曲した角筒状をなしている。第２ダクト８７２のうち正回転方向の前端部には、移送ダクト２３の第２始端開口２５が形成されている。第２始端開口２５は、正回転させた場合の進行方向の前方に向かって開口している。第２ダクト８７２のうち正回転方向の後端部には、円板壁８６６を貫通した矩形の連通開口８７２Ｄが形成されており、その連通開口８７２Ｄによって第２ダクト８７２と中間ダクト８７３とが連通状態に接続されている。

第１ダクト８７１は、円板壁８６６における第１回転室１５側の面から離れた位置で円弧状に延びている。図１０１（Ａ）に示すように、第１ダクト８７１は、円板壁８６６から第１回転室１５内に突出しかつ筒形容器８６０の内周面と平行に延びた円弧状のダクト底壁８７１Ａと、ダクト底壁８７１Ａのうち円板壁８６６から離れた側の縁部から径方向外側に突出して容器筒壁８６２の内周面に接合した円弧状の第１ダクト側壁８７１Ｂと、ダクト底壁８７１Ａのうち第１ダクト側壁８７１Ｂと円板壁８６６との中間部から径方向外側に突出してネック部８６３の内面に宛がわれた円弧状の第２ダクト側壁８７１Ｃとを有しており、円弧状に湾曲した扁平な角筒状をなしている。第１ダクト８７１のうち正回転方向の後端部には、移送ダクト２３の第１終端開口２４が形成されている。第１終端開口２４は、逆回転させた場合の進行方向の前方に向かって開口している。なお、第１ダクト８７１を構成する第１ダクト側壁８７１Ｂ及び第２ダクト側壁８７１Ｃは、機能ユニット８６５を第１回転室１５側の面から見たときに、筒形容器８６０の開口部８６４と同一径の円（図１０１（Ｂ）の二点鎖線で示された円）に収まるように構成されている。

第１ダクト８７１の正回転方向の前端部には中間ダクト８７３が接続されている、中間ダクト８７３は、円板壁８６６から第２回転室１５内に突出している。詳細には、中間ダクト８７３は、円板壁８６６に貫通形成された連通開口８７２Ｄの開口縁から第２回転室１６内に突出して、第１ダクト８７１における正回転方向の前端部に直角に接続されている。なお、図１０１（Ｄ）に示すように、中間ダクト８７３のうち正回転方向の前端面には、中間ダクト８７３から離れるに従って（正回転方向の前方に向かうに従って）円板壁８６６に接近するように傾斜した端面斜板８７５が設けられている。端面斜板８７５は、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内に段付き状に突出した中間ダクト８７３が処理対象物Ｓから受ける抵抗を軽減すると共に、処理対象物Ｓが中間ダクト８７３の前端面にすくい上げられること防止する。

機能ユニット８６５を筒形容器８６０に組み付ける場合には、機能ユニット８６５の中心軸を筒形容器８６０の中心軸に対してずらした状態で、センター筒体８１２及び第１ダクト８７１を構成するダクト底壁８７１Ａ等を筒形容器１０内に挿入する。そして、機能ユニット８６５の円板壁８６６を筒形容器８６０の開口端に宛がって、そのまま中心軸と直交する方向に機能ユニット８６５をスライドさせて、機能ユニット８６５の中心軸と筒形容器８６０の中心軸とを一致させる。すると、図１００（Ｃ）に示すように、第１ダクト側壁８７１Ｂが筒形容器８６０の内周面に突き当てられると共に、第２ダクト側壁８７１Ｃと円板壁８６６との間で筒形容器８６０のネック部８６３が挟持される。最後に、円板壁８６６を貫通した複数の螺子（図示せず）を筒形容器８６０の開口端の螺子孔８６０Ａに締め付けて機能ユニット８６５を筒形容器８６０に固定する。

本実施形態の筒形回転容器１０は、ポットミル粉砕機に使用される公知なポットミル回転架台（図示せず）によって回転させることができる。筒形回転容器１０を逆回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓは、第１ダクト８７１及び中間ダクト８７３を経由して第２ダクト８７２に進入する。そして、流路切替板８１６が第１位置に位置している場合には、処理対象物Ｓがトロンメル８１０に送られ、流路切替板８１６が第２位置に位置している場合には、処理対象物Ｓが第２始端開口２５から第２回転室１６内に排出される。また、機能ユニット８６５を固定した筒形回転容器１０を、上記第１３実施形態の回転受容部６０１（図６４参照）に挿入して使用してもよいし、上記第１４実施形態の回転受容部６５０（図６８参照）に組み付けて使用してもよい。

［第２５実施形態］
以下、本発明の第２５実施形態を図１０２〜図１０４に基づいて説明する。図１０３に示すように、本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０を収容した真空容器８８０と、真空容器８８０を気密状態に貫通して筒形回転容器１０を回転可能に支持した駆動シャフト８８６と、駆動シャフト８８６に回転駆動力を付与する駆動源とを備えている。真空容器８８０の内面には加熱源としてのヒーター３３が設けられており、筒形回転容器１０内の処理対象物Ｓを外側から加熱することが可能となっている。また、真空容器８８０の外側には処理対象物Ｓを供給するためのフィーダー３６が備えられており、真空容器８８０を気密状態に貫通した供給シュート８８１を介して筒形回転容器１０の第２回転室１６内に処理対象物Ｓを供給することが可能となっている。その他、真空容器８８０には、真空容器８８０内又は第１回転室１５内にガスを供給するためのガス供給源８８２Ａ，８８２Ｂ、真空容器８８０内を真空引きするための真空ポンプ８８３、筒形回転容器１０から排出された処理対象物Ｓを受けるための排出容器８８４等が、真空弁８８５Ａ〜８８５Ｅを介して接続されている。

筒形回転容器１０は、駆動源としてのモータ３６によって回転駆動される駆動シャフト８８６の先端部に着脱可能に取り付けられており、駆動シャフト８８６と共に真空容器８８０内で回転する。詳細には、駆動シャフト８８６は真空容器８８０の端部壁を貫通した貫通孔８８０Ａに挿通されており、真空容器８８０内に配置された先端部に平板状の取付ベース８８７とその取付ベース８８７から突出した断面非円形の嵌合軸部８８８とを備えている。なお、真空容器８８０の貫通孔８８０Ａと駆動シャフト８８６の外周面との間は、摺動シール８８９によって気密状態にシールされている。筒形回転容器１０のうち、第１始端壁１２の中央部からは、第１回転室１５側に断面非円形の嵌合筒部８９０が突出しており、その嵌合筒部８９０が、駆動シャフト８８６における嵌合軸部８８８の外側に嵌合している（図１０４（Ｇ）参照）。これにより、駆動シャフト８８６と筒形回転容器１０とが一体回転可能に連結されている。なお、本実施形態では、共に断面が非円形をなした嵌合軸部８８８と嵌合筒部８９０との嵌合によりそれらが一体回転可能に連結されていたが、嵌合軸部８８８及び嵌合筒部８９０を共に断面円形とし、取付ベース８８７と筒形回転容器１０の第１始端壁１２とを図示しないピンによって結合することで、それらを一体回転可能に連結してもよい。

筒形回転容器１０は、その軸方向の中間部で２分割可能となっている。詳細には、第１終端壁１４より始端側の第１容器構成体８９１と、第１終端壁１４を含む終端側の第２容器構成体８９２とに分割可能となっている。第１容器構成体８９１の終端部と第２容器構成体８９２の始端部には、それぞれインロー部８９３，８９４が形成されている。図１０４（Ａ）に示すように、インロー部８９３，８９４はそれぞれ筒壁から外側に張り出したフランジ８９３Ａ，８９４Ａを有しており、それらフランジ８９３Ａ，８９４Ａの間にはパッキン８９５（例えば、リップパッキン。具体的には、Ｖパッキン）が挟まれている。

図１０４（Ａ）には、図１０３（Ａ）の点線円で囲まれた部分が拡大して示されている。同図に示すように、第２容器構成体８９２に設けられたインロー部８９４は、パッキン８９５より内側に環状の嵌合溝８９４Ｂを有している。同図（Ｂ）に示すように、嵌合溝８９４Ｂには、第１容器構成体８９１の筒壁の終端部が突入して凹凸嵌合している。第１容器構成体８９１の筒壁の終端面は、断面が半円弧状をなした第１シール面８９１Ｓとなっている。これに対し、嵌合溝８９４Ｂの内面は断面が第１シール面８９１Ｓに外接する略円錐台形状をなした第２シール面８９４Ｓとなっている。また、第２シール面８９４Ｓの底面からは断面楔形のシール突起８９４Ｔが突出している。シール突起８９４Ｔの頂部は鋭角に尖っており、図１０４（Ｃ）に示すように第１シール面８９１Ｓの押し付けによって嵌合溝８９４Ｂの中心側に曲げ変形される。そして、シール突起８９４Ｔを含む少なくとも５箇所で、第１シール面８９１Ｓと第２シール面８９４Ｓとが筒形回転容器１０の周方向の全周に亘って同心円状に線当接して、所謂、メタルタッチシールが構成されている。このメタルタッチシールと、上記したパッキン８９５とによって、第１容器構成体８９１と第２容器構成体８９２との接合部分（インロー嵌合部）が気密状態にシールされている。なお、パッキン８９５はリップパッキンに限定するものではなく、例えば、図１０４（Ｄ）に示すように、断面円形又は断面角形のパッキンでもよい。また、セラミックスファイバーパッキンやカーボンファイバーパッキンを使用してもよい。また、インロー部８９３，８９４に形成したフランジ８９３Ａ，８９４Ａの間にパッキン８９５を挟んでシールを行っていたが、図１０４（Ｅ）に示すように、第１容器構成体８９１及び第２容器構成体８９２の筒壁の肉厚をさらに厚くした場合には、フランジフランジ８９３Ａ，８９４Ａを設けることなくパッキン８９５によるシールを行うことができる。

図１０３（Ａ）に示すように、第１容器構成体８９１と第２容器構成体８９２は、駆動シャフト８８６及び第１回転室１５の軸心部を貫通した連結パイプ８９６によって合体状態に保持されている。連結パイプ８９６は、駆動シャフト８８６の基端部と、第１終端壁１４における第２回転室１６側の面から突出した軸受筒部８９７とによって両端部が支持されている。また、連結パイプ８９６の両端部は、駆動シャフト８８６の基端部及び軸受筒部８９７の先端部からそれぞれ突出しており、その突出部分にそれぞれナット８９８Ａ，８９８Ｂが螺合している。連結パイプ８９６の基端部のナット８９８Ｂと駆動シャフト８８６との間には圧縮コイルバネ８９９が配置されている（図１０４（Ｆ）参照）。連結パイプ８９６の先端のナット８９８Ａを締め付けることで、圧縮コイルバネ８９９が押し縮められ、その弾発力で第２容器構成体８９２が第１容器構成体８９１に押し付けられて両者の接合部分（インロー嵌合部分）が気密状態に維持されている。ここで、ヒーター３３の熱によって連結パイプ８９６が熱膨張によって延びる可能性があるが、圧縮コイルバネ８９９の弾発力を予め適正値に設定しておくことで、熱膨張が起きた場合でも、第１容器構成体８９１と第２容器構成体８９２との接合部分の気密状態を確実に維持することができる。また、連結パイプ８９６は、第１回転室１５内にガスを供給するためのガス供給管を兼ねており、連結パイプ８９６軸方向の複数箇所には、ガス放出口８９６Ａが貫通形成されている（図１０３（Ａ）参照）。連結パイプ８９６の基端部は、ロータリージョイント７２４を介してガス供給源８８２Ａに接続されている。

さて、図１０２（Ａ）には、本実施形態の容器回転装置１０による処理対象物Ｓの自動処理フローの一例が示されている。まずは、真空ポンプ８８３によって真空容器８８０内が真空引きされる。次いで、筒形回転容器１０の正回転が開始され、その正回転した状態で、予め定められた所定量の処理対象物Ｓがフィーダー３６から第２回転室１６内に自動供給される。このとき、真空弁８８５Ａが閉じられて真空容器８８０内の真空状態が維持される。

第２回転室１６に供給された処理対象物Ｓは、第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側に移動し、移送ダクト２３を通って第１回転室１５に移動する。処理対象物Ｓは、第１回転室１５内で撹拌・混合されると共に加熱処理される。予め設定した処理時間が経過すると筒形回転容器１０は一旦停止し、その後、逆回転する。すると、処理対象物Ｓは移送ダクト２３を通って第２回転室１６に移動し、第２螺旋ガイド１８の案内によって終端口１３から排出される。このとき真空弁８８５Ｃが開放して、第２回転室１６から排出された処理対象物Ｓが排出容器８８４に受容される。予め設定した回転時間が経過すると逆回転が停止し真空弁８８５Ｃが閉じる。その後、上述した真空ポンプ８８３による真空引き以降の処理が繰り返し行われ、処理対象物Ｓが毎回一定量ずつ加熱処理される。

ここで、筒形回転容器１０のうち少なくとも第１容器構成体８９１を透明容器（例えば、ガラス容器）で構成すると共に、真空容器８８０内に光源を配置して、処理対象物Ｓを、光（例えば、ＥＵＶ、ＵＶ，赤外線等）のエネルギーによって処理可能な構成としてもよい。このとき、ヒーター３３による加熱を同時に行ってもよい。

図１０３（Ｂ）には、本実施形態の変形例が示されている。この容器回転装置１００では、筒形回転容器１０の外側に誘導コイル４２Ｂが備えられ、第１回転室１５内にプラズマ雰囲気を発生させることが可能となっている。図１０２（Ｂ）は、この容器回転装置１００による処理対象物Ｓの自動処理フローの一例である。同図に示すように、処理対象物Ｓを撹拌・混合しながらプラズマ雰囲気によって処理することができる。なお、上述したように、筒形回転容器１０のうち少なくとも第１容器構成体８９１を透明容器で構成すると共に、真空容器８８０内に光源及び／又は加熱源を配置して、処理対象物Ｓを、光（例えば、ＥＵＶ、ＵＶ，赤外線等）のエネルギー、熱エネルギー、プラズマの何れか又はそれらを組み合わせて処理対象物Ｓの処理を行うようにしてもよい。なお、上述した本実施形態の構成を、他の実施形態に適用してもよい。

［第２６実施形態］
本発明の第２６実施形態を図１０５〜図１０７を参照しつつ説明する。なお、以下の説明では、第２５実施形態との相違点のみを説明することとし、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

図１０５（Ａ）に示すように、第２容器構成体８９２のインロー部８９４に備えたフランジ８９４Ａには、リング状の押えフランジ９００が係止されている。駆動シャフト８８６に備えた取付ベース８８７の外縁部寄り位置からは、押えフランジ９００を貫通した複数の連結シャフト９０１が延びている。連結シャフト９０１は、筒形回転容器１０の中心軸と平行に延びており、取付ベース８８７とは反対側の先端部にナット９０２が螺合している。また、連結シャフト９０１のうち、ナット９０２と押えフランジ９００との間には円筒カラー９０３及び圧縮コイルバネ９０４が配置されている。円筒カラー９０３は連結シャフト９０１の外側に直動可能に嵌合しており、圧縮コイルバネ９０４の弾発力によって押えフランジ９００に押し付けられている（図１０５（Ｂ）参照）。その弾発力によって、第１容器構成体８９１と第２容器構成体８９２との接合部分（インロー嵌合部分）が気密状態に維持されている。また、ナット９０２を螺合操作することで、圧縮コイルバネ９０４の弾発力、即ち、第１容器構成体８９１と第２容器構成体８９２との固定力を任意に調節することができる。

図１０５（Ｃ）に示すように、筒形回転容器１０の第１回転室１５内には、プラズマ発生部９０５が設けられている。プラズマ発生部９０５は、筒形回転容器１０内で水平に延びた支持部材９０６の両端部から片持ち梁状に延びた棒状のプラズマ電極９０７，９０７を有しており、それらプラズマ電極９０７，９０７の間でプラズマを発生させて、処理対象物Ｓを処理することが可能となっている。支持部材９０６は、駆動シャフト８８６のシャフト貫通孔８８６Ａを貫通した回転不可能な固定シャフト９０８の先端部に固定されており、固定シャフト９０８は駆動シャフト８８６に対して相対回転可能に支持されている。なお、駆動シャフト８８６のシャフト貫通孔８８６Ａと固定シャフト９０８との間は摺動シール９０９によってシールされている。その他の構成は、上記第２５実施形態と同一である。本実施形態によっても、上記第２５実施形態と同等の作用効果を奏する。

なお、本実施形態では、第１回転室１５の筒壁内面に上記第１実施形態等で説明した第１螺旋ガイド１７を備えていなかったが、その第１螺旋ガイド１７や、他の撹拌部材を設けてもよい。例えば、図１０５（Ｄ）に示すように、筒形回転容器１０の中心軸に沿って間隔を空けて配列された複数の矩形突片９１０や、図１０７に示すような畝形突条９１１を設けてもよい。同図（Ａ）に示すように、畝形突条９１１は、第１始端壁１２と第１終端壁１４との間で筒形回転容器１０の中心軸に対して傾斜して延びている。より詳細には、畝形突条９１１は断面が直角三角形となっており、筒形回転容器１０の筒壁に対して直角でかつ正回転方向の前方を向いた垂直面９１１Ａと、筒壁に対して傾斜しかつ逆回転方向の前方を向いた傾斜面９１１Ｂとを有している。また、畝形突条９１１は、第１始端壁１２から第１終端壁１４に向かうに従って逆回転方向の前方に向かうように傾斜して延びており（同図（Ｃ）参照）、さらに、畝形突条９１１における稜線９１１Ｃが、第１始端壁１２から第１終端壁１４に向かうに従って筒壁内面から離れるように傾斜している（同図（Ｂ）参照）。なお、この畝形突条９１１や矩形突片９１０は、六角筒形の筒形回転容器１０に限らず、同図（Ｄ）に示すように、円筒形の筒形回転容器１０の第１回転室１５に設けてもよい。

さらに、図１０６（Ａ）及び同図（Ｂ）に示すように、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面に向かって突出した複数のプラズマ電極９０７と、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面との間でプラズマを発生させるように構成してもよい。なお、上述した本実施形態の構成を、他の実施形態に適用してもよい。

［第２７実施形態］
本発明の第２７実施形態を図１０８〜図１０９を参照しつつ説明する。本実施形態の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の外面のうち少なくとも第１回転室１５の側方部分を覆って筒形回転容器１０と一体回転すると共に、内部に熱媒体を循環させて筒形回転容器１０を加熱又は冷却するための熱交換ジャケット９２０を備えている。なお、以下の説明では、第１実施形態との相違点のみを説明することとし、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

図１０８（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０のうち軸方向の中間部より第１始端壁１２側の部分は、熱交換ジャケット９２０によって覆われている。熱交換ジャケット９２０は、筒形回転容器１０の筒壁１１を覆ったジャケット胴部９２１と、第１始端壁１２の径方向外寄り部分を覆ったジャケット底部９２２とから構成されている。熱交換ジャケット９２０は、筒形回転容器１０の筒壁１１及び第１始端壁１２の外面から起立した複数の支柱９２３によって筒形回転容器１０の外面に固定されている。熱交換ジャケット９２０と筒形回転容器１０との間には閉塞されたジャケット室９２４が形成されており、そのジャケット室９２４に媒体供給装置９３７から供給された冷熱媒体（例えば、冷水、熱媒体油、液体窒素）又は温熱媒体（例えば、スチーム、温水、温風、溶融ナトリウム、熱媒体油）によって、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを冷却又は加熱することが可能となっている。

媒体供給装置９３７と熱交換ジャケット９２０は、熱媒体給排管９３０によって接続されている。熱媒体給排管９３０は、筒形回転容器１０と一体回転可能であり、内管９３１と外管９３２とを有した二重管構造となっている。熱媒体は、内管９３１の内側の供給流路９３１Ａを通ってジャケット室９２４に供給され、内管９３１と外管９３２との間に形成された排出流路９３２Ａを通ってジャケット室９２４から排出される。熱媒体給排管９３０は、第２回転室１６の内側でその中心から径方向外側に向かって延びた第１配管部９３３と、第２回転室１６における筒形回転容器１０の中心軸上に配されて第１配管部９３３に接続された第２配管部９３４とを有している。

第１配管部９３３のうち第２配管部９３４から離れた端部は、熱交換ジャケット９２０に接続されている。詳細には、熱交換ジャケット９２０のジャケット室９２４と第１配管部９３３における排出流路９３２Ａとが連通している（図１０８（Ｃ）及び同図（Ｄ）参照）。図１０９（Ａ）に示すように、第１配管部９３３における内管９３１と外管９３２は断面矩形の角筒状をなしており、外管９３２は、内管９３１をその軸方向と直交する三方から囲んでいる。即ち、第１配管部９３３における排出流路９３２Ａは断面「コ」の字形をなしている。第１配管部９３３における排出流路９３２Ａ内には、第１配管部９３３と平行に延びた内部隔壁９３５が設けられている。内部隔壁９３５は内管９３１と外管９３２のうち、筒形回転容器１０の軸方向で対向した管壁同士の間に形成されている。その内部隔壁９３５によって、第１配管部９３３における排出流路９３２Ａが第２配管部９３４との接続部を除いて二等分されている（図１０８（Ｄ）参照）。

図１０８（Ａ）に示すように、第２配管部９３４は、筒形回転容器１０の終端口１３を通過して固定蓋３２を貫通しており、回転軸受部９３８によって筒形回転容器１０と一体回転可能に支持されている。また、第２配管部９３４における内管９３１と外管９３２は共に断面円形の円筒状をなしかつ、同心円状に配置されている。ここで、第２配管部９３４の軸方向の中間部は、フレキシブル管９３４Ａで構成されている。これにより、熱媒体給排管９３０の熱変形（伸縮）や芯ズレを吸収することができる。なお、熱媒体給排管９３０と媒体供給装置９３７はロータリージョイント９３６を介して接続されている。また、排出流路９３２Ａを通って排出された熱媒体は、ロータリージョイント９３６に接続された図示しない熱交換機を通って媒体供給装置９３７に環流されるか又は、熱媒体を利用する別の装置（例えば、ボイラー等）に供給される。

熱媒体給排管９３０の排出流路９３２Ａは、ジャケット胴部９２１の閉塞端部に貫通形成された排出口９２１Ａを介してジャケット室９２４と連通している。一方、熱媒体給排管９３０の供給流路９３１Ａは、熱交換ジャケット９２０の内面と筒形回転容器１０の外面との間に形成されたジャケット内流路９２５に接続されている。ジャケット内流路９２５は、熱交換ジャケット９２０の内面から突出した流路壁９２６を筒形回転容器１０の外面に突き当てて構成されており、ジャケット内流路９２５とジャケット室９２４との間は流路壁９２６によって仕切られている。

ジャケット内流路９２５は、筒形回転容器１０の筒壁１１とジャケット胴部９２１との間で筒形回転容器１０の中心軸と平行に延びた第１の直線流路９２５Ａ（図１０９（Ａ）参照）と、第１始端壁１２とジャケット底部９２２との間で筒形回転容器１０の径方向に延びかつ一端部が第１の直線流路９２５Ａに接続された第２の直線流路９２５Ｂと、第２の直線流路９２５Ｂの他端部に接続されて筒形回転容器１０と同心円状をなした環状の分配流路９２５Ｃとから構成されている（図１０９（Ｇ）参照）。分配流路９２５Ｃは、円環状をなしたジャケット底部９２２の内縁部に沿って設けられており、その分配流路９２５Ｃとジャケット室９２４とを区画した流路壁９２６には、複数の分配口９２６Ａが貫通形成されている。ジャケット内流路９２５を流れて分配流路９２５Ｃに到達した熱媒体は、各分配口９２６Ａからそれぞれジャケット室９２４に流入する。

図１０９（Ｇ）に示すように、分配流路９２５Ｃの流路壁９２６のうち、周方向で隣り合った分配口９２６Ａの中間部からは、径方向外側に向かって複数の仕切壁９２７が放射状に延びている。それら仕切板９２７のうち分配流路９２５Ｃから離れた先端部には、それぞれ媒体ガイド板９２８が接続されている。図１０８（Ａ）に示すように、媒体ガイド板９２８は、ジャケット胴部９２１の内面から突出して筒形回転容器１０の筒壁１１外面に突き当てられている。媒体ガイド板９２８は、ジャケット室９２４内で筒形回転容器１０の中心軸と平行に延びている。また、それら媒体ガイド板９２８は、筒形回転容器１０の周方向における位置に応じてそれぞれ長さが異ならせてある。具体的には、例えば、ジャケット内流路９２５における第１の直線流路９２５Ａから離れるに従って、媒体ガイド板９２８の長さが徐々に長くなっている。

媒体供給装置９３７から供給された熱媒体は、熱媒体給排管９３０の供給流路９３１Ａ（内管９３１）を通過してジャケット内流路９２５に進入し、そのジャケット内流路９２５をさらに通過してジャケット室９２４へと進入する。ジャケット室９２４に進入した熱媒体によって第１回転室１５内の処理対象物Ｓが冷却又は加熱される。ジャケット室９２４内の熱媒体は、新たにジャケット室９２４内に流入した熱媒体によって押し出され、熱媒体給排管９３０の排出流路９３２Ａを通って筒形回転容器１０の外部に排出される。

ところで、液体の熱媒体を使用した場合にジャケット室９２４内に気泡が貯まると、熱交換性能が低下するので、ジャケット室９２４内の気泡は除去する必要がある。これに対し、本実施形態によれば、筒形回転容器１０の回転に伴ってジャケット室９２４内の気泡が熱媒体と共に自然に排出されるように構成されている。

具体的には、筒形回転容器１０が図１０９（Ｄ）に示す位置、即ち、熱媒体給排管９３０の第１配管部９３３が第２配管部９３４から鉛直上方に向かって立ち上がった状態になったとき、ジャケット室９２４内の気泡は、ジャケット室９２４の上端部、即ち、ジャケット内流路９２５の第１の直線流路９２５Ａを挟んだ両側に集まる。

筒形回転容器１０が図１０９（Ｄ）に示す位置から正回転方向に回転すると、ジャケット室９２４のうち第１の直線流路９２５Ａより正回転方向の後側に集まっていた気泡は、そのままジャケット室９２４の上端部に留まるが、ジャケット室９２４のうち第１の直線流路９２５Ａより正回転方向の前方側に貯まっていた気泡は、第１の直線流路９２５Ａを構成する流路壁９２６に押されて下方に移動し、熱媒体に流されて熱媒体給排管９３０における第１配管部９３３の排出流路９３２Ａに進入する（図１０９（Ｅ）参照）。さらに筒形回転容器１０が正回転方向に回転すると、排出流路９３２Ａに進入した気泡が内部隔壁９３５の案内によって第１配管部９３３から第２配管部９３４に向かって移動し（図１０９（Ｆ）参照）、熱媒体と共に気泡がジャケット室９２４内から排出される。筒形回転容器１０を逆回転させた場合も同様にして気泡が除去される。

なお、筒形回転容器１０の筒壁１１の外側を、パイプをコイル状に巻いた熱交換パイプで覆って、その熱交換パイプに流した熱媒体によって、処理対象物Ｓの冷却又は加熱を行ってもよい。具体的には、例えば、熱媒体の供給用と排出用とを含む複数本のパイプをコイル状に巻き付けて、それら供給用と排出用のパイプ同士を接続した構成とすればよい。なお、上述した本実施形態の構成を、他の実施形態に適用してもよい。

［他の実施形態］
本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下に説明するような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。

（１）上記第１実施形態では、第２始端開口２５が、正回転方向の前方を向いて開口していたが、第１終端壁１４と直交する方向に開口していてもよい。その場合、第２螺旋ガイド１８の端部を第２始端開口２５における正回転方向の後側縁部に接続してもよい。こうすれば、筒形回転容器１０を正方向に回転させた場合に、第２回転室１６内の処理対象物Ｓを第２螺旋ガイド１８によって、第２始端開口２５に誘導することができる。

（２）図１１０（Ａ）に示すように、第１回転室１５内に撹拌部材６６０を設けてもよい。撹拌部材６６０は、筒形回転容器１０の軸方向で向かい合わせにして、第１螺旋ガイド１７の内側領域に配置されている（同図（Ｂ）参照）。両撹拌部材６６０，６６０は、それぞれ回転シャフト６６１の先端に固定されており、筒形回転容器１０の外部に配置された図示しないモータによって筒形回転容器１０とは別個に回転させることが可能となっている。これにより、処理対象物Ｓや処理内容に応じて様々な撹拌操作を行うことが可能となる。

撹拌部材６６０は、回転シャフト６６１の側方に張り出しかつ、回転シャフト６６１に対して回転対称な１対の撹拌翼６６２，６６２を有している。撹拌翼６６２は、傾斜の方向が異なる３つの傾斜板６６３，６６４，６６５が連なった形状をなしている。

図１１１（Ｂ）に示すように、撹拌翼６６２のうち第１の傾斜板６６３は、平面視Ｌ字形をなしており、同図（Ａ）に示すように、基端部から先端部に向かうに従って筒形回転容器１０の正回転方向の前方に向かうように傾斜している。図１１１（Ｂ）に示すように、第２の傾斜板６６４は、第１の傾斜板６６３の先端から回転中心側に突出しており、同図（Ａ）に示すように第１の傾斜板６６３から離れるに従って正回転方向の後方に向かうように傾斜している。図１１１（Ｂ）に示すように、第３の傾斜板６６５は、第２の傾斜板６６４の先端から第１の傾斜板６６３の基端側に向かって突出しており、同図（Ａ）に示すように、第２の傾斜板６６４から離れるに従って正回転方向の前方に向かうように傾斜している。このように、傾斜の方向が異なる３つの傾斜板６６３，６６４，６６５によって撹拌翼６２を構成したことで、第１回転室１５内で処理対象物Ｓを複雑に流動させることが可能になる。

（３）図１１２に示すように、筒形回転容器１０と一体回転する第１サブ螺旋ガイド２７の替わりに、筒形回転容器１０に対して相対回転可能な回転螺旋ガイド６７０（本発明の「撹拌部材」に相当する）を設けてもよい。具体的には、第１回転室１５の中心を回転シャフト６７１が回転可能に貫通しており、その回転シャフト６７１に回転螺旋ガイド６７０が一体に固定されている。回転螺旋ガイド６７０は、第１螺旋ガイド１７の内側に配置されており、第１始端壁１２と第１終端壁１４との間で螺旋状に延びたリボン形をなしている。回転シャフト６７１と回転螺旋ガイド６７０との間は、回転シャフト６７１の軸方向の複数箇所から径方向に突出した複数のスポーク６７２によって連結されている。さらに、回転螺旋ガイド６７０は、筒形回転容器１０の周方向で１８０度位相をずらして２つ備えられている。なお、回転螺旋ガイド６７０は、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４側に送給する（逆回転させた場合に、第１始端壁１２側に送給する）ような螺旋形状としてもよいし、正回転させた場合に、処理対象物Ｓを第１始端壁１２側に送給する（逆回転させた場合に、第１終端壁１４側に送給する）ような螺旋形状としてもよい。この構成によれば、回転螺旋ガイド６７０を筒形回転容器１０の回転方向に対して逆回転させたり、筒形回転容器１０とは異なる回転速度で回転させたり、筒形回転容器１０と回転螺旋ガイド６７０との何れか一方のみを回転させる等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じて様々な撹拌操作を行うことが可能となる。なお、第１終端壁１４の通気孔１４Ａは、本発明の「終端センター孔」に相当する。

（４）図１１３に示すように、筒形回転容器１０と一体回転する第１サブ螺旋ガイド２７の替わりに、筒形回転容器１０に対して相対回転可能な撹拌子６８０（本発明の「撹拌部材」に相当する）を設けた構成としてもよい。具体的には、第１回転室１５の中心を回転シャフト６８１が回転可能に貫通しており、その回転シャフト６８１の側方に複数の撹拌子６８０が配置されている。全ての撹拌子６８０は、第１螺旋ガイド１７よりも内側に配置されており、回転シャフト６８１と各撹拌子６８０との間は、回転シャフト６８１から径方向に突出したスポーク６８２によって連結されている。また、撹拌子６８０は、回転方向の一端から他端に向かうに従って先細りとなった流線型をなしている。詳細には、筒形回転容器１０の逆回転方向Ｘ２の前方に向かうに従って窄まった楔状をなしている。この構成によれば、撹拌子６８０を、筒形回転容器１０の回転方向に対して逆回転させたり、筒形回転容器１０とは異なる回転速度で回転させたり、筒形回転容器１０と撹拌子６８０との何れか一方のみを回転させる等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じて様々な撹拌を行うことが可能となる。また、撹拌子６８０を、例えば、耕うん機に用いられているロータリーの刃構造や、せん断効果を得るための鎌状刃等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じた構造にすることで、様々な撹拌を行うことが可能となる。

（５）筒形回転容器１０を中心軸方向で複数分割してなる容器構成体を、固定手段（ボルト等の締結部材や溶接を含む）によって固定して筒形回転容器１０が構成されるようにしてもよい。例えば、上記第１実施形態の筒形回転容器１０の場合には、図１１４（Ａ）に示すように、第１始端壁１２及びリフター２０を一体に備えた第１の容器構成体６９１と、第１螺旋ガイド１７を一体に備えた第２の容器構成体６９２と、第１終端壁１４及び移送ダクト２３を一体に備えた第３の容器構成体６９３と、第２螺旋ガイド１８を一体に備えた第４の容器構成体６９４とに分割可能とすると共に、各容器構成体６９１〜６９４の分割面に設けたフランジ部６９５同士を固定手段によって固定した構成としてもよい。このような構成とすることで、第１回転室１５の内壁、第２回転室１６の内壁、螺旋ガイド１７，１８，２７、リフター２０等の内部機構の清掃、洗浄容易性を高め、内部点検を容易に行うことができる。

また、例えば、図１１４（Ｂ）に示すように、第１〜第４の各容器構成体６９１〜６９４と交換することが可能でかつ内部構造が異なる交換用の容器構成体７０１〜７０５を用意しておき、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じて、容器構成体６９１〜６９４，７０１〜７０４を任意に組み合わせて筒形回転容器１０とすることが可能な構成としてもよい。

（６）上記実施形態では連続したリボン形の第１螺旋ガイド１７を備えていたが、第１螺旋ガイド１７の替わりに、図１１５（Ａ）の三面図に示すように、筒壁１１の内周面から起立した長板状の撹拌壁７１０を複数設けてもよい。これら複数の撹拌壁７１０は、筒形回転容器１０の中心軸に対して一定角度傾けた状態で配置され、筒形回転容器１０の周方向及び軸方向で互いにずらして配置されると共に、長手方向の両端部が隣接する別の撹拌壁７１０とオーバーラップするように配置されている。そして、筒形回転容器１０を正回転させると、第１回転室１５の下部で堆積している処理対象物Ｓの中を複数の撹拌壁７１０が順次通過して、それら複数の撹拌壁７１０に押されて処理対象物Ｓが第１終端壁１４から第１始端壁１２へと移動する。筒形回転容器１０を逆回転させた場合も同様であり、処理対象物Ｓが複数の撹拌壁７１０に押されて第１始端壁１２から第１終端壁１４へと移動する。さらに、図１１５（Ｂ）に示すように、撹拌壁７１０から径方向内側に突出した柱体７１２の先端に、撹拌壁７１０に対して傾斜したサブ撹拌壁７１１を備えた構成としてもよい。サブ撹拌壁７１１は、処理対象物Ｓの中層又は上層部分を撹拌壁７１０とは反対側に押すので、効果的に撹拌することができる。なお、撹拌壁７１０及びサブ撹拌壁７１１の全体を丸みを帯びた形状（エッジを面取りした形状）にするとより好ましい。このような構成とすることで、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の内側の洗浄容易性を高めることができる。

（７）図１１６（Ａ）に示すように、エアー又は電磁式のノッカー４６０（打撃子４６１）によって、筒形回転容器１０の筒壁１１を直接打撃したり、同図（Ｂ）に示すように、筒形回転容器１０の内側で筒壁１１から離れて配置された第１サブ螺旋ガイド２７（又は、トロンメル６５，２３２等）をノッカー４６０によって間接的に打撃するように構成してもよい。なお、図１１６（Ｂ）における符号４５０は筒壁１１の内周面から起立して奥部が被打撃座４５５によって閉塞されたシリンダ、符号４５１は、シリンダ４５０内を直動して被打撃座４５５を打撃する打撃ピストン、符号４５２は打撃ピストン４５１をシリンダ４５０の被打撃座４５５から離間させる方向に付勢するスプリング、符号４５３は、スプリング４５２の付勢力によって筒壁１１の外周面から突出してノッカー４６０の打撃子４６１と当接可能な受圧ピンである。ノッカー４６０の打撃子４６１が筒壁１１の外周面に接近した状態で、筒形回転容器１０が回転すると、打撃ピストン４５１が打撃子４６１を通過する毎（打撃子４６１と受圧ピン４５３とが当接する毎）に、打撃ピストン４５１がシリンダ４５０の被打撃座４５５に衝突して、第１サブ螺旋ガイド２７（又は、トロンメル６５，２３２等）に衝撃が付与され、それらに付着した処理対象物Ｓを払い落とすことができる。

（８）上記実施形態では、筒形回転容器１０が直接、モータ３１によって回転駆動されていたが、図１１７（Ａ）に示すように、筒形回転容器１０を下方から支持する支持ローラー３０，３０をモータ３１によって回転駆動することで、筒形回転容器１０を回転させてもよい。なお、同図における符号４７０は、２つの支持ローラー３０，３０を共通のモータ３１で回転駆動するための動力伝達シャフトである。

（９）ここで、支持ローラー３０，３０の回転を筒形回転容器１０に伝えるには、支持ローラー３０と外輪１１Ｒとを摩擦係合させる必要がある。具体的には、支持ローラー３０の材質を、例えば、ゴム又はウレタンにすることが考えられる。しかしながら、筒形回転容器１０を外部又は内部から加熱して処理対象物Ｓの処理を行う場合に、熱が外輪１１Ｒを介してゴムやウレタンで構成された支持ローラー３０に伝わることは回避したい。そこで、外輪１１Ｒ，１１Ｒを、図１１７（Ｂ）及び同図（Ｃ）に示すような構造としてもよい。この外輪１１Ｒは、タイヤ４７１とリム４７２とで構成されている。タイヤ４７１は幅狭なリング状をなしており、リム４７２は筒形回転容器１０の外周面から張り出したフランジ状をなして、タイヤ４７１の内周面に突き当てられている。リム４７２には、放熱性を高めるための冷却孔４７２Ａが多数形成されている。リム４７２とタイヤ４７１との間には、伝熱を抑えるために複数のスリット状隙間４７３が形成されている。また、リム４７２と筒形回転容器１０との間にも、伝熱を抑えるために複数のスリット状隙間４７４が形成されている。このスリット状隙間４７４を形成するために、リム４７２と筒形回転容器１０との間には複数のスペーサ４７５が差し挟まれており、それら複数のスペーサ４７５を介してリム４７２と筒形回転容器１０とが一体に固定されている。このような伝熱防止対策を講じることで、筒形回転容器１０の熱が支持ローラー３０に伝わり難くなるので、支持ローラー３０の材質としてゴム又はウレタンを採用することが可能になる。

（１０）図１１８に示すように、筒形回転容器１０の筒壁１１に貫通形成された筒壁貫通孔１１Ｂと、筒壁貫通孔１１Ｂに挿通され、第１回転室１５内で回転可能な回転シャフト２２１と、回転シャフト２２１の基端部に接続されかつ筒壁１１に固定されたモータ２２０と、回転シャフト２２１の先端から側方に張り出した粉砕ブレード２２２と、筒形回転容器１０の外部に設けられた給電部（図示せず）とモータ２２０との間を電気接続するスリップリング４８０とを備えた構成としてもよい。また、筒壁１１に粉砕ブレード２２２用のモータ２２０が複数固定された場合には、それら複数のモータ２２０を共通のインバータによって制御してもよいし、複数の各モータ２２０毎にインバータを設けて各モータ２２０を別個に制御してもよい。このようにすれば、第１回転室１５の下部に貯まっている処理対象物Ｓも粉砕処理することができる。

（１１）上記実施形態において、処理対象物Ｓの重量を計測することが可能なロードセルを設け、処理対象物Ｓの重量を記録すると共に、ロードセルの出力に応じて、処理対象物Ｓの供給や排出を自動で行うようにしてもよい。

（１２）上記第１実施形態では、第１回転室１５における筒内中心部に火炎や過熱水蒸気を供給して処理対象物Ｓの加熱処理を行っていたが、例えば、筒内中心部に液体窒素等を吹き付けて処理対象物Ｓの冷凍処理を行い、その冷凍物の撹拌・混合・粉砕を行うことが可能な構成としてもよい。

（１３）上記実施形態において、筒形回転容器１０の内外、処理対象物Ｓ、筒内中心部の処理雰囲気等の温度を計測する温度センサ及び、温度センサの出力を無線によって容器回転装置１００の制御部に送信する無線通信手段を備えて、温度制御を行いながら処理を行うようにしてもよい。このとき、無線通信手段及び温度センサの電源としてゼーベック発電ユニットを利用してもよい。

（１４）上記実施形態において、筒形回転容器１０の内面に不動態化処理又はコーティング処理を施したり、筒形回転容器の内面又は外面に断熱材を貼り付けた構成としてもよい。

（１５）上記第１実施形態において、第１回転室１５に、第１始端壁１２から第１終端壁１４に向かって拡径した円錐台形筒状の図示しないコーンを設けて、筒形回転容器１０と一体回転するようにしておき、リフター２０によって処理雰囲気中に投入された処理対象物Ｓを、コーンの小径側端部で受けてそのコーン内を椀形反射部材１９側に移動させ、コーンの大径側端部から落下させるようにしてもよい。このようにすると、第１回転室１５の第１終端壁１４側に溜まった処理対象物Ｓが第１螺旋ガイド１７によって第１始端壁１２側へと送られ、第１始端壁１２に到達した処理対象物Ｓがリフター２０のポケット部２１にすくい取られて処理雰囲気中に投入され、処理雰囲気中に投入された処理対象物Ｓが、コーン内を通って第１終端壁１４側に送られるという循環経路ができ、処理対象物Ｓが処理雰囲気を通過する回数が平坦化され、より均一な雰囲気中処理を行うことができる。

（１６）上記実施形態において、螺旋ガイド１７，１８，２７を筒形回転容器１０に対して着脱可能としてもよい。図１１９には、第１回転室１５に備えた第１螺旋ガイド１７と第１サブ螺旋ガイド２７を筒形回転容器１０に対して着脱可能とした場合の構造が示されている。同図（Ａ）に示すように螺旋ガイド１７，２７は、固定支持ユニット９４０によって支持されている。

固定支持ユニット９４０は、第１回転室１５内でその中心軸と直交する方向に延びた１対の支持柱９４１，９４１と、それら支持柱９４１，９４１の軸方向の中間部同士を連結した連結棒９５０とを有している。図１１９（Ｂ）に示すように、支持柱９４１は、断面矩形の角柱部９４２の両端部に後述するガイド連結部９４３を備えてなる。連結棒９５０は、一方の支持柱９４１に固定されて筒形回転容器１０の中心軸上で延びており、その先端部には螺子部９５０Ａが形成されている。他方の支持柱９４１（角柱部９４２）には螺子部９５０Ａが貫通した貫通孔９４１Ａが形成されており、その貫通孔９４１Ａには円筒形のスリーブナット９４４が回転可能に支持されている（図１１９（Ｆ）参照）。図１１９（Ｅ）に示すように、スリーブナット９４４は、貫通孔９４１Ａに挿通された軸方向の中間部が両端部に対して細くなっていて、貫通孔９４１Ａに対して抜け止め状態に取り付けられている。そのスリーブナット９４４と連結棒９５０の螺子部９５０Ａとが螺合している。そして、スリーブナット９４４の回転操作によって、一方の支持柱９４１を他方の支持柱９４１に対して接離させて、それらの軸間距離を変更することが可能となっている。

両支持柱９４１，９４１の両端部に設けられたガイド連結部９４３は、角柱部９４２の端面から突出した１対の円柱部９４５，９４５で構成されており、それら対をなした円柱部９４５，９４５が、軸筒形回転容器１０の中心軸方向に並べて配置されている（図１１９（Ｃ）及び同図（Ｄ）参照）。隣り合った円柱部９４５，９４５の間にはスリット状のガイド交差隙間９４６が形成されており、そのガイド交差隙間９４６に第１螺旋ガイド１７及び第１サブ螺旋ガイド２７の端部が挿通されている（図１１９（Ｄ）参照）。

１対の円柱部９４５，９４５には、それらの並び方向で貫通したピン挿通孔９４５Ａが形成されている。ピン挿通孔９４５Ａは円柱部９４５の基端側と先端側とに形成されており、それら両方のピン挿通孔９４５Ａに、それぞれ連結ピン９４７が挿通されている。先端側のピン挿通孔９４５Ａに挿通された連結ピン９４７が、ガイド交差隙間９４６に挿通された第１螺旋ガイド１７を串刺し状態に貫通しており、基端側のピン挿通孔９４５Ａに挿通された連結ピン９４７が、ガイド交差隙間９４６に挿通された第１サブ螺旋ガイド２７を串刺し状態に貫通している。

各螺旋ガイド１７，２７の両端部には連結ピン９４７が貫通した長孔９４８，９４９が形成されている。螺旋ガイド１７，２７の一方の端部には径方向に沿って延びた縦長孔９４８が形成され、反対側の端部には螺旋ガイド１７，２７の略周方向に沿って延びた横長孔９４９が形成されている。これら長孔９４８，９４９及び、上記したスリーブナット９４４に対する支持柱９４１の回転により、固定支持ユニット９４０との連結を維持したまま、１対の支持柱９４１，９４１の軸間距離の変化に伴う螺旋ガイド１７，２７の形状変化を吸収することが可能になる。詳細には、１対の支持柱９４１，９４１の軸間距離を小さくしていった場合に、固定支持ユニット９４０との連結を維持したまま螺旋ガイド１７，２７の拡径方向への変形が許容されると共に、１対の支持柱９４１，９４１の軸間距離を大きくしていった場合に、固定支持ユニット９４０との連結を維持したまま螺旋ガイド１７，２７の縮径方向への変形が許容される。

螺旋ガイド１７，２７を第１回転室１５内に組み付ける場合には、スリーブナット９４４の回転操作によって１対の支持柱９４１，９４１の軸間距離を比較的大きくして、螺旋ガイド１７，２７を縮径状態にしておき、その状態で第１回転室１５に挿入する。次に、スリーブナット９４４を回転操作して１対の支持柱９４１，９４１の軸間距離を狭めていく。すると、螺旋ガイド２７が拡径方向に変形して、第１螺旋ガイド１７が筒形回転容器１０の筒壁１１内面に全周に亘って突き当てられ、その突っ張り状態で固定される。本実施形態によれば、第１螺旋ガイド１７及び第１サブ螺旋ガイド２７を筒形回転容器１０の内側（第１回転室１５）から取り外すことができるので、筒形回転容器１０の内側（第１回転室１５）の洗浄容易性を高めることができる。なお、図示しないが、同様な固定支持ユニット９４０によって第２螺旋ガイド１８を第２回転室１６に着脱可能としてもよい。

（１７）筒形回転容器１０を断面多角形の角筒形としかつ、その軸方向の両端部間で周方向に捻れた構造としてもよい。例えば、図１２０に示す筒形回転容器１０は、六角形の角筒形をなし、その軸方向の両端部間で中心軸回りに６０度未満の所定角度だけ捻れている。より詳細には、第１始端壁１２に対して終端口１３が正回転方向Ｘ１の前方に約２０度捻れている。筒形回転容器１０を逆回転（矢印Ｘ２方向に回転）させると、筒形回転容器１０の底部内面が、第１始端壁１２から終端口１３に向かって下り傾斜した傾斜面となるので（図１２０（Ｄ）参照）、その傾斜面によって筒形回転容器１０内の処理対象物Ｓが第１始端壁１２側から終端口１３側へと（図１２０（Ｃ）の紙面手前から奥側に向かって）移動する。即ち、第１回転室１５内の処理対象物Ｓが第１終端壁１４へと移動し、移送ダクト２３を通って第２回転室１６に移送され、さらに、第２回転室１６内を移動して終端口１３から排出される。一方、筒形回転容器１０を正回転（矢印Ｘ１方向に回転）させると、筒形回転容器１０内の処理対象物Ｓが傾斜面によって、終端口１３側から第１始端壁１２側へと（図１２０（Ｃ）の紙面奥側から手前側に向かって）移動する。即ち、第２回転室１６内の処理対象物Ｓが移送ダクト２３を通って第１回転室１５に移送され、さらに第１回転室１５内を第１始端壁１２へと向けて移動する。このような構成とすれば、第１螺旋ガイド１７や第２螺旋ガイド１８を配置した場合に比べて、筒形回転容器１０の内部の洗浄性を高めることができる。なお、第１回転室１５には、必要に応じて第１サブ螺旋ガイド２７を設けてもよい。また、上記実施例では、筒形回転容器１０がその中心軸回りに２０度捻れていたが、捻れの角度は、処理物物性、処理方法、処理回転等の条件等に応じて、最適な角度に設定すればよい。

（１８）図１２１に示すように、第１始端壁１２における第１回転室１５側の内面と、第１終端壁１４における第１回転室１５側の内面とに敷設された１対の電極９４０，９４０と、それら１対の電極９４０，９４０間に電圧を印加可能な電源装置９４１とを備えた構成としてもよい。１対の各電極９４０，９４０は、第１始端壁１２及び第１終端壁１４の内面全体を覆った円板形をなしており、第１回転室１５内で対向配置されている。この容器回転装置１００によれば、例えば、第１回転室１５に、水、処理対象物Ｓ及び固形の触媒を投入して筒形回転容器１０を回転させた場合に、触媒が電極９４０，９４０に接触することで、電極９４０の表面に発生したガス気泡を除去したり、電極９４０（陰極）ににおけるスケールの付着を防止することができ、また、処理対象物Ｓを撹拌して均一化し、さらには、触媒によって電解効率の向上を図ることができる。そして、処理対象物Ｓとしての電解質液体、廃油、廃水、植物性有機物、動物性有機物、セルロース系物質、汚染土壌等の液体又はスラリー、固形状物を、電気分解によって処理することができる。また、電解質液体の電気分解によって電解生成物（電気分解電解液、酸素水素共存ガス体）を製造することができる。また、生成された電解生成物によって金属含有排水（例えば、めっき排水）からの金属回収、シアン含有排水におけるシアンの分解、高負荷排水のＣＯＤ及びＢＯＤの低減、有機物の分解、スラリー状の汚染土壌の無害化、機械油、天ぷら油などの廃油を水と油の分散液にした燃料化を行うことが可能となる。図１２１には示されていないが、筒形回転容器１０に粉砕機構（例えば、粉砕ブレード２２２。図３９参照）や分級機構（図２９参照）を備えて、植物性有機物原料（生ゴミ、食品廃棄物、農産物廃棄物、木質廃棄物等）や動物性有機物原料（し尿、浄化槽汚泥、動物性廃棄物、家畜糞尿、下水処理汚泥等）または、これらの混成物を、粉砕電気分解可溶化処理をして、メタンガス、水素発酵処理による水素ガスを発生させてもよい。さらには、サツマイモの茎葉、サトウキビ穂等の単一の有機物基材セルロース系物質ないし、カニ、えび、昆虫などの殻等の単一の有機物基材キチン物質を粉砕電気分解可溶化処理をし、有機物ポリフェノール成分の抽出分級処理を行ってもよい。

（１９）上記実施形態において、処理対象物Ｓを第１回転室１５の第１始端壁１２方向に推進させる必要が無い場合ないし、筒形回転容器１０を傾動させる手段を備えた場合に筒形回転容器１０の筒壁１１を、第１始端壁１２から終端口１３に向かって拡径した円錐台形状とし、第１螺旋ガイド１７と第２螺旋ガイド１８とをなくした構造としてもよい。また、第１回転室１５を構成する筒壁と第２回転室１６を構成する筒壁の両方又は何れか一方を、第１始端壁１２から離れる（終端口１３に近づく）に従って拡径した円錐台形状としてもよい。これにより、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４に近づく側に、第２回転室１６内の処理対象物Ｓを終端口１３に近づく側に、それぞれ推進させることができ、両室の第１螺旋ガイド１７と第２螺旋ガイド１８を具備することなく、実施例の処理動作を行える。ただし、処理対象物Ｓの物性（例えば、液体、スラリー、ないし流動性が高い粒子等以外の処理物）によっては、効果が少なく処理時間が長くなる場合があるから、コストバランスを判断した上で採用すればよい。また、吸引ファン５５４のガス吸引力による処理を、容器回転装置１００の排気口３２Ｂと粒子回収装置５００の間に、図示しない押し込みファンを設けて、ガス押し込みによる粒子状物質遠心力集塵ならびに、濾過分離処理を行ってもよい。

（２０）上記第１２実施形態では、バランスウエイト５２７と排出シュート５２０内に堆積した粒子状物質の重量とのバランスによって第２弁体５２３が開閉され、その第２弁体５２３の開閉に連動して、第１弁体５３５が開閉するように構成されていたが、第１弁体５３５及び第２弁体５２３の開閉動作を以下のようにして行ってもよい。即ち、排出シュート５２０の下端寄り位置に排出完了を検知する検知センサを設けると共に、上端寄り位置に満量を検知する検知センサを設けておき、それら検知センサによる満量の検知又は排出完了の検知により、第１弁体５１３及び第２弁体５２３を図示しない作動手段（電磁ソレノイド、モータ、エアーシリンダー等）によって自動開閉させる構成としてもよい。

（２１）上記第１２実施形態では、排気ガスに含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生した粉塵、煤塵、その他粒子）を回収するための粒子回収装置５００を備えているが、この粒子回収装置５００の構成を用いて、液中に含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生したスラリー、その他粒子）を回収するための液中粒子回収装置としてもよい。具体的には、吸引ファン５５４を吸引ポンプに替えて吸引を、圧縮エアによるフィルター５５３の逆洗を、水圧に替えて逆洗を行うことで、液中に含まれる粒子状物質の遠心力分離処理ならびに、濾過分離処理の、液中粒子回収処理を行うことができる。さらには、上記（１９）の構成を用いれば、押し込みポンプによる手段で同様の液中粒子回収処理が行える。

（２２）上記第１７実施形態では、図７７に示すように、液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１の先端部から側方に向かって張り出している。液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１から離れた先端側か三股に割れた先割れ構造をなしており、同一構造をなした３つの電極ホルダ７６２を有している。この電極ホルダ７６２に設けられた先端中心電極７６３と対向電極７６４は、第１回転室１５内の導電性液体中でプラズマを発生する位置に取り付けられているが、次のような構造にしてプラズマを発生させて用いてもよい。まず、対向電極７６４部とガス放出流路７７４を取り去り、リング形電極７４０が対向電極と成るようにプラズマ用電源装置に接続し、電極ホルダ７６２に設けられた先端中心電極７６３は、先端中心電極７６３が液面に接触しない位置に電極ホルダ７６２を設ける。先端中心電極７６３は気相中に位置し、先端中心電極７６３とリング形電極７４０間の印加により、先端中心電極７６３から第１回転室１５内の導電性液体表面間で、プラズマが発生する。ここでガス放出流路７７４のみを持つ電極ホルダによりガスを供給することで、より複雑な反応が行える。なお、反応の原理は、一般社団法人電気学会から２０１１年６月１０日に出版された「電気学会技術報告 Ｎｏ．１２２４」に記載されている通りである。先端中心電極７６３と第１回転室１５内の導電性液体表面間のプラズマ発生による、導電性液体の気液界面で発現する、プラズマ中の活性なイオン、ラジカル、電子を利用して、所望する効果（例えば、液体中の有害物質の無害化処理（分解、滅菌、消毒）や、有機化合物の生成処理、液体に溶解している金属イオンを気液プラズマを利用して還元又は酸化してナノ微粒子および、グラフェンの生成処理、ないし液体中に分散している粒子、さらには供給された粒子の表面修飾処理等）を得たのちに、溶液の取り出しを行ってもよい。めっき処理を行う場合は、リング形電極７４０の回路を切り替えて、または、めっき処理を行うリング形電極７４０を新たに設けてめっき処理を行い、上記第１５実施形態で説明した処理フローに従って処理を行ってもよい。上述した本実施形態の構成を、本実施形態以外の他の実施形態に適用してもよい。

（２３）上記第１９実施形態では、マイクロ波の照射によりアンテナ７９４のポール先端部にプラズマを発生させる構成となっていたが、例えば、シーエムシー技術開発株式会社製のマイクロ波発熱体（マイクロ波を吸収して発熱する特殊セラミックス）をアンテナ７９４の替わりに具備してマイクロ波照射を行い、マイクロ波発熱体の熱によって処理を行ってもよい。

（２４）上記実施形態では、各処理装置での処理手段を主に掲げているが、上記のこれら処理装置を各工程に配置し、処理装置の各処理工程に測定手段を設け、測定手段で測定し得られたデータを基に適正な処理が進行する様に、各処理工程で所定の値となるように、酸化剤、ＰＨ調整剤、処理に合わせた促進剤等、直流電源の電気分解電極への給電等と、処理装置の稼働を、プログラム制御できる制御盤を具備（図示しない）し自動制御を行い、処理対象物Ｓを自動投入、混合、造粒、粉砕、分級、自動排出を行い、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、ガス、等による滅菌、濃縮、焼却、凝固等の雰囲気生成処理を、プラズマ、光エネルギー、イオン、電気等による、分解、ナノ微粒子製造、改質（酸化・還元）、めっき、電気分解等の電気化学反応雰囲気生成処理を行うことで、所望する効果を得ることができる、生産プロセス処理システムを構築して使用できる。

（２５）上記第１５実施形態では、図７０（Ａ）に示す処理フローに従って、１台の処理装置で、電気めっき処理又は電解研磨処理と、洗浄処理と、乾燥処理とを行っているが、処理内容毎に別々の処理装置を用いてもよい。具体的には、上記第１５実施形態の容器回転装置から、通電処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の通電処理用の容器回転装置と、洗浄処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の洗浄処理用の容器回転装置と、乾燥処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の乾燥処理用の容器回転装置とを備えておき、これら３つの容器回転装置を通電処理用、洗浄処理用、乾燥処理用の順にシュートで接続して、処理対象物がこれら３つの容器回転装置を順次移動して処理が行われるようにしてもよい。このようにすることで、処理対象物Ｓのめっき処理生産量を増大させることができる。また、自動制御盤を設けて、これら３つの容器回転装置による一連の処理を自動制御で行うようにしてもよい。また、クロメートめっき処理は、予備脱脂→水洗→脱脂→水洗→活性化→水洗→めっき→水洗→クロメート処理→水洗→最終洗浄→乾燥という工程で行われるが、予備脱脂、脱脂、活性化の各工程は、洗浄処理用の容器回転装置で行うことができ、クロメートめっき処理においても、上記したように複数の容器回転装置を使用して生産設備を構築することができる。また、自動制御盤を設け一連のクロメートめっき処理を自動制御で行うようにしてもよい。

１０ 筒形回転容器
１１ 筒壁
１２ 第１始端壁
１２Ａ センター孔
１４ 第１終端壁
１４Ａ 通気孔
１５ 第１回転室
１６ 第２回転室
１７ 第１螺旋ガイド
１８ 第２螺旋ガイド
１９ 椀形反射部材
１９Ｓ 反射部材支持突部
２０ リフター
２０Ａ リフター底壁
２０Ｂ リフター側壁
２３ 移送ダクト
２３Ｒ 移送路
２４ 第１終端開口
２５ 第２始端開口
２７ 第１サブ螺旋ガイド
３１ モータ（回転方向切替手段）
３２ 固定蓋
３２Ａ 第２終端壁
３２Ｂ 排気口
３２Ｃ 排出口
３３ ヒーター（加熱源）
３６ フィーダー
３６Ｐ 供給管
４０ 過熱水蒸気発生装置
４１ 過熱水蒸気トーチ
４２ プラズマ発生装置
４２Ａ プラズマトーチ
４３Ｓ シール部材
４６ スプレーノズル
４９ バーナー
５０ 冷却水貯留容器
５１ バケット
６１ 吹付ノズル
６２ 内部ヒーター
６５ トロンメル（センターコーン）
６５Ａ 排出大開口
６６ サブ移送ダクト
６７ サブ移送路
６８ 第１終端サブ開口
６９ 第２始端サブ開口
７０ 冷却水供給管
９０ ボールタップ
９１ 浮球
１００ 容器回転装置
２２１ 回転シャフト
２２２ 粉砕ブレード
２３１ アウターコーン
２３２ トロンメル（インナーコーン）
２３６ 粉砕メディア
２７０ 排出樋
３０１ ガス通気路
３０２ ガス噴出口
３１０ ロータリージョイント
３１１ 回転リング
３１２ 固定リング
３１３ 環状通気路
３３０ 第２終端壁
３３１ サブセンター孔
３３２ センター筒部
３３４Ｓ 摺動シール
３３６ 真空ポンプ
３３７ 処理対象物供給口
４０１ ガイドパイプ
４０２ 磁気吸着部
４０３ ピン挿通孔
４１０ 打撃子
４１２ 押圧ピン
４２０ 押圧レバー
４３０ 被打撃部
４３１ ハンマー（打撃部材）
４３２ 支持ベース
５０１ 遠心力集塵機（遠心力集塵部）
５４０ フィルターユニット（フィルター集塵部）
５５３ フィルター
５６１ 粒子貯留容器
５７０ 切替バルブ
６０１ 回転受容部
６６０ 撹拌部材
６６１ 回転シャフト
６７０ 回転螺旋ガイド（撹拌部材）
６７１ 回転シャフト
６８０ 撹拌子（撹拌部材）
６８１ 回転シャフト
６９１〜６９４ 容器構成体
７０１〜７０４ 容器構成体
７４０ リング形電極
７５１ 撹拌板
７５４ 放電ピース（放電電極）
７６３ 中心電極（陰極電極）
７６４ 対向電極（陽極電極）
７９０，７９１ マイクロ波照射装置
７９４ アンテナ
８０２ 超音波放射体（超音波放射手段）
８０３ 光ファイバー（光照射手段）
９２０ 熱交換ジャケット

上記目的を達成するためになされた請求項１の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて筒内中心部に向けて流下させるリフターとを備え、第１終端壁の中心に固定され、センター孔より大きな先端開口を有し、雰囲気生成手段としての噴射ノズルから噴射された噴射物質を第１回転室の内側中心部の周囲に向けて反射する椀形反射部材を備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項２の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて筒内中心部に向けて流下させるリフターとを備え、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の内面に突出形成され、センター孔の回りに並べられた複数のリフターと、各リフターに設けられ、第１始端壁の内面から突出すると共にセンター孔の外縁部から筒壁の内側面に向かって延びかつ、筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲したリフター底壁と、各リフターに設けられ、リフター底壁のうち第１始端壁から離れた側の縁部から正回転方向の前側に突出し、第１始端壁との間に処理対象物を収容可能なリフター側壁とを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項３の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、一端部がセンター孔内に受容されて、センター孔の外側斜め下方に向かって延びた流下樋と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて流下樋に向けて流下させるリフターとを備え、第１始端壁の内面に突出形成され、センター孔の回りに並べられた複数のリフターと、各リフターに設けられ、第１始端壁の内面から突出すると共にセンター孔の外縁部から筒壁の内側面に向かって延びかつ、筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲したリフター底壁と、各リフターに設けられ、リフター底壁のうち第１始端壁から離れた側の縁部から正回転方向の前側に突出し、第１始端壁との間に処理対象物を収容可能なリフター側壁とを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項４の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、センター孔に挿通され、第１回転室内で回転する回転シャフトと、回転シャフトから側方に張り出した粉砕ブレードと、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて粉砕ブレードに向けて流下させるリフターとを備え、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の内面に突出形成され、センター孔の回りに並べられた複数のリフターと、各リフターに設けられ、第１始端壁の内面から突出すると共にセンター孔の外縁部から筒壁の内側面に向かって延びかつ、筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲したリフター底壁と、各リフターに設けられ、リフター底壁のうち第１始端壁から離れた側の縁部から正回転方向の前側に突出し、第１始端壁との間に処理対象物を収容可能なリフター側壁とを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項５の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて筒内中心部に向けて流下させるリフターとを備え、第１回転室における筒壁の内側面から突出して筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁の両側に１対のリフター側壁を対向配置してなり、リフター底壁が筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、１対のリフター側壁がリフター底壁から正回転方向の前方に突出した構造を有しかつ、筒内中心部の回りに並べられた複数のリフターを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項６の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１始端壁と、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、一端部がセンター孔内に受容されて、センター孔の外側斜め下方に向かって延びた流下樋と、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて流下樋に向けて流下させるリフターとを備え、第１回転室における筒壁の内側面から突出して筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁の両側に１対のリフター側壁を対向配置してなり、リフター底壁が筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、１対のリフター側壁がリフター底壁から正回転方向の前方に突出した構造を有しかつ、筒内中心部の回りに並べられた複数のリフターを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項７の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、センター孔に挿通され、第１回転室内で回転する回転シャフトと、回転シャフトから側方に張り出した粉砕ブレードと、第１回転室内に設けられ、筒形回転容器と一体に回転し、筒形回転容器が正回転した場合に、第１回転室内の下部に溜まった処理対象物をすくい上げて粉砕ブレードに向けて流下させるリフターとを備え、第１回転室における筒壁の内側面から突出して筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁の両側に１対のリフター側壁を対向配置してなり、リフター底壁が筒壁の内側面に近づくに従って正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、１対のリフター側壁がリフター底壁から正回転方向の前方に突出した構造を有しかつ、筒内中心部の回りに並べられた複数のリフターを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項８の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、筒壁と一体に回転し、第１回転室を挟んで第１終端壁と対向した第１始端壁と、第１始端壁の中心部に貫通形成されたセンター孔と、センター孔の開口縁に接続され、センター孔を通して第１回転室のうちセンター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、センター孔の開口縁と雰囲気生成手段との接続部分を気密状態にシールするシール部材と、筒壁と一体に回転し、第２回転室を挟んで第１終端壁と対向した第２終端壁と、第２終端壁の中心部に貫通形成されたサブセンター孔と、第２終端壁におけるサブセンター孔の開口縁から第２回転室の外部に突出したセンター筒部と、センター筒部に嵌合した嵌合部を有し、筒形回転容器内の空気を吸引するための吸引手段と、センター筒部と嵌合部との間を気密状態にシールするサブ摺動シールとを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項９の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が処理対象物を第２回転室外に排出するための排出大開口になったメッシュ構造のセンターコーンと、第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で正回転方向の前側に屈曲して第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、サブ移送路のうち第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、センターコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項１０の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が処理対象物を第２回転室外に排出するための排出大開口になったアウターコーンと、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、アウターコーンの内側に配置され、大径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転するメッシュ構造のインナーコーンと、第１終端壁のうちインナーコーンに囲まれた部分に貫通形成され、インナーコーンの篩目を通過しなかった処理対象物を第１回転室に受け入れるための戻し孔と、第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で正回転方向の前側に屈曲して第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、サブ移送路のうち第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、インナーコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたところに特徴を有する。

上記目的を達成するためになされた請求項１１の発明に係る容器回転装置は、中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、筒形回転容器に設けられて、第１終端壁と第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、第１回転室内に開口した第１終端開口と、第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、処理対象物が通過可能な移送路と、移送路のうち第２始端開口を第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備え、筒壁の軸方向に延びた直線部を有し、その直線部が筒壁の周方向全体に亘って分散配置された複数のガス通気路と、筒壁の内側面に開口し、各ガス通気路に連通した複数のガス噴出口と、回転不能に固定された固定リングと、固定リングに回転可能に連結されかつ筒形回転容器と一体に回転する回転リングとを有すると共に、それら固定リングと回転リングとの間に、複数のガス通気路の一端部が共通して連通した環状通気路を有したロータリージョイントと、固定リングに接続され、環状通気路にガスを送給するガス送給手段とを備えたところに特徴を有する。

請求項１２の発明は、請求項１，９又は１０に記載の容器回転装置において、処理対象物を加熱するための処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、処理雰囲気によって加熱された処理対象物を冷却するための冷却水を貯留する第１回転室とを備えたところに特徴を有する。

請求項１３の発明は、請求項１，９，１０又は１２に記載の容器回転装置において、筒壁の下方に設けられかつ上面が開口し、冷却水を貯留した冷却水貯留容器と、筒壁から側方に張り出し、筒形回転容器が回転したときに冷却水貯留容器内の冷却水を順次に汲み上げて筒壁の外面に掛ける複数のバケットとを備えたところに特徴を有する。

請求項１４の発明は、請求項１，９又は１０に記載の容器回転装置において、筒壁の外面に宛われて放射熱で筒形回転容器を加熱する加熱源を備えたところに特徴を有する。

請求項１５の発明は、請求項１乃至１４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１回転室における筒壁の内側面に沿って中心軸回りに螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる第１螺旋ガイドと、第２回転室における筒壁の内側面に沿って中心軸回りに螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第２回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第２回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第２螺旋ガイドとを備えたところに特徴を有する。

請求項１６の発明は、請求項１５に記載の容器回転装置において、第１終端開口における逆回転方向の後側縁部に端部が接続された第１螺旋ガイドと、第２始端開口における正回転方向の後側縁部に端部が接続された第２螺旋ガイドとの一方又は両方を備えたところに特徴を有する。

請求項１７の発明は、請求項１５又は１６に記載の容器回転装置において、第１回転室のうち第１螺旋ガイドの内側でその第１螺旋ガイドとは逆巻の螺旋状に延び、筒形回転容器を正回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる一方、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第１サブ螺旋ガイドを備えたところに特徴を有する。

請求項１８の発明は、請求項１乃至１７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、筒形回転容器を正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した第２始端開口と、筒形回転容器を逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した第１終端開口との一方又は両方を備えたところに特徴を有する。

請求項１９の発明は、請求項１乃至１８の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、平板状の第１終端壁と、全体が溝形構造でその長手方向の一端が閉塞された閉塞端をなす一方、他端が開口した開放端をなし、第１終端壁における第２回転室側の面の外縁部に設けられて、第１終端壁との間に移送路及び第２始端開口を形成する移送ダクトと、第１終端壁のうち移送ダクトの閉塞端側の一端部に覆われた部分に貫通形成された第１終端開口とを備えたところに特徴を有する。

請求項２０の発明は、請求項１乃至１９の何れか１の請求項に記載の容器回転装置において、第１終端壁に移送路を複数備えたところに特徴を有する。

［請求項１〜１１の発明］
本発明によれば、筒形回転容器の第１回転室に処理対象物を収容した状態で、筒形回転容器を正方向に回転させた場合、移送路の第２始端開口が第１終端開口より先行して回転するので、第１終端開口が第１回転室の下部に溜まった処理対象物の中を通っても、処理対象物が移送路を通って第２回転室に移動することはない。これに対し、筒形回転容器を逆方向に回転させると、移送路の第１終端開口が第２始端開口より先行して回転するので、第１終端開口が第１回転室の下部に溜まった処理対象物の中を通過する際に移送路に進入した処理対象物が、筒形回転容器の逆回転に伴って第２始端開口に向かって移動して、第２回転室に移送される。

また、請求項１，２，５の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物を、第１回転室の筒内中心部に生成させた、プラズマ、光エネルギー、加熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気の中を通過させることができる。

さらに、請求項１の発明によれば、噴射ノズルから噴射された噴射物質を反射して第１回転室の比較的広い範囲に行き渡らせることができる。また、処理対象物を噴射物質と共に噴射ノズルから第１回転室に供給した場合に、処理対象物を受け止めて第１回転室内に貯めることができる。

また、請求項３，６の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物を、流下樋に落下させて、外部に排出することができる。

さらに、請求項４，７の発明によれば、第１回転室の下部に溜まっている処理対象物をリフターですくい上げて、回転中の粉砕ブレードに向けて落下させることで、処理対象物の粉砕を行うことができる。

また、請求項２〜７の発明によれば、リフターによってすくい上げられた処理対象物は、筒形回転容器の正回転に伴ってリフター底壁上を筒内中心部に向かって移動して徐々に排出される。

また、請求項８の発明によれば、真空下で、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気による処理を行うことができる。

また、請求項９の発明によれば、筒形回転容器を正回転させた場合に、第１回転室内の処理対象物が、サブ移送路を通ってメッシュ構造等の孔を有するセンターコーン内に送給され、そのセンターコーン内を排出大開口に向かって移動する過程で、処理対象物が粒径によって篩い分け（分級）される。

また、請求項１０の発明によれば、筒形回転容器を正回転させた場合に、第１回転室内の処理対象物が、サブ移送路を通ってインナーコーン内に送給され、インナーコーンを通過する過程で、処理対象物が粒径によって篩い分け（分級）される。即ち、インナーコーンの篩目を通過した処理対象物は、アウターコーンの内側を通って排出大開口から第２回転室外に排出される。一方、インナーコーンの篩目を通過しなかった処理対象物は、第１終端壁の戻し孔を通って第１回転室に戻される。

また、請求項１１の発明によれば、第１回転室内で流動する処理対象物に対してガスを吹き込むことができ、処理対象物の流動化促進ないし、選択した反応性ガスの直接接触による反応促進を行うことができる。

［請求項１３の発明］
請求項１３の発明によれば、筒形回転容器の回転によってバケットが汲み上げた冷却水で、筒形回転容器を外側から冷やすことができる。

［請求項１４の発明］
請求項１４の発明によれば、筒形回転容器を外側から加熱することができる。なお、本発明における加熱源としては、ヒーター、バーナー等が挙げられる。

［請求項１５の発明］
請求項１５の発明によれば、筒形回転容器を逆回転させたときに第１回転室内の処理対象物を第１終端壁側に推進させる第１螺旋ガイドと、第２回転室内の処理対象物を第１終端壁から離れる側に推進させる第２螺旋ガイドとを備えたから、筒形回転容器からの処理対象物の取り出しをスムーズに行うことができる。

［請求項１６の発明］
請求項１６の発明によれば、第１螺旋ガイドの端部を、第１終端開口における逆回転方向の後側縁部に接続することで、筒形回転容器を逆回転させたときに、処理対象物を第１終端開口に向けて推進させることができる。また、第２螺旋ガイドの端部を、第２始端開口における正回転方向の後側縁部に接続することで、筒形回転容器を正回転させたときに、処理対象物を第２始端開口に向けて推進することができる。

［請求項１７の発明］
請求項１７の発明によれば、筒形回転容器を回転させた場合に、第１回転室の下部に溜まった処理対象物の下層部分と上層又は中層部分とを筒形回転容器の中心軸方向で互いに逆向きに移動させることができ、筒形回転容器の回転による相乗効果で、処理対象物を三次元的に移動させて流動撹拌することができる。

［請求項１８の発明］
請求項１８の発明によれば、第２始端開口を、筒形回転容器を正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口させることで、筒形回転容器を正回転させた場合に、処理対象物を移送路の第２始端開口から第１終端開口に向けて移動させる推進力を得ることができる。また、第１終端開口を、筒形回転容器を逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口させることで、筒形回転容器を逆回転させた場合に、処理対象物を移送路の第１終端開口から第２始端開口に向けて移動させる推進力を得ることができる。

［請求項２０の発明］
請求項２０の発明によれば、複数の移送路を備えたことで、第１回転室から第２回転室への処理対象物の移送を迅速に行うことができる。

本発明の第１実施形態に係る容器回転装置の側面図 容器回転装置における筒形回転容器の側断面図 図２のＡ−Ａ切断面における断面図 （Ａ）移送ダクトの平面図、（Ｂ）第１終端壁の正面図 移送ダクトの断面斜視図 移送ダクトの閉塞端側の断面図 （Ａ）リフターの平面図、（Ｂ）図２のＢ−Ｂ切断面における断面図 リフターの（Ａ）正面図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）斜視図 正回転しているリフターの正面図 正回転しているリフターの正面図 正回転しているリフターの正面図 過熱水蒸気発生装置の概念図 椀形反射部材の断面図 バーナーを備えた容器回転装置の側面図 プラズマ発生装置を備えた容器回転装置の側面図 カバーを取り付けた状態のリフターの斜視図 （Ａ）スプレーノズルを備えた容器回転装置の側断面図、（Ｂ）センター孔近傍の拡大図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 （Ａ）エアロダイナミックレンズの側断面図、（Ｂ）Ｆ−Ｆ切断面における断面図 （Ａ）エアロダイナミックレンズ構造を有したプラズマトーチの側面図、（Ｂ）エアロダイナミックレンズの側断面図 変形例に係る容器回転装置の側面図 第１参考例に係る容器回転装置の側面図 （Ａ）筒形回転容器の第１回転室における正断面図、（Ｂ）第１回転室の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 第２実施形態に係る容器回転装置の側断面図 第３実施形態に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）移送ダクト及びサブ移送ダクトの平面図、（Ｂ）第１終端壁の正面図 正回転時のサブ移送路の移動軌跡を示す概念図 処理対象物フィーダーを備えた容器回転装置の側断面図 第２回転室側から見た第１終端壁の斜視図 第４実施形態に係る容器回転装置の側断面図 ボールタップを備えた筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 第２回転室の拡大断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）第５実施形態に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）粉砕ブレードの正面図、（Ｃ）粉砕ブレードの側面図 （Ａ）容器回転装置の側断面図、（Ｂ）分級部の側断面図 変形例に係る容器回転装置の側断面図 第６実施形態に係る容器回転装置の（Ａ）側面図、（Ｂ）Ｊ−Ｊ切断面における断面図、（Ｃ）その部分拡大図 （Ａ）回転リングのＫ−Ｋ切断面における断面図、（Ｂ）固定リングのＬ−Ｌ切断面における断面図 （Ａ）図４２のＩ−Ｉ切断面における断面図、（Ｂ）その部分拡大図 第７実施形態に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）第２参考例に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）リフターの斜視図 第３参考例に係る容器回転装置の（Ａ）側断面図、（Ｂ）Ｋ−Ｋ切断面における断面図 容器回転装置の側断面図 第４参考例に係る容器回転装置の（Ａ）第１回転室の断面図、（Ｂ）その部分拡大図 変形例に係る容器回転装置の第１回転室における断面図 第５参考例に係る容器回転装置の（Ａ）第１回転室の断面図、（Ｂ）ハンマーの側面図、（Ｃ）ハンマーの正面図 （Ａ）筒形回転容器の逆回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図、（Ｂ）ハンマーによる打撃が行われたときの第１回転室の断面図 （Ａ）筒形回転容器の正回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図、（Ｂ）筒形回転容器の回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図 払い落とし機構の正面図 筒形回転容器が逆回転に伴うハンマーの移動軌跡を示した図 （Ａ）払い落とし機構の側面図、（Ｂ）筒形回転容器の側断面図 （Ａ）筒形回転容器の第１回転室の断面図、（Ｂ）ハンマーの移動軌跡を示した図 （Ａ）第６参考例に係る粒子回収装置の処理フロー図、（Ｂ）粒子回収装置と筒形回転容器との概念図 （Ａ）遠心力集塵機の部分断面図、（Ｂ）バランスウェイト近傍部分の拡大図、（Ｃ）バランスウェイト近傍部分の拡大図 （Ａ）〜（Ｄ）排出シュートからの粒子状物質の排出動作を示す図、（Ｅ）サイクロン排出口が閉鎖された状態を示す図 （Ａ）変形例に係る第１弁体の断面図、（Ｂ）変形例に係る第１弁体の側面図 （Ａ）濾過集塵機の側面図、（Ｂ）フィルターユニットの断面図 貯留兼排出機の平面図 第７参考例に係る容器回転装置の（Ａ）断面図、（Ｂ）正面図、（Ｃ）部分拡大図、（Ｄ）部分拡大図 回転受容部に筒形回転容器を固定した状態の（Ａ）側面図、（Ｂ）正面図、（Ｃ）部分拡大図 （Ａ）回転受容部に筒形回転容器を固定した状態の正面図、（Ｂ）ワイヤーの側面図、（Ｃ）ワイヤー係止片の平面図 （Ａ）〜（Ｄ）各ワイヤーの係止状態を示す図 回転受容部と筒形回転容器の（Ａ）側面図、（Ｂ）正面図 第９参考例に係る容器回転装置の（Ａ）平面図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）正面図 （Ａ）電気めっき処理又は電解研磨処理のフローチャート、（Ｂ）無電解めっき処理のフローチャート 筒形回転容器の側断面図 （Ａ）図７１におけるＷ−Ｗ切断面における断面図、（Ｂ）Ｖ−Ｖ切断面における断面図 第１０参考例に係る容器回転装置を利用した（Ａ）ナノ微粒子製造のフローチャート、（Ｂ）液体無害化処理のフローチャート （Ａ）容器回転装置の平面図、（Ｂ）筒形回転容器の側断面図 （Ａ）撹拌板列の側面図、（Ｂ）撹拌板による気泡取り込み作用の概念図、（Ｃ）撹拌板の三面図、（Ｄ）放電ピースの三面図 （Ａ）撹拌板列の平面図、（Ｂ）撹拌板列の拡大図、（Ｃ）放電ギャップの拡大図 （Ａ）第１１参考例に係る容器回転装置の断面図、（Ｂ）Ｕ−Ｕ切断面における断面図、（Ｃ）電極ホルダの側面図 （Ａ）電極ホルダの側断面図、（Ｂ）Ｎ−Ｎ切断面における断面図、（Ｃ）ジョイントの側断面図 容器回転装置を使用したナノ微粒子製造のフローチャート 第１２参考例に係る電極ホルダの（Ａ）側面図、（Ｂ）断面図、（Ｃ）正面図、（Ｄ）〜（Ｆ）対向電極の平面図 変形例に係る電極ホルダの（Ａ）正面図、（Ｂ）側面図 第１３参考例に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）図８２のＱ−Ｑ切断面における断面図、（Ｂ）アンテナの側面図、（Ｃ）アンテナの正面図 （Ａ）第１４参考例に係るエネルギー放出部の側断面図、（Ｂ）超音波放射体の側面図、（Ｃ）筒形回転容器の断面図、（Ｄ）エネルギー放出部の変形例の側面図 第１５参考例の容器回転装置による（Ａ）湿式バレル研磨処理のフローチャート、（Ｂ）乾式バレル研磨処理のフローチャート 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正面図 （Ａ）流路切替板及びその近傍部分の断面図、（Ｂ）流路切替板の第２位置を示す図、（Ｃ）流路切替板の第１位置を示す図 （Ａ），（Ｂ）逆回転時におけるトロンメル内の処理対象物等の動向を示す図、（Ｃ）正回転時の移送ダクトにおける処理対象物等の動向を示す図 （Ａ）〜（Ｃ）逆回転時の移送ダクトおける処理対象物等の動向を示す図、（Ｄ）〜（Ｆ）逆回転時のトロンメルにおけるメディアの動向を示す図 処理対象物の粉砕・分散処理のフローチャート 第１６参考例に係るスチームプラズマ発生装置の概念図 （Ａ）プラズマトーチの側断面図、（Ｂ）インナー管の三面図、（Ｃ）電極支持管の断面図、（Ｄ）プラズマトーチの側断面図、（Ｅ）Ｑ−Ｑ切断面における断面図、（Ｆ）プラズマトーチの側断面図 （Ａ）変形例に係るプラズマトーチの側断面図、（Ｂ）変形例に係る過熱水蒸気又はバーナー炎を放射するトーチの断面図、（Ｃ）及び（Ｄ）変形例に係るプラズマトーチの側断面図、（Ｅ）ガイド壁部の側面図 （Ａ）第１７参考例に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｂ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｃ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図 （Ａ）変形例に係る混相流生成装置の側断面図、（Ｂ）多孔板の平面図、（Ｃ）混合室における流体の流れを示す概念図 渦発生ノズルの外面に設けたタービュレータの概念図 （Ａ）変形例に係る多孔板の平面図、（Ｂ）ディンプルの断面図、（Ｃ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｄ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｅ）変形例に係る渦発生ノズルの正面図 （Ａ）変形例に係る渦発生ノズルの側面図、（Ｂ）変形例に係る渦発生ノズルの側断面図、（Ｃ）変形例に係る渦発生ノズルの側断面図、（Ｄ）〜（Ｆ）変形例に係る環状堰部の側断面図 混相流処理の処理フロー図 （Ａ）第１８参考例に係る筒形容器の斜視図、（Ｂ）筒形容器の断面図、（Ｃ）筒形回転容器の断面図 （Ａ）機能ユニットの側断面図、（Ｂ）機能ユニットを筒形容器の内側から見た図、（Ｃ）機能ユニットを筒形容器の外側から見た図、（Ｄ）機能ユニットの平面図 （Ａ）第１９参考例に係る容器回転装置による処理フロー図、（Ｂ）変形例に係る容器回転装置による処理フロー図 （Ａ）容器回転装置の側断面図、（Ｂ）変形例に係る容器回転装置の側断面図 （Ａ）インロー部の側断面図、（Ｂ）インロー部の拡大図、（Ｃ）シール面の拡大図、（Ｄ）変形例に係るインロー部の側断面図、（Ｅ）変形例に係るインロー部の側断面図、（Ｆ）連結パイプの基端部の拡大図、（Ｇ）嵌合軸部と嵌合筒部の嵌合部分の拡大図 第２０参考例に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）連結シャフトに組み付けられた円筒カラー、コイルバネ、ナットの側面図、（Ｃ）プラズマ発生部の平面図、（Ｄ）矩形突変の側面図 変形例に係る第１容器構成体の平断面図、（Ｂ）第１容器構成体の正面図 （Ａ）畝状突起の正面図、（Ｂ）畝状突起の側面図、（Ｃ）畝状突起の側面図、（Ｄ）畝状突起の正面図 （Ａ）第２１参考例に係る容器回転装置の側断面図、（Ｂ）Ｒ−Ｒ切断面における断面図、（Ｄ）第１配管部のＲ−Ｒ切断面における断面図、（Ｅ）第１配管部のＳ−Ｓ切断面における断面図 （Ａ）図１０８のＴ−Ｔ切断面における断面図、（Ｂ）第１配管部の部分拡大断面図、（Ｃ）熱媒体給排管の部分拡大断面図、（Ｄ）〜（Ｆ）筒形回転容器の回転に伴う気泡の動向を示す図、（Ｇ）ジャケット底部の断面図、（Ｈ）フレキシブル管の断面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 撹拌部材の（Ａ）側面図、（Ｂ）平面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図 筒形回転容器の（Ａ）側断面図、（Ｂ）正断面図、（Ｃ）撹拌子の拡大図 （Ａ）複数の容器構成体に分割された筒形回転容器の側断面図、（Ｂ）交換用の容器構成体の側断面図 （Ａ）撹拌壁の三面図、（Ｂ）撹拌壁及びサブ撹拌壁の三面図 （Ａ），（Ｂ）ノッカの側断面図 （Ａ）容器回転装置の側面図、（Ｂ）外輪の正面図、（Ｃ）外輪の側面図 容器回転装置の側断面図 （Ａ）筒形回転容器の側断面図、（Ｂ）固定支持ユニットの側面図、（Ｃ）ガイド連結部の側断面図、（Ｄ）ガイド連結部の断面図、（Ｅ）スリーブナットの半断面図、（Ｆ）スリーブナットと連結棒の連結状態を示す断面図、（Ｇ）螺旋ガイドを固定支持ユニットによって支持した状態の正面図、（Ｈ）固定支持ユニットと螺旋ガイドの連結部分を拡大した図 （Ａ）筒形回転容器の斜視図、（Ｂ）側面図、（Ｃ）Ｒ−Ｒ切断面における断面図、（Ｄ）逆回転方向への移動軌跡を示す図 容器回転装置の側断面図

［第１参考例］
図２５及び図２６に基づいて本発明の第１参考例を説明する。以下の説明では、上記第１実施形態との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは、粉粒体のことである。

図２７には、本参考例の変形例が示されている。図２７に示す容器回転装置１００は、センター孔１２Ａに挿通されて第１回転室１５内で発熱する内部ヒーター６２（例えば、遠赤外線セラミックスヒータ）を備えている。この容器回転装置１００は、乾燥装置、焼成装置又は焙煎装置として利用することができる。また、内部ヒーター６２を紫外線ランプに置き換えれば、紫外線滅菌装置や紫外線硬化処理装置として使用することができ、レーザー又は電子線の照射装置に置き換えれば、レーザー又は電子線照射処理装置として利用することができる。さらに、処理ガス噴射装置に置き換えれば、ガス噴霧滅菌装置として利用することができる。

［第２実施形態］
図２８には、第１参考例の変形例である第２実施形態が示されている。図２８に示す容器回転装置１００では、筒形回転容器１０のセンター孔１２Ａに、流下樋２７０が挿通されている。流下樋２７０は、第１回転室１５の内側に配置された端部から外側に配置された端部に向かって下り傾斜した排出姿勢と、外側の端部が内側の端部より上方に位置した排出禁止姿勢（図示せず）との間で回動可能となっている。そして、リフター２０から落下した処理対象物Ｓを、流下樋２７０の内側端部で受けるように構成されている。なお、流下樋２７０を排出姿勢と排出禁止姿勢との間で回動させる替わりに、流下樋２７０を排出姿勢としたまま、センター孔１２Ａに対して進退可能としてもよい。即ち、流下樋２７０の端部を第１回転室１５の内側に配置してリフター２０から落下した処理対象物Ｓを受けることが可能な排出位置と、流下樋２７０の全体を筒形回転容器１０の外側に配置した排出禁止位置との間で往復動可能としてもよい。

［第３実施形態］
図２９〜図３１に基づいて本発明の第３実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１及び第２実施形態並びに参考例との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは、粉粒体のことである

図３２及び図３３には、本実施形態の変形例が示されている。図３２に示す容器回転装置１００は、第２終端壁３２Ａを貫通して延びた供給管３６Ｐを有し、供給管３６Ｐ内に挿通されたスクリュー３６Ｓをモータ３６Ｍで回転駆動することで、供給管３６Ｐから第２回転室１６内に処理対象物Ｓを供給するフィーダー３６を備えている。筒形回転容器１０を正回転させた状態で、フィーダー３６から第２回転室１６に処理対象物Ｓを供給すると、その処理対象物Ｓが第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側へと推進されて、第２始端開口２５から移送ダクト２３に進入する。移送ダクト２３内に進入した処理対象物Ｓは、筒形回転容器１０の正回転によって第１終端開口２４へと向かって移動し、第１回転室１５に供給される。このような構成とすれば、第１回転室１５にて造粒を行いながら、その第１回転室１５に原料である処理対象物Ｓを供給することができ、造粒物を連続製造することができる。

［第４実施形態］
図３４に基づいて本発明の第４実施形態を説明する。以下の説明では、第１〜第３実施形態及び参考例との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

筒形回転容器１０の先端に接続された接続管３４には、送風機組込型のバーナー４９が接続されており、接続管３４から分岐した処理物供給管３５に、フィーダー３６が接続されている。本実施形態の処理対象物Ｓは、例えば、樹脂の破砕チップであり、その破砕チップは、バーナー４９の火炎によって加熱されて溶融し、直後に第１回転室１５に貯留された冷却水Ｗ中に投入されて冷却固化される。冷却固化した樹脂の粒子は、筒形回転容器１０の正回転によってトロンメル６５へと送給される。そして、所定の粒径以上のものだけがトロンメル６５の排出大開口６５Ａから第２回転室１６外へと排出され、所定の粒径より小さいものは、第２回転室１６の第２螺旋ガイド１８と移送ダクト２３とによって第１回転室１５に戻される。本実施形態の容器回転処理装置１０は、例えば、医療廃棄物や産業廃棄物の溶融処理装置として利用することができる。

ここで、冷却水供給管７０は第２回転室１６内に挿入されており、その冷却水供給管７０から供給された冷却水Ｗを、第２回転室１６の第２螺旋ガイド１８と第１終端壁１４との間で貯留することが可能となっている。そして、第２回転室１６に供給された冷却水Ｗは、筒形回転容器１０を正回転させることで第２螺旋ガイド１８によって第１終端壁１４側に送給され、第２始端開口２５から移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入する。移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）に進入した冷却水Ｗは、筒形回転容器１０の正回転によって移送ダクト２３内（移送路２３Ｒ）を第１終端開口２４へと移動して、第１回転室１５に供給される。また、過剰に供給された冷却水Ｗは、第１終端壁１４に形成された通気孔１４Ａからオーバーフローして第２回転室１６に戻される。

ここで、第１回転室１５内の冷却水Ｗは、蒸発したり、樹脂の粒子と共に筒形回転容器１０の外部に持ち出されたりして減少する。そこで、図３５（Ａ）及び同図（Ｂ）に示すように、ボールタップ９０等の定水位弁を冷却水供給管７０の先端部に設けてもよい。ボールタップ９０は、浮球９１の位置が基準位置より下方に位置したときに開状態になって冷却水供給管７０から冷却水Ｗが供給される一方、浮球９１が基準位置以上に位置したときに閉状態になって冷却水供給管７０からの冷却水Ｗの供給が停止する。ここで、浮球９１が第２螺旋ガイド１８と接触すると、ボールタップ９０が正確に作動しなくなるので、第２螺旋ガイド１８のうち、筒形回転容器１０が回転した場合に浮球９１の下方を通過する部分は、筒壁１１の内周面からの張り出し量を小さくしておくことが好ましい（図３６参照）。

図３７及び図３８には本実施形態の変形例が示されている。図３７に示す容器回転装置１００は、予め、溶融状態にした樹脂、金属、その他の溶融物の液滴をセンター孔１２Ａに挿通されたフィーダー３６から、第１回転室１５の冷却水中に注ぐことで粒状物を生成し、その粒状物をトロンメル６５によって分級することが可能な構成となっている。

［第５実施形態］
図３９〜図４０に基づいて本発明の第５実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第４実施形態及び参考例との相違点のみを説明し、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

［第６実施形態］
図４２〜図４４に基づいて本発明の第６実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第５実施形態及び参考例との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。また、以下の説明における処理対象物Ｓとは粉粒体又は液体、気体のことである。

［第７実施形態］
図４５に基づいて本発明の第７実施形態を説明する。以下の説明では、上記第１〜第６実施形態及び参考例との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

［第２参考例］
図４６に基づいて本発明の第２参考例を説明する。同図（Ａ）に示すように、本参考例の筒形回転容器１０の第１回転室１５内には、樹脂製又は金属製の規則充填物（例えば、メッシュデミスター）又は不規則充填物（以下、纏めて「充填部材８０」という）が充填されている。以下の説明では、上記第１〜第７実施形態及び参考例との相違点のみを説明し、同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

ここで、接続管３４に送風機８１を接続すると共に、固定蓋３２の排気口３２Ｂに排風機８２を接続して、第１回転室１５内をガス（空気、除湿空気又は処理ガス）が通過するようにしてもよい。これにより、液状の処理対象物Ｓから水分を蒸発させて濃縮を行うことができる。なお、送風機８１の替わりに、加圧ガスを供給する加圧給気装置（例えば、圧縮ガスボンベ）を接続してもよい。また、送風機８１を設けずに、筒形回転容器１０内のガスを排気口３２Ｂから吸引することで、接続管３４から第１位回転室１５内にガス（空気）を取り込むようにしてもよい。

また、本参考例の容器回転装置１００は、充填部材８０に細胞、細菌、微生物等の生物触媒を定着させることでバイオリアクター（排水処理装置、放射能除染装置）として利用することができる。また、クロレラ等の緑藻類、細菌、微生物の繁殖装置や、発酵・熟成装置として利用することができる。また、溶媒と処理ガスとを接触させて化学反応を行わせる反応装置として利用することができる。

［第３参考例］
図４７及び図４８に基づいて本発明の第３参考例を説明する。なお、上記第１〜第７実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

［第４参考例］
図４９及び図５０に基づいて本発明の第４参考例を説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の内面に付着した付着物（例えば、処理対象物Ｓ）を衝撃によって払い落とすための払い落とし機構を備えている。以下の説明では、払い落とし機構に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第７実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

筒形回転容器１０の上方には、押圧レバー４２０が配設されている。押圧レバー４２０は、駆動源４２２によって略水平な支軸４２１を中心にして回動し、丸みを帯びた先端部が筒壁１１の外周面に対して接離する。

磁気吸着部４０２と衝突した打撃子４１０は、その磁気吸着部４０２と吸着したまま、押圧レバー４２０が待ち構える上端位置まで移動する。そして、打撃子４１０が押圧レバー４２０の下方を通過するときに、再び押圧ピン４１２が押圧レバー４２０と接触して押し込まれ、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の中を自重で落下して、鉛直下方に配置された磁気吸着部４０２に衝突する。つまり、筒形回転容器１０が半回転する毎に、打撃子４１０がガイドパイプ４０１内を鉛直下方に落下して磁気吸着部４０２に衝突し、筒壁１１に付着した付着物を払い落とす。本参考例によれば、ガイドパイプ４０１が鉛直になるまで打撃子４１０をガイドパイプ４０１の一端に保持し、ガイドパイプ４０１の一端が上端位置になったときに、打撃子４１０を落下させるので、筒壁１１に対して比較的大きい衝撃を与えることができ、付着物を効果的に払い落とすことができる。

本参考例の変形例として、例えば、図５０に示すように、ガイドパイプ４０１を、筒形回転容器１０の筒壁１１と、第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７の内縁部との間に設け、筒形回転容器１０が１回転する毎に、打撃子４１０がガイドパイプ４０１の中を筒壁１１から第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７に向かって落下して、第１螺旋ガイド１７又は第１サブ螺旋ガイド２７に衝撃を与えるような構成としてもよい。

また、上記参考例では、磁気吸着部４０２によって吸着保持された打撃子４１０を押圧レバー４２０で押圧して打撃子４１０をガイドパイプ４０１内で鉛直落下させるように構成されていたが、磁気吸着部４０２を設けずにガイドパイプ４０１内を打撃子４１０が自由に往復動可能な構成としてもよい。こうすると、ガイドパイプ４０１が鉛直になる前の斜めの状態で、そのガイドパイプ４０１内を打撃子４１０が斜めに落下して筒壁１１に衝撃を与える。また、この場合、打撃子４１０は柱状である必要はなく、例えば、球状でもよい。

［第５参考例］
図５１〜図５７に基づいて本発明の第５参考例を説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の内面に付着した付着物（例えば、処理対象物Ｓ）を衝撃によって払い落とすための払い落とし機構４００を備えている。以下の説明では、払い落とし機構４００に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第７実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図５１（Ａ）に示すように、払い落とし機構４００は、筒形回転容器１０の筒壁１１の内周面から突出した杭状の被打撃部４３０と、その被打撃部４３０を筒形回転容器１０の回転（例えば、逆回転）に伴って打撃することが可能なハンマー４３１とを備えている。

図５１（Ａ）に示すように、払い落とし機構４００が第１回転室１５の下端部に位置しているとき、ハンマー４３１は、打撃子４３１Ｂを逆回転方向Ｘ２の後側から被打撃部４３０に当接させた状態となっている。この位置から筒形回転容器１０を逆回転方向Ｘ２に回転させると、最初は、打撃子４３１Ｂが被打撃部４３０から徐々に離れていく（図５２（Ａ）参照）。払い落とし機構４００が第１回転室１５の斜め上側位置（図５２（Ａ）及び同図（Ｂ）における概ね１０時の位置）になると、一方の突片４３１Ｃがストッパピン４３４と当接してハンマー４３１の回動が禁止され、打撃子４３１Ｂと被打撃部４３０とが最も離れた状態になる。筒形回転容器１０がさらに回転して、払い落とし機構４００が斜め下側位置（図５２（Ａ）及び同図（Ｂ）における概ね４時の位置）になったときに、ハンマー４３１が倒立した状態から一気に振り下ろされて、打撃子４３１Ｂが筒形回転容器１０の回転方向（逆回転方向Ｘ２）の後側から被打撃部４３０に衝突する。即ち、筒形回転容器１０が１回転する毎に、ハンマー４３１が被打撃部４３０を１回打撃する。この衝撃で、筒形回転容器１０の筒壁１１に付着した付着物を払い落とすことができる。なお、本参考例の筒形回転容器１０に備えられている払い落とし機構４００は１つだけであるが、払い落とし機構４００を筒壁１１の周方向にずらして複数備えていてもよい。

本参考例の変形例として、例えば、図５３（Ｂ）に示すように、払い落とし機構４００を筒形回転容器１０の筒壁１１の外面に設けるか又は、筒壁１１の内面に設けて、ハンマー４３１の回動範囲が筒壁１１によって規制される構成にしてもよい。即ち、筒壁１１の外面又は内面を直接ハンマー４３１によって叩く構成としてもよい。ここで、図５３（Ｂ）には、ハンマー４３１の動作説明のために、払い落とし機構４００が複数描かれているが、実際の払い落とし機構４００は１つである。但し、払い落とし機構４００を筒壁１１の周方向にずらして複数備えていてもよい。

また、筒壁１１の内周面から杭状に突出した被打撃部４３０ではなく、図５６（Ａ）に示すように、第１螺旋ガイド１７（又は第１サブ螺旋ガイド２７）をハンマー４３１によって打撃する構成としてもよい。

［第６参考例］
図５８〜図６３に基づいて本発明の第６参考例を説明する。本参考例の容器回転装置１００は、固定蓋３２の排気口３２Ｂから排気された排気ガスに含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生した粉塵、煤塵、その他粒子）を回収するための粒子回収装置５００を備えている。以下の説明では、粒子回収装置５００に関する説明のみを行うこととし、上記第１〜第７実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

粒子回収装置５００は、図５９（Ａ）に示す遠心力集塵機５０１と、図６２（Ａ）に示す濾過集塵機５０２とから構成されている。濾過集塵機５０２は、１対のフィルターユニット５４０，５４０を備え、遠心力集塵機５０１の排気筒５１７と１対のフィルターユニット５４０，５４０との間が切替バルブ５７０（図５８（Ａ）参照）を介して接続されている。

ここで、本参考例では、第１弁体５１３をワイヤー５１５で吊り下げていたが、例えば、図６１（Ａ）に示すように、排出シュート５２０内に固定された支持ベース５３０からサイクロン排出口５１１に向かって垂直に立ち上がった支持ピン５３１と、第１弁体５１３の内面の頂部から垂下した下端開放のピン受容筒５３２とを設け、ピン受容筒５３２の下端から支持ピン５３１が挿入されて、支持ピン５３１の先端がピン受容筒５３２の奥部に設けられた軸受５３３に突き当てられた構成としてもよい。この構成では、シュート排出口５２１から逆流した空気によって第１弁体５１３が支持ピン５３１から浮き上がってサイクロン排出口５１１を閉塞する。ここで、支持ピン５３１は支持ベース５３０に対して螺合されており、支持ベース５３０からの突出高さを任意に調節することが可能となっている。これにより、サイクロン排出口５１１の開口縁と第１弁体５１３との間に形成される隙間の大きさを任意に調整することができる。

ところで、本参考例の説明の冒頭でも述べたように、遠心力集塵機５０１と１対のフィルターユニット５４０，５４０との間には切替バルブ５７０が備えられており、その切替バルブ５７０によって１対のフィルターユニット５４０，５４０のうちの何れか一方と遠心力集塵機５０１との間を連通させ、他方と遠心力集塵機５０１との間を遮断することが可能となっている。このような構成にすることで、以下のような効果を奏する。即ち、フィルターユニット５４０は、濾過性能を維持するために定期的に圧縮エアによる逆洗を行ってフィルター５５３に付着した粒子状物質を払い落とす必要があるが、フィルターユニット５４０を１つしか備えていない場合には、逆洗を行っている間、そのフィルターユニット５４０による集塵が中断されるので、筒形回転容器１０による処理も中断する必要がある。また、逆洗を行っている間、フィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１とが連通していると、遠心力集塵機５０１に圧縮エアが流入して悪影響を与える可能性がある。これに対し、本参考例によれば、２つのフィルターユニット５４０と切替バルブ５７０とを備え、一方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１との間を連通させる一方で、他方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０４との間を遮断することができるから、他方のフィルターユニット５４０でフィルター５５３の逆洗を行いながら、一方のフィルターユニット５４０と遠心力集塵機５０１とで粒子状物質の集塵を行うことができる。これにより、筒形回転容器１０による処理をフィルターユニット５４０の逆洗に拘わらず、連続的に行うことができる。

［第７参考例］
図６４に基づいて本発明の第７参考例を説明する。この容器回転装置１００は、筒形回転容器１０を周囲から加熱する加熱炉６０２を備えている。なお、上記実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図６４（Ａ）に示すように、本参考例の容器回転装置１００は、モータ３１によって回転駆動される駆動シャフト６００の先端部に、基端部が閉塞しかつ先端部が開放した円筒形の回転受容部６０１を一体に備えており、その回転受容部６０１の先端側から筒形回転容器１０が挿入されている。筒形回転容器１０は、回転受容部６０１の内側に遊嵌状態で収容されており、回転受容部６０１が回転すると、その内側で筒形回転容器１０が転がって回転受容部６０１と同一方向に回転するように構成されている。

なお、加熱炉６０２は支持台６０８によって下方から支持されており、その支持台６０８のうち駆動シャフト６００を回転可能に支持した軸受部６０９は、ヒンジ６０８Ａを中心にして傾動可能となっている。さらに、駆動シャフト６００の基端部にはロータリジョイント６０６が接続され、これを介して雰囲気ガス又は液体の供給源と配管６０７とが接続されている。また、加熱炉６０２における駆動シャフト６００の貫通部分は、シール部材６１０によってシールされている。本参考例によれば、筒形回転容器１０の全体を閉塞された加熱炉６０２内で加熱することができるから、より効果的に処理対象物Ｓに熱を付与することができる。

［第８参考例］
上記第７参考例では、回転受容部６０１の回転によって筒形回転容器１０が回転受容部６０１の内側で転がるように構成されていたが、本参考例では、筒形回転容器１０と回転受容部６０１とが同心円状に配置されて、両者が一体回転するように構成されている。なお、以下の説明では、上記第７参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

［第９参考例］
以下、本発明の第９参考例を図６９〜図７２に基づいて説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の第１始端壁１２と第１終端壁１４とに設けられて、第１回転室１５に貯留された電解液に接液可能な１対のリング形電極７４０を備え、それらリング形電極７４０の間で通電して電解液に浸漬された処理対象物Ｓにめっき処理又は電解研磨処理を行うことが可能な構成となっている。なお、既に説明した第１〜第７実施形態及び参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図６９（Ｃ）に示すように、筒形回転容器１０は多角形（本参考例では、六角形）の筒形をなしている。筒形回転容器１０は、その中心軸回りで可動ベース７２１に対して回転可能に支持されており、可動ベース７２１は、固定ベース７２０に対して筒形回転容器１０の中心軸と直交した水平軸回りで回動可能となっている。

さて、本参考例の容器回転装置１００は、処理対象物Ｓの表面にめっき処理（電気めっき処理又は無電解めっき処理）を行うためのめっき装置或いは、処理対象物Ｓを電気化学的に溶解させて研磨する電解研磨装置として使用することができる。図７０（Ａ）は、電気めっき処理及び電解研磨処理の処理フローの一例であり、同図（Ｂ）は無電解めっき処理の処理フローの一例である。ここで、図示しない自動制御盤を設けて、以下に説明する処理を自動制御で行うようにしてもよい。

図７０（Ｂ）に示すように無電解めっき処理では、１対のリング形電極７４０，７４０間で通電を行わないが、電解液（めっき液）の成分が変化するので、移送ダクト２３経由で第１回転室１５に電解液を適宜補充して、電解液の成分が一定になるように管理する。このとき、過剰な電解液は、オーバーフロー出口管７３７、フレキシブル管７３６、オーバーフロー移送管７３４を経て筒形回転容器１０の外部に排出される。めっき処理以降の処理内容（電解液の排出、処理対象物Ｓの洗浄、乾燥、排出）は、電気めっき処理及び電解研磨処理と同じである。なお、無電解めっき処理は、本参考例の容器回転装置１０からリング形電極７４０、電路部材７４５、その他、通電に必要な構成部品を除外した構成でも行うことが可能である。

以上、電気めっき処理又は電解研磨処理の処理手段を述べたが、めっき用電源装置７４３を、高電圧低電流を印加または、高電圧パルスモード等を印加できる電源装置にし、プラズマを発生できる条件下で、プラズマ電解酸化または、プラズマ電解還元を行なってもよい。なお、上記した容器回転装置１００は、めっき処理等以外の電気化学的処理又は物理化学的処理（具体的には、酸素水素共存ガスの生成、排液処理等）に使用してもよい。上述した本参考例の構成（リング形電極７４０等）を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１０参考例］
以下、本発明の第１０参考例を図７３〜図７６に基づいて説明する。本参考例は、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面から中心部に向かって略板状に突出しかつ、筒形回転容器１０の軸方向で所定の隙間を空けて配置された複数の撹拌板７５１と、複数の各撹拌板７５１に設けられて、それら撹拌板８５１の並び方向で所定のギャップを空けて突き合わされた放電電極対とを備え、撹拌板７５１によって第１回転室１５内に貯留された液体中に気泡を取り込むと共に放電電極対の間で液中プラズマ放電を行うことが可能な構成となっている。以下、上記第９参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図７４（Ａ）には、本参考例の容器回転装置１００が示されている。筒形回転容器１０の筒壁外面には、プラズマ用電源装置７５０が固定されており、筒形回転容器１０と一体回転可能となっている。プラズマ用電源装置７５０は、筒形回転容器１０の外面に固定されたターミナル７４１を介して、１対のリング形電極７４０，７４０（放電電極）に接続されており、スリップリング７４２を介して図示しない外部電源に接続されている。

図７３には、本参考例の容器回転装置１００を使用した液中プラズマ処理の処理フローが示されている。同図（Ａ）に示すように、液中プラズマ処理によってナノ微粒子を製造する場合には、バルブ７２７，７２８を共に閉鎖した状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させ、その筒形回転容器１０の第２回転室１６にナノ微粒子の原料溶液を定量供給し、移送ダクト２３経由で第１回転室１５に送り込む。次に、第１回転室１５内で原料溶液を撹拌しながら、１対のリング形電極７４０，７４０の間で通電を行って原料溶液中にプラズマを発生させる。これにより、原料溶液中の金属イオンが還元又は酸化されて、金属のナノ微粒子が製造される。なお、ナノ微粒子の析出によって原料溶液の成分が変化するので、適宜、原料溶液を補充しながら処理を行うことが好ましい。

プラズマによる無害化処理が終了したら、可動ベース７２１を固定ベース７２０に対して回動させて、筒形回転容器１０をその終端口１３が斜め下方を向いた俯角姿勢とし、その状態で、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、無害化処理された液体が移送ダクト２３経由で第１回転室１５から第２回転室１６へと移送され、筒形回転容器１０の終端口１３から排出される。ここで、図示しない自動制御盤を設けて、上述した処理（液体の無害化処理）を自動制御で行うようにしてもよい。なお、上述した本参考例の構成（放電電極、撹拌板等）を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１１参考例］
以下、本発明の第１１参考例を、図７７〜図７９に基づいて説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０における第１回転室１５内に陰極電極と陽極電極とが配置され、第１回転室１５に貯留された導電性液体中にそれら陰極電極と陽極電極とを浸漬した状態で、陰極電極と陽極電極との間に電圧、電流を印加して陰極電極の近傍にプラズマを発生させ、そのプラズマ熱によって陰極電極を局所的に融解又はイオン化させた後、導電性液体で凝固ないしは析出させることで、陰極電極と同じ材質のナノ微粒子を製造することが可能な構成となっている。以下、本参考例の構成を説明するが、上記第９参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図７３には、本参考例の容器回転装置１００を使用してナノ微粒子を製造する場合の処理フローの一例が示されている。ナノ微粒子を製造する場合には、筒形回転容器１０を正方向に回転させながら、移送ダクト２３経由で規定量の導電性液体を第１回転室１５に供給する。また、回転ロッド７６１を回転させて、電極ホルダ７６２の先端が導電性液体中に没する位置（図７７（Ｂ）の実線で示した位置）に、液中プラズマ発生部７６０を配置する。また、ガス放出流路７７４にガスを供給して導電性液体中に微細な気泡を放出させる。その状態で、中心電極７６３を陰極電極とし、対向電極７６４を陽極電極として（処理内容により陽極と陰極を反転させてもよい）、それらの間に電圧、電流を印加する。すると、中心電極７６３と対向電極７６４との間でプラズマが発生し、陰極である中心電極７６３の表面温度が局所的に融点を超えて、一部が融解する。その融解した中心電極７６３の一部が、微細な液滴の状態で導電性液体によって冷やされることで、中心電極７６３と同じ材質のナノ微粒子が生成する。このとき、陰極電極と陽極電極との間の放電が適正な電流及び電圧で行われるよう、電流と電圧の値を計測管理し、中心電極７６３が放電滅によって消耗した分だけ自動でワイヤー７６６を繰り出して安定した放電状態を維持する。その後は、導電性液体の排出、ナノ微粒子の洗浄、乾燥、排出など、上記第９参考例で説明した処理フローに従って処理を行う。

ここで、液中プラズマによって製造されたナノ微粒子に対してめっき処理を行うことができる。具体的には、ナノ微粒子の洗浄が済んだ後で、第１回転室１５に電解液（めっき液）を供給する。また、操作レバー７６１Ｒの操作で回転ロッド７６１を回転させて、電極ホルダ７６２の先端部が電解液に浸からない位置（図７７（Ｂ）の一点鎖線で示した位置）に液中プラズマ発生部７６０を配置する。その状態で、筒形回転容器１０を正方向に回転させながら１対のリング形電極７４０，７４０の間に電圧を印加すると、ナノ微粒子の表面に金属被膜（めっき層）が形成される。めっき処理後は、電解液の排出、ナノ微粒子の洗浄、乾燥、排出等、上記第９参考例で説明した処理フローに従って処理を行う。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１２参考例］
以下、本発明の第１２参考例を、図８０及び図８１に基づいて説明する。本参考例は、対向電極７８０の構造が上記第１１参考例とは異なる。詳細には、図８０（Ａ）に示すように、電極ホルダ７６２の外面には、１対の片持アーム７８１が固定されている。片持アーム７８１はクランク状に屈曲した導体で構成されかつ先端部以外の全体が絶縁被覆されている。片持アーム７８１のうち電極ホルダ７６２に固定された基端部は、電極ホルダ７６２の内部で給電ケーブル７７２と導通接続されている。

片持アーム７８１のうち、絶縁被覆されていない先端部には、それぞれ対向電極７８０，７８０が固定されている。対向電極７８０は長方形の平板状をなしており（図８０（Ｂ）参照）、ワイヤー状の中心電極７６３を挟んで対向配置されている（図８０（Ｃ）参照）。そして、中心電極７６３と対向電極７８０，７８０との間に電圧を印加することで、中心電極７６３の近傍部分にプラズマを発生させることができる。なお、中心電極７６３は消耗に応じて電極ホルダ７６２のボディから繰り出すことができる。その他の構成は上記第１１参考例と同一である。

本参考例によれば、中心電極７６３の近傍部分でプラズマを発生させて、ナノ微粒子を製造したり、液体中の有害物質の無害化（分解、滅菌）を行うことができる。

ここで、対向電極７８０は、図８０（Ｄ）に示す長方形板状に限定するものではなく、同図（Ｅ）に示すように網目構造（メッシュ構造）をなしたものでもよいし、同図（Ｆ）に示すように多数の穿孔を有した板材（例えばパンチングメタル）でもよい。また、図８１（Ａ）における上側の対向電極７８０のように、中心電極７６３を中心とした円弧形の湾曲形状であってもよいし、同図における下側の対向電極７８０のように、中心電極７６３側に開放したドーム形状（椀形状又はパラボラ形状）であってもよい。さらに、図８１（Ｂ）に示すように、本参考例の片持アーム７８１及び対向電極７８０を、上記第１１参考例の片持アーム７７１及び対向電極７６４と置き換えた構成としてもよい。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１３参考例］
以下、本発明の第１３参考例を、図８２及び図８３に基づいて説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の外側に配置されたマイクロ波照射装置７９０，７９１と、第１回転室１５内に配置され、マイクロ波を捕捉して第１回転室１５内に貯留された液体中に定常波（定在波）を発生させるアンテナ７９４Ａ，７９５Ａとを備えている点が、上記第１１参考例及び第１２参考例とは異なる。第１１及び第１２参考例と同一の構成については同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

図８２に示すように、第１回転室１５の内側には、液中アンテナユニット７９２が備えられている。図８３（Ａ）に示すように、液中アンテナユニット７９２は、回転ロッド７６１の側方に張り出した略扇形のアンテナベース７９３と、そのアンテナベース７９３に立設されたアンテナ７９４，７９５とを有する。１つのアンテナ７９４（７９５）は、針状の導体で構成された複数本（本参考例で５本）のポール７９４Ａ（７９５Ａ）で構成され、各ポール７９４Ａ（７９５Ａ）の長さは、捕捉すべきマイクロ波の１／２波長分となっている（図８３（Ｂ）参照）。また、１つのアンテナ７９４（７９５）を構成する複数のポール７９４Ａ（７９５Ａ）は一直線上に並べて配置されており、隣り合ったポール７９４Ａ（７９５Ａ）同士は、捕捉すべきマイクロ波の１／４波長分の間隔で配置されている（図８３（Ｃ）参照）。

本参考例では、３つのマイクロ波照射装置７９０，７９１，７９１に対応して、３組のアンテナ７９４，７９５，７９５を備えており、それらが共通のアンテナベース７９３に設けられている。２組のアンテナ７９５，７９５の各ポール７９５Ａが、波長λ２に対応した長さと間隔を空けて配置されており、残り１組のアンテナ７９４の各ポール７９４Ａが波長λ１に対応した長さと間隔を空けて配置されている。

第１回転室１５内に貯留された液体中に全てのポール７９４Ａ，７９５Ａが浸かった状態（図８３（Ａ）に示す状態）で、マイクロ波を照射すると、各ポール７９４Ａ，７９５Ａの先端部でプラズマが発生する。このプラズマによって、液体からナノ微粒子、分解生成物、合成化合物等を析出させたり、液体中の有害物質を無害化することができる。なお、本参考例におけるプラズマの発生原理は、特許第３７６９６２５号公報に開示されている原理と同じである。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１４参考例］
以下、本発明の第１４参考例を、図８４に基づいて説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の第１回転室１５内に設けられかつ、第１回転室１５に貯留された液体に浸漬されてその液体中に超音波を放射する超音波放射手段と、第１回転室１５に貯留された液体に浸漬されてその液体中に光を照射する光照射手段とを備え、それら超音波と光の何れか一方又は両方のエネルギーによって処理対象物Ｓの処理を行うことが可能となっている。以下、第１１参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

本参考例の容器回転装置１００によれば、超音波放射体８０２から放射された超音波エネルギーによって液体中に超音波反応場が形成され、液体中での化学反応（分解反応、合成反応）を促進させることができる。また、光ファイバー８０３から出射された光によって、液体中での化学反応を促進させたり、光化学反応物を製造することができる。さらに、液体中に形成された超音波反応場に光が照射されることで、液体中での化学反応をさらに促進させることが可能になる。

なお、図８４（Ｄ）に示すように光ファイバー８０３の替わりにランプ８０９（例えば、紫外線ランプ）を備えていてもよい。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１５参考例］
以下、本発明の第１５参考例を図８５〜図９０に基づいて説明する。本参考例の容器回転装置１００は、メディア８２１を用いた処理対象物Ｓの研磨（バレル研磨）又は粉砕・分散と、処理対象物Ｓの分級及び処理対象物Ｓとメディア８２１の篩い分けとを１つの装置で行うことが可能な構成となっており、筒形回転容器１０以外の構成は、上記第９参考例の構成と同一となっている。

筒形回転容器１０の内部には、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が第１終端壁に固定されて第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部が閉塞されたメッシュ状のアウター筒体と、第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなしてアウター筒体の内側に配置され、大径側端部が第１回転室と連通しかつ第１終端壁と一体に回転するセンター筒体と、アウター筒体の大径側端部に形成され、アウター筒体の篩目を通過しなかった処理対象物又はメディアを、筒形回転容器の逆回転に伴ってセンター筒体に送り込むための連通路と、アウター筒部の接線方向に延びて移送路の中間部に接続され、筒形回転容器の逆回転に伴って移送路内を移動する処理対象物又はメディアをアウター筒部に送り込むための分岐路と、分岐路と移送路とを連通しかつ第１終端開口と第２始端開口との間で移送路を遮断した第１位置と、分岐路と移送路とを遮断しかつ移送路の第１終端開口と第２始端開口とを連通させた第２位置との間で移動する流路切替部材とが備えられている。以下の説明では、筒形回転容器１０のうち、上記第９参考例との相違点を中心に説明することとし、第９参考例と同一の構成については、同一符号を付すことで詳細な説明は省略する。

本参考例の構成は以上である。図８５には、本参考例の容器回転装置１００を、バレル研磨装置として使用した場合の処理フローの一例が示されている。湿式のバレル研磨処理（同図（Ａ）参照）を行う場合には、流路切替板８１６を第２位置にして筒形回転容器１０を正回転させながら、第２回転室１６に処理対象物Ｓ、コンパウンド、メディア８２１及び液体（具体的には、水）を定量供給し、それらを移送ダクト２３経由で第１回転室１５に供給する。

分級処理の終了後、メディア８２１を取り出す場合には、筒形回転容器１０を一旦停止して流路切替板８１６を第１位置に切り替え、筒形回転容器１０を逆回転させる。すると、第１回転室１５内のメディア８２１（及び処理対象物Ｓの残留物）が、移送ダクト２３を通って第２回転室１６に移動し、終端口１３から排出される。さらに、操作レバー８２０（流路切替板８１６）の切り替えを、電磁ソレノイド、モータ、エアーシリンダー、その他のアクチュエータによって行うように構成してもよい。また、手動による切り替えと、アクチュエータによる切り替えとを選択できるようにしてもよい。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第１６参考例］
以下、本発明の第１６参考例を、図９１〜図９３に基づいて説明する。本参考例は、本発明に係る「雰囲気生成手段」として、液体を気化させた蒸気をアーク放電によって電離させてプラズマを発生させるスチームプラズマ発生装置８３０を備えている点が、上記実施形態及び参考例とは異なる。

上記実施形態及び参考例では、プラズマジェットに対して直接、過熱水蒸気を追加するための蒸気噴出口８３２Ｃを１つだけ備えていたが、図９３（Ａ）に示すように、蒸気噴出口８３２Ｃをプラズマトーチ８３１の軸方向及び周方向にずらして２つ以上備えていてもよい。つまり、過熱水蒸気の追加によって増幅されたプラズマジェットに対して、さらに過熱水蒸気を追加して、プラズマジェットをさらに増幅させることが可能な構成としてもよい。

さらに、蒸気噴出口８３２Ｃから処理対象物Ｓをプラズマジェットに直接供給するようにしてもよい。ここで、図９３（Ｂ）に示すように、フィン形突起８３７を上記した各実施形態の接続管３４の内部に設けて過熱水蒸気又はバーナー炎の基端部に陥没部が形成されるようにし、その陥没部に処理物供給管３５から処理対象物Ｓを供給するように構成してもよい。なお、本参考例では、アーク放電によってプラズマを発生させているが、他のプラズマ発生手段（高周波電源、高電圧パルス電源等）を用いてプラズマを発生させてもよい。上述した本参考例のスチームプラズマ発生装置８３０を本参考例以外の他の実施形態及び参考例の容器回転装置に適用してもよい。

［第１７参考例］
以下、本発明の第１７参考例を図９４〜図９９に基づいて説明する。本参考例は、第１の流体（例えば、過熱水蒸気、液体窒素、反応性ガス、水、溶液、溶媒、温風、温水、溶融物等）と、処理対象物Ｓを含む第２の流体との混相流（具体的には、気液二相流、固気二相流又は固液二相流）を生成することが可能な混相流生成装置８４０を備えている点が上記各実施形態及び参考例とは異なる。

上記実施形態及び参考例では、吐出孔８４３Ａが、外筒体８４１の軸方向と平行に多孔板８４３を貫通していたが、図９７（Ａ）に示すように、吐出孔８４３Ａから混合室８４４に流れ込んだ第１の流体が、内筒体８４５を中心とした旋回流となるように、吐出孔８４３Ａを外筒体８４１の軸方向に対して傾斜させてもよい。

上記実施形態及び参考例では、渦発生ノズル８４６が球状をなしていたが、図９８（Ａ）に示すように、内筒体８４５の先端部を側方に張り出させた円板状をなしていてもよい。円板状にすることで、渦発生ノズル８４６の前面に比較的近い位置で渦流を発生させることができる。また、図９８（Ｂ）に示すように、渦発生ノズル８４６の前面に多数のディンプル８５２を形成してそれらディンプル８５２にノズル孔８４６Ａの先端開口を接続してもよい。また、渦発生ノズル８４６の外周面寄り位置を混合室８４４の軸方向に貫通した貫通孔８４６Ｂを設けて、混合室８４４に供給された第１の流体が、その貫通孔８４６Ａを通過するようにしてもよい。また、図９８（Ｃ）に示すように、渦発生ノズル８４６の前面を略円錐形の凹面としてもよい。

また、図９８（Ｅ）に示すように、渦発生ノズル８４６の下流側位置に混合室８４４の内周面から若干離して配置されたドーナツ形の環状堰部８５４を設けてもよい。この環状堰部８５４は断面円形をなしており、混合室８４４の内周面から突出した複数の支持突起８５５によって支持されている。環状堰部８５４を設けたことで混合室８４４の流路が絞られるので、第１の流体を加速させることができると共に、環状堰部８５４の下流側に渦流又は乱流を発生させることができる。本参考例の混相流生成装置８４０を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例の容器回転装置１００に適用してもよい。

［第１８参考例］
以下、本発明の第１８参考例を、図１００及び図１０１に基づいて説明する。本参考例の筒形回転容器１０は、上記第１５参考例で説明したトロンメル８１０、センター筒体８１２、移送ダクト２３等を一体に備えた機能ユニット８６５を、汎用品である筒形容器８６０に組み付けてなる。本参考例では筒形容器８６１として、例えば、ポットミル粉砕機で使用されるポット（図１００（Ａ）及び同図（Ｂ）参照）を流用している。筒形容器８６０は一端有底の円筒状をなし、容器底壁８６１（本発明の「第１始端壁」に相当する）と反対側の他端部には、容器筒壁８６２から中心に向かって張り出したネック部８６３が形成されている。

本参考例の筒形回転容器１０は、ポットミル粉砕機に使用される公知なポットミル回転架台（図示せず）によって回転させることができる。筒形回転容器１０を逆回転させると、第１回転室１５内の処理対象物Ｓは、第１ダクト８７１及び中間ダクト８７３を経由して第２ダクト８７２に進入する。そして、流路切替板８１６が第１位置に位置している場合には、処理対象物Ｓがトロンメル８１０に送られ、流路切替板８１６が第２位置に位置している場合には、処理対象物Ｓが第２始端開口２５から第２回転室１６内に排出される。また、機能ユニット８６５を固定した筒形回転容器１０を、上記第７参考例の回転受容部６０１（図６４参照）に挿入して使用してもよいし、上記第８参考例の回転受容部６５０（図６８参照）に組み付けて使用してもよい。

［第１９参考例］
以下、本発明の第１９参考例を図１０２〜図１０４に基づいて説明する。図１０３に示すように、本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０を収容した真空容器８８０と、真空容器８８０を気密状態に貫通して筒形回転容器１０を回転可能に支持した駆動シャフト８８６と、駆動シャフト８８６に回転駆動力を付与する駆動源とを備えている。真空容器８８０の内面には加熱源としてのヒーター３３が設けられており、筒形回転容器１０内の処理対象物Ｓを外側から加熱することが可能となっている。また、真空容器８８０の外側には処理対象物Ｓを供給するためのフィーダー３６が備えられており、真空容器８８０を気密状態に貫通した供給シュート８８１を介して筒形回転容器１０の第２回転室１６内に処理対象物Ｓを供給することが可能となっている。その他、真空容器８８０には、真空容器８８０内又は第１回転室１５内にガスを供給するためのガス供給源８８２Ａ，８８２Ｂ、真空容器８８０内を真空引きするための真空ポンプ８８３、筒形回転容器１０から排出された処理対象物Ｓを受けるための排出容器８８４等が、真空弁８８５Ａ〜８８５Ｅを介して接続されている。

筒形回転容器１０は、駆動源としてのモータ３６によって回転駆動される駆動シャフト８８６の先端部に着脱可能に取り付けられており、駆動シャフト８８６と共に真空容器８８０内で回転する。詳細には、駆動シャフト８８６は真空容器８８０の端部壁を貫通した貫通孔８８０Ａに挿通されており、真空容器８８０内に配置された先端部に平板状の取付ベース８８７とその取付ベース８８７から突出した断面非円形の嵌合軸部８８８とを備えている。なお、真空容器８８０の貫通孔８８０Ａと駆動シャフト８８６の外周面との間は、摺動シール８８９によって気密状態にシールされている。筒形回転容器１０のうち、第１始端壁１２の中央部からは、第１回転室１５側に断面非円形の嵌合筒部８９０が突出しており、その嵌合筒部８９０が、駆動シャフト８８６における嵌合軸部８８８の外側に嵌合している（図１０４（Ｇ）参照）。これにより、駆動シャフト８８６と筒形回転容器１０とが一体回転可能に連結されている。なお、本参考例では、共に断面が非円形をなした嵌合軸部８８８と嵌合筒部８９０との嵌合によりそれらが一体回転可能に連結されていたが、嵌合軸部８８８及び嵌合筒部８９０を共に断面円形とし、取付ベース８８７と筒形回転容器１０の第１始端壁１２とを図示しないピンによって結合することで、それらを一体回転可能に連結してもよい。

さて、図１０２（Ａ）には、本参考例の容器回転装置１０による処理対象物Ｓの自動処理フローの一例が示されている。まずは、真空ポンプ８８３によって真空容器８８０内が真空引きされる。次いで、筒形回転容器１０の正回転が開始され、その正回転した状態で、予め定められた所定量の処理対象物Ｓがフィーダー３６から第２回転室１６内に自動供給される。このとき、真空弁８８５Ａが閉じられて真空容器８８０内の真空状態が維持される。

図１０３（Ｂ）には、本参考例の変形例が示されている。この容器回転装置１００では、筒形回転容器１０の外側に誘導コイル４２Ｂが備えられ、第１回転室１５内にプラズマ雰囲気を発生させることが可能となっている。図１０２（Ｂ）は、この容器回転装置１００による処理対象物Ｓの自動処理フローの一例である。同図に示すように、処理対象物Ｓを撹拌・混合しながらプラズマ雰囲気によって処理することができる。なお、上述したように、筒形回転容器１０のうち少なくとも第１容器構成体８９１を透明容器で構成すると共に、真空容器８８０内に光源及び／又は加熱源を配置して、処理対象物Ｓを、光（例えば、ＥＵＶ、ＵＶ，赤外線等）のエネルギー、熱エネルギー、プラズマの何れか又はそれらを組み合わせて処理対象物Ｓの処理を行うようにしてもよい。なお、上述した本参考例の構成を、他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第２０参考例］
本発明の第２０参考例を図１０５〜図１０７を参照しつつ説明する。なお、以下の説明では、第１９参考例との相違点のみを説明することとし、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

図１０５（Ｃ）に示すように、筒形回転容器１０の第１回転室１５内には、プラズマ発生部９０５が設けられている。プラズマ発生部９０５は、筒形回転容器１０内で水平に延びた支持部材９０６の両端部から片持ち梁状に延びた棒状のプラズマ電極９０７，９０７を有しており、それらプラズマ電極９０７，９０７の間でプラズマを発生させて、処理対象物Ｓを処理することが可能となっている。支持部材９０６は、駆動シャフト８８６のシャフト貫通孔８８６Ａを貫通した回転不可能な固定シャフト９０８の先端部に固定されており、固定シャフト９０８は駆動シャフト８８６に対して相対回転可能に支持されている。なお、駆動シャフト８８６のシャフト貫通孔８８６Ａと固定シャフト９０８との間は摺動シール９０９によってシールされている。その他の構成は、上記第１９参考例と同一である。本参考例によっても、上記第１９参考例と同等の作用効果を奏する。

なお、本参考例では、第１回転室１５の筒壁内面に上記第１実施形態等で説明した第１螺旋ガイド１７を備えていなかったが、その第１螺旋ガイド１７や、他の撹拌部材を設けてもよい。例えば、図１０５（Ｄ）に示すように、筒形回転容器１０の中心軸に沿って間隔を空けて配列された複数の矩形突片９１０や、図１０７に示すような畝形突条９１１を設けてもよい。同図（Ａ）に示すように、畝形突条９１１は、第１始端壁１２と第１終端壁１４との間で筒形回転容器１０の中心軸に対して傾斜して延びている。より詳細には、畝形突条９１１は断面が直角三角形となっており、筒形回転容器１０の筒壁に対して直角でかつ正回転方向の前方を向いた垂直面９１１Ａと、筒壁に対して傾斜しかつ逆回転方向の前方を向いた傾斜面９１１Ｂとを有している。また、畝形突条９１１は、第１始端壁１２から第１終端壁１４に向かうに従って逆回転方向の前方に向かうように傾斜して延びており（同図（Ｃ）参照）、さらに、畝形突条９１１における稜線９１１Ｃが、第１始端壁１２から第１終端壁１４に向かうに従って筒壁内面から離れるように傾斜している（同図（Ｂ）参照）。なお、この畝形突条９１１や矩形突片９１０は、六角筒形の筒形回転容器１０に限らず、同図（Ｄ）に示すように、円筒形の筒形回転容器１０の第１回転室１５に設けてもよい。

さらに、図１０６（Ａ）及び同図（Ｂ）に示すように、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面に向かって突出した複数のプラズマ電極９０７と、筒形回転容器１０（第１回転室１５）の筒壁内面との間でプラズマを発生させるように構成してもよい。なお、上述した本参考例の構成を、他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

［第２１参考例］
本発明の第２１参考例を図１０８〜図１０９を参照しつつ説明する。本参考例の容器回転装置１００は、筒形回転容器１０の外面のうち少なくとも第１回転室１５の側方部分を覆って筒形回転容器１０と一体回転すると共に、内部に熱媒体を循環させて筒形回転容器１０を加熱又は冷却するための熱交換ジャケット９２０を備えている。なお、以下の説明では、第１実施形態との相違点のみを説明することとし、同一部位については同一符号を付すことで重複した説明は省略する。

ところで、液体の熱媒体を使用した場合にジャケット室９２４内に気泡が貯まると、熱交換性能が低下するので、ジャケット室９２４内の気泡は除去する必要がある。これに対し、本参考例によれば、筒形回転容器１０の回転に伴ってジャケット室９２４内の気泡が熱媒体と共に自然に排出されるように構成されている。

なお、筒形回転容器１０の筒壁１１の外側を、パイプをコイル状に巻いた熱交換パイプで覆って、その熱交換パイプに流した熱媒体によって、処理対象物Ｓの冷却又は加熱を行ってもよい。具体的には、例えば、熱媒体の供給用と排出用とを含む複数本のパイプをコイル状に巻き付けて、それら供給用と排出用のパイプ同士を接続した構成とすればよい。なお、上述した本参考例の構成を、他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

（３）図１１２に示すように、筒形回転容器１０と一体回転する第１サブ螺旋ガイド２７の替わりに、筒形回転容器１０に対して相対回転可能な回転螺旋ガイド６７０を設けてもよい。具体的には、第１回転室１５の中心を回転シャフト６７１が回転可能に貫通しており、その回転シャフト６７１に回転螺旋ガイド６７０が一体に固定されている。回転螺旋ガイド６７０は、第１螺旋ガイド１７の内側に配置されており、第１始端壁１２と第１終端壁１４との間で螺旋状に延びたリボン形をなしている。回転シャフト６７１と回転螺旋ガイド６７０との間は、回転シャフト６７１の軸方向の複数箇所から径方向に突出した複数のスポーク６７２によって連結されている。さらに、回転螺旋ガイド６７０は、筒形回転容器１０の周方向で１８０度位相をずらして２つ備えられている。なお、回転螺旋ガイド６７０は、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４側に送給する（逆回転させた場合に、第１始端壁１２側に送給する）ような螺旋形状としてもよいし、正回転させた場合に、処理対象物Ｓを第１始端壁１２側に送給する（逆回転させた場合に、第１終端壁１４側に送給する）ような螺旋形状としてもよい。この構成によれば、回転螺旋ガイド６７０を筒形回転容器１０の回転方向に対して逆回転させたり、筒形回転容器１０とは異なる回転速度で回転させたり、筒形回転容器１０と回転螺旋ガイド６７０との何れか一方のみを回転させる等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じて様々な撹拌操作を行うことが可能となる。

（４）図１１３に示すように、筒形回転容器１０と一体回転する第１サブ螺旋ガイド２７の替わりに、筒形回転容器１０に対して相対回転可能な撹拌子６８０を設けた構成としてもよい。具体的には、第１回転室１５の中心を回転シャフト６８１が回転可能に貫通しており、その回転シャフト６８１の側方に複数の撹拌子６８０が配置されている。全ての撹拌子６８０は、第１螺旋ガイド１７よりも内側に配置されており、回転シャフト６８１と各撹拌子６８０との間は、回転シャフト６８１から径方向に突出したスポーク６８２によって連結されている。また、撹拌子６８０は、回転方向の一端から他端に向かうに従って先細りとなった流線型をなしている。詳細には、筒形回転容器１０の逆回転方向Ｘ２の前方に向かうに従って窄まった楔状をなしている。この構成によれば、撹拌子６８０を、筒形回転容器１０の回転方向に対して逆回転させたり、筒形回転容器１０とは異なる回転速度で回転させたり、筒形回転容器１０と撹拌子６８０との何れか一方のみを回転させる等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じて様々な撹拌を行うことが可能となる。また、撹拌子６８０を、例えば、耕うん機に用いられているロータリーの刃構造や、せん断効果を得るための鎌状刃等、処理対象物Ｓの種類や処理内容に応じた構造にすることで、様々な撹拌を行うことが可能となる。

（１９）上記実施形態において、処理対象物Ｓを第１回転室１５の第１始端壁１２方向に推進させる必要が無い場合ないし、筒形回転容器１０を傾動させる手段を備えた場合に筒形回転容器１０の筒壁１１を、第１始端壁１２から終端口１３に向かって拡径した円錐台形状とし、第１螺旋ガイド１７と第２螺旋ガイド１８とをなくした構造としてもよい。また、第１回転室１５を構成する筒壁と第２回転室１６を構成する筒壁の両方又は何れか一方を、第１始端壁１２から離れる（終端口１３に近づく）に従って拡径した円錐台形状としてもよい。これにより、筒形回転容器１０を正回転させた場合に、第１回転室１５内の処理対象物Ｓを第１終端壁１４に近づく側に、第２回転室１６内の処理対象物Ｓを終端口１３に近づく側に、それぞれ推進させることができ、両室の第１螺旋ガイド１７と第２螺旋ガイド１８を具備することなく、実施例の処理動作を行える。ただし、処理対象物Ｓの物性（例えば、液体、スラリー、ないし流動性が高い粒子等以外の処理物）によっては、効果が少なく処理時間が長くなる場合があるから、コストバランスを判断した上で採用すればよい。また、吸引ファン５５４のガス吸引力による処理を、容器回転装置１００の排気口３２Ｂと粒子回収装置５００の間に、図示しない押し込みファンを設けて、ガス押し込みによる粒子状物質遠心力集塵ならびに、濾過分離処理を行ってもよい。
（２０）上記実施形態では、各処理装置での処理手段を主に掲げているが、上記のこれら処理装置を各工程に配置し、処理装置の各処理工程に測定手段を設け、測定手段で測定し得られたデータを基に適正な処理が進行する様に、各処理工程で所定の値となるように、酸化剤、ＰＨ調整剤、処理に合わせた促進剤等、直流電源の電気分解電極への給電等と、処理装置の稼働を、プログラム制御できる制御盤を具備（図示しない）し自動制御を行い、処理対象物Ｓを自動投入、混合、造粒、粉砕、分級、自動排出を行い、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、ガス、等による滅菌、濃縮、焼却、凝固等の雰囲気生成処理を、プラズマ、光エネルギー、イオン、電気等による、分解、ナノ微粒子製造、改質（酸化・還元）、めっき、電気分解等の電気化学反応雰囲気生成処理を行うことで、所望する効果を得ることができる、生産プロセス処理システムを構築して使用できる。

［他の参考例］
（１）上記第６参考例では、バランスウエイト５２７と排出シュート５２０内に堆積した粒子状物質の重量とのバランスによって第２弁体５２３が開閉され、その第２弁体５２３の開閉に連動して、第１弁体５３５が開閉するように構成されていたが、第１弁体５３５及び第２弁体５２３の開閉動作を以下のようにして行ってもよい。即ち、排出シュート５２０の下端寄り位置に排出完了を検知する検知センサを設けると共に、上端寄り位置に満量を検知する検知センサを設けておき、それら検知センサによる満量の検知又は排出完了の検知により、第１弁体５１３及び第２弁体５２３を図示しない作動手段（電磁ソレノイド、モータ、エアーシリンダー等）によって自動開閉させる構成としてもよい。

（２）上記第６参考例では、排気ガスに含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生した粉塵、煤塵、その他粒子）を回収するための粒子回収装置５００を備えているが、この粒子回収装置５００の構成を用いて、液中に含まれる粒子状物質（処理対象物Ｓとしての粉粒体の粒子や、処理過程で発生したスラリー、その他粒子）を回収するための液中粒子回収装置としてもよい。具体的には、吸引ファン５５４を吸引ポンプに替えて吸引を、圧縮エアによるフィルター５５３の逆洗を、水圧に替えて逆洗を行うことで、液中に含まれる粒子状物質の遠心力分離処理ならびに、濾過分離処理の、液中粒子回収処理を行うことができる。さらには、上記実施形態（１９）の構成を用いれば、押し込みポンプによる手段で同様の液中粒子回収処理が行える。

（３）上記第１１参考例では、図７７に示すように、液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１の先端部から側方に向かって張り出している。液中プラズマ発生部７６０は、回転ロッド７６１から離れた先端側か三股に割れた先割れ構造をなしており、同一構造をなした３つの電極ホルダ７６２を有している。この電極ホルダ７６２に設けられた先端中心電極７６３と対向電極７６４は、第１回転室１５内の導電性液体中でプラズマを発生する位置に取り付けられているが、次のような構造にしてプラズマを発生させて用いてもよい。まず、対向電極７６４部とガス放出流路７７４を取り去り、リング形電極７４０が対向電極と成るようにプラズマ用電源装置に接続し、電極ホルダ７６２に設けられた先端中心電極７６３は、先端中心電極７６３が液面に接触しない位置に電極ホルダ７６２を設ける。先端中心電極７６３は気相中に位置し、先端中心電極７６３とリング形電極７４０間の印加により、先端中心電極７６３から第１回転室１５内の導電性液体表面間で、プラズマが発生する。ここでガス放出流路７７４のみを持つ電極ホルダによりガスを供給することで、より複雑な反応が行える。なお、反応の原理は、一般社団法人電気学会から２０１１年６月１０日に出版された「電気学会技術報告 Ｎｏ．１２２４」に記載されている通りである。先端中心電極７６３と第１回転室１５内の導電性液体表面間のプラズマ発生による、導電性液体の気液界面で発現する、プラズマ中の活性なイオン、ラジカル、電子を利用して、所望する効果（例えば、液体中の有害物質の無害化処理（分解、滅菌、消毒）や、有機化合物の生成処理、液体に溶解している金属イオンを気液プラズマを利用して還元又は酸化してナノ微粒子および、グラフェンの生成処理、ないし液体中に分散している粒子、さらには供給された粒子の表面修飾処理等）を得たのちに、溶液の取り出しを行ってもよい。めっき処理を行う場合は、リング形電極７４０の回路を切り替えて、または、めっき処理を行うリング形電極７４０を新たに設けてめっき処理を行い、上記第９参考例で説明した処理フローに従って処理を行ってもよい。上述した本参考例の構成を、本参考例以外の他の実施形態及び参考例に適用してもよい。

（４）上記第１３参考例では、マイクロ波の照射によりアンテナ７９４のポール先端部にプラズマを発生させる構成となっていたが、例えば、シーエムシー技術開発株式会社製のマイクロ波発熱体（マイクロ波を吸収して発熱する特殊セラミックス）をアンテナ７９４の替わりに具備してマイクロ波照射を行い、マイクロ波発熱体の熱によって処理を行ってもよい。

（５）上記第９参考例では、図７０（Ａ）に示す処理フローに従って、１台の処理装置で、電気めっき処理又は電解研磨処理と、洗浄処理と、乾燥処理とを行っているが、処理内容毎に別々の処理装置を用いてもよい。具体的には、上記第９参考例の容器回転装置から、通電処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の通電処理用の容器回転装置と、洗浄処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の洗浄処理用の容器回転装置と、乾燥処理に必要な構成のみを残して他の構成部品を除外した構成の乾燥処理用の容器回転装置とを備えておき、これら３つの容器回転装置を通電処理用、洗浄処理用、乾燥処理用の順にシュートで接続して、処理対象物がこれら３つの容器回転装置を順次移動して処理が行われるようにしてもよい。このようにすることで、処理対象物Ｓのめっき処理生産量を増大させることができる。また、自動制御盤を設けて、これら３つの容器回転装置による一連の処理を自動制御で行うようにしてもよい。また、クロメートめっき処理は、予備脱脂→水洗→脱脂→水洗→活性化→水洗→めっき→水洗→クロメート処理→水洗→最終洗浄→乾燥という工程で行われるが、予備脱脂、脱脂、活性化の各工程は、洗浄処理用の容器回転装置で行うことができ、クロメートめっき処理においても、上記したように複数の容器回転装置を使用して生産設備を構築することができる。また、自動制御盤を設け一連のクロメートめっき処理を自動制御で行うようにしてもよい。

１０ 筒形回転容器
１１ 筒壁
１２ 第１始端壁
１２Ａ センター孔
１４ 第１終端壁
１４Ａ 通気孔
１５ 第１回転室
１６ 第２回転室
１７ 第１螺旋ガイド
１８ 第２螺旋ガイド
１９ 椀形反射部材
１９Ｓ 反射部材支持突部
２０ リフター
２０Ａ リフター底壁
２０Ｂ リフター側壁
２３ 移送ダクト
２３Ｒ 移送路
２４ 第１終端開口
２５ 第２始端開口
２７ 第１サブ螺旋ガイド
３１ モータ（回転方向切替手段）
３２ 固定蓋
３２Ａ 第２終端壁
３２Ｂ 排気口
３２Ｃ 排出口
３３ ヒーター（加熱源）
３６ フィーダー
３６Ｐ 供給管
４０ 過熱水蒸気発生装置
４１ 過熱水蒸気トーチ
４２ プラズマ発生装置
４２Ａ プラズマトーチ
４３Ｓ シール部材
４６ スプレーノズル
４９ バーナー
５０ 冷却水貯留容器
５１ バケット
６１ 吹付ノズル
６２ 内部ヒーター
６５ トロンメル（センターコーン）
６５Ａ 排出大開口
６６ サブ移送ダクト
６７ サブ移送路
６８ 第１終端サブ開口
６９ 第２始端サブ開口
７０ 冷却水供給管
９０ ボールタップ
９１ 浮球
１００ 容器回転装置
２２１ 回転シャフト
２２２ 粉砕ブレード
２３１ アウターコーン
２３２ トロンメル（インナーコーン）
２３６ 粉砕メディア
２７０ 排出樋
３０１ ガス通気路
３０２ ガス噴出口
３１０ ロータリージョイント
３１１ 回転リング
３１２ 固定リング
３１３ 環状通気路
３３０ 第２終端壁
３３１ サブセンター孔
３３２ センター筒部
３３４Ｓ 摺動シール
３３６ 真空ポンプ
３３７ 処理対象物供給口
４０１ ガイドパイプ
４０２ 磁気吸着部
４０３ ピン挿通孔
４１０ 打撃子
４１２ 押圧ピン
４２０ 押圧レバー
４３０ 被打撃部
４３１ ハンマー
４３２ 支持ベース
５０１ 遠心力集塵機
５４０ フィルターユニット
５５３ フィルター
５６１ 粒子貯留容器
５７０ 切替バルブ
６０１ 回転受容部
６６０ 撹拌部材
６６１ 回転シャフト
６７０ 回転螺旋ガイド
６７１ 回転シャフト
６８０ 撹拌子
６８１ 回転シャフト
６９１〜６９４ 容器構成体
７０１〜７０４ 容器構成体
７４０ リング形電極
７５１ 撹拌板
７５４ 放電ピース
７６３ 中心電極
７６４ 対向電極
７９０，７９１ マイクロ波照射装置
７９４ アンテナ
８０２ 超音波放射体
８０３ 光ファイバー
９２０ 熱交換ジャケット

Claims (41)

1. 中心軸が概ね水平になってその中心軸回りに回転駆動される筒形回転容器の内部で、粉粒体、液体、その他の流動性を有する処理対象物を流動させながら、混合、加熱、冷却、洗浄、その他の処理を行う容器回転装置において、
   前記筒形回転容器の内部を第１回転室と第２回転室とに区画し、前記筒形回転容器の筒壁と一体に回転する第１終端壁と、
   前記筒形回転容器に設けられて、前記第１終端壁と前記第１回転室を挟んで対向した第１始端壁と、
   前記第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延び、前記第１回転室内に開口した第１終端開口と、前記第２回転室内に開口した第２始端開口とを両端部に有し、前記処理対象物が通過可能な移送路と、
   前記移送路のうち前記第２始端開口を前記第１終端開口より先行させる正回転と、その逆の逆回転とに前記筒形回転容器の回転方向を切り替えるための回転方向切替手段とを備えたことを特徴とする容器回転装置。
2. 前記第１回転室における前記筒壁の内側面に沿って前記中心軸回りに螺旋状に延び、前記筒形回転容器を正回転させたときに前記第１回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁から離れる側に推進させる一方、前記筒形回転容器を逆回転させたときに前記第１回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁側に推進させる第１螺旋ガイドと、
   前記第２回転室における前記筒壁の内側面に沿って前記中心軸回りに螺旋状に延び、前記筒形回転容器を正回転させたときに前記第２回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁側に推進させる一方、前記筒形回転容器を逆回転させたときに前記第２回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁から離れる側に推進させる第２螺旋ガイドとを備えたことを特徴とする請求項１に記載の容器回転装置。
3. 前記第１終端開口における前記逆回転方向の後側縁部に端部が接続された前記第１螺旋ガイドと、前記第２始端開口における前記正回転方向の後側縁部に端部が接続された前記第２螺旋ガイドとの一方又は両方を備えたことを特徴とする請求項２に記載の容器回転装置。
4. 前記第１回転室のうち前記第１螺旋ガイドの内側でその第１螺旋ガイドとは逆巻の螺旋状に延び、前記筒形回転容器を正回転させたときに前記第１回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁側に推進させる一方、前記筒形回転容器を逆回転させたときに前記第１回転室内の前記処理対象物を前記第１終端壁から離れる側に推進させる第１サブ螺旋ガイドを備えたことを特徴とする請求項２又は３に記載の容器回転装置。
5. 前記筒形回転容器を前記正回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した前記第２始端開口と、前記筒形回転容器を前記逆回転させたときの進行方向の前方に向かって開口した前記第１終端開口との一方又は両方を備えたことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
6. 平板状の前記第１終端壁と、
   全体が溝形構造でその長手方向の一端が閉塞された閉塞端をなす一方、他端が開口した開放端をなし、前記第１終端壁における前記第２回転室側の面の外縁部に設けられて、前記第１終端壁との間に前記移送路及び前記第２始端開口を形成する移送ダクトと、
   前記第１終端壁のうち前記移送ダクトの前記閉塞端側の一端部に覆われた部分に貫通形成された前記第１終端開口とを備えたことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
7. 前記第１終端壁に前記移送路を複数備えたことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
8. 前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
   前記第１回転室のうち前記センター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、
   前記第１回転室内に設けられ、前記筒形回転容器と一体に回転し、前記筒形回転容器が前記正回転した場合に、前記第１回転室内の下部に溜まった前記処理対象物をすくい上げて前記筒内中心部に向けて流下させるリフターとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
9. 前記第１終端壁の中心に固定され、前記センター孔より大きな先端開口を有し、前記雰囲気生成手段としての噴射ノズルから噴射された噴射物質を前記第１回転室の内側中心部の周囲に向けて反射する椀形反射部材を備えたことを特徴とする請求項８に記載の容器回転装置。
10. 前記第１終端壁から突出し、前記椀形反射部材を支持する反射部材支持突部と、
    前記第１終端壁のうち前記椀形反射部材との対向位置に貫通形成された通気孔と、
    前記筒形回転容器に設けられて、前記筒壁のうち前記第２回転室における前記第１終端壁と反対側の端部が回転可能に連結され、前記第１終端壁との間に前記第２回転室を挟んで対向した第２終端壁を有すると共に上下方向が常に一定に固定された固定蓋と、
    前記固定蓋の下端部に設けられ、前記処理対象物を排出するための排出口と、
    前記固定蓋の上端部に設けられ、前記筒形回転容器内のガスを排気するための排気口と、を備えたことを特徴とする請求項８又は９に記載の容器回転装置。
11. 前記第２終端壁を貫通して延びた供給管を有し、前記供給管を通して前記第２終端壁内に前記処理対象物を供給する処理対象物フィーダーを備えたことを特徴とする請求項１０に記載の容器回転装置。
12. 前記処理対象物を加熱するための前記処理雰囲気を生成する前記雰囲気生成手段と、
    前記処理雰囲気によって加熱された前記処理対象物を冷却するための冷却水を貯留する前記第１回転室とを備えたことを特徴とする請求項８乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
13. 凝固液を貯留する前記第１回転室と、
    前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    溶融した樹脂、金属、その他の溶融物の液滴又は、前記凝固液との反応で凝固可能な溶液の液滴を前記センター孔を通して前記第１回転室内の前記凝固液に注ぐ液滴注出手段とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
14. 前記第２回転室における前記筒壁の内側面から張り出して、前記第１終端壁との間で前記凝固液を貯留する貯液用の前記第２螺旋ガイドを備えたことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の容器回転装置。
15. 前記第１回転室内のうち前記貯液用の第２螺旋ガイドと前記第１終端壁との間に前記凝固液を供給するための凝固液供給管と、
    前記第１回転室内のうち前記貯液用の第２螺旋ガイドと前記第１終端壁との間における前記凝固液の液面位置を検出する浮球と、
    前記凝固液供給管の先端部に設けられ、前記浮球の位置が基準位置より下方に位置したときに開状態になって前記凝固液供給管から凝固液を供給させる一方、前記浮球が前記基準位置以上に位置したときに閉状態になって前記凝固液供給管からの凝固液の供給を停止させる開閉弁とを備えたことを特徴とする請求項１４に記載の容器回転装置。
16. 前記筒壁の下方に設けられかつ上面が開口し、冷却水を貯留した冷却水貯留容器と、
    前記筒壁から側方に張り出し、前記筒形回転容器が回転したときに前記冷却水貯留容器内の冷却水を順次に汲み上げて前記筒壁の外面に掛ける複数のバケットとを備えたことを特徴とする請求項１乃至１５の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
17. 前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    前記センター孔に挿通された液体供給管と、
    前記液体供給管の先端部に設けられ、前記第１回転室内の最下部より前記正回転方向の前側位置に向けて斜め下方に霧、液、ガスを噴出する吹付ノズルとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
18. 前記筒形回転容器の前記筒壁と一体に回転する前記第１始端壁と、
    前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    一端部が前記センター孔内に受容されて、前記センター孔の外側斜め下方に向かって延びた流下樋と、
    前記第１回転室内に設けられ、前記筒形回転容器と一体に回転し、前記筒形回転容器が前記正回転した場合に、前記第１回転室内の下部に溜まった前記処理対象物をすくい上げて前記流下樋に向けて流下させるリフターとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
19. 前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    前記センター孔に挿通され、前記第１回転室内で回転する回転シャフトと、
    前記回転シャフトから側方に張り出した粉砕ブレードと、
    前記第１回転室内に設けられ、前記筒形回転容器と一体に回転し、前記筒形回転容器が前記正回転した場合に、前記第１回転室内の下部に溜まった前記処理対象物をすくい上げて前記粉砕ブレードに向けて流下させるリフターとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
20. 前記筒形回転容器の前記筒壁と一体に回転する前記第１始端壁と、
    前記第１始端壁の内面に突出形成され、前記センター孔の回りに並べられた複数の前記リフターと、
    前記各リフターに設けられ、前記第１始端壁の内面から突出すると共に前記センター孔の外縁部から前記筒壁の内側面に向かって延びかつ、前記筒壁の内側面に近づくに従って前記正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲したリフター底壁と、
    前記各リフターに設けられ、前記リフター底壁のうち前記第１始端壁から離れた側の縁部から前記正回転方向の前側に突出し、前記第１始端壁との間に処理対象物を収容可能なリフター側壁とを備えたことを特徴とする請求項８，１８，１９の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
21. 前記第１回転室における前記筒壁の内側面から突出して前記筒内中心部に突き合わされた帯板状のリフター底壁の両側に１対のリフター側壁を対向配置してなり、前記リフター底壁が前記筒壁の内側面に近づくに従って前記正回転方向の後側に向かうように屈曲又は湾曲する共に、前記１対のリフター側壁が前記リフター底壁から前記正回転方向の前方に突出した構造を有しかつ、前記筒内中心部の回りに並べられた複数の前記リフターを備えたことを特徴とする請求項８、１８，１９，２０の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
22. 前記筒壁の外面に宛われて放射熱で前記筒形回転容器を加熱する加熱源を備えたことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
23. 前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    前記センター孔に挿通され、前記第１回転室内で発熱する内部ヒーター又は、前記第１回転室内で発光する紫外線ランプ、赤外線ランプ、レーザー又は、光ファイバー、ミラー等の光伝達手段又は、前記第１回転室内にガスを噴射するガス噴射ノズルを備えたことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
24. 前記筒壁と一体に回転し、前記第１回転室を挟んで前記第１終端壁と対向した第１始端壁と、
    前記第１始端壁の中心部に貫通形成されたセンター孔と、
    前記センター孔の開口縁に接続され、前記センター孔を通して前記第１回転室のうち前記センター孔の延長線上の筒内中心部に、プラズマ、光エネルギー、過熱水蒸気、ミスト、火炎、イオン、ガス、塗料、その他の処理雰囲気を生成する雰囲気生成手段と、
    前記センター孔の開口縁と前記雰囲気生成手段との接続部分を気密状態にシールするシール部材と、
    前記筒壁と一体に回転し、前記第２回転室を挟んで前記第１終端壁と対向した第２終端壁と、
    前記第２終端壁の中心部に貫通形成されたサブセンター孔と、
    前記第２終端壁における前記サブセンター孔の開口縁から前記第２回転室の外部に突出したセンター筒部と、
    前記センター筒部に嵌合した嵌合部を有し、前記筒形回転容器内の空気を吸引するための吸引手段と、
    前記センター筒部と前記嵌合部との間を気密状態にシールするサブ摺動シールとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
25. 前記第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が前記第１終端壁に固定されて前記第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が前記処理対象物を前記第２回転室外に排出するための排出大開口になったメッシュ構造のセンターコーンと、
    前記第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で前記正回転方向の前側に屈曲して前記第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、
    前記サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて前記第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、
    前記サブ移送路のうち前記第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、前記センターコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたことを特徴とする請求項１乃至２４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
26. 前記第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、その小径側端部が前記第１終端壁に固定されて前記第１終端壁と一体に回転すると共に、大径側端部の開口が前記処理対象物を前記第２回転室外に排出するための排出大開口になったアウターコーンと、
    前記第２回転室の中心部に沿って延びた円錐台形状をなして、前記アウターコーンの内側に配置され、大径側端部が前記第１終端壁に固定されて前記第１終端壁と一体に回転するメッシュ構造のインナーコーンと、
    前記第１終端壁のうち前記インナーコーンに囲まれた部分に貫通形成され、前記インナーコーンの篩目を通過しなかった前記処理対象物を前記第１回転室に受け入れるための戻し孔と、
    前記第１終端壁の中心部から径方向に沿って延び、途中で前記正回転方向の前側に屈曲して前記第１終端壁の外縁部に沿って円弧状に延びたサブ移送路と、
    前記サブ移送路のうち円弧状部分の先端に設けられて前記第１回転室内に開口した第１終端サブ開口と、
    前記サブ移送路のうち前記第１終端サブ開口の反対側の端部に設けられて、前記インナーコーン内に連通した第２始端サブ開口とを備えたことを特徴とする請求項１乃至２４の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
27. 前記インナーコーンの篩目より大きな粒状の粉砕メディアを収容した前記第１回転室を備えたことを特徴とする請求項２６に記載の容器回転装置。
28. 前記筒壁の軸方向に延びた直線部を有し、その直線部が前記筒壁の周方向全体に亘って分散配置された複数のガス通気路と、
    前記筒壁の内側面に開口し、前記各ガス通気路に連通した複数のガス噴出口と、
    回転不能に固定された固定リングと、前記固定リングに回転可能に連結されかつ前記筒形回転容器と一体に回転する回転リングとを有すると共に、それら固定リングと回転リングとの間に、前記複数のガス通気路の一端部が共通して連通した環状通気路を有したロータリージョイントと、
    前記固定リングに接続され、前記環状通気路にガスを送給するガス送給手段とを備えたことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
29. 前記第１回転室内に充填されかつ液状の前記処理対象物が流下可能な空隙を有する充填部材と、
    前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    前記第１終端壁の中心に貫通形成された終端センター孔と、
    前記センター孔から前記第１回転室内にガスを供給するためのガス供給手段と、
    前記終端センター孔から前記第２回転室内に流入した前記ガスを排気するための排気口とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
30. 前記筒形回転容器の回転に伴って自重で移動して、前記筒形回転容器に衝撃を付与する打撃子を備えたことを特徴とする請求項１乃至７に記載の容器回転装置。
31. 前記筒形回転容器から排気されたガスに含まれる粒子状物質を遠心分離する遠心力集塵部と、
    前記ガスに含まれる前記粒子状物質をフィルターにて濾過分離する１対のフィルター集塵部と、
    前記フィルターに前記ガスの通過方向とは逆向きにエアを通過させて前記フィルターに付着した前記粒子状物質を払い落とすための逆洗手段と、
    前記フィルターから払い落とされた前記粒子状物質を貯留する粒子貯留容器と、
    前記１対のフィルター集塵部の何れか一方と前記遠心力集塵部との間を連通させかつ他方と前記遠心力集塵部との間を遮断することが可能な切替バルブとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の容器回転装置。
32. 水平な回転軸回りで回転駆動される回転受容部と、
    前記回転受容部の内側に挿抜可能に受容されて、前記回転受容部と一体回転するか又は前記回転受容部の内側で転動する前記筒形回転容器とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
33. 前記第１始端壁の中心に貫通形成されたセンター孔と、
    前記第１終端壁の中心に貫通形成された終端センター孔と、
    前記センター孔及び前記終端センター孔に挿通され、前記第１回転室内で回転する回転シャフトと、
    前記回転シャフトに固定された撹拌部材とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
34. 前記筒形回転容器の前記第１始端壁と前記第１終端壁とに設けられて、前記第１回転室に貯留された電解液に接液可能な１対のリング形電極を備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
35. 前記第１回転室の筒壁内面から中心部に向かって略板状に突出しかつ、前記筒形回転容器の軸方向で所定の隙間を空けて配置された複数の撹拌板と、前記複数の各撹拌板に設けられて、それら撹拌板の並び方向で所定のギャップを空けて突き合わされた放電電極対とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
36. 前記第１回転室内に配置された陰極電極及び陽極電極と、
    前記第１回転室に貯留された導電性液体中にそれら陰極電極と陽極電極とを浸漬した状態で、陰極電極と陽極電極との間に電圧を印加して陰極電極の近傍にプラズマを発生させるためのプラズマ用電源とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の容器回転装置。
37. 前記筒形回転容器の外側に配置されたマイクロ波照射装置と、
    前記第１回転室内に配置され、マイクロ波を捕捉して前記第１回転室内に貯留された液体中に定常波を発生させるアンテナとを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
38. 前記第１回転室内に設けられかつ、前記第１回転室に貯留された液体に浸漬されてその液体中に超音波を放射する超音波放射手段と、
    前記第１回転室に貯留された液体に浸漬されてその液体中に光を照射する光照射手段とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
39. 前記筒形回転容器の外面のうち少なくとも前記第１回転室の側方部分を覆って前記筒形回転容器と一体回転すると共に、内部に熱媒体を循環させることで前記筒形回転容器を加熱又は冷却するための熱交換ジャケットを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載の容器回転装置。
40. 前記筒形回転容器を前記中心軸方向で複数分割してなる容器構成体と、
    前記容器構成体同士を固定するための固定手段とを備えたことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１の請求項に記載に容器回転装置。
41. 前記複数の容器構成体の少なくとも１つは構造を異ならせて複数種類設けられ、
    前記筒形回転容器を構成する前記複数の容器構成体の組み合わせを変更可能としたことを特徴とする請求項４０に記載の容器回転装置。

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