JP2010505264A5 -

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機能材料のパターンを基板上に形成する方法であって、
ａ）化学線に露光することにより重合可能なフッ素化化合物を含む組成物の層から、隆起表面を備えたレリーフ構造を有し、弾性率が少なくとも１０メガパスカルであるエラストマースタンプを準備し
ｂ）機能材料と液体とを含む組成物を前記レリーフ構造に適用し、
ｃ）少なくとも前記隆起表面に前記機能材料のフィルムが十分に形成されるように、前記レリーフ構造上の前記組成物から前記液体を除去し、
ｄ）前記機能材料を前記隆起表面から転写して基板上にパターンを形成する
ことを含む方法。
前記機能材料が導体材料のナノ粒子を含み、前記方法が、前記基板上の前記ナノ粒子を焼結して、導体材料の連続フィルムを形成する工程ｅ）をさらに含む請求項１に記載の方法。
前記フッ素化化合物が、パーフルオロポリエーテル化合物である請求項１に記載の方法。
請求項１に記載の方法により作製された要素。