JP2005530338A5 - - Google Patents
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Claims (7)
- 多段リソグラフィックテンプレートの製造方法であって、
表面を有する第1レリーフ構造を形成するステップと、
前記第1レリーフ構造の表面上に、表面を有する第2レリーフ構造を形成することによって多段リソグラフィックテンプレートを規定するステップとを備える方法。 - 多段リソグラフィックテンプレートの製造方法であって、
表面を有する透明基板を提供するステップと、
前記基板の表面上に硬質マスク層を堆積させるステップと、
前記硬質マスク層の表面上にパターンレジスト層を形成するステップと、
前記硬質マスク層と前記基板をエッチングし、そのことによって前記基板材料内に第1パターンレリーフ構造を規定するステップと、
前記パターンレジスト層と前記硬質マスク層を除去するステップと、
前記第1パターンレリーフ構造の最上面の上に少なくとも一つの追加パターンレリーフ構造を形成するステップとを備える方法。 - 多段リソグラフィックテンプレートを形成する方法であって、
表面を有する透明基板を提供するステップと、
前記基板の表面上に、表面を有する第1パターン層を形成することによってレリーフ構造を規定するステップと、
前記第1パターン層の表面上に、レリーフ構造を規定する第2パターン層を形成するステップとを備える方法。 - 多段リソグラフィックテンプレートの製造方法であって、
表面を有する透明基板を提供するステップと、
前記基板の上に第1エッチング停止層を形成するステップと、
前記第1エッチング停止層の上に第1パターニング層を形成するステップと、
前記第1パターニング層の表面上にパターンレジスト層を形成するステップと、
前記第1パターニング層をエッチングし、そのことによって第1パターン層を規定するステップと、
前記パターンレジスト層を除去するステップと、
前記第1パターン層の表面上に第2エッチング停止層を形成するステップと、
前記第2エッチング停止層の上に第2パターニング層を形成するステップと、
前記第2パターニング層の表面上にパターンレジスト層を形成するステップと、
前記第2パターニング層をエッチングし、そのことによって第2パターン層を規定するステップと、
前記パターンレジスト層を除去するステップとを備える方法。 - 多段リソグラフィックテンプレートの製造方法であって、
最上面を有する基板を提供するステップと、
前記基板によって支持される第1パターニング層を提供するステップと、
放射源で前記第1パターニング層をパターン化することによってレリーフ構造を有する第1パターン層を形成するステップと、
前記第1パターン層によって支持される第2パターニング層を提供するステップと、
放射源で前記第2パターニング層をパターン化することによってレリーフ構造を有する第1パターン層を形成するステップとを備える方法。 - 表面を有する基板と、
該基板の上に形成された寸法xの第1パターン層と、該第1パターン層の上に形成された寸法yの第2パターン層とを備え、寸法xは寸法yよりも大きく、前記第1パターン層と前記第2パターン層はその中にレリーフイメージを規定していることを特徴とする多段リソグラフィックテンプレート。 - デバイスを作成する方法であって、
基板を提供するステップと、
前記基板に放射線感知材料層を塗布するステップと、
多段リソグラフィックテンプレートであって、表面を有する基板と、該基板の上に形成された寸法xの第1パターン層と、該第1パターン層の上に形成された寸法yの第2パターン層とを備え、寸法xは寸法yよりも大きく、前記第1パターン層と前記第2パターン層はその中にレリーフイメージを規定しているリソグラフィックテンプレートを製造するステップと、
前記リソグラフィックテンプレートを前記放射線感知材料層と接触させて、前記放射線感知材料層を前記テンプレートと前記基板の間に位置付けるステップと、
前記テンプレートに圧力を加えることによって前記放射線感知材料が前記テンプレート上のレリーフパターンに流入するステップと、
前記リソグラフィックテンプレートを通って放射線を伝送して、前記基板上の前記放射線感知材料層の少なくとも一部分を露出させることによって前記放射線感知材料層内のパターンに更に変化を生じさせるステップと、
前記基板から前記テンプレートを除去するステップとを備える方法。
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