JP2012068617A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Abstract
Description
最近においては、感光層として電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層からなる機能分離積層型感光体が主流となっており、中でも有機顔料を電荷発生物質として蒸着層または樹脂中に分散させた層を電荷発生層とし、有機低分子化合物を電荷輸送性物質として樹脂中に分散させた層を電荷輸送層として用いる負帯電型感光体が数多く提案されている。
また最近では、電子写真装置は、フルカラー化や高速化が急速に進行しており、それに伴って需要も一般オフィス領域から、SOHO領域あるいは軽印刷領域へと多様化している。特に、軽印刷分野では印刷ボリュームが著しく増大し、かつ画質安定性の要求度が高くなるため、有機感光体の更なる高耐久化、高安定化が必要不可欠である。
これに対し、有機感光体を高耐久化する方法としては、例えば特許文献1のように架橋表面層を設ける方法が提案されている。架橋表面層は光エネルギーや電子線によって硬化する材料を3次元架橋させることにより、耐摩耗性に優れた膜である。さらに、耐摩耗性を向上させるために、無機微粒子や有機微粒子を架橋表面層中に分散させているものもある。これらの架橋表面層を有する感光体は耐摩耗性に対しては効果があるものの、静電安定性に対しては不充分である。
露光部電位の日内変動の場合には、その影響が目につきにくいことと、装置の中で電位を補正できるため、問題としてはそれほど大きくないが、Job内変動が大きいと、その影響が目立つ上、Job内の数十枚あるいは数枚単位で電位が変動すると、電位の補正が困難になるため、深刻な問題となる。特に、軽印刷分野では、一つのJobで同じ画像パターンを大量に印刷する需要があるが、この場合に露光部電位のJob内変動が大きいと画像濃度が変化し、画質一貫性が低下することになる。文字主体の画像パターンであればそれほど目立つことはないが、画像主体でしかもフルカラー画像パターンの場合は、画像濃度の変化だけでなく色味なども変化し、非常に深刻な問題につながる。つまり、感光体の露光部電位を低減し、さらに長期繰り返し印刷における露光部電位変動を日内変動だけでなく、Job内変動を抑制することが要求される。
例えば、特許文献1の特開2006−154796号公報には、少なくとも3官能以上の電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーと電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとを硬化して形成された表面層を有し高耐久性と安定性に優れた高画質が得られる電子写真感光体が記載されている。また特許文献2の特開2007−178813号公報では特定のベンジジン化合物及び特定のトリフェニルアミン化合物からなる群よりそれぞれ1種類ずつ以上選ばれた総計2種類以上の化合物を、重合及び架橋のいずれか一方もしくは両方を行なうことにより得られる重合体に含有させることで、架橋表面層の電気的特性を向上させる方法が提案されているが、電荷輸送材料を重合および架橋させた場合、それらの分子は自由度を失い、電荷輸送機能が低下する。また、反応性の電荷輸送材料を用いているため、未反応の電荷輸送材料が残存している可能性や、架橋反応または重合反応時に電荷輸送構造に何らかの影響があることは充分に考えられる。こうした場合、それらの電荷輸送材料は酸化性ガスなどの影響を受け易く、電荷を蓄積させる要因となるため、静電安定性を悪くする原因となる。
さらに、特許文献5の特開2006−138956号公報では架橋型電荷輸送層中に電荷輸送性ラジカル重合性モノマーだけでなく電荷輸送層と同じ低分子電荷輸送材料を含有させることによって架橋型電荷輸送層を有する感光体の静電安定性を向上させる方法が提案されているが、この場合もやはり、UV照射時に、電荷輸送性ラジカル重合性モノマーや低分子電荷輸送材料の劣化が生じ、静電安定性が低下してしまう。
また、特許文献6の特開2005−62302号公報では少なくともアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有する第一の電荷輸送性化合物と、水酸基を有する第二の電荷輸送性化合物とを含む混合物の硬化物で形成することによって、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基と親和性の高い水酸基を、同一分子内に一つ以上有する電荷輸送性化合物を添加して硬化させることで、三次元的網目架橋構造内部に、水酸基を有する電荷輸送性化合物が組み込まれ、電荷輸送性基の配置が理想的な電荷輸送層を形成することができる旨が記載されているが、水酸基を持つ電荷輸送性化合物は水蒸気との親和性が高いため、環境変動に対する安定性が劣る。また、電荷輸送層内に様々なエネルギー準位を持った電荷輸送材料が存在すると、材料間で電荷移動が阻害し合うために電気特性を悪化させてしまうため、静電安定性は不充分である。
(1)「電子写真感光体は導電性支持体と、該支持体上に少なくとも感光層、及び架橋表面層を有してなり、該架橋表面層は少なくとも一般式(1)に示すカルバゾール化合物と架橋組成物とを含有することを特徴とする電子写真感光体。
(2)「前記一般式(1)に示すカルバゾール化合物が一般式(2)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(1)項に記載の電子写真感光体。
(3)「前記一般式(1)に示すカルバゾール化合物が一般式(3)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(1)項に記載の電子写真感光体。
(4)「前記一般式(2)に示すカルバゾール化合物が一般式(4)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(2)項又は第(3)項に記載の電子写真感光体。
(5)「前記一般式(4)に示すカルバゾール化合物が一般式(5)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(4)項に記載の電子写真感光体。」
(6)「前記一般式(2)に示すカルバゾール化合物が一般式(6)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(1)項に記載の電子写真感光体。
(7)「前記カルバゾール化合物が一般式(7)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする前記第(1)項に記載の電子写真感光体。
(8)「前記架橋組成物は電荷輸送機能を有しないラジカル重合性化合物を重合硬化させて成る架橋組成物であり、該ラジカル重合性化合物の少なくとも1種が3官能以上の官能基を有することを特徴とする前記第(1)項乃至第(7)項のいずれかに記載の電子写真感光体」。
(9)「前記架橋表面層が無機微粒子、又は有機微粒子を含有していることを特徴とする前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の電子写真感光体」。
(10)「前記第(1)項乃至第(9)項のいずれかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置」。
また、本発明は、以下のような態様の感光体、プロセスカートリッジを包含する。
(6a)「該電子写真感光体に含有させる一般式(1)に示すカルバゾール化合物がカルバゾール骨格を1〜3個有することを特徴とする前記第(1)項、第(3)項又は第(4)項に記載の電子写真感光体」。
(8−2)「該架橋表面層は電子線又は光エネルギー照射によって硬化させた架橋膜であることを特徴とする前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の電子写真感光体」。
(9a)「前記ラジカル重合性化合物に対する前記電荷輸送物質の質量比が、0.2以上2.0以下であることを特徴とする前記第(8)項又は第(8−2)項に記載の電子写真感光体」。
(9−2)「前記架橋表面層に対する前記無機微粒子、又は有機微粒子の質量比が0.01以上0.2以下であることを特徴とする前記第(9)項に記載の電子写真感光体」。
(9−3)「前記架橋表面層が熱可塑性樹脂を含有することを特徴とする前記第(1)項乃至第(9−2)項のいずれかに記載の電子写真感光体」。
(9−4)「前記ラジカル重合性化合物に対する前記熱可塑性樹脂の質量比が0.01以上1.00以下であることを特徴とする前記第(9−3)項に記載の電子写真感光体」、
(11)「前記第(1)項乃至第(9−4)項のいずれかに記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段および除電手段よりなる群から選ばれた少なくとも一つの手段を有するものであって、画像形成装置本体に着脱可能としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ」。
電荷輸送材料を含有した光架橋表面層を成膜する場合、架橋表面層内では上記のようにして、電荷輸送材料が分解などの変化を生じるために、様々なエネルギー準位を持った化合物が存在することになる。これらの物質は、感光体の使用経時において種々の特性変化をもたらし、例えば帯電電位の低下、露光部電位の変動、表面抵抗の低下による解像力の低下(画像ボケ)などを引き起こす。
これに対し、架橋反応基を持たないカルバゾール化合物の場合、耐UV性が高いだけでなく架橋硬化過程で膜中に生じるラジカルや、その他反応基に対しても安定であると考えられる。その結果、架橋硬化過程でカルバゾール化合物から副生成物が発生することがなく、長期にわたる静電安定性を維持することが可能になると考えられる。
参考文献1(参考文献1=非特許文献1のDavid S. WEISS and William T. GRUENBAUM:“Ultravioret Light Photofatigue of Organic Photoreceptors” 日本画像学会誌 第47巻 第6号 501-507(2008))ではトリフェニルアミン化合物はUV照射によって劣化し、カルバゾール化合物などの新たな化合物が複数形成されるため、電荷輸送材料としての機能が低下することが報告されている。この文献からも、カルバゾール化合物が耐UV性に優れた材料であり、架橋表面層の電荷輸送物質として用いることで、UV照射時にカルバゾール化合物の劣化がなく、良好な静電特性を維持した感光体を作成できる可能性が類推できる。
前記(2)項記載の感光体に関し、一般式(2)に示すカルバゾール化合物は、一般式(1)に示すカルバゾール化合物の中でも、特に耐UV性が高いためUV硬化時の劣化が小さく、良好な感光体を作成することができる。
前記(3)項記載の感光体に関し、一般式(3)に示すカルバゾール化合物は、一般式(1)で示す電荷輸送物質の中でも、より電荷輸送機能の優れた化合物であり、静電安定性に優れた感光体を作製することができる。
前記(4)項記載の感光体に関し、一般式(4)に示すカルバゾール化合物は、一般式(2)に示すカルバゾール化合物の中でも、電荷輸送機能に優れた化合物であり、かつ一般式(3)に示すカルバゾール化合物の中でも、耐UV性が高いためUV硬化時の劣化が小さく、良好な感光体を作成することができる。
前記(5)項記載の感光体に関し、一般式(5)に示すカルバゾール化合物は、一般式(4)で示す電荷輸送物質の中でも、より電荷輸送機能の優れた化合物であり、長期に亘り静電安定性に優れた感光体を作成することができる。
前記(6a)項記載の感光体に関し、カルバゾール骨格が1〜3個の場合、カルバゾール化合物は低分子量物質となるため、UV架橋時に架橋反応を阻害することがなく、良好な架橋膜を得ることができる。一方、カルバゾール骨格が4個以上の場合、化合物は立体的にかさ高い構造となるため、架橋反応を阻害し、良好な膜を得ることは非常に困難になる。
前記(6)項記載の感光体に関し、一般式(6)に示すカルバゾール化合物は耐UV性および電荷輸送性ともに非常に優れた材料であり、これを用いることにより、静電安定性が非常に優れた感光体を作成することができる。
前記(7)項記載の感光体に関し、一般式(7)に示すカルバゾール化合物は耐UV性および電荷輸送性ともに非常に優れた、架橋硬化過程で発生する反応基に対しても非常に安定な材料であり、これを用いることにより、静電安定性が非常に優れた感光体を作成することができる。
前記(8)項記載の感光体に関し、電荷輸送機能を有しないラジカル重合性化合物を重合硬化させたことにより、架橋膜は3次元網目構造を形成することになり、この構造によって感光体の耐磨耗性を向上させることができる。
前記(8−2)項記載の感光体に関し、電子線又は光エネルギー照射によって硬化させることで、非常に短時間で架橋膜を作成することができる。さらに、架橋膜中に極性を持った未反応部位が残存しにくく、長期に亘って静電安定性に優れた感光体を作成することができる。
前記(9a)項記載の感光体に関し、電荷輸送物質の質量比が高すぎると、静電安定性に優れた感光体になるが、相対的に架橋組成物量が減少し、耐摩耗性が悪くなる。一方、電荷輸送性物質の質量比が低すぎると、耐摩耗性は向上するが、静電安定性が保てなくなる。これらの理由から、電荷輸送物質の質量比は上記の範囲が好ましい。
前記(9)項記載の感光体に関し、3次元網目構造の架橋表面層に、無機微粒子又は有機微粒子を添加することにより、機械的耐久性を飛躍的に向上させることができる。
前記(9−2)項記載の感光体における無機微粒子又は有機微粒子の質量比が0.01以上0.2以下に関し、架橋表面層に対する微粒子の質量比が高すぎると、良好な3次元架橋膜が作製できなくなり、質量比が低すぎると、微粒子添加による機械的耐久性向上の効果が得られない。これらの理由から、架橋表面層の微粒子の質量比は上記の範囲が好ましい。
前記(9−3)項記載の感光体に関し、熱可塑性樹脂を含有させることにより、さらに静電安定性の優れた感光体を形成することができる。原因は定かではないが、熱可塑性樹脂によって架橋膜の柔軟性が向上し、架橋膜中に分散されたカルバゾール化合物の自由度が向上するためと考えられる。
前記(9−4)項記載の感光体における熱可塑性樹脂の質量比が0.01以上1.00以下に関し、熱可塑性樹脂の質量比が高すぎると、相対的に架橋組成物の質量比が減少するため、良好な3次元架橋膜が得られなくなる。一方、質量比が低すぎると、架橋膜に柔軟性を付与する硬化が不十分となり静電安定性向上の効果が得られなくなってしまう。
前記(11)項記載のプロセスカートリッジに関し、プロセスカートリッジとすることで、取り扱いが容易となり、装置のメンテナンス時のダウンタイムを減少させることができる。
図1は、本発明の構成を表わす断面図であり、導電性支持体(31)上に、電荷発生物質と電荷輸送物質を主成分とする感光層(33)が設けられ、更に感光層表面に架橋表面層(39)が設けられてなる。
電荷発生層(35)は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生層(35)には、公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、その代表として、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、他のフタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩系染料等が挙げられる。これら電荷発生物質は単独で用いても2種以上混合して用いても構わない。荷発生層(35)は、電荷発生物質を必要に応じて結着樹脂と共に適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成される。
電荷輸送物質には、電子輸送物質と正孔輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。
また単層構成の感光層(33)の場合には、高感度化のために電荷輸送物質として、前述の電子輸送物質を併用することが好ましい。
単層構成の感光層(33)において、電荷発生物質は感光層全体に対して0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜5重量%が適当である。電荷発生物質の濃度が低いと感光体感度が低下する傾向にあり、濃度が高くなると帯電性や膜強度が低下する傾向にある。電荷輸送物質の含有量は、結着樹脂100質量部に対し、30〜200重量部とすることが好ましい。また電子輸送物質の含有量は結着樹脂100重量部に対し、30〜200重量部とすることが好ましい。感光層の膜厚は50μm以下が好ましく、解像度・応答性の点から25μm以下とすることが好ましい。下限値に関しては、使用するシステム(特に帯電電位等)により異なるが、5μm以上が好ましい。
架橋表面層は電荷輸送機能を有さないラジカル重合性化合物と一般式(1)に示す電荷輸送物質とを主成分とする層である。
感光体の架橋表面層に好ましく用いられる電荷輸送性を有しない3官能以上のラジカル重合性化合物とは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を3個以上有する化合物を指す。このラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素2重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、3個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に3個以上ある化合物とアクリル酸(塩)、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、3個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を3個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なってもよい。
すなわち、本発明において好適に用いられる上記ラジカル重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、HPA変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、HPA変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、ECH変性グリセロールトリアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、PO変性グリセロールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は2種類以上を併用してもよい。
本発明に用いられる式(1)に示す電荷輸送物質としては以下のようなものが挙げられる。式(1)にこれらのカルバゾール誘導体は一般的に市販されているものを用いることができ、日本蒸留株式会社や東京化成工業株式会社などで合成されている。また、示す電荷輸送物質としてはこれらに限定するものではない。
これらの重合開始剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物100重量部に対し、0.5〜40重量部、好ましくは1〜20重量部である。
硬化終了後は、残留溶媒低減のため100〜150℃で10分〜30分加熱して、本発明の感光体を得る。
すなわち、有機性フィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂粉末、シリコ−ン樹脂粉末、a−カ−ボン粉末等が挙げられ、無機性フィラー材料としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、酸化珪素、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス等の金属酸化物、チタン酸カリウムなどの無機材料が挙げられる。特に、フィラーの硬度の点からは、この中でも無機材料を用いることが有利である。特に金属酸化物が感光体の静電特性への副作用が小さく良好に用いられ、さらには、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタンが有効に使用できる。またコロイダルシリカやコロイダルアルミナなどの微粒子も有効に使用できる。
これらフィラー材料は単独もしくは2種類以上混合して用いられる。
また、下引き層には、モアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
各層に添加できる酸化防止剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
(a)フェノ−ル系化合物
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾ−ル、ブチル化ヒドロキシアニソ−ル、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノ−ル、n−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]クリコ−ルエステル、トコフェロ−ル類など。
(b)パラフェニレンジアミン類
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
(c)ハイドロキノン類
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
(d)有機硫黄化合物類
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネ−ト、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネ−ト、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネ−トなど。
(e)有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィンなど。
(a)リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ−2−エチルヘキシル、リン酸トリフェニルなど。
(b)フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
(c)芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−n−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。
(d)脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−n−オクチル、アジピン酸−n−オクチル−n−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−n−オクチル、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジ−2−エトキシエチル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−n−オクチルなど。
(e)脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリンなど。
(f)オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチルなど。
(g)エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
(h)二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−2−エチルブチラートなど。
(i)含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
(j)ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
(k)スルホン酸誘導体
p−トルエンスルホンアミド、o−トルエンスルホンアミド、p−トルエンスルホンエチルアミド、o−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−N−エチルアミド、p−トルエンスルホン−N−シクロヘキシルアミドなど。
(l)クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ−2−エチルヘキシル、アセチルクエン酸−n−オクチルデシルなど。
(m)その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、2−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチルなど。
(a)炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレンなど。
(b)脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
(c)脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
(d)エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
(e)アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロールなど。
(f)金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
(g)天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウなど。
(h)その他
シリコーン化合物、フッ素化合物など。
(a)ベンゾフェノン系
2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ4−メトキシベンゾフェノンなど。
(b)サルシレート系
フェニルサルシレート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエートなど。
(c)ベンゾトリアゾール系
(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ3’−ターシャリブチル5’−メチルフェニル)5−クロロベンゾトリアゾール
(d)シアノアクリレート系
エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、メチル2−カルボメトキシ−3−(パラメトキシ)アクリレートなど。
(e)クエンチャー(金属錯塩系)
ニッケル(2,2’チオビス(4−t−オクチル)フェノレート)ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートなど。
(f)HALS(ヒンダードアミン)
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなど。
図4は、画像形成装置の一例を示す概略図である。感光体を帯電させる手段として、帯電チャージャ(3)が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。特に本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような、感光体組成物の分解の原因となる帯電手段からの近接放電が生じるような帯電手段を用いた場合に特に有効である。ここで言う接触帯電方式とは、感光体に帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば帯電ローラが感光体表面と帯電手段との間に200μm以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、大きすぎた場合には帯電が不安定になりやすく、また、小さすぎた場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材表面が汚染されてしまう可能性がある。したがって、空隙は10〜200μm、好ましくは10〜100μmの範囲が適当である。
また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ(13)を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ(2)、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
以下に示す材料を用いて、下引き層用塗布液Aを調製した。
二酸化チタン粉末タイベークCR−EL(石原産業社製) 400部
メラミン樹脂スーパーベッカミンG821−60(DIC社製) 65部
アルキッド樹脂ベッコライトM6401−50(DIC社製) 120部
2−ブタノン 400部
以下に示す材料を用いて、電荷発生層用塗布液Bを調製した。
チタニルフタロシアニン 8部
ポリビニルブチラールのエスレックBX−1(積水化学工業社製) 5部
2−ブタノン 400部
図3に、用いたチタニルフタロシアニンの粉末X線回折スペクトルを示す。
以下に示す材料を用いて電荷輸送層用塗布液Cを調製した。
ポリカーボネートのZポリカ(帝人化成社製) 10部
構造式(A)に示す電荷輸送物質 9部
テトラヒドロフラン 100部
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99) 8部
電荷輸送物質として非架橋性のカルバゾール化合物(NO.10) 10部
無機微粒子として酸化アルミナ(AA05 住友化学社製) 2部
熱可塑性樹脂としてポリカーボネートのZポリカ(帝人化成社製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
図6に、用いた電荷輸送物質のUV照射前後での吸光度スペクトル変化測定結果を示す。
アルミニウムシリンダー上に、下引き層用塗布液A、電荷発生層用塗布液B及び電荷輸送層用塗布液Cを、浸漬塗工法により順次塗布した後、乾燥し、厚さが3.5μmの下引き層、厚さが0.2μmの電荷発生層及び厚さが23μmの電荷輸送層を積層した。さらに、架橋表面層用塗布液Dを、スプレー塗工法により塗布した後、光エネルギー照射を行ない、130℃、30分で乾燥し、厚さ5μmの架橋表面層を積層し、感光体を作製した。
架橋表面層の熱可塑性樹脂としてポリカーボネートのZポリカの代わりに熱可塑性樹脂(TW−257 旭電化工業社製)を用いた以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの熱可塑性樹脂(Pc−Z 帝人社製)の混合量を2部から0.1部に変更した以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの熱可塑性樹脂(Pc−Z 帝人社製)の混合量を2部から8部に変更した以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの熱可塑性樹脂(Pc−Z 帝人社製)の混合量を2部から10部に変更した以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
以下に示す材料を用いて、架橋表面層用塗布液Dを調製した以外は、実施例1と同様に感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99) 10部
電荷輸送物質として化合物(NO.10) 10部
光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.5部
無機微粒子として酸化アルミナ(AA05 住友化学社製) 0.2部
テトラヒドロフラン 100部
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の代わりに酸化アルミナ(AA03 住友化学社製)に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の代わりに酸化チタン微粒子(CR97:石原産業製)に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の代わりにフッ素樹脂粒子(MPE−056、三井デュポンフロロケミカル社製)に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の代わりにフラーレン(東京化成工業社製)変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の混合量を0.2部から1部に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の混合量を0.2部から2部に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の混合量を0.2部から4部に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層用塗布液Dの酸化アルミナ(AA05 住友化学社製)の混合量を0.2部から6部に変更した以外は、実施例6と同様にして、感光体を作製した。
以下に示す材料を用いて、架橋表面層用塗布液Dを調製した以外は、実施例1と同様に感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99) 10部
電荷輸送物質として化合物(NO.10) 10部
光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.5部
テトラヒドロフラン 100部
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から2部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から6部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から14部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から20部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から1部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送物質の含有量を10部から22部に変更した以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99)の代わりに、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPCA−120、日本化薬製、分子量:1947、官能基数:6官能、分子量/官能基数=325)を用いた以外は、実施例21と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99)の代わりに、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPCA−60、日本化薬製、分子量:1263、官能基数:6官能、分子量/官能基数=211)を用いた以外は、実施例21と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99)の代わりに、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(和光純薬製、分子量:226、官能基数:2官能、分子量/官能基数=113)を用いた以外は、実施例21と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、化合物(NO.22)を用いた以外は、実施例24と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、化合物(NO.24)を用いた以外は、実施例24と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、化合物(NO.16)を用いた以外は、実施例24と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、化合物(NO.7)を用いた以外は、実施例24と同様にして、感光体を作製した。
以下に示す材料を用いて、架橋表面層用塗布液Dを調製した以外は、実施例1と同様に感光体を作製した。
電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、日本化薬社製、分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99) 5部、およびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPCA−120、日本化薬製、分子量:1947、官能基数:6官能、分子量/官能基数=325) 5部
電荷輸送物質として化合物(NO.7) 10部
光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.5部
無機微粒子として酸化アルミナ(AA03 住友化学社製) 0.1部
テトラヒドロフラン 100部
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.10)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.14)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.15)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.16)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.19)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.20)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.21)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.22)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.7)の代わりに、化合物(NO.24)を用いた以外は、実施例29と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(1)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
図7に、用いた電荷輸送物質のUV照射前後での吸光度スペクトル変化測定結果を示す。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(2)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(3)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(4)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(5)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層を設けず、電荷輸送層の厚さを23μmから28μmに変更した以外は実施例1と同様にして、感光体を作製した。
架橋表面層の電荷輸送材料として、化合物(NO.10)の代わりに、下記構造式(6)に示す化合物を用いた以外は、実施例15と同様にして、感光体を作製した。
実施例1〜38及び比較例1〜7の感光体を装着したプロセスカートリッジを、タンデム方式のフルカラーデジタル複写機imagio MPC7500(リコー社製)の改造機に搭載して、書き込み率が5%のチャートを20万枚印刷し、初期及び10万枚印刷後および20万枚印刷後の露光部電位(VL)、露光部電位(VL)のJob内変動、画像品質および機械的耐久性を評価した。ここで、書き込み率が5%のチャートは、A4の全面積に対して、画像面積として5%相当の文字が平均的に書かれているチャートである。
なお、露光部電位(VL)のJob内変動は、まず印刷前の感光体の露光部電位(VL)を測定した。次に、50枚の連続印刷を10回繰り返した後、印刷後の感光体の露光部電位(VL)を測定した。露光部電位(VL)のJob内変動はこれら印刷前後の感光体の露光部電位(VL)の差である。このとき、露光部電位(VL)のJob内変動が問題ないレベルである場合を◎、露光部電位(VL)のJob内変動が若干認められるが、補正できる範囲内で問題ないレベルである場合を○、露光部電位(VL)のJob内変動が明らかに認められ、補正できる範囲外で若干問題があるレベルである場合を△、露光部電位(VL)のJob内変動が大きく、問題があるレベルである場合を×として、判定した。また、初期及び10万枚印刷後の感光体膜厚測定および目視での表面観察により機械的耐久性(耐摩耗性および耐傷性)の評価を行った。摩耗量、表面状態ともに良好なレベルである場合を◎、摩耗や、表面に若干の傷が見られるが問題ないレベルである場合を○、摩耗量は多いが表面の傷は少なく、画像上問題ないレベルである場合を△、摩耗量も表面の傷も多く、画像上許容できないレベルである場合を×として、判定した。
評価結果を表2に示す。
一方、比較例1〜3の感光体は、初期の画像品質は良好であるが、10万枚印刷後の画像品質が劣化する。比較例4の感光体は、10万枚印刷後において、画像品質が良好であるが、露光部電位(VL)のJob内変動を抑制することができない。比較例5の感光体は、10万枚印刷後において、画像濃度は良好であったが、露光部電位(VL)のJob内変動を抑制することができない。比較例6の感光体は10万枚印刷後の電気特性の劣化が大きく、摩耗量が非常に多く、傷も多数発生していた。また、比較例7の感光体は初期の光減衰特性が非常に悪かったため実機評価は行っていない。
2 除電ランプ
3 帯電チャージャ
5 画像露光部
6 現像ユニット
7 転写前チャージャ
8 レジストローラ
9 転写体
10 転写チャージャ
11 分離チャージャ
12 分離爪
13 クリーニング前チャージャ
14 ファーブラシ
15 クリーニングブレード
31 導電性支持体
33 感光層
35 電荷発生層
37 電荷輸送層
39 架橋表面層
101 感光体
102 帯電手段
103 露光手段
104 現像手段
105 転写体
106 転写手段
107 クリーニング手段
Claims (10)
- 電子写真感光体は導電性支持体と、該支持体上に少なくとも感光層、及び架橋表面層を有してなり、該架橋表面層は少なくとも一般式(1)に示すカルバゾール化合物と架橋組成物とを含有することを特徴とする電子写真感光体。
〔(1)式中、R1乃至R9は、各々独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよい飽和あるいは不飽和の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、アミノ基、置換基を有していてもよいジアルキルアミノ基又は置換基を有していてもよいジアリールアミノ基を表わし、R3及びR4、R4及びR5、R6及びR7、R7及びR8は、それぞれ互いに結合して芳香族環を形成していてもよい。〕」。 - 前記一般式(1)に示すカルバゾール化合物が一般式(3)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
〔(3)式中、R2乃至R14は、各々独立して、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよい飽和あるいは不飽和の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、アミノ基、置換基を有していてもよいジアルキルアミノ基又は置換基を有していてもよいジアリールアミノ基を表わし、R3及びR4、R4及びR5、R6及びR7、R7及びR8、R11及びR12、R12及びR13は、それぞれ互いに結合して芳香族環を形成していてもよい。〕 - 前記一般式(2)に示すカルバゾール化合物が一般式(4)に示すカルバゾール化合物であることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の電子写真感光体。
- 前記架橋組成物は電荷輸送機能を有しないラジカル重合性化合物を重合硬化させて成る架橋組成物であり、該ラジカル重合性化合物の少なくとも1種が3官能以上の官能基を有することを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記架橋表面層が無機微粒子、又は有機微粒子を含有していることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置。
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