JPS58122553A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS58122553A JPS58122553A JP20366881A JP20366881A JPS58122553A JP S58122553 A JPS58122553 A JP S58122553A JP 20366881 A JP20366881 A JP 20366881A JP 20366881 A JP20366881 A JP 20366881A JP S58122553 A JPS58122553 A JP S58122553A
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- JP
- Japan
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- layer
- polyurethane
- protective layer
- resin
- binder
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14769—Other polycondensates comprising nitrogen atoms with or without oxygen atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真感光体、特に有機感光層を具えて成る
電子写真感光体に関するものである。
電子写真感光体に関するものである。
現在までに、可視光を吸収して荷電キャリア(以下拳に
「キャリア」という。)を発生するキャリア発生#17
+1(以下「c!GMJという。)を含有して収るキャ
リア発生層(以下[0GLJという。)と、このOGL
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送性物質(以下「cTMjと
いう。)を含有して成るキャリア輸送層(以下1”0T
LJという。)とを組合せることにより、有機物質より
成るCGM及び・CTMを用いて電子写真感光体の感光
層を構成せしめることが提案されている。このように、
キャリアの発生と、その輸送という感光層において必要
な2つの基礎的機能を、別個の層に分担せしめることに
より、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が広範と
なる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独立に選
定することが可能となり、又そうすることにより、電子
写真プロセスにおいて要求される諸物件、例えば帯電せ
毛めたときの表面電位が高く、電荷保持能が太會く、光
感度が高く、又反復使用における安定性が大きい等の優
れた特性を有する電子写真感光体を構成せしめることが
可能となる。
「キャリア」という。)を発生するキャリア発生#17
+1(以下「c!GMJという。)を含有して収るキャ
リア発生層(以下[0GLJという。)と、このOGL
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送性物質(以下「cTMjと
いう。)を含有して成るキャリア輸送層(以下1”0T
LJという。)とを組合せることにより、有機物質より
成るCGM及び・CTMを用いて電子写真感光体の感光
層を構成せしめることが提案されている。このように、
キャリアの発生と、その輸送という感光層において必要
な2つの基礎的機能を、別個の層に分担せしめることに
より、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が広範と
なる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独立に選
定することが可能となり、又そうすることにより、電子
写真プロセスにおいて要求される諸物件、例えば帯電せ
毛めたときの表面電位が高く、電荷保持能が太會く、光
感度が高く、又反復使用における安定性が大きい等の優
れた特性を有する電子写真感光体を構成せしめることが
可能となる。
しかしながら、以上の如き111i能分離型感光体とも
いうべき電子写真感光体は、反復される電子写真プロセ
スにおいて短朗関の間は優れたiI!II像影成特像影
光特性ることか可能であるが、1々の外的要因による劣
化、即ち、繰り返して行なわれる紙…1との接触及びク
リーニング操作による損t!1等の機械的な劣化、及び
紫外線、オゾン等による感光層物質の什学的劣化、更に
は湿度による感光層物資の劣化に起因する耐久性の吐さ
、その他の点でなお電子写真感光体としての要求を充分
に満足するものではない。
いうべき電子写真感光体は、反復される電子写真プロセ
スにおいて短朗関の間は優れたiI!II像影成特像影
光特性ることか可能であるが、1々の外的要因による劣
化、即ち、繰り返して行なわれる紙…1との接触及びク
リーニング操作による損t!1等の機械的な劣化、及び
紫外線、オゾン等による感光層物質の什学的劣化、更に
は湿度による感光層物資の劣化に起因する耐久性の吐さ
、その他の点でなお電子写真感光体としての要求を充分
に満足するものではない。
従来の有機感光層を其えて成る機能分離型感光体は、一
般に上述の如き欠点を有し、実際に電子写真プロセスに
適用した場合の耐刷性は1〜2万コピー、特に改良され
たものであっても2〜2.5万コピーが限度である。
般に上述の如き欠点を有し、実際に電子写真プロセスに
適用した場合の耐刷性は1〜2万コピー、特に改良され
たものであっても2〜2.5万コピーが限度である。
以上のような背景から、有−感光層の表面に保護層を設
けることが種々研究されている。例えば特開昭51−7
0646号公報には、少なくとも1種の有−光導電性物
質を翫合体バインダー中に0.1〜80重飯%の割合で
含有せしめて成る保護層を有m感九層上に設けることが
開示されている。
けることが種々研究されている。例えば特開昭51−7
0646号公報には、少なくとも1種の有−光導電性物
質を翫合体バインダー中に0.1〜80重飯%の割合で
含有せしめて成る保護層を有m感九層上に設けることが
開示されている。
斯かる保護層によれば、残留電荷の蓄積及び*械的g1
度については成る桿度改良されるが、反復使用に伴う静
電荷像形成特性の劣化は敗勢されない特開昭55−15
7748号公報には、一般式で表わされる化合apl又
は一般式 で表わされる仕合物を含有して成る保II層が開示され
ているが、これらの保護層は、同様に残留電荷の蓄積及
び機械的弛度の点では有効であっても、S ′ft、層
の耐久性を改良するものではない。
度については成る桿度改良されるが、反復使用に伴う静
電荷像形成特性の劣化は敗勢されない特開昭55−15
7748号公報には、一般式で表わされる化合apl又
は一般式 で表わされる仕合物を含有して成る保II層が開示され
ているが、これらの保護層は、同様に残留電荷の蓄積及
び機械的弛度の点では有効であっても、S ′ft、層
の耐久性を改良するものではない。
本発明の目的は、有1!!&感光層を有し、しかも機械
的強度が大きく、且つ電子写真プロセスに反復使用して
も静電荷像形成特性の劣化が非常に少なく、著しく大き
い耐久性を有する電子φ哀感光体を提供するにある。
的強度が大きく、且つ電子写真プロセスに反復使用して
も静電荷像形成特性の劣化が非常に少なく、著しく大き
い耐久性を有する電子φ哀感光体を提供するにある。
本発明の他の目的は、有−Le′#:、PIkを有し、
耐久性が大きく、且つ残留電位が吐くでしかも帯電時に
高い4!fI電電位が得られ、静電荷像形成特性に優れ
ていて良好な画像を多数回に亘って形成することのでき
る電子写真感光体を提供するにある。
耐久性が大きく、且つ残留電位が吐くでしかも帯電時に
高い4!fI電電位が得られ、静電荷像形成特性に優れ
ていて良好な画像を多数回に亘って形成することのでき
る電子写真感光体を提供するにある。
本発明の目的は、CTMを含有する層を有する有m感九
層上に、前記CTMと同一のCTMをポリウレタンを主
成分とするバインダー中に含有せしめて成る保#層を設
けて電子写真感光体を構成せしめることによって達成さ
れる。
層上に、前記CTMと同一のCTMをポリウレタンを主
成分とするバインダー中に含有せしめて成る保#層を設
けて電子写真感光体を構成せしめることによって達成さ
れる。
以下図面によって本発明を具体的に説明すると、本発明
においては、例えば第1図に示すように、導電性支持体
l上に(3GL 2を形成し、更にこのCGLQ上ニG
’I’ Mラミ有り、7aる0TL8を形成し、この
(3T L8上に、前記0TL8におけるCTMと同一
物資を、ポリウレタンを主成分とするバインダー中(含
有せしめて成る保護層4を設けて電子写真感光体を構成
せしめる。
においては、例えば第1図に示すように、導電性支持体
l上に(3GL 2を形成し、更にこのCGLQ上ニG
’I’ Mラミ有り、7aる0TL8を形成し、この
(3T L8上に、前記0TL8におけるCTMと同一
物資を、ポリウレタンを主成分とするバインダー中(含
有せしめて成る保護層4を設けて電子写真感光体を構成
せしめる。
前記導電性支持体lの材料としては、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジウム
、鋼、白金、金、ステンレス晴、真−等の金−或いは金
@酸化物等の導電性物質を用いることができる。しかし
これらに限定されるものではなく、例えば絶縁性幕体上
にこれらの物質から成る導電層を設けて導電性支持体を
構成せしめることもでき、この場合において絶縁性銃体
としては、紙、プラスチック等の可撓性を有ししかも引
張り等の応力に対して充分な強度を有するものが適当で
ある。又導電層は金属又は金−酸仕物等の導電性物質を
ラミネートし、或いは真空蒸着せしめる方法により、又
はその他の方法によって設けることができる。
ム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジウム
、鋼、白金、金、ステンレス晴、真−等の金−或いは金
@酸化物等の導電性物質を用いることができる。しかし
これらに限定されるものではなく、例えば絶縁性幕体上
にこれらの物質から成る導電層を設けて導電性支持体を
構成せしめることもでき、この場合において絶縁性銃体
としては、紙、プラスチック等の可撓性を有ししかも引
張り等の応力に対して充分な強度を有するものが適当で
ある。又導電層は金属又は金−酸仕物等の導電性物質を
ラミネートし、或いは真空蒸着せしめる方法により、又
はその他の方法によって設けることができる。
前記0GL2は、CGMを主体とするものであリ、その
OGMは、可視光を吸収してフリーキャリアが発生する
ものであればよい。そしてこのCGMを真空蒸着せしめ
る方法により、或いは(3GMを適当な# @に溶解若
しくは分数せしめたものを塗布し乾燥せしめる方法によ
って、前記導電性支持体1上に(3GL2を形成するこ
とが−きる。
OGMは、可視光を吸収してフリーキャリアが発生する
ものであればよい。そしてこのCGMを真空蒸着せしめ
る方法により、或いは(3GMを適当な# @に溶解若
しくは分数せしめたものを塗布し乾燥せしめる方法によ
って、前記導電性支持体1上に(3GL2を形成するこ
とが−きる。
後者の塗布工棉を含む形成方法においては、必要に応じ
て、バインダー、或いは特定乃至非特定の極性のキャリ
アに対して大きなfije度を示す物質即ちOTMfI
:添υ口することができる。
て、バインダー、或いは特定乃至非特定の極性のキャリ
アに対して大きなfije度を示す物質即ちOTMfI
:添υ口することができる。
このようにして形成されるCGL2の厚さは好ましくは
0005〜20μm1特に好ましくは0.05〜10μ
mである。
0005〜20μm1特に好ましくは0.05〜10μ
mである。
前記0GL2を構成するCGMとしては、各種の有機色
素を用いることかで6きるが、具体的には次のようなも
のを挙げることができる。
素を用いることかで6きるが、具体的には次のようなも
のを挙げることができる。
1)金−7クロシアニン、焦合−7タロシアニン等のフ
タロシアニン七色素 2)七ノアゾ色禦、ビスアゾ色素得のアゾ糸色素3)ペ
リレン酸無水物、ペリレン酸イミド得のペリレンオ色素 4) インジゴ、チオインジゴ等のインジゴイド色素 5)アントアン10ン、ジベンズピレンキノン、ビラン
トロン、ビオラントロン、イソビオラントロン等の多環
キノン系色素 6) アントラキノンン色素 7)キナクリドン系色素 8) シアニン糸色素 9) ベンズイミダゾール系色素 10)ジオキサンに色素 以上の如きCGMと共に0GLEを形成するバインダー
としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹&、酢酸ビニ
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド物産、ポリカー
ボネート樹脂等の付加型重合体樹脂、重付i1[1型重
合体樹脂、重縮合型重合体樹脂、並びにこれらの樹脂の
繰り返し単位のうちの2以−トを含む共重合体樹脂、例
えば塩化ビニル−酢酸ビニル簗重合体樹脂、壌仕ビニル
ー無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙けることができる
。しかし、バインダーはこれらのものに限定されるもの
ではなく、犀「かる用lに一般に用いられるすべての樹
脂を使用することかできる。
タロシアニン七色素 2)七ノアゾ色禦、ビスアゾ色素得のアゾ糸色素3)ペ
リレン酸無水物、ペリレン酸イミド得のペリレンオ色素 4) インジゴ、チオインジゴ等のインジゴイド色素 5)アントアン10ン、ジベンズピレンキノン、ビラン
トロン、ビオラントロン、イソビオラントロン等の多環
キノン系色素 6) アントラキノンン色素 7)キナクリドン系色素 8) シアニン糸色素 9) ベンズイミダゾール系色素 10)ジオキサンに色素 以上の如きCGMと共に0GLEを形成するバインダー
としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹&、酢酸ビニ
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド物産、ポリカー
ボネート樹脂等の付加型重合体樹脂、重付i1[1型重
合体樹脂、重縮合型重合体樹脂、並びにこれらの樹脂の
繰り返し単位のうちの2以−トを含む共重合体樹脂、例
えば塩化ビニル−酢酸ビニル簗重合体樹脂、壌仕ビニル
ー無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙けることができる
。しかし、バインダーはこれらのものに限定されるもの
ではなく、犀「かる用lに一般に用いられるすべての樹
脂を使用することかできる。
又前記(3GLに必要に応じてm+えることのできる特
定乃至非特定の極性のキャリアに炉して大きな移動度を
示す物質、即ちCTMとしては、後述するものから選ん
だものを使用することができる。
定乃至非特定の極性のキャリアに炉して大きな移動度を
示す物質、即ちCTMとしては、後述するものから選ん
だものを使用することができる。
本発明における0TL8は、前記OGLにおいて発生し
た正又は負のキャリアの何れか一方又は両力を輸送する
機能を有する(3TMを主体とするものである。即ちこ
のOTL8は少なくともOTMを含有し史に心象に応じ
て−くインダー並びにルイス酸及び/又はブレンステッ
ド酸を含有せしめることかできる。そしてこれらのGT
L成分の溶液を前記CGLZ上に塗布し乾燥せしめるこ
とによってOT L 8を形成することができる。
た正又は負のキャリアの何れか一方又は両力を輸送する
機能を有する(3TMを主体とするものである。即ちこ
のOTL8は少なくともOTMを含有し史に心象に応じ
て−くインダー並びにルイス酸及び/又はブレンステッ
ド酸を含有せしめることかできる。そしてこれらのGT
L成分の溶液を前記CGLZ上に塗布し乾燥せしめるこ
とによってOT L 8を形成することができる。
このOTLにおける各成分の割合は、07M100車に
都に対して、Iシイシダー0〜400重wt a’、
、ルイス醗0〜10重量部、プレンステ・ンド酸0〜1
0重iisの範囲内であることが望ましく、特にバイン
ダー100−200重量部、ルイス酸0〜5重1gt&
、ブレンステッド@θ〜5重置部であることが一層好ま
しい。
都に対して、Iシイシダー0〜400重wt a’、
、ルイス醗0〜10重量部、プレンステ・ンド酸0〜1
0重iisの範囲内であることが望ましく、特にバイン
ダー100−200重量部、ルイス酸0〜5重1gt&
、ブレンステッド@θ〜5重置部であることが一層好ま
しい。
以上の如きOT R8の厚さは0.1〜80μm1好ま
しくは5〜20μmである。
しくは5〜20μmである。
上記OTMとしては種々のものを用いることができ、そ
の具体例としては次のものを挙げることができる。
の具体例としては次のものを挙げることができる。
1)一般式
%式%
(但し、R工、 R2,R3又はR1は、アルキル幕又
4まベンジル紙を、 R5又はR6は、水素原子、アルキル銑、アリール紡又
はベンジル紙を、 Rヮ又はR8は、水3に原子、アルキル幕又はアルコキ
シ緘を表わす。) で示される、アリールアルカン、1ift例1 例2 (但し、Aは、−H,−0H3又4l−00H3ヲ表わ
す。) 2)一般式 (但し、R工は、水素原子、アルキル基、アリール基又
はスチリル基を、 R2又はR3は、本葉ぶ子、アルキル 基返はアリール基を、 R又はR6は、水素伸子、芳香製炭 素環式若しくはII素珈式基を、 R6はアリール基を表わす。) で示されるピラゾリン系物質 例 3)一般式 (但し、R工又はR2は、アリール基又はその置換体基
を表わす。) で示されるオキサジアゾール系物質 例 1)一般式 (但し・RRR又はR4は、アルキル 1曽 2− 3 基、又は置換若しくは非置換のフ ェニル基を表わす。) で示されるヒドラゾン系物質 例1 例2 例8 例4 例5 5)一般式 又は置換若しくは非置換のフェニル基であり、Yは酸素
ぶ子若しくはイオウ原子を示し R/はアルキル基を示
す。又1rは置換又は非If換のフェニル基である。) で示されるスチリル系物質 例1 例2 例8 6)一般式 (但し、Ar、 、 Ar2又はAr3は、1f換若し
くは非置換のフェニル基を表わす。) で示されるトリフェニルアミン系物質 例1 例2 バ (但し、Rは、水嵩原子又はアルキル基を表わす。) 7)一般式 (但し、R工、 R2,R3又はR4は、デルキル基、
ペンシル基、又は置換若しくは 非置換のフェニル基を表わす。) で示される7エtレンジアミンン物質 8)一般式 (但し、R工、 R2,R3又はR4は、アルキル基、
ベンジル基、又は置換若しくは非置 換の7エール基を表わす。) で示されるビフェニルアミン系物質 例1 例2 9)一般式 (但し、Roは、アルキル基又はアリール基を、 R又はR3は、水素原子、アルキル 基、アリール基、スチリル基又はこ れらの置換体基を表わす。) でボされるカルバゾールン物質 例2 10)一般式 で示されるフルオレノン誘導体 例 トリニトロフルオレノン 以上の如きOTMのうち好ましいものは、前記0GL2
において含有されるCGMとの関係で巖沢すればよい。
4まベンジル紙を、 R5又はR6は、水素原子、アルキル銑、アリール紡又
はベンジル紙を、 Rヮ又はR8は、水3に原子、アルキル幕又はアルコキ
シ緘を表わす。) で示される、アリールアルカン、1ift例1 例2 (但し、Aは、−H,−0H3又4l−00H3ヲ表わ
す。) 2)一般式 (但し、R工は、水素原子、アルキル基、アリール基又
はスチリル基を、 R2又はR3は、本葉ぶ子、アルキル 基返はアリール基を、 R又はR6は、水素伸子、芳香製炭 素環式若しくはII素珈式基を、 R6はアリール基を表わす。) で示されるピラゾリン系物質 例 3)一般式 (但し、R工又はR2は、アリール基又はその置換体基
を表わす。) で示されるオキサジアゾール系物質 例 1)一般式 (但し・RRR又はR4は、アルキル 1曽 2− 3 基、又は置換若しくは非置換のフ ェニル基を表わす。) で示されるヒドラゾン系物質 例1 例2 例8 例4 例5 5)一般式 又は置換若しくは非置換のフェニル基であり、Yは酸素
ぶ子若しくはイオウ原子を示し R/はアルキル基を示
す。又1rは置換又は非If換のフェニル基である。) で示されるスチリル系物質 例1 例2 例8 6)一般式 (但し、Ar、 、 Ar2又はAr3は、1f換若し
くは非置換のフェニル基を表わす。) で示されるトリフェニルアミン系物質 例1 例2 バ (但し、Rは、水嵩原子又はアルキル基を表わす。) 7)一般式 (但し、R工、 R2,R3又はR4は、デルキル基、
ペンシル基、又は置換若しくは 非置換のフェニル基を表わす。) で示される7エtレンジアミンン物質 8)一般式 (但し、R工、 R2,R3又はR4は、アルキル基、
ベンジル基、又は置換若しくは非置 換の7エール基を表わす。) で示されるビフェニルアミン系物質 例1 例2 9)一般式 (但し、Roは、アルキル基又はアリール基を、 R又はR3は、水素原子、アルキル 基、アリール基、スチリル基又はこ れらの置換体基を表わす。) でボされるカルバゾールン物質 例2 10)一般式 で示されるフルオレノン誘導体 例 トリニトロフルオレノン 以上の如きOTMのうち好ましいものは、前記0GL2
において含有されるCGMとの関係で巖沢すればよい。
以上の如きOTMと共にOTLを形成するバインダーの
具体例としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、アクリル樹脂、メ脅クリル樹脂、環化ビニル樹脂、酢
酸ビニル樹脂、ポリニス−チル樹脂、アルキッド樹脂、
ポリカーボネート樹脂等の付加抛取合体匍脂、重付no
型重重合体樹脂重縮合型重合体樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰り返し単位のうち2つ以上を含む共重合体樹脂を
挙げることができる。このうち、アクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が特
に好適である。
具体例としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン
、アクリル樹脂、メ脅クリル樹脂、環化ビニル樹脂、酢
酸ビニル樹脂、ポリニス−チル樹脂、アルキッド樹脂、
ポリカーボネート樹脂等の付加抛取合体匍脂、重付no
型重重合体樹脂重縮合型重合体樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰り返し単位のうち2つ以上を含む共重合体樹脂を
挙げることができる。このうち、アクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が特
に好適である。
本発明において、例えば上述の如き0GL2と0TL8
とより成る有機感光層上に最外表層として設けられる保
護層4は、ポリウレタン樹脂を主成分とするバインダー
中に少なくとも1種のOTMを含有せしめて構成するが
、このCTMは前記0TL8を構成するOTMと同一の
物質或いは0TL8を構成するOTMが複数であるとき
はそのうちの1種と同一の物質とする。この保1114
4には更に必要に応じてルイス酸及び/又はブレンステ
ッド酸を含有せしめることもできる。そして例えばこれ
らの体軸層形成成分の溶液を前記0TLa上に塗布し乾
燥せしめることによつ−て当該保護層4を形成鷺〜する
ことができる。
とより成る有機感光層上に最外表層として設けられる保
護層4は、ポリウレタン樹脂を主成分とするバインダー
中に少なくとも1種のOTMを含有せしめて構成するが
、このCTMは前記0TL8を構成するOTMと同一の
物質或いは0TL8を構成するOTMが複数であるとき
はそのうちの1種と同一の物質とする。この保1114
4には更に必要に応じてルイス酸及び/又はブレンステ
ッド酸を含有せしめることもできる。そして例えばこれ
らの体軸層形成成分の溶液を前記0TLa上に塗布し乾
燥せしめることによつ−て当該保護層4を形成鷺〜する
ことができる。
この保護層4における各成分の割合は、バインダー10
0重tmに対シテ、OTM50〜5100重を部、ルイ
ス酸0〜10重量部、プレンスチッFIIO〜10重i
t部テアリ、好ましく ハCT MfSO。
0重tmに対シテ、OTM50〜5100重を部、ルイ
ス酸0〜10重量部、プレンスチッFIIO〜10重i
t部テアリ、好ましく ハCT MfSO。
(100重量部セルイス1lO−5重量部、ブレンステ
ッド酸0〜5重lit部である。
ッド酸0〜5重lit部である。
前記保護層のバインダーの主成分はポリウレタン樹脂で
あるが、基本的にポリウレタン樹脂は次の5種類に分類
することができ、これらの何れのものをも用いることが
できる。
あるが、基本的にポリウレタン樹脂は次の5種類に分類
することができ、これらの何れのものをも用いることが
できる。
1)−成分系予備反応型
ポリイソシアネートが植物性脂肪酸のポリハイドリック
アルコールエステルと反応しているウレタンオイルまた
はウラルキッド型で醸化により硬化するものであり、こ
の種類に−するものとしては、例えば 5penkelF48、R77、R78のシリーズ(S
pencerKellogg社) Arothane 18L 190 (Arc
her Daniels M土dla−nd社) Polyurethan 1210.1459S825
5(Oargi1社)Epocast 82B? (U
ralane 517)(Furans社)等の鈴晶を
挙げることができる。
アルコールエステルと反応しているウレタンオイルまた
はウラルキッド型で醸化により硬化するものであり、こ
の種類に−するものとしては、例えば 5penkelF48、R77、R78のシリーズ(S
pencerKellogg社) Arothane 18L 190 (Arc
her Daniels M土dla−nd社) Polyurethan 1210.1459S825
5(Oargi1社)Epocast 82B? (U
ralane 517)(Furans社)等の鈴晶を
挙げることができる。
2)−成分糸紐#を硬化型
適当な湿度の下でクロスリンク又は硬化する反応性イソ
シアネートグループを有するものであり、この種類に舖
するものとしてGが1例えばGh8mglaZe シリ
ーズ (Hughson社)Oonathane (J
−1163,0onathane 1158(Cona
p社) Metex Oonformal Coating (
MacDermid社)spenicelM シリーズ
、DV−1227、M2O,MB2、MB2、M2O(
SpenOer K8110gg社)HumiSeal
lA27、lA20. lA22、lA29 (Co
lum−3)−成分手熱峡化型 潜在的なフェノールブロックイソシアネートであって加
熱によりブロッキング削を解いて活性イソシアネーシを
生ずるものであり、この種類に−するものとしては、例
えば Mondur S (Mobay社) Mondur SHf Mobay社)等の商品を挙げ
ることができる。
シアネートグループを有するものであり、この種類に舖
するものとしてGが1例えばGh8mglaZe シリ
ーズ (Hughson社)Oonathane (J
−1163,0onathane 1158(Cona
p社) Metex Oonformal Coating (
MacDermid社)spenicelM シリーズ
、DV−1227、M2O,MB2、MB2、M2O(
SpenOer K8110gg社)HumiSeal
lA27、lA20. lA22、lA29 (Co
lum−3)−成分手熱峡化型 潜在的なフェノールブロックイソシアネートであって加
熱によりブロッキング削を解いて活性イソシアネーシを
生ずるものであり、この種類に−するものとしては、例
えば Mondur S (Mobay社) Mondur SHf Mobay社)等の商品を挙げ
ることができる。
4)二成分に触臥反応型
7リーのイソシアネートグループを有するプレポリマー
又はアダクトを一成分とし、触媒を他の一成分とするも
のであり、この種類に楓するプレポリマー又はアタリト
と触媒との組合せとしては、例えば (3hemglaze シIJ−ズとcataiyst
9966 (Hugh−son社) Metex Oonformal Coatingとc
atalyst XH−is (MacDermid社
) Spenkel DV−1078、DV−1088、D
V−1079トCatalySt 087−100 、
PO2rspencer K611−ogg社) HumiSeal lA27とDrier A 27
(QolumbiaTechnica1社) 等の商品を挙げることができる。そして触媒としては、
トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、N、N
’−ジエチルヘキシルアミン、N−メチルモルホリン、
N−メチルジェタノールアミン、トリブチルチンアセテ
ート、ジブチルチンジアセテート、トリエチレンジアミ
ン、クアドo −k (Wyandotte Chem
ica1社)、ナフテン酸フパルト等が用いられる。
又はアダクトを一成分とし、触媒を他の一成分とするも
のであり、この種類に楓するプレポリマー又はアタリト
と触媒との組合せとしては、例えば (3hemglaze シIJ−ズとcataiyst
9966 (Hugh−son社) Metex Oonformal Coatingとc
atalyst XH−is (MacDermid社
) Spenkel DV−1078、DV−1088、D
V−1079トCatalySt 087−100 、
PO2rspencer K611−ogg社) HumiSeal lA27とDrier A 27
(QolumbiaTechnica1社) 等の商品を挙げることができる。そして触媒としては、
トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、N、N
’−ジエチルヘキシルアミン、N−メチルモルホリン、
N−メチルジェタノールアミン、トリブチルチンアセテ
ート、ジブチルチンジアセテート、トリエチレンジアミ
ン、クアドo −k (Wyandotte Chem
ica1社)、ナフテン酸フパルト等が用いられる。
5)二成分ポリオール硬化型
フリーのイソシアネートグループを有するプレポリマー
又はアダク[を−成分とし、活性水素を41するレジン
又はカスターオイルのようなポリオールを他の一成分と
するものであり、この種類に隋するプレポリマー又はア
ダクトとしては、例えはトリレンジイソシアネート、ト
リメチロールプロパン−トリジイソシアネートアダクト
、その他のポリイソシアネート類或いはホ゛リイソシア
本−トプレポリマーを挙げることかできる。この成分(
以下「成分A」という。)と共に用いられる他の成分(
以下「成分B」という。)番1、樹脂を含むハイドロオ
キシル化合物である。この成分Bの代表的なものとして
は、末端にハイドロオキシル基を有するポリエステル、
ポリエーテル、カスターオイル、エポキシ樹脂等を挙げ
ることができる。
又はアダク[を−成分とし、活性水素を41するレジン
又はカスターオイルのようなポリオールを他の一成分と
するものであり、この種類に隋するプレポリマー又はア
ダクトとしては、例えはトリレンジイソシアネート、ト
リメチロールプロパン−トリジイソシアネートアダクト
、その他のポリイソシアネート類或いはホ゛リイソシア
本−トプレポリマーを挙げることかできる。この成分(
以下「成分A」という。)と共に用いられる他の成分(
以下「成分B」という。)番1、樹脂を含むハイドロオ
キシル化合物である。この成分Bの代表的なものとして
は、末端にハイドロオキシル基を有するポリエステル、
ポリエーテル、カスターオイル、エポキシ樹脂等を挙げ
ることができる。
具体的には秋のような商品がある。
0onathane 1155 (Conap社)Sp
enkel P28−600X 、 P49−600X
5DV−1581。
enkel P28−600X 、 P49−600X
5DV−1581。
DV−1699t 5pencer Kellogg社
)Apco 1260.1265 (Applied
Plastics社)HumiSeal 2A56.2
A60.2A61 (ColumbiaTechnic
a1社) Eccocoat RTU 、 工G−2(Emers
on & Ouming社) Uralane 5712.241 (Furane社
)Laminar X−500(7−0−23/10−
0−10−0−28)(Coating & Chem
ica1社)Scotchcast 221 (Min
nesota Mining andMaJ1ufaO
turing社) PT 750−1 (Product TeChniq
ues社−)PR−1566,1538(Produc
ts Re5earch社)Solithane シx
テムズ (Thlokol社)Multratnane
システムズ(Mobay社)PC26、XPC−A6
56 (Hyso1社)以上、ポリウレタンの5棟類の
型の分類及びその各々に−する商品について記したか、
これらの商品に使用されるポリイソシアネートのプレポ
リマー又はアダクトとしては、次に示すよ〜な化合物か
ら構成されている。
)Apco 1260.1265 (Applied
Plastics社)HumiSeal 2A56.2
A60.2A61 (ColumbiaTechnic
a1社) Eccocoat RTU 、 工G−2(Emers
on & Ouming社) Uralane 5712.241 (Furane社
)Laminar X−500(7−0−23/10−
0−10−0−28)(Coating & Chem
ica1社)Scotchcast 221 (Min
nesota Mining andMaJ1ufaO
turing社) PT 750−1 (Product TeChniq
ues社−)PR−1566,1538(Produc
ts Re5earch社)Solithane シx
テムズ (Thlokol社)Multratnane
システムズ(Mobay社)PC26、XPC−A6
56 (Hyso1社)以上、ポリウレタンの5棟類の
型の分類及びその各々に−する商品について記したか、
これらの商品に使用されるポリイソシアネートのプレポ
リマー又はアダクトとしては、次に示すよ〜な化合物か
ら構成されている。
1)へキサメチレンジイソシアネート
0GN(OH2160ON
市販品: 「デスモジュールH」
日本ポリウレタンエ朶社製
2)
市馴品:「デスモジュールN」
日本ポリウレタン工業社製
3)メタフェニレンジイソシアネート
4)トルイレンイソシアネート
市販品二 FデスモジュールT」
日本ポリウレタン工業社製
[ハイレンTMJ デュポン社製
512.4− )リレン−ジイソシアネート市販品:「
デスモジュールT」 日本ポリウレタン工業社製 6)トルイレンイソシアネートとトリメチロールプロパ
ンとの反応生成物 市販品= 「コロネー)LJ 日本ポリウレタンエ菓社製 +7) 3.3’−ジメチル−ジフェニル−4,4I−
ジイソシアネート 市’Aki 品’ r ”イレンH」 デュポン社製8
)ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシア本−F市販
品:「ミリオネートMTJ 日本ボリウレ脅ンエ柴社製 9) 3,3’−ジメチル−ジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシフ率−ト 市11’rハイレンDMMJ デュポン社製lO)ト
リフェニルメクンートリイソシアネーtGO 市販品: 「デスモジュールR」 日本ポリウレ脅ン工業社製 11)ポリメチレンフェニルイソシアネート市販品:[
ミリオネー)MRJ 日本ポリウレタン工業社製 12)ナフ脅しンー1.5−ジイソシアネート市販晶:
「デスモジュール15」 日本ポリウレタンエ柴社製 以上のうち、前記保護層4のためのポリウレタンとして
は、特に前記3)及び5)の種類のものか好ましい。そ
して5)の種類のポリウレタンにおいてに、成分Aと成
分Bの物質を歳択することによって柔軟なものから剛性
の大きいものまで柚々の硬さのものを得ることが可能で
あるが、特に強靭で大きな膜強度を有するものが望まし
い。成分Aと成分Bの配合割合は、成分AのNCO基と
成分B(7)OH基とが5鼠割合で1:0.95〜1の
範囲となるようにすることか特に好ましい。
デスモジュールT」 日本ポリウレタン工業社製 6)トルイレンイソシアネートとトリメチロールプロパ
ンとの反応生成物 市販品= 「コロネー)LJ 日本ポリウレタンエ菓社製 +7) 3.3’−ジメチル−ジフェニル−4,4I−
ジイソシアネート 市’Aki 品’ r ”イレンH」 デュポン社製8
)ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシア本−F市販
品:「ミリオネートMTJ 日本ボリウレ脅ンエ柴社製 9) 3,3’−ジメチル−ジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシフ率−ト 市11’rハイレンDMMJ デュポン社製lO)ト
リフェニルメクンートリイソシアネーtGO 市販品: 「デスモジュールR」 日本ポリウレ脅ン工業社製 11)ポリメチレンフェニルイソシアネート市販品:[
ミリオネー)MRJ 日本ポリウレタン工業社製 12)ナフ脅しンー1.5−ジイソシアネート市販晶:
「デスモジュール15」 日本ポリウレタンエ柴社製 以上のうち、前記保護層4のためのポリウレタンとして
は、特に前記3)及び5)の種類のものか好ましい。そ
して5)の種類のポリウレタンにおいてに、成分Aと成
分Bの物質を歳択することによって柔軟なものから剛性
の大きいものまで柚々の硬さのものを得ることが可能で
あるが、特に強靭で大きな膜強度を有するものが望まし
い。成分Aと成分Bの配合割合は、成分AのNCO基と
成分B(7)OH基とが5鼠割合で1:0.95〜1の
範囲となるようにすることか特に好ましい。
本発明においては、保護層のバインダーの主成分として
ポリウレタンを用いるか、他の樹脂を混合したものをバ
インダーとして用いることができる。ここにポリウレタ
ンに混合することのできる荀ノ脂としては、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸”ニルM 脂、エポキシW
IILフェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボ
ネーシ樹脂、シリコーン樹脂、メラミン−脂等の付加型
重合体樹脂、重付1111型重合体樹脂、重縮合型重合
体樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち2つ
以上を含む共本合体樹脂等、斯かる用速に一般に用いら
れるすべての樹脂を挙げることができる。
ポリウレタンを用いるか、他の樹脂を混合したものをバ
インダーとして用いることができる。ここにポリウレタ
ンに混合することのできる荀ノ脂としては、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸”ニルM 脂、エポキシW
IILフェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボ
ネーシ樹脂、シリコーン樹脂、メラミン−脂等の付加型
重合体樹脂、重付1111型重合体樹脂、重縮合型重合
体樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち2つ
以上を含む共本合体樹脂等、斯かる用速に一般に用いら
れるすべての樹脂を挙げることができる。
以上の如き樹脂をポリウレタンと混合する場合において
は、バインダー中のポリウレタンの割合か50朧振%以
上となるようにすることが望ましい0 又保腰胎の厚さは5μm以下、好ましくは1〜8μmで
ある。
は、バインダー中のポリウレタンの割合か50朧振%以
上となるようにすることが望ましい0 又保腰胎の厚さは5μm以下、好ましくは1〜8μmで
ある。
前記0GL2におけるOGMと0TL8におけるOTM
とは好ましい組み合せがあって4、例えばCGMとして
ビスアゾモ色素を用いる場合にはCTMとしてピラゾリ
ン系物質を用いることが好ましく、史に保り層4におけ
るCTMも同一のピラゾリン糸**を用いて構成する。
とは好ましい組み合せがあって4、例えばCGMとして
ビスアゾモ色素を用いる場合にはCTMとしてピラゾリ
ン系物質を用いることが好ましく、史に保り層4におけ
るCTMも同一のピラゾリン糸**を用いて構成する。
又前記CTL8においては一種のみでなく複数種のGT
Mが含有される場合かあるが、この場合には前記保護層
4には、既述のように、少なくとも当該腹@種のOTM
のうちの一種又は二種以上を含有せしめることが心安で
ある。
Mが含有される場合かあるが、この場合には前記保護層
4には、既述のように、少なくとも当該腹@種のOTM
のうちの一種又は二種以上を含有せしめることが心安で
ある。
例えば、アルミニウム蒸着膜より成る導電層をポリエチ
レンテレフタレートフィルムの基体上に設けて成る導電
性支持体上にクロルダイアンブルーより成るCGLを形
成し、ポリカーボネート樹脂中に1−フェニル−8−(
p−ジエチルスチリルアミノフェニル)−5−(1)−
ジエチルアミノフェニル)ビ・ラゾリンを含有せしめて
成るOTLを前記CGL上に構成する場合において、保
護層は、ポリウレタン中に1−フェニル−3−(1)−
ジエチルスチリルアミノフェニル3−5−(ジエチルア
ミノフェニル)ピラゾリンを含有せしめて構成する。又
前記CTLが他のCTMをも含有するものとするときは
、保護層中には当該ピラゾリンを単独で、或いは他の(
3TMと組合せて含有せしめて構成せしめる。
レンテレフタレートフィルムの基体上に設けて成る導電
性支持体上にクロルダイアンブルーより成るCGLを形
成し、ポリカーボネート樹脂中に1−フェニル−8−(
p−ジエチルスチリルアミノフェニル)−5−(1)−
ジエチルアミノフェニル)ビ・ラゾリンを含有せしめて
成るOTLを前記CGL上に構成する場合において、保
護層は、ポリウレタン中に1−フェニル−3−(1)−
ジエチルスチリルアミノフェニル3−5−(ジエチルア
ミノフェニル)ピラゾリンを含有せしめて構成する。又
前記CTLが他のCTMをも含有するものとするときは
、保護層中には当該ピラゾリンを単独で、或いは他の(
3TMと組合せて含有せしめて構成せしめる。
本発明は以上のような構成であるから、その保@層4は
ポリウレタンを主成分とするバインダー中にCTMか含
有されて成るものであるため、後述する実施例からも明
かなように、電子写真プロセスに供したときの残留實5
位が電子写真特性に全く支障とならない極めて低い水準
に抑制されると共に極めて大きな機械的@度が得られる
ことは勿論であるが、史に翫くべきことには、電子写真
プロセスを繰り返したときにも殉情電位の上昇が殆ど紹
められないのみならず、高い帯W1wIL位特性【始め
他の電子写真特性も劣化することのない、著しく改良さ
れた耐久性な有する電子写真感光体を提供することがで
きる。即ち、従来のものに比して本発明電子写真感光体
によれは有機感光層を几えて成るものでありながらその
良好な電気的緒特性が著しく疫い期間に亘って保持され
、1に地肌部にカプリかなく、画惨濃度が高くて良好な
裏写II!1像を多r!t[filに巨って安定に形成
することができる。
ポリウレタンを主成分とするバインダー中にCTMか含
有されて成るものであるため、後述する実施例からも明
かなように、電子写真プロセスに供したときの残留實5
位が電子写真特性に全く支障とならない極めて低い水準
に抑制されると共に極めて大きな機械的@度が得られる
ことは勿論であるが、史に翫くべきことには、電子写真
プロセスを繰り返したときにも殉情電位の上昇が殆ど紹
められないのみならず、高い帯W1wIL位特性【始め
他の電子写真特性も劣化することのない、著しく改良さ
れた耐久性な有する電子写真感光体を提供することがで
きる。即ち、従来のものに比して本発明電子写真感光体
によれは有機感光層を几えて成るものでありながらその
良好な電気的緒特性が著しく疫い期間に亘って保持され
、1に地肌部にカプリかなく、画惨濃度が高くて良好な
裏写II!1像を多r!t[filに巨って安定に形成
することができる。
このような効果が奏される理由は解明されてはいないか
、保り層がCTMを含有することによって良好な電廠的
特性が得られると共に、当該OTMはOTLにおけるO
TMと同一のものであるから、表向から作用してCTL
又はCGLの特性を劣化せしめるような要因、例えはm
子写真プロセスにおける機械的損傷、イオン、紫外I!
等による化学的作用を保aI層において吸収緩和し、O
GL及びCTLにはそのような劣化作用が1普しないか
らであると考えられる。
、保り層がCTMを含有することによって良好な電廠的
特性が得られると共に、当該OTMはOTLにおけるO
TMと同一のものであるから、表向から作用してCTL
又はCGLの特性を劣化せしめるような要因、例えはm
子写真プロセスにおける機械的損傷、イオン、紫外I!
等による化学的作用を保aI層において吸収緩和し、O
GL及びCTLにはそのような劣化作用が1普しないか
らであると考えられる。
以上本発明を第1図の構成例を中心に説明したが、本発
明においては、第2図に示すように、導電性支持体1上
に0TIz3を形成し、その上にOGL 2を形成し更
に保護J@4を形成した#I成、或いは第8図に躯すよ
うに、CGMとOTMとを適宜のバインダーに混合状絆
に含有せしめた単層構成の有機感光層5上に保護層4を
形成した構成としてもよく、何れの場合にも既述の例に
おけると同様の作用効果が得られる。
明においては、第2図に示すように、導電性支持体1上
に0TIz3を形成し、その上にOGL 2を形成し更
に保護J@4を形成した#I成、或いは第8図に躯すよ
うに、CGMとOTMとを適宜のバインダーに混合状絆
に含有せしめた単層構成の有機感光層5上に保護層4を
形成した構成としてもよく、何れの場合にも既述の例に
おけると同様の作用効果が得られる。
尚必要に応じて導電性支持体1とOGL、OTL又は有
機感光層との曲には中間層が設けられる◎以下本発明の
実施例について説明するが、これらによって本発明が画
定されるものではない。
機感光層との曲には中間層が設けられる◎以下本発明の
実施例について説明するが、これらによって本発明が画
定されるものではない。
実施例1
厚さ100 pmのポリエチレンテレツクレートフィル
ムにアルミニウムを蒸着せしめて成る導電性支持体上に
、ポリエステル「バイロン200J(J[洋紡綾社製)
より成る厚さ0.06μmの中間層を設け、ポリカーボ
ネート樹脂[パンライトL −]J50J1?人化成社
製)4gt″1.2−ジクロルエタン10〇−中に溶解
せしめた溶液に多環キノン卆色素の(3G Il! 4
.10−ジブロムアントアントロン49をIl+]えて
超音波分散せしめて得られる分散液を、前記中間層上に
塗布し乾燥せしめて厚さ1μmのOGLを形成した。
ムにアルミニウムを蒸着せしめて成る導電性支持体上に
、ポリエステル「バイロン200J(J[洋紡綾社製)
より成る厚さ0.06μmの中間層を設け、ポリカーボ
ネート樹脂[パンライトL −]J50J1?人化成社
製)4gt″1.2−ジクロルエタン10〇−中に溶解
せしめた溶液に多環キノン卆色素の(3G Il! 4
.10−ジブロムアントアントロン49をIl+]えて
超音波分散せしめて得られる分散液を、前記中間層上に
塗布し乾燥せしめて厚さ1μmのOGLを形成した。
一力ポリカーボネー)樹脂「パンライトL−1250J
159を1.2−ジクロルエタン100−中に溶解せし
めた溶液に、OTMとしてカルバゾール系物質の例2で
示した構鮨式を有するスチリルカルバゾール11.25
9と、ルイス酸であるトリニトロクロルベンゼン0.0
289とを溶解せしめて得られる溶液を、前記CGL上
にドクターブレードにより塗布し温度80°Cで1時間
乾燥せしめて厚さ18μmの(3’l’Lを形成した。
159を1.2−ジクロルエタン100−中に溶解せし
めた溶液に、OTMとしてカルバゾール系物質の例2で
示した構鮨式を有するスチリルカルバゾール11.25
9と、ルイス酸であるトリニトロクロルベンゼン0.0
289とを溶解せしめて得られる溶液を、前記CGL上
にドクターブレードにより塗布し温度80°Cで1時間
乾燥せしめて厚さ18μmの(3’l’Lを形成した。
更にアクリル系ポリオール樹脂[アクリディ゛ツクA−
851J(大日本インキ化学工業社製)(lI!11輌
分70%+10gと、ポリイソシアネート化合+12y
lコロネート2030J (日本ポリウレタン]二某社
製)(固型分50%) 6.89とを1.2−ジクロル
エタン70−に溶解せしめた溶液に、前記CTLの形成
に用いたCTMと同一のスチリルカルバゾール7゛、8
9を溶解せしめ、この溶液を前記CTL上にドクターブ
レードにより塗布し温度80°Cで2時間乾燥硬化せし
め、バインダーとOTMとの重ll11#Jが1 :
0.75 Tアル厚すSl!Elの保護層を形成し、以
って本発明電子写真感光体を作製した。これt−r試料
1」とする。
851J(大日本インキ化学工業社製)(lI!11輌
分70%+10gと、ポリイソシアネート化合+12y
lコロネート2030J (日本ポリウレタン]二某社
製)(固型分50%) 6.89とを1.2−ジクロル
エタン70−に溶解せしめた溶液に、前記CTLの形成
に用いたCTMと同一のスチリルカルバゾール7゛、8
9を溶解せしめ、この溶液を前記CTL上にドクターブ
レードにより塗布し温度80°Cで2時間乾燥硬化せし
め、バインダーとOTMとの重ll11#Jが1 :
0.75 Tアル厚すSl!Elの保護層を形成し、以
って本発明電子写真感光体を作製した。これt−r試料
1」とする。
比較例1
保護層を形成しないほかは実施例1と同様にして電子写
真感光体を作製した。これを「比較試料l」とする。
真感光体を作製した。これを「比較試料l」とする。
比較例2
実施例1と同ゆにして導電性支持体上に中間層、CGL
及びOTLを形成し、アクリル系ポリエステル樹脂[γ
ロニツクスM−8060J (東亜合成化学工業社製)
logを1.2−ジクロルエタン50−に溶解せしめた
溶液に、実施例1において用いたものと同一のCTMス
チリルカルバゾール7.5gを溶解せしめた溶液を、前
記CTL上にドクターブレードにより塗布し湿度80℃
で乾燥硬化せしめ、バインダーとOTMとの1!m比が
1意0.75である厚さ2μmの保護層を形成し、以っ
て奄5子写真感光体を作製した。これを「比較試料2」
とする。これは、(3TMを含有する保護層を有するか
そのバインダーかポリウレタンを主成分とするのではな
く、ポリエステル樹脂より成るものである。
及びOTLを形成し、アクリル系ポリエステル樹脂[γ
ロニツクスM−8060J (東亜合成化学工業社製)
logを1.2−ジクロルエタン50−に溶解せしめた
溶液に、実施例1において用いたものと同一のCTMス
チリルカルバゾール7.5gを溶解せしめた溶液を、前
記CTL上にドクターブレードにより塗布し湿度80℃
で乾燥硬化せしめ、バインダーとOTMとの1!m比が
1意0.75である厚さ2μmの保護層を形成し、以っ
て奄5子写真感光体を作製した。これを「比較試料2」
とする。これは、(3TMを含有する保護層を有するか
そのバインダーかポリウレタンを主成分とするのではな
く、ポリエステル樹脂より成るものである。
比較例8
アクリル系ポリオール樹脂「アクリディックA851J
10gと、ポリイソシアネート化合物[コロネート20
80J6,8gとを1.2−ジクロルエクン28@lに
溶解せしめた溶液を用いて保護層を形成したほかは、実
施例1と同様にして電子写真感光体を4/l:bt、た
。これを1比較試料8」とする。これは保護層がCTM
を含有しないものである。
10gと、ポリイソシアネート化合物[コロネート20
80J6,8gとを1.2−ジクロルエクン28@lに
溶解せしめた溶液を用いて保護層を形成したほかは、実
施例1と同様にして電子写真感光体を4/l:bt、た
。これを1比較試料8」とする。これは保護層がCTM
を含有しないものである。
比較側番
保61Mの形成において、CTLの形成に用いたものと
け異なるO T M 2,5−ビス(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−オキサジアゾール−1,3,4の7.8
9を用いたことのほかは、実施例1と同様にして電子写
真感光体を作製した。これを「比較試料4」とする。
け異なるO T M 2,5−ビス(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−オキサジアゾール−1,3,4の7.8
9を用いたことのほかは、実施例1と同様にして電子写
真感光体を作製した。これを「比較試料4」とする。
比較例5
実施例1と同様にして導電性支持体上に中間層、(3G
L及びCTLを形成し、公刊11,000.000のポ
リ酢酸ビニル8gとCTMz、s−ビス(p−ジエチル
アミノフェニル)−オキサジアゾール−1,3,4の0
.8gとをメタノール100−に溶解せしめた溶液を用
いてバインダーと(3TMとの重量比がl : 0,1
である厚さ2μmの保護層を形成し、以って゛電子写真
感光体を作製した。これを「比較試料5」とする。これ
は、保m層のバインダーがポリ酢酸ビニルより成り、又
保護層のCiTMは、CTLにおけるCTMと異なるも
のである。
L及びCTLを形成し、公刊11,000.000のポ
リ酢酸ビニル8gとCTMz、s−ビス(p−ジエチル
アミノフェニル)−オキサジアゾール−1,3,4の0
.8gとをメタノール100−に溶解せしめた溶液を用
いてバインダーと(3TMとの重量比がl : 0,1
である厚さ2μmの保護層を形成し、以って゛電子写真
感光体を作製した。これを「比較試料5」とする。これ
は、保m層のバインダーがポリ酢酸ビニルより成り、又
保護層のCiTMは、CTLにおけるCTMと異なるも
のである。
実施例2
実施例1におけると同(2)の導電性支持体上に、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体「エスレ
ツクMF−10J(4]&水化学社−)よ・り成る厚さ
0.05μmの中間層を設け、OG)[としてビスアゾ
系色素クロルダイアンブルー4gを、エチレンジアミン
94@tとn−ブチルアミン94―とテトラヒドロ7ラ
ン212−とから成る混合浴剤に溶解せしめた溶液を、
前記中間層上に塗布し乾燥せしめて1vさlPmのCG
IJを形成した。
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体「エスレ
ツクMF−10J(4]&水化学社−)よ・り成る厚さ
0.05μmの中間層を設け、OG)[としてビスアゾ
系色素クロルダイアンブルー4gを、エチレンジアミン
94@tとn−ブチルアミン94―とテトラヒドロ7ラ
ン212−とから成る混合浴剤に溶解せしめた溶液を、
前記中間層上に塗布し乾燥せしめて1vさlPmのCG
IJを形成した。
一方、ポリカーボネート樹脂「パンライ)L−1250
J15gを1.2−ジクロルエ虻ン10〇−中に溶解せ
しめた浴液に、ピラゾリン系化合物であるCTMI−フ
ェニル−3−(p−ジエチルスチリルアミノフェニル)
−5−(p−ジエチル7ミノフエニル)−ピラゾリン1
1.259を溶解せしめ、ここに得られた溶液を目11
記(EGL上にドクターブレードにより塗布し、温度8
0°Cで1時間乾燥せしめて厚さ18μmのOTLを形
成した。
J15gを1.2−ジクロルエ虻ン10〇−中に溶解せ
しめた浴液に、ピラゾリン系化合物であるCTMI−フ
ェニル−3−(p−ジエチルスチリルアミノフェニル)
−5−(p−ジエチル7ミノフエニル)−ピラゾリン1
1.259を溶解せしめ、ここに得られた溶液を目11
記(EGL上にドクターブレードにより塗布し、温度8
0°Cで1時間乾燥せしめて厚さ18μmのOTLを形
成した。
更にアクリル系ポリオール樹脂[アクリディックA−8
51J 109とポリイソシアネート化合物[コロネー
)2080J6.8gとを1.2−ジクロルエ々ン70
m1に溶解せしめ、この溶液に前記OTLの形成に用い
たCTMと同一の物質、即ち1−フェニル−3−(p−
ジエチルスチリルアミノフェニル)−5−(p−ジエチ
ル7ミノフエニル)−ピラゾリン7.8gを溶解せしめ
、この溶液’E =il記OT L上にドクターブレー
ドにより塗布し、温度80°Cで2時間乾燥硬化せしめ
て一々インダーとCTMとの重量比が1:0.75の厚
さ2μmの保Fa1〜を形成し、以って本発明電子写真
感光体を作製した。これを「試料2」とする。
51J 109とポリイソシアネート化合物[コロネー
)2080J6.8gとを1.2−ジクロルエ々ン70
m1に溶解せしめ、この溶液に前記OTLの形成に用い
たCTMと同一の物質、即ち1−フェニル−3−(p−
ジエチルスチリルアミノフェニル)−5−(p−ジエチ
ル7ミノフエニル)−ピラゾリン7.8gを溶解せしめ
、この溶液’E =il記OT L上にドクターブレー
ドにより塗布し、温度80°Cで2時間乾燥硬化せしめ
て一々インダーとCTMとの重量比が1:0.75の厚
さ2μmの保Fa1〜を形成し、以って本発明電子写真
感光体を作製した。これを「試料2」とする。
比較例6
保護層を形成しないほかは実施例2と同様にして電子写
真感光体を作製した。これを「比較試料6」とする。
真感光体を作製した。これを「比較試料6」とする。
実施例8
アクリル系ポリオール樹脂「アクリディックム851」
509と、ポリイソシアネート化合物[フロネート20
30J s49と、ポリカーCネー)樹脂[パンライ
トL−1250J89gとを1.2−ジクロルエクン6
55−に溶解せしめた溶液に、(3TMとしてカルバゾ
ール系物質の例2で示し、た構伍式を有するスチリルカ
ル戸くゾール6845gを溶解せしめて得られる溶液を
用いて保護層を形成したほかは、実施例1と同様にして
本発明電子写真感光体を作製した。これを「試料8」と
する。
509と、ポリイソシアネート化合物[フロネート20
30J s49と、ポリカーCネー)樹脂[パンライ
トL−1250J89gとを1.2−ジクロルエクン6
55−に溶解せしめた溶液に、(3TMとしてカルバゾ
ール系物質の例2で示し、た構伍式を有するスチリルカ
ル戸くゾール6845gを溶解せしめて得られる溶液を
用いて保護層を形成したほかは、実施例1と同様にして
本発明電子写真感光体を作製した。これを「試料8」と
する。
実験例1
試料1〜3及び比較試料1〜6の各々を「エレクトロメ
ータ5P−428型」(川口vL機製作所製)に装着し
、帯電器放′WIL極に対する印加電圧を一6kVとし
て5秒間帯m操作を行ない、4この帯電操作直後におけ
る表面の初期電位v0、この初期電位V。の幼を1/2
に減衰せしめるために必要な牛減厭尤皺E工/2及び残
留電位VRを測定した。結果は第1衷にボす通りである
。
ータ5P−428型」(川口vL機製作所製)に装着し
、帯電器放′WIL極に対する印加電圧を一6kVとし
て5秒間帯m操作を行ない、4この帯電操作直後におけ
る表面の初期電位v0、この初期電位V。の幼を1/2
に減衰せしめるために必要な牛減厭尤皺E工/2及び残
留電位VRを測定した。結果は第1衷にボす通りである
。
第1表
以上の結果より明かなように、ポリウレタンを主成分と
するバインダー中に(3TMを含有する保麹層を設けて
成る本発明電子写真感光体は、初期電位V。が十分^く
て光感度が大きく、又残留電位も認められないか或いは
極めて低いものであり、特にCTLにおけるGTMと同
一のO’l’Mを保麹階に5有せしめたものにあっては
残留電位は全く認められず、電子写真プロセスにおいて
要求される緒特性を充分1g4i足するものである。
するバインダー中に(3TMを含有する保麹層を設けて
成る本発明電子写真感光体は、初期電位V。が十分^く
て光感度が大きく、又残留電位も認められないか或いは
極めて低いものであり、特にCTLにおけるGTMと同
一のO’l’Mを保麹階に5有せしめたものにあっては
残留電位は全く認められず、電子写真プロセスにおいて
要求される緒特性を充分1g4i足するものである。
これに対し、保^層のバインダーがポリウレタン以外の
ものを主成分とするもの、或いは保護層のバインダーが
ポリウレタンであってもCTMを含有しないものである
ときは、残留電位が高く或いは光感度が小さいものとな
る。
ものを主成分とするもの、或いは保護層のバインダーが
ポリウレタンであってもCTMを含有しないものである
ときは、残留電位が高く或いは光感度が小さいものとな
る。
実験例2
試料1〜8並びに比較試料1.4〜6の各々を電子写真
膜厚@ r U −BiX 2000RJ (小西六写
真工業社製)に装着し、臓光絞り餉を2.5に設定して
伸紗フビーを行ない、感光体の表面における帯電初期電
位V′。及び露光操作後の画像地肌部の電位1を測定し
た。結果は第2表及び第8表に示す辿りである。
膜厚@ r U −BiX 2000RJ (小西六写
真工業社製)に装着し、臓光絞り餉を2.5に設定して
伸紗フビーを行ない、感光体の表面における帯電初期電
位V′。及び露光操作後の画像地肌部の電位1を測定し
た。結果は第2表及び第8表に示す辿りである。
以」二の紡朱から明かなように、本発明電子写真感光体
は繰り返し電子写真プロセスに付されてもその■諏的特
性か劣化する程度が鰺かであり、実際に形成されたー写
画像も鮮明で11!Il像濃度が充分高い良好なもので
あった。
は繰り返し電子写真プロセスに付されてもその■諏的特
性か劣化する程度が鰺かであり、実際に形成されたー写
画像も鮮明で11!Il像濃度が充分高い良好なもので
あった。
第1図は本発明電子写真感光体の一実施例における構成
を示す説明図、第2図及び@8図は本発明電子琴14感
光体の他の構成例を示す説明図である。 l・・・導電性支持体 2・・・キャリア発生層3
・・・キャリア輸送屑 4・・・保霞層5・・・有m
感光層 第1 旧 第3閉 手続補正書(自発) 昭和58年2 月28日 特許庁長官 若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和56年 特許りn第2o3gt1g ’;2
発明の名称 電子写真感光体 6、 補正により増加する発明の数 明細書の発明の詳細な説明の― ステル「バイロン200J (東洋紡績社製)」を[
塩化ビニル−酢酸ビニルー無水マレイン酸共重合体「エ
スレツクMF−10J (種水化学社製)」と訂正す
る。
を示す説明図、第2図及び@8図は本発明電子琴14感
光体の他の構成例を示す説明図である。 l・・・導電性支持体 2・・・キャリア発生層3
・・・キャリア輸送屑 4・・・保霞層5・・・有m
感光層 第1 旧 第3閉 手続補正書(自発) 昭和58年2 月28日 特許庁長官 若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和56年 特許りn第2o3gt1g ’;2
発明の名称 電子写真感光体 6、 補正により増加する発明の数 明細書の発明の詳細な説明の― ステル「バイロン200J (東洋紡績社製)」を[
塩化ビニル−酢酸ビニルー無水マレイン酸共重合体「エ
スレツクMF−10J (種水化学社製)」と訂正す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1) キャリア輸送性物質を含有する層を有する有機感
光層と、この有IIi感光層上に設けた、前記キャリア
輸送性物質と同一のキ。ヤリア輸送性’IP71″iM
を、ポリウレタンを主成分とする一々インダー中に含有
せしめて成る保wIINIとを風えて成ることを特徴と
する電子写真感光体。 2) 前記保護層におけるバインダーとキャリア輸送性
物質との重量比が1:05〜2の範囲内にある特許請求
の範囲第1項記載の電子写真l象九体@ 3)前記保護層のポリウレタンが、二成分系ポリオール
硬化型又は−成分系加熱硬化型のものである特許請求の
範聞第1項又は第2項記載の電子写に感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20366881A JPS58122553A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20366881A JPS58122553A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58122553A true JPS58122553A (ja) | 1983-07-21 |
Family
ID=16477869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20366881A Pending JPS58122553A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58122553A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6269271A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPH01243067A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPH01253755A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Fuji Electric Co Ltd | 正帯電電子写真用感光体 |
EP0605145A1 (en) * | 1992-12-28 | 1994-07-06 | Xerox Corporation | Layered photoreceptor structures with overcoatings containing a triphenylmethane |
JP2012068617A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-04-05 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP20366881A patent/JPS58122553A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6269271A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPH0455506B2 (ja) * | 1985-09-20 | 1992-09-03 | Fuji Electric Co Ltd | |
JPH01243067A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPH01253755A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Fuji Electric Co Ltd | 正帯電電子写真用感光体 |
EP0605145A1 (en) * | 1992-12-28 | 1994-07-06 | Xerox Corporation | Layered photoreceptor structures with overcoatings containing a triphenylmethane |
JP2012068617A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-04-05 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
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