JP2011521438A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. インプリント・リソグラフィ・テンプレートのメサをパターニングして、前記テンプレートの所望のインプリント領域内のパターン化されたフィーチャと、前記メサの境界の前記パターン化されたフィーチャを囲む第１の迷路状パターンまたはフラクタル・パターンを含む周長のフィーチャを提供するステップと、
   基板上に重合性材料を分配するステップと、
   前記インプリント・リソグラフィ・テンプレートの前記メサを、前記基板上の重合性材料と接触させるステップと、
   から構成され、
   前記第１の迷路状パターンまたはフラクタル・パターンは、前記メサの境界を越えて前記重合性材料が伝搬されることを低減することを特徴とする方法。
2. 前記周長のフィーチャは第１の迷路状パターンを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記迷路状パターンはフィーチャの配列を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
4. 前記フィーチャは、幾何学的形状、奇想を凝らした形状、またはそれらの組合せを含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
5. 前記迷路状パターンは、幅約２マイクロメートル、長さ約２マイクロメートル、および高さ約８０〜１２０ｎｍを有する正方形の周期的配列を含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
6. 前記迷路状パターンは、ある距離だけ離隔されたフィーチャの周期的配列を含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
7. 前記距離は、約０．６〜０．８マイクロメートルの間にあることを特徴とする請求項６に記載の方法。
8. 前記迷路状パターンはモートを形成することを特徴とする請求項２に記載の方法。
9. 前記メサ上に、前記モート内に配置される第２の迷路状パターンをパターニングするステップをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. 前記迷路状パターンは、前記基板上に分配された重合性材料の伝搬を遅くするように設計された領域を形成することを特徴とする請求項２に記載の方法。
11. 前記領域はダイを備えることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 前記周長のフィーチャは、少なくとも１つのフラクタル・パターンを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法
13. 前記フラクタル・パターンは、少なくとも１つの第１のフィーチャの第１の繰返しおよび第２のフィーチャの第２の繰返しを含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
14. 前記第１の繰返しと前記第２の繰返しとの間の前記重合性材料の流れが低減されるように、前記第１のフィーチャのフィーチャ・サイズは前記第２のフィーチャのフィーチャ・サイズより大きいことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
15. 前記第１の繰返しの前記フィーチャおよび前記第２の繰返しの前記フィーチャは、幾何学的形状、奇想を凝らした形状、またはそれらの組合せを含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
16. 前記重合性材料の前記流れは、毛細管力によって低減されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
17. 前記重合性材料が分配されるとき、前記基板に気体を供給するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
18. 前記重合性材料の前記流れは、気体によって低減されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。