JP2016063002A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板に複数の半導体チップが設けられた半導体装置の薄型化を可能とする。
【解決手段】一の実施形態によれば、半導体装置は、第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ開口部とを有する基板を備える。さらに、前記装置は、前記基板の前記第1面に設けられた第1の半導体チップと、前記基板の前記第2面に設けられ、前記開口部に面する第2の半導体チップとを備える。さらに、前記装置は、前記開口部内において、前記第2の半導体チップの前記基板側の面に接着剤を介して設けられた第3の半導体チップを備える。
【選択図】図1
【解決手段】一の実施形態によれば、半導体装置は、第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ開口部とを有する基板を備える。さらに、前記装置は、前記基板の前記第1面に設けられた第1の半導体チップと、前記基板の前記第2面に設けられ、前記開口部に面する第2の半導体チップとを備える。さらに、前記装置は、前記開口部内において、前記第2の半導体チップの前記基板側の面に接着剤を介して設けられた第3の半導体チップを備える。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、半導体装置およびその製造方法に関する。
半導体装置の回路基板に、複数のメモリチップと、これらのメモリチップの動作を制御する制御チップとを搭載する場合、半導体装置の薄型化が難しいことが問題となる。
例えば、回路基板の上面に第1のメモリチップを搭載し、第1のメモリチップの上面に第2のメモリチップを搭載する場合、第2のメモリチップの上面の高さは、これらのメモリチップを隣接して搭載する場合に比べて高くなる。また、第1のメモリチップの上面に第2のメモリチップを搭載する場合、第2のメモリチップの上面に接続されるボンディングワイヤの最上部の高さは、第2のメモリチップの上面よりもさらに高くなる。よって、回路基板を覆う封止樹脂の厚さが、このボンディングワイヤの最上部の高さに応じて厚くなる。そのため、ボンディングワイヤが、半導体装置の薄型化の妨げとなってしまう。
また、制御チップは一般に、メモリチップと同程度の厚みを有する。よって、回路基板の上面に第1のメモリチップと制御チップとを搭載し、回路基板の下面に第2のメモリチップを搭載する場合、制御チップの上面に接続されるボンディングワイヤの最上部の高さは、第1のメモリチップの上面や制御チップの上面よりも高くなる。よって、回路基板を覆う封止樹脂の厚さが、制御チップ用のボンディングワイヤの高さに応じて厚くなる。そのため、このボンディングワイヤが、半導体装置の薄型化の妨げとなってしまう。
基板に複数の半導体チップが設けられた半導体装置の薄型化を可能とする。
一の実施形態によれば、半導体装置は、第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ開口部とを有する基板を備える。さらに、前記装置は、前記基板の前記第1面に設けられた第1の半導体チップと、前記基板の前記第2面に設けられ、前記開口部に面する第2の半導体チップとを備える。さらに、前記装置は、前記開口部内において、前記第2の半導体チップの前記基板側の面に接着剤を介して設けられた第3の半導体チップを備える。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。図2(a)および図2(b)はそれぞれ、第1実施形態の半導体装置の構造を示す上面図および下面図である。
図1は、第1実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。図2(a)および図2(b)はそれぞれ、第1実施形態の半導体装置の構造を示す上面図および下面図である。
以下、本実施形態の半導体装置の構造を、主に図1を参照して説明する。この説明中において、図2(a)および図2(b)も適宜参照する。
本実施形態の半導体装置は、基板の例である回路基板1と、第1の半導体チップの例である第1のメモリチップ2と、第2の半導体チップの例である第2のメモリチップ3と、第3の半導体チップの例である制御チップ4と、封止樹脂5とを備えている。
[回路基板1]
回路基板1は、第1面S1と、第1面S1の反対側の第2面S2と、第1面S1と第2面S2とをつなぐ第1開口部H1と、第1面S1と第2面S2とをつなぐ第2開口部H2とを有している。符号σ1は、第1開口部H1の側面を示す。符号σ2は、第2開口部H2の側面を示す。符号T1は、回路基板1の厚さを示す。厚さT1は、例えば50μm〜150μmである。
回路基板1は、第1面S1と、第1面S1の反対側の第2面S2と、第1面S1と第2面S2とをつなぐ第1開口部H1と、第1面S1と第2面S2とをつなぐ第2開口部H2とを有している。符号σ1は、第1開口部H1の側面を示す。符号σ2は、第2開口部H2の側面を示す。符号T1は、回路基板1の厚さを示す。厚さT1は、例えば50μm〜150μmである。
図1は、第1面S1や第2面S2に平行で、互いに垂直なX方向およびY方向と、第1面S1や第2面S2に垂直なZ方向とを示している。本明細書においては、+Z方向を上方向として取り扱い、−Z方向を下方向として取り扱う。例えば、図1の第1面S1と第2面S2との位置関係は、第1面S1が第2面S2の上方に位置していると表現される。なお、−Z方向は、重力方向と一致していてもよいし、重力方向と一致していなくてもよい。
回路基板1は、絶縁基板11と、第1および第2配線層12a、12bと、第1および第2絶縁層13a、13bと、第1端子の例である複数の第1接続端子14と、第2端子の例である複数の第2接続端子15と、第3端子の例である複数の第3接続端子16と、複数の第4接続端子17とを備えている。
第1配線層12aと第1絶縁層13aは、回路基板1の上面(第1面S1側の面)に順番に形成されている。第1および第3接続端子14、16は、回路基板1の第1面S1に設けられ、第1配線層12aに電気的に接続されている。第1および第3接続端子14、16は、第2開口部H2付近に配置されている(図2(a)を参照)。
第2配線層12bと第2絶縁層13bは、回路基板1の下面(第2面S2側の面)に順番に形成されている。第2および第4接続端子15、17は、回路基板1の第2面S2に設けられ、第2配線層12bに電気的に接続されている。第2接続端子15は、第1開口部H1付近に配置されている(図2(b)を参照)。第4接続端子17は、本実施形態の半導体装置を外部と接続するための外部接続端子として使用される。
なお、回路基板1は、絶縁基板11と、第1および第2配線層12a、12bと、第1および第2絶縁層13a、13bとを貫通する1つ以上の貫通孔内に、第1配線層12aと第2配線層12bとを電気的に接続する導電層を備えていてもよい。
[第1のメモリチップ2]
第1のメモリチップ2は、回路基板1の第1面S1に搭載されており、接着剤6で回路基板1に接着されている。接着剤6は、第1の接着剤の例である。第1のメモリチップ2は、回路基板1の第1面S1に接着剤6を介して設けられている。符号T2は、第1のメモリチップ2の厚さを示す。厚さT2は、例えば80μm以下である。
第1のメモリチップ2は、回路基板1の第1面S1に搭載されており、接着剤6で回路基板1に接着されている。接着剤6は、第1の接着剤の例である。第1のメモリチップ2は、回路基板1の第1面S1に接着剤6を介して設けられている。符号T2は、第1のメモリチップ2の厚さを示す。厚さT2は、例えば80μm以下である。
第1のメモリチップ2は、第1開口部H1に面する複数の第1接続パッド21を備えている。第1接続パッド21は、第1パッドの例である。各第1接続パッド21は、第1開口部H1内に設けられた第1ボンディングワイヤ51により第2接続端子15に電気的に接続されている。第1ボンディングワイヤ51は、第1ワイヤの例である。
[第2のメモリチップ3]
第2のメモリチップ3は、回路基板1の第2面S2に搭載されており、接着剤7で回路基板1に接着されている。接着剤7は、第2の接着剤の例である。第2のメモリチップ3は、回路基板1の第2面S2に接着剤7を介して設けられている。符号T3は、第2のメモリチップ3の厚さを示す。厚さT3は、例えば80μm以下である。
第2のメモリチップ3は、回路基板1の第2面S2に搭載されており、接着剤7で回路基板1に接着されている。接着剤7は、第2の接着剤の例である。第2のメモリチップ3は、回路基板1の第2面S2に接着剤7を介して設けられている。符号T3は、第2のメモリチップ3の厚さを示す。厚さT3は、例えば80μm以下である。
第2のメモリチップ3は、第2開口部H2に面する複数の第2接続パッド31を備えている。第2接続パッド31は、第2パッドの例である。各第2接続パッド31は、第2開口部H2内に設けられた第2ボンディングワイヤ52により第1接続端子14に電気的に接続されている。第2ボンディングワイヤ52は、第2ワイヤの例である。
[制御チップ4]
制御チップ4は、第2開口部H2内において、第2のメモリチップ3の上面(回路基板1側の面)に搭載されており、接着剤7で第2のメモリチップ3に接着されている。制御チップ4は、第2のメモリチップ3の上面に接着剤7を介して設けられている。符号T4は、制御チップ4の厚さを示す。厚さT4は、例えば80μm以下である。本実施形態の厚さT4は、厚さT2、T3と同程度に設定されている(T4≒T2、T3)。また、本実施形態の厚さT4は、厚さT1より小さくてもよいし、厚さT1より大きくてもよい。制御チップ4は、第1および第2のメモリチップ2、3の動作を制御する。
制御チップ4は、第2開口部H2内において、第2のメモリチップ3の上面(回路基板1側の面)に搭載されており、接着剤7で第2のメモリチップ3に接着されている。制御チップ4は、第2のメモリチップ3の上面に接着剤7を介して設けられている。符号T4は、制御チップ4の厚さを示す。厚さT4は、例えば80μm以下である。本実施形態の厚さT4は、厚さT2、T3と同程度に設定されている(T4≒T2、T3)。また、本実施形態の厚さT4は、厚さT1より小さくてもよいし、厚さT1より大きくてもよい。制御チップ4は、第1および第2のメモリチップ2、3の動作を制御する。
制御チップ4は、複数の第3接続パッド41と、複数の第4接続パッド42とを上面に備えている。第3および第4接続パッド41、42はそれぞれ、第3および第4パッドの例である。各第3接続パッド41は、第3ボンディングワイヤ53により第3接続端子16と電気的に接続されている。各第4接続パッド42は、第4ボンディングワイヤ54により第2接続パッド31と電気的に接続されている。第3および第4ボンディングワイヤ53、54はそれぞれ、第3および第4ワイヤの例である。
以上のように、制御チップ4は、第2開口部H2内に配置されている。よって、本実施形態の第2開口部H2のXY平面内の面積は、第1開口部H1のXY平面内の面積よりも広く設定されている。なお、制御チップ4は、本実施形態では第2ボンディングワイヤ52と同じ開口部(第2開口部H2)内に配置されているが、第2ボンディングワイヤ52と異なる開口部内に配置されていてもよい。
[封止樹脂5]
封止樹脂5は、回路基板1の第1面S1と第2面S2とを覆っている。第1から第4ボンディングワイヤ51〜54や制御チップ4は、封止樹脂5により完全に覆われている。一方、第1のメモリチップ2は、その側面が封止樹脂5で覆われており、その上面が封止樹脂5から露出している。同様に、第2のメモリチップ3は、その側面が封止樹脂5で覆われており、その下面が封止樹脂5から露出している。よって、本実施形態の封止樹脂5の厚さは、おおむねT1+T2+T3である。
封止樹脂5は、回路基板1の第1面S1と第2面S2とを覆っている。第1から第4ボンディングワイヤ51〜54や制御チップ4は、封止樹脂5により完全に覆われている。一方、第1のメモリチップ2は、その側面が封止樹脂5で覆われており、その上面が封止樹脂5から露出している。同様に、第2のメモリチップ3は、その側面が封止樹脂5で覆われており、その下面が封止樹脂5から露出している。よって、本実施形態の封止樹脂5の厚さは、おおむねT1+T2+T3である。
本実施形態の半導体装置はさらに、複数の第1ソルダーボール55を備えている。第1ソルダーボール55は、本実施形態の半導体装置を外部と接続するために使用される。各第1ソルダーボール55は、第4接続端子17に電気的に接続されている。各第1ソルダーボール55は、その側面が封止樹脂5で覆われており、その下面が封止樹脂5から露出している。各第1ソルダーボール55の下面は、封止樹脂5の下面と同じ高さに位置していてもよいし、封止樹脂5の下面より低い高さに位置していてもよい。すなわち、各第1ソルダーボール55の下面は、封止樹脂5の下面からはみ出ていてもよいし、封止樹脂5の下面からはみ出ていなくてもよい。
(1)第1実施形態の比較例
図3は、第1実施形態の比較例の半導体装置の構造を示す断面図である。
図3は、第1実施形態の比較例の半導体装置の構造を示す断面図である。
本比較例の半導体装置は、回路基板1の第1面S1に搭載された第1のメモリチップ2と、第1のメモリチップ2上に搭載された第2のメモリチップ3とを備えている。本比較例の半導体装置はさらに、回路基板1の第1面S1に搭載され、接着剤8で回路基板1に接着された制御チップ4を備えている。本比較例においては、第1から第3接続端子14〜16が回路基板1の第1面S1に設けられ、第4接続端子17が回路基板1の第2面S2に設けられている。
本比較例において、第2のメモリチップ3の上面に接続された第2ボンディングワイヤ52の最上部の高さは、第2のメモリチップ3の上面よりも高い。よって、封止樹脂5の厚さT5は、第1および第2のメモリチップ2、3の厚さの和よりも大きい(T5>T2+T3)。
本比較例の半導体装置の厚さは、おおむね回路基板1の厚さT1と、封止樹脂5の厚さT5と、第1ソルダーボール55の厚さとの和である。よって、本比較例の半導体装置の厚さは、T1+T2+T3よりも大きい。一方、第1実施形態の半導体装置の厚さは、おおむねT1+T2+T3である。よって、第1実施形態の半導体装置の厚さは、本比較例の半導体装置の厚さよりも薄い。
以上のように、本実施形態によれば、第1および第2のメモリチップ2、3をそれぞれ回路基板1の第1面S1と第2面S2とに搭載することにより、半導体装置の厚さを、図3の比較例に比べて薄くすることが可能となる。具体的には、本実施形態によれば、半導体装置の厚さを、値T5−T2−T3と、第1ソルダーボール55の厚さの分だけ、比較例に比べて薄くすることが可能となる。
また、比較例の第2のメモリチップ3を第1面S1から第2面S2に移し替えた場合、比較例の半導体装置の厚さは、おおむね回路基板1の厚さT1と、制御チップ4の第3ボンディングワイヤ53の最上部の高さと、第2のメモリチップ3の厚さT3との和となる。ここで、第3ボンディングワイヤ53の最上部の高さは、制御チップ4の厚さT4よりも大きく、制御チップ4の厚さT4は、第1のメモリチップ2の厚さT2と同程度である。そのため、この場合の半導体装置の厚さは、T1+T2+T3よりも大きくなる。
一方、本実施形態の半導体装置の厚さは、制御チップ4が第2開口部H2内に配置されているため、おおむねT1+T2+T3である。このように、本実施形態によれば、半導体装置の厚さを、制御チップ2を第1面S1または第2面S2に搭載する場合に比べて薄くすることが可能となる。
(2)第1半導体装置の半導体装置の製造方法
図4〜図7は、第1実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
図4〜図7は、第1実施形態の半導体装置の製造方法を示す断面図である。
まず、図1の回路基板1を用意する(図4(a))。次に、回路基板1の第1面S1に第1のメモリチップ2を搭載する(図4(a))。第1のメモリチップ2は、第1のメモリチップ2に塗られた接着剤6により回路基板1に接着される。また、第1のメモリチップ2は、第1接続パッド21が第1開口部H1に面するように搭載される。
次に、回路基板1の上下を反転させる(図4(b))。次に、第1開口部H1内に第1ボンディングワイヤ51を挿入し、このワイヤ51により第1接続パッド21と第2接続端子15とを電気的に接続する(図4(b))。
次に、回路基板1の第2面S2に第2のメモリチップ3を搭載する(図5(a))。第2のメモリチップ3は、第2のメモリチップ3に塗られた接着剤7により回路基板1に接着される。また、第2のメモリチップ3は、第2接続パッド31が第2開口部H2に面するように搭載される。
次に、回路基板1の上下を反転させる(図5(b))。次に、第2開口部H2内において、第2のメモリチップ3の上面に制御チップ4を搭載する(図5(b))。制御チップ4は、第2のメモリチップ3に塗られた接着剤7により第2のメモリチップ3に接着される。
次に、第2開口部H2内に第2ボンディングワイヤ52を挿入し、このワイヤ52により第2接続パッド31と第1接続端子14とを電気的に接続する(図6(a))。次に、第2開口部H2内に第3ボンディングワイヤ53を挿入し、このワイヤ53により第3接続パッド41と第3接続端子16とを電気的に接続する(図6(a))。次に、第2開口部H2内に第4ボンディングワイヤ54を挿入し、このワイヤ54により第4接続パッド42と第2接続パッド31とを電気的に接続する(図6(a))。
次に、回路基板1の第1面S1と第2面S2とを覆う封止樹脂5を形成する(図6(b))。本実施形態の封止樹脂5は例えば、金型を使用したトランスファモールドや、粉末樹脂を使用した圧縮モールドにより形成される。
次に、回路基板1の第2面S2側の封止樹脂5に、レーザーにより複数の開口部5aを形成する(図7(a))。その結果、開口部5a内に第4接続端子17が露出する。
次に、開口部5a内に半田を充填する(図7(b))。その結果、開口部5a内に第1ソルダーボール55が形成される。
なお、図4(a)〜図6(a)の工程は例えば、図4(a)、図5(a)、図5(b)、図4(b)、図6(a)の工程の順に行ってもよい。すなわち、第1のメモリチップ2、第2のメモリチップ3、および制御チップ4を搭載した後に、第1から第4ボンディングワイヤ51〜54をボンディングしてもよい。この場合、回路基板1の反転回数は、2回から4回に増加する。また、図4(a)〜図6(a)の工程を例えば、図4(a)、図5(a)、図5(b)、図6(a)、図4(b)の工程の順に行う場合には、回路基板1の反転回数は3回となる。
以上のように、本実施形態においては、第1および第2のメモリチップ2、3をそれぞれ回路基板1の第1面S1と第2面S2とに搭載し、制御チップ4を第2開口部H2内に搭載する。よって、本実施形態によれば、基板1に複数の半導体チップ2、3、4が設けられた半導体装置の薄型化を実現することが可能となる。
(第2から第4実施形態)
図8は、第2実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。
図8は、第2実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。
第1実施形態の第1ソルダーボール55は、封止樹脂5で覆われている。一方、本実施形態の第1ソルダーボール55は、封止樹脂5から露出している。本実施形態によれば、図7(a)の工程で封止樹脂5に開口部5aを形成せずに、第1ソルダーボール55を形成することができる。
図9は、第3実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。
第1実施形態の第1のメモリチップ2は、その側面が封止樹脂5で覆われ、その上面が封止樹脂5から露出している。一方、本実施形態の第1のメモリチップ2は、その側面と上面が封止樹脂5で覆われている。同様に、本実施形態の第2のメモリチップ3は、その側面と下面が封止樹脂5で覆われている。
本実施形態の構造は例えば、第1および第2のメモリチップの厚さT2、T3が薄い場合に採用される。この場合、第1ボンディングワイヤ51の最下部が第2のメモリチップ3の下面よりも低くなることや、第2ボンディングワイヤ52の最上部が第1のメモリチップ2の上面よりも高くなることがある。これらの場合、本実施形態の構造を採用することにより、第1および第2ボンディングワイヤ51、52を封止樹脂5で覆うことが可能となる。
また、本実施形態の構造は例えば、半導体装置の信頼性を高めたい場合に採用される。本実施形態によれば、第1および第2のメモリチップ2、3の角部付近で封止樹脂5に作用する応力を低減することができる。よって、本実施形態においては、封止樹脂5の温度が変化しても、封止樹脂5が第1および第2のメモリチップ2、3から剥離する可能性が低くなる。
図10は、第4実施形態の半導体装置の構造を示す断面図である。本実施形態の半導体装置は、第1の半導体装置101と、第2の半導体装置102とを備えている。
第1の半導体装置101は、図1の半導体装置と同様の構造を有する。ただし、第1の半導体装置101は、図1に示す構成要素に加えて、複数の第5接続端子18と、複数の第2ソルダーボール56とを備えている。
第5接続端子18は、回路基板1の第1面S1に設けられ、第1配線層12aに電気的に接続されている。第5接続端子18は、第4接続端子17と同様に、第1の半導体装置101を外部と接続するための外部接続端子として使用される。
各第2ソルダーボール56は、第5接続端子18に電気的に接続されている。各第2ソルダーボール56は、その側面が封止樹脂5で覆われ、その上面が封止樹脂5から露出している。各第2ソルダーボール56の上面は、封止樹脂5の上面と同じ高さに位置していてもよいし、封止樹脂5の上面より高い高さに位置していてもよい。すなわち、各第2ソルダーボール56の上面は、封止樹脂5の上面からはみ出ていてもよいし、封止樹脂5の上面からはみ出ていなくてもよい。
第2の半導体装置102は、第1の半導体装置101と同じ構造を有する。すなわち、第2の半導体装置102は、図1に示す構成要素に加えて、複数の第5接続端子18と、複数の第2ソルダーボール56とを備えている。
本実施形態においては、第1の半導体装置101の第1ソルダーボール55と、第2の半導体装置102の第2ソルダーボール56とが互いに接するように、第1の半導体装置101が第2の半導体装置102上に積載されている。その結果、これらのソルダーボール55、56が電気的に接続されており、第1および第2の半導体装置101、102が互いに信号を授受することが可能となる。
なお、第1の半導体装置101の第1ソルダーボール55と第2の半導体装置102の第2ソルダーボール56とが電気的に接続されていれば、第1の半導体装置101の下面と第2の半導体装置102の上面は、互いに接触していてもよいし、互いに離隔されていてもよい。
また、本実施形態の半導体装置は、第1および第2の半導体装置101、102と同じ構造を有する3台以上の半導体装置を積層して構成してもよい。
以上のように、第2から第4実施形態においては、第1および第2のメモリチップ2、3をそれぞれ回路基板1の第1面S1と第2面S2とに搭載し、制御チップ4を第2開口部H2内に搭載する。よって、これらの実施形態によれば、第1実施形態と同様に、基板1に複数の半導体チップ2、3、4が設けられた半導体装置の薄型化を実現することが可能となる。
以上、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例としてのみ提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図したものではない。本明細書で説明した新規な装置および方法は、その他の様々な形態で実施することができる。また、本明細書で説明した装置および方法の形態に対し、発明の要旨を逸脱しない範囲内で、種々の省略、置換、変更を行うことができる。添付の特許請求の範囲およびこれに均等な範囲は、発明の範囲や要旨に含まれるこのような形態や変形例を含むように意図されている。
1:回路基板、2:第1のメモリチップ、3:第2のメモリチップ、
4:制御チップ、5:封止樹脂、5a:開口部、6、7、8:接着剤、
11:絶縁基板、12a:第1配線層、12b:第2配線層、
13a:第1絶縁層、13b:第2絶縁層、
14:第1接続端子、15:第2接続端子、16:第3接続端子、
17:第4接続端子、18:第5接続端子、
21:第1接続パッド、31:第2接続パッド、
41:第3接続パッド、42:第4接続パッド、
51:第1ボンディングワイヤ、52:第2ボンディングワイヤ、
53:第3ボンディングワイヤ、54:第4ボンディングワイヤ、
55:第1ソルダーボール、56:第2ソルダーボール、
101:第1の半導体装置、102:第2の半導体装置
4:制御チップ、5:封止樹脂、5a:開口部、6、7、8:接着剤、
11:絶縁基板、12a:第1配線層、12b:第2配線層、
13a:第1絶縁層、13b:第2絶縁層、
14:第1接続端子、15:第2接続端子、16:第3接続端子、
17:第4接続端子、18:第5接続端子、
21:第1接続パッド、31:第2接続パッド、
41:第3接続パッド、42:第4接続パッド、
51:第1ボンディングワイヤ、52:第2ボンディングワイヤ、
53:第3ボンディングワイヤ、54:第4ボンディングワイヤ、
55:第1ソルダーボール、56:第2ソルダーボール、
101:第1の半導体装置、102:第2の半導体装置
Claims (6)
- 第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ開口部とを有する基板と、
前記基板の前記第1面に設けられた第1の半導体チップと、
前記基板の前記第2面に設けられ、前記開口部に面する第2の半導体チップと、
前記開口部内において、前記第2の半導体チップの前記基板側の面に接着剤を介して設けられた第3の半導体チップと、
を備える半導体装置。 - 前記基板は、前記第1面に設けられた第1端子と、前記第2面に設けられた第2端子とを備え、
前記第1の半導体チップは、前記基板の前記第1面と前記第2面とをつなぐ第1開口部に面する第1パッドを備え、前記第1パッドは、前記第1開口部内に設けられた第1ワイヤにより前記第2端子と電気的に接続されており、
前記第2の半導体チップは、前記基板の前記第1面と前記第2面とをつなぐ第2開口部に面する第2パッドを備え、前記第2パッドは、前記第2開口部内に設けられた第2ワイヤにより前記第1端子と電気的に接続されている、
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の半導体チップは、前記接着剤を介して前記基板の前記第2面に設けられ、
前記第3の半導体チップは、前記第2開口部内に設けられている、
請求項2に記載の半導体装置。 - 前記基板は、前記第1面に設けられた第3端子を備え、
前記第3の半導体チップは、第3ワイヤにより前記第3端子と電気的に接続された第3パッドと、第4ワイヤにより前記第2の半導体チップの前記第2パッドに電気的に接続された第4パッドとを備える、
請求項2または3に記載の半導体装置。 - 第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ開口部とを有する基板を用意し、
前記基板の前記第1面に第1の接着剤を介して第1の半導体チップを搭載し、
前記基板の前記第2面に、前記開口部に面するように第2の接着剤を介して第2の半導体チップを搭載し、
前記開口部内において、前記第2の半導体チップの前記基板側の面に前記第2の接着剤を介して第3の半導体チップを搭載する、
ことを含む半導体装置の製造方法。 - 前記第1の半導体チップは、前記基板の前記第1面と前記第2面とをつなぐ第1開口部に第1パッドが面するように、前記基板の前記第1面に搭載され、
前記第2の半導体チップは、前記基板の前記第1面と前記第2面とをつなぐ第2開口部に第2パッドが面するように、前記基板の前記第2面に搭載され、
さらに、
前記第1開口部内に挿入された第1ワイヤにより、前記第1の半導体チップの前記第1パッドと、前記基板の前記第2面に設けられた第2端子とを電気的に接続し、
前記第2開口部内に挿入された第2ワイヤにより、前記第2の半導体チップの前記第2パッドと、前記基板の前記第1面に設けられた第1端子とを電気的に接続する、
ことを含む請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
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