JP2013077848A - 電子素子内蔵型印刷回路基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】電子素子内蔵型印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷回路基板は、キャビティが形成された第1基板と、キャビティにフェースダウン方式で内蔵された第1電子素子と、第1電子素子の上側に積層され、キャビティにフェースアップ方式で内蔵された第2電子素子と、第1基板の上下面にそれぞれ積層された第2基板と、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】本発明に係る印刷回路基板は、キャビティが形成された第1基板と、キャビティにフェースダウン方式で内蔵された第1電子素子と、第1電子素子の上側に積層され、キャビティにフェースアップ方式で内蔵された第2電子素子と、第1基板の上下面にそれぞれ積層された第2基板と、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、電子素子内蔵型印刷回路基板及びその製造方法に関する。
電子産業の発達に伴って電子部品の高機能化、小型化がますます求められる傾向にあり、特に個人携帯端末機の軽薄短小化への市場の動きが印刷回路基板の薄型化につながっている。
ここで、従来の素子実装方式とは異なる方式の素子実装方式が注目を浴びているが、ICのような能動部品(Active devices)またはMLCC形態のキャパシタなどの受動部品(Passive devices)を印刷回路基板の内部に実装することにより、部品の高密度化及び信頼性の向上、またはこれらの有機的な結合によるパッケージ自体の性能向上などを求めるエンベデッド印刷回路基板がそれである。
通常、エンベデッド印刷回路基板は、予め製作されたコア基板に電子素子を挿入するための開口部(キャビティ)を形成し、当該位置に電子素子を内蔵した後、絶縁材料を内蔵部品とコア基板との間に満たすことにより、内蔵された部品を固定する構造を有する。
最近、素子を内蔵するにあたって、特に個人携帯端末機の軽薄短小化への市場の動きに対応するために印刷回路基板の小型化、印刷回路基板面の有効利用を実現する要求が高まっており、このような要求に応えるための研究が必要とされている。
本発明は、印刷回路基板のサイズをより小さくし、印刷回路基板の面積を最大限に活用して完成品の軽薄短小を実現できる電子素子内蔵型印刷回路基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一実施形態によれば、キャビティが形成された第1基板と、上記キャビティにフェースダウン(face−down)方式で内蔵された第1電子素子と、上記第1電子素子の上側に積層され、上記キャビティにフェースアップ(face−up)方式で内蔵された第2電子素子と、上記第1基板の上下面にそれぞれ積層された第2基板と、を含む電子素子内蔵型印刷回路基板が提供される。
上記第1電子素子と上記第2電子素子は、互いに大きさが異なってもよい。
また、上記第2基板には層間接続のためのビアが形成され、上記ビアは上記第1電子素子の電極または第2電子素子の電極に直接接触することができる。
本発明の他の実施形態によれば、第1基板にキャビティを形成する工程と、上記第1基板の下面に接着テープを貼り付ける工程と、上記接着テープに載置されるように、上記キャビティに第1電子素子をフェースダウン方式で内蔵する工程と、上記キャビティにフェースアップ方式で内蔵されるように、第2電子素子を上記第1電子素子の上側に積層する工程と、上記第1基板の上下面にそれぞれ第2基板を積層する工程と、を含む電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法が提供される。
上記第1電子素子と上記第2電子素子は、互いに大きさが異なってもよい。
また、上記第2基板に層間接続のためのビアを形成する工程をさらに含み、上記ビアは上記第1電子素子の電極または第2電子素子の電極に直接接触することができる。
本発明の好ましい実施例によれば、本発明は、キャビティに複数の電子素子を垂直に積層して内蔵することにより、印刷回路基板のサイズをより小さくすることができ、印刷回路基板の面積を最大限に活用できるので、完成品の軽薄短小化を実現することができる。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
本発明は多様な変換を加えることができ、様々な実施例を有することができるため、本願では特定実施例を図面に例示し、詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるあらゆる変換、均等物及び代替物を含むものとして理解されるべきである。本発明の説明において、かかる公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨をかえって不明瞭にすると判断される場合、その詳細な説明を省略する。
「第1」、「第2」などの用語は、多様な構成要素を説明するために用いられるに過ぎなく、上記構成要素が上記用語により限定されるものではない。上記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的だけに用いられる。
以下、本発明に係る電子素子内蔵型印刷回路基板及びその製造方法の実施例を添付図面を参照して詳細に説明するが、添付図面を参照して説明することにおいて、同一かつ対応する構成要素は同一の図面番号を付し、これに対する重複説明は省略する。
図1は、本発明の一実施例に係る電子素子内蔵型印刷回路基板を示す断面図である。図1に示すように、本実施例に係る印刷回路基板は、キャビティ12が形成された第1基板10と、上記キャビティ12にフェースダウン方式で内蔵された第1電子素子30と、上記第1電子素子30の図中上側に積層され、上記キャビティ12にフェースアップ方式で内蔵された第2電子素子40と、上記第1基板10の図中上下面にそれぞれ積層された第2基板50a,50bと、を含む。
キャビティ12が形成される第1基板10はコア基板であってもよい。すなわち、絶縁樹脂中にガラス繊維または炭素繊維のような補強材が含浸された構造を有することができる。このように、内部に剛性を補強する補強材が含浸されたコア基板を用いると、第1基板10の反りを低減することができるため、製品の信頼度を向上させることができる。しかし、必ずしもこれに限定されるものではなく、メタルコアを第1基板10として用いることもできるなど、その材質は様々である。
キャビティ12は電子素子30,40を内蔵するために第1基板10に設けられた空間であって、第1基板10にドリル加工などで形成可能である。キャビティ12には電子素子30,40が垂直に積層されて内蔵される。具体的に、図1に示すように、第1電子素子30と、その上に積層される第2電子素子40がキャビティ12に内蔵される。このように1つのキャビティ12に複数の電子素子30,40が垂直に積層されて内蔵されることにより、印刷回路基板のサイズをより小さくすることができるようになる。
ここで、相対的に図中下側に位置した第1電子素子30はフェースダウン方式で内蔵され、相対的に図中上側に位置した第2電子素子40はフェースアップ方式で内蔵される。このような構造から、第1電子素子30は第1基板10の下方へ信号を直接伝達し、第2電子素子40は第1基板10の上方へ信号を直接伝達するように回路を設計できるため、第1基板10の図中上下方向の両方ともを効率的に活用でき、信号伝達経路を最小化することができる。その結果、印刷回路基板の面積を最大限に活用できるため、完成品の軽薄短小化を実現するのに有利である。
第1基板10の図中上下面にはそれぞれ第2基板50a,50bが積層され、第1電子素子30及び第2電子素子40をカバーする。第2基板50a,50bには信号を伝達するための回路56a,56bと、層間接続のためのビア54a、54bが設けられる。このとき、上記ビア54a、54bは第1電子素子30の電極32または第2電子素子40の電極42に直接接触することができる。具体的に、第1基板10の図中上側に積層される第2基板50aに設けられたビア54aは、フェースアップ方式で内蔵された第2電子素子40の電極42に直接接触することができ、第1基板10の図中下側に積層される第2基板50bに設けられたビア54bは、フェースダウン方式で内蔵された第1電子素子30の電極32に直接接触することができる。ビア54a、54bと電極32,42が直接接続すると、再配線のための追加工程が不要となり、信号伝達経路を最小化できるため、製品の性能を向上させることができる。
その他、他のビア58a,58bを用いて第1基板10に設けられた回路14a,14bと第2基板50a,50bに設けられた回路56a,56bとの間の層間接続を実現することができる。
一方、本実施例に係る印刷回路基板は、図1に示すように、第1電子素子30と第2電子素子40の大きさが互いに異なってもよい。本実施例によれば、第1電子素子30と第2電子素子40が垂直に積層されるとともに、第1電子素子30はフェースダウン方式で内蔵され、第2電子素子40はフェースアップ方式で内蔵されるため、これらの間に電気的接続が妨げられることはない。その結果、第1電子素子30と第2電子素子40とは種類、大きさ等が必ずしも同一である必要はなく、互いの種類や大きさが異なる電子素子を用いることができる。そのため、電子素子内蔵型印刷回路基板の機能をより多様化することができ、設計自由度も向上する。しかし、必要によって、第1電子素子30と第2電子素子40とが同一の種類及び同一の大きさを有してもよいことは明らかである。
以上では本発明の一実施例に係る電子素子内蔵型印刷回路基板の構造について説明したが、以下では上述した電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法について説明する。なお、ここでは、図1の電子素子内蔵型印刷回路基板に係る説明と重複する説明については省略する。
図2は、本発明の他の実施形態に係る電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法を示す順序図であり、図3から図9は、本発明の他の実施形態に係る電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法の各工程を示す図面である。
先ず、ステップS110で、図3に示すように、第1基板10にキャビティ12を形成する。キャビティ12は、電子素子30,40を内蔵するために第1基板10に設けられた空間であって、第1基板10にドリル加工などで形成可能である。
一方、キャビティ12が形成される第1基板10が、絶縁樹脂中にガラス繊維または炭素繊維のような補強材が含浸された構造を有するコア基板またはメタルコア基板であってもよいことは上述した通りである。
次に、ステップS120で、図4に示すように、第1基板10の図中下面に接着テープ20を貼り付ける。第1基板10の下面に接着テープ20を貼り付けると、キャビティ12の下側は接着テープ20により閉鎖される。
次に、ステップS130で、図5に示すように、キャビティ12に第1電子素子30をフェースダウン方式で内蔵する。すなわち、第1電子素子30の電極32が図中下側に向かうように内蔵する。結果的に、第1電子素子30の電極が形成された面は接着テープ20に載置されて固定される。
次に、ステップS140で、図6に示すように、第2電子素子40を第1電子素子30の図中上側に積層する。ここで、キャビティ12に第2電子素子40をフェースアップ方式で内蔵する。すなわち、第2電子素子40の電極42が上側に向かうように内蔵する。第1電子素子30と第2電子素子40との間には接着剤35を介在して、これらの間を接着してもよい。ここで、接着剤35は、電子素子を製作する半導体工程において、ウェハーの裏面に塗布するDAF(die attach film)であってもよい。この場合、第1電子素子30の図中上側に第2電子素子40を積層することに当たって、接着剤を塗布する別途の工程を行なわなくてもよい。ここで、第1電子素子30と第2電子素子40のうちの何れか1つにのみ接着剤35を形成してもよく、両方ともに形成してもよい。
一方、第1電子素子30と第2電子素子40の大きさが互いに異なってもよいことは上述した通りである。
次に、ステップS150で、第1基板10の図中上下面にそれぞれ第2基板50a,50bを積層する。具体的に、図7に示すように、第1基板10の図中上側に1次積層工程を行った後、第1基板10の下面に貼り付けられた接着テープ20を除去し、その後、図8に示すように、第1基板10の図中下側に2次積層工程を行う方法を用いてもよい。
次に、図9に示すように、第2基板50a,50bの表面に回路56a,56bをパターニングし、これと共に層間接続のためのビア54a、54bを形成する。上記ビア54a、54bは、第1電子素子30の電極32または第2電子素子40の電極42に直接接触することができる。具体的に、第1基板10の図中上側に積層される第2基板50aに設けられたビア54aは、フェースアップ方式で内蔵された第2電子素子40の電極42に直接接触し、第1基板10の図中下側に積層される第2基板50bに設けられたビア54bは、フェースダウン方式で内蔵された第1電子素子30の電極32に直接接触することができる。このように、ビア54a、54bと電極が直接接続すると、再配線のための追加工程が不要となり、信号伝達経路を最小化できるので、製品の性能を向上するのに有利である。
その他、他のビア58a,58bを用いて第1基板10に設けられた回路14a,14bと第2基板50a,50bに設けられた回路56a,56bとの間の層間接続を実現することができる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
10 第1基板
12 キャビティ
20 接着テープ
30 第1電子素子
35 接着剤
40 第2電子素子
12 キャビティ
20 接着テープ
30 第1電子素子
35 接着剤
40 第2電子素子
Claims (6)
- キャビティが形成された第1基板と、
前記キャビティにフェースダウン方式で内蔵された第1電子素子と、
前記第1電子素子の上側に積層され、前記キャビティにフェースアップ方式で内蔵された第2電子素子と、
前記第1基板の上下面にそれぞれ積層された第2基板と、
を含むことを特徴とする電子素子内蔵型印刷回路基板。 - 前記第1電子素子と前記第2電子素子は、互いに大きさが異なることを特徴とする請求項1に記載の電子素子内蔵型印刷回路基板。
- 前記第2基板には層間接続のためのビアが形成され、
前記ビアは前記第1電子素子の電極または第2電子素子の電極に直接接触することを特徴とする請求項1または2に記載の電子素子内蔵型印刷回路基板。 - 第1基板にキャビティを形成する工程と、
前記第1基板の下面に接着テープを貼り付ける工程と、
前記接着テープに載置されるように、前記キャビティに第1電子素子をフェースダウン方式で内蔵する工程と、
前記キャビティにフェースアップ方式で内蔵されるように、第2電子素子を前記第1電子素子の上側に積層する工程と、
前記第1基板の上下面にそれぞれ第2基板を積層する工程と、
を含むことを特徴とする電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法。 - 前記第1電子素子と前記第2電子素子は、互いに大きさが異なることを特徴とする請求項4に記載の電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法。
- 前記第2基板に層間接続のためのビアを形成する工程をさらに含み、
前記ビアは前記第1電子素子の電極または第2電子素子の電極に直接接触することを特徴とする請求項4または5に記載の電子素子内蔵型印刷回路基板の製造方法。
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