TW201545907A - 印刷版、印刷版之製造方法、功能性元件之製造方法及印刷裝置 - Google Patents

印刷版、印刷版之製造方法、功能性元件之製造方法及印刷裝置 Download PDF

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Abstract

本發明之主要目的在於提供一種轉印性、耐印性及解像性優異之印刷版、印刷版之製造方法、以及使用印刷版之功能性元件之製造方法及印刷裝置。本發明藉由提供一種印刷版，而達成上述目的，該印刷版之特徵在於具有：基材，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層，係於上述基材上以圖案狀形成；及親水部，形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面，且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層。

Description

印刷版、印刷版之製造方法、功能性元件之製造方法及印刷裝置
本發明係關於一種無水平版印刷或凹版印刷之印刷版及其製造方法、以及使用無水平版之印刷版之功能性元件之製造方法及印刷裝置。
藉由電子裝置之製造技術提升，可形成微細之功能層，而有助於智慧型手機或平板終端等小型且攜帶性較高之裝置之普及。
電子裝置之製造主要係藉由稱為光蝕刻法之技術而進行。於光蝕刻法中，於形成於基板上之功能層上以圖案狀形成保護層，藉由蝕刻等將保護層之開口部露出之功能層去除。即，光蝕刻法係將不需要之部分去除而形成圖案之方法，為減成法。相對於此，業界提倡藉由應用以所需之圖案直接形成功能層之加成法，而可提高材料利用效率，大幅省略製造步驟。加成法之主要手段為印刷，故而稱為印刷電子(Printed Electronics)之領域備受關注。
於印刷電子中，要求以既定形狀以微米級(micrometer order)形成佈線或半導體層等功能層。即，要求高於習知之印刷物之解像度。又，並非如習知之印刷物般藉由形成美觀之文字或圖像，只要辨視性良好即滿足要求特性，亦需要經印刷之功能層之剖面或表面之形狀為適合電子裝置之狀態。為了滿足該等要件，需要 進一步提高印刷技術。
印刷法之一有稱為平版印刷之方式。凸版或凹版係利 用版之凹凸，相對於此，平版印刷之印刷版具有親油性之影像區與親水性之非影像區。近年來，例如如專利文獻1中所記載般，主要製造使用聚矽氧橡膠代替潤版液(dampening water)之無水平版。
於平版印刷中，由於利用濕潤性而進行圖案化，故而 適合低黏度之油墨。低黏度油墨於利用印刷之電子裝置之製造中變得重要。其原因在於：適於形成微細佈線，電阻亦較低之銀或銅等奈米粒子之分散油墨大致為低黏度。
相對於此，例如為了製成作為凹版印刷之一種之適合凹版印刷之油墨，需要藉由使包含金屬之粒子之液體混合黏合劑聚合物而使之增黏。於該情形時，藉由添加黏合劑聚合物，油墨中之金屬之純度降低，故而有佈線形成時之電阻增大等損及原本目標之特性之傾向。因此，認為，如平版印刷之基於油墨之濕潤或排斥(反斥)的圖案技術之提高非常有助於印刷電子之技術之提高。
於印刷法中，將轉印性作為課題之一，較理想的是例 如如專利文獻2~4中所記載般，附著於印刷版之油墨被完全轉印至印刷用基材，該狀態被單純稱為「完全轉印」之情形。若反覆進行非完全轉印之印刷，則由於殘留油墨會累積於印刷版之槽或轉印用之毯狀層等，故而印刷之解像度降低。其為習知之對紙之印刷中不易被意識到的課題，其原因在於：由於油墨滲入紙中，故而容易被轉印。然而，於對油墨不易滲入之塑膠膜進行印刷之情形時等，解像度之降低變得顯著。又，於完全轉印之情形時，填充至印刷版中之油墨之上表面與底面於印刷時進行反轉。該狀態相較於油墨於 中途被剪斷之不完全轉印，印刷物之表面平滑性良好而較有利。關於習知之印刷，由於滿足人類之視覺性認識，故而較充分，但於使印刷物具有電子功能之印刷電子中，以更高之等級要求表面之平滑性或形狀。藉由產生完全轉印，可形成能夠滿足該要求之狀態。
作為使完全轉印成為可能之方法，於專利文獻2~3 中，提出使用包含聚矽氧橡膠之聚矽氧毯狀層，進而使用包含既定溶劑之油墨。根據專利文獻2~3，藉由在使油墨附著於聚矽氧毯狀層後轉印至印刷用基材為止之期間，油墨中之溶劑進行揮發，油墨之黏度上升，油墨之凝集力增高，進而油墨中之溶劑向聚矽氧毯狀層滲透，藉此油墨自印刷版向印刷用基材之轉印性變良好。
另一方面，於多數無水平版中，例如如專利文獻1中 所記載般，聚矽氧橡膠層為排斥油墨之疏水性之非影像區，接受油墨之影像區包含感熱層，感熱層非聚矽氧橡膠。因此，於如專利文獻2~3中所記載之使用包含既定溶劑之油墨之情形下，油墨中之溶劑亦不會滲透至影像區之感熱層中，而無法提高油墨之凝集力，故而難以將油墨完全轉印。因此，平版印刷雖然為適合一般之印刷之技術，但於製造電子裝置之方面具有課題。
相對於此，於專利文獻5中，提出有一種平版印刷用 印版，其具有包含有機聚矽氧層之非影像區與包含表面經親油化處理之有機聚矽氧層之影像區。於此種平版印刷用印版中，由於影像區包含有機聚矽氧層，故而於如專利文獻2~3中所記載之使用包含既定溶劑之油墨之情形，可進行完全轉印。
根據專利文獻5，於有機聚矽氧層上使用光阻劑以圖 案狀設置保護層，並於進行電漿處理後，將保護層去除，藉此製作 上述平版印刷用印版。即，於該方法中利用光阻劑。
然而，若為上述方法，則有於大部分光阻劑中難以進行高解像度之圖案形成之問題。即，由於光阻劑之主溶劑大多為充分滲透至聚矽氧中、即聚矽氧進行膨潤之丙二醇單甲醚乙酸酯或甲基乙基酮，故而於光阻劑成膜時，暫時滲透至有機聚矽氧層中之光阻劑中之溶劑向光阻劑圖案形成後之光阻劑側(保護層側)逆流，故而保護層會進行膨脹，而使保護層之圖案呈現形狀不良。為了避免該問題，考慮於光阻劑之塗佈後於高溫下進行加熱，而使滲透至有機聚矽氧層中之光阻劑中之溶劑蒸發，但該情形下，光阻劑在顯影時於顯影液中之溶解性會明顯降低。因此，關於可藉由該方法形成之光阻劑之解像度，極限為50μm左右。因此，若為上述平版印刷用印版，則難以進行高精細之印刷，而難以於電路等要求圖案之微細化之用途中應用。
又，印刷法中，耐印性亦為課題之一，平版印刷中， 如專利文獻5中所記載般，有於連續印刷時油墨附著於非影像區之所謂版污(scumming)之問題。可認為，為了進行完全轉印，較佳為使用如專利文獻2~3中所記載之包含滲透至聚矽氧之溶劑之油墨。於使用此種油墨之情形下，於專利文獻5中所記載之平版印刷用印刷版中，非影像區亦包含有機聚矽氧層，故而藉由使油墨反覆接觸平版印刷用印刷版之表面，因油墨中之溶劑，有機聚矽氧層逐漸膨潤。於膨潤狀態下，非影像區之有機聚矽氧層之物性發生劣化，雖為微量但油墨亦會附著於非影像區。於通常之印刷中，即便為被容許之極微量之版污，於電子裝置用途之情形亦會導致電性短路等，故而無法容許。
如此於如平版印刷之基於油墨之濕潤或排斥(反斥)之 印刷技術中，有因印刷版製作時之光阻劑中之溶劑之滲透所導致的解像度降低之問題、及因連續印刷時之油墨中之溶劑之滲透所導致的版污之問題。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2001-225565號公報
[專利文獻2]日本專利特開2011-187179號公報
[專利文獻3]國際公開第2008/111484號說明書
[專利文獻4]日本專利特開2013-77713號公報
[專利文獻5]日本專利特開昭55-59467號公報
本發明係鑒於上述問題而成者，其主要目的在於提供一種轉印性、耐印性及解像性優異之印刷版、印刷版之製造方法、以及使用印刷版之功能性元件之製造方法及印刷裝置。
為了達成上述目的，本發明提供一種印刷版，其特徵在於其具有：基材，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層，於上述基材上以圖案狀形成；及親水部，係形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面，且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層。
根據本發明，親水部為基材表面經親水化之部分，且 基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，故而於使用本發明之印刷版進行印刷之情形下，可使附著於印刷版之親水部之油墨中之溶劑滲透至親水部中，可提高油墨於印刷版之親水部表面之凝集力，而可進行完全轉印。又，根據本發明，由於疏水性溶劑滲透防止層具有抑制溶劑之滲透之功能，故而於使用本發明之印刷版進行反覆印刷之情形，可抑制疏水性溶劑滲透防止層因油墨中之溶劑而膨潤，抑制油墨附著於疎水性溶劑滲透防止層表面，而可抑制版污之產生。 又，於製造本發明之印刷版時，可於疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案，利用抗蝕圖案以圖案狀去除疏水性溶劑滲透防止層，使基材表面親水化，而形成親水部。因此，可抑制抗蝕劑中之溶劑滲透至基材中，而可防止抗蝕劑成膜時滲透至印刷版中之抗蝕劑中之溶劑滲出至抗蝕圖案，導致抗蝕圖案膨脹而形狀不良。因此，能夠以高解像度形成抗蝕圖案，可形成微細之親水部。因此，於本發明中，可提高轉印性、耐印性及解像性。
於上述發明中，較佳為上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙 烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。 該等適合作為可於溶劑中膨潤之彈性體。
又，於本發明中，上述基材之上述疏水性溶劑滲透防 止層側之面亦可為平坦狀。又，於本發明中，於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部，上述基材亦可於表面具有凹部。於疏水性溶劑滲透防止層與親水部之階差較小之情形，可製成平版印刷用印刷版，於階差較大之情形，可製成凹版印刷用印刷版。
又，本發明提供一種印刷版之製造方法，其特徵在於 包括如下步驟：疏水性溶劑滲透防止層形成步驟，其係於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材上形成疏水性溶劑滲透防止層；抗蝕圖案形成步驟，其係於上述疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案；去除及親水化步驟，其係將上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層去除，使所露出之上述基材表面親水化；及抗蝕圖案剝離步驟，其係將上述抗蝕圖案剝離。
根據本發明，由於疏水性溶劑滲透防止層具有抑制溶 劑之滲透之功能，故而於疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案，藉此可抑制抗蝕劑中之溶劑滲透至基材中。因此，可防止於抗蝕圖案形成時滲透至印刷版中之抗蝕劑中之溶劑逆流至抗蝕圖案，導致抗蝕圖案膨脹而形狀不良。因此，能夠以高解像度形成抗蝕圖案，可形成微細之親水部。又，根據本發明，使基材表面親水化而形成親水部，且基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，故而於使用根據本發明製造之印刷版進行印刷之情形下，可使附著於印刷版之親水部之油墨中之溶劑滲透至親水部中，可提高油墨之凝集力，而可進行完全轉印。又，於使用根據本發明製造之印刷版進行反覆印刷之情形下，可抑制疏水性溶劑滲透防止層因油墨中之溶劑而膨潤，而抑制油墨附著於疏水性溶劑滲透防止層表面，而可抑制版污之產生。 因此，於本發明中，可獲得轉印性、耐印性及解像性優異之印刷版。
於上述發明中，較佳為上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。該等適合作為可於溶劑中膨潤之彈性體。
又，本發明之印刷版之製造方法較佳為進而包括預處 理步驟，其係於上述疏水性溶劑滲透防止層形成步驟前，使上述基材表面親水化。其原因在於：可形成與基材之密接性良好之疏水性溶劑滲透防止層。藉此，於使根據本發明製造之印刷版與印刷用基材密接而將油墨轉印時，可防止疏水性溶劑滲透防止層自基材剝離，而可獲得耐久性較高之印刷版。
又，於本發明中，上述去除及親水化步驟亦可包括如 下步驟：去除步驟，其係將上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層去除，進而將所露出之上述基材表面去除而於上述基材表面形成凹部；及親水化步驟，其係使所露出之上述基材表面親水化。於疏水性溶劑滲透防止層與親水部之階差較小之情形時，可獲得平版印刷用印刷版，於階差較大之情形，可獲得凹版印刷用印刷版。
進而本發明提供一種功能性元件之製造方法，其特徵 在於包括如下步驟：印刷版準備步驟，其準備如下印刷版，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面為平坦狀；毯狀層(blanket)準備步驟，其準備具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材之毯狀層；塗佈步驟，其係於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈功能層形成用塗敷液；一次轉印步驟，其經由上述功能層形成用塗敷液使上述毯狀層及上述印刷版接觸，而將上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液僅轉印至上述印刷版之上述親水部；二次轉印步驟，其係 將殘留於上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液轉印至功能層形成用基材，而形成功能層；且上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
根據本發明，藉由使用上述印刷版及具有既定親水性 之毯狀層，於一次轉印步驟及二次轉印步驟之任一者中均可將功能層形成用塗敷液完全轉印。因此，可進行高解像度之印刷。
於上述發明中，較佳為上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙 烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。 該等適合作為可於溶劑中膨潤之彈性體。
又，本發明之功能性元件之製造方法較佳為包括將上 述印刷版之上述親水部之上述功能層形成用塗敷液轉印至清潔用基材之去除步驟。藉由使用上述印刷版，於去除步驟中亦可將功能層形成用塗敷液完全轉印。因此，可進行連續印刷。
進而本發明提供一種印刷裝置，其特徵在於具有：印 刷版，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面為平坦狀；毯狀層，其係可抵接地配置於上述印刷版，並且具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材；塗敷機，其於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈油墨；印刷用載置構件，其可抵接地配置於上述毯狀層，載 置印刷用基材；及清潔用載置構件，其係可抵接地配置於上述印刷版，載置清潔用基材；且上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
根據本發明，藉由具備上述印刷版及具有既定親水性 之毯狀層，於油墨自毯狀層向印刷版之親水部之轉印、油墨自毯狀層向印刷用基材之轉印、及油墨自印刷版之親水部向清潔用基材之轉印時，可將油墨完全轉印。因此，可進行高解像度之印刷，又，可進行連續印刷。
於上述發明中，較佳為上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙 烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。 該等適合作為可於溶劑中膨潤之彈性體。
又，於本發明中，較佳為上述印刷版、上述毯狀層及 上述清潔用載置構件為輥狀，且具有清潔單元，該清潔單元具有上述輥狀之清潔用載置構件、用以送出長條之上述清潔用基材之第1輥、及捲取上述清潔用基材之第2輥。其原因在於：藉由清潔單元，可將清潔用基材與印刷版之接觸面始終保持為潔淨之狀態。
於本發明中，發揮可獲得轉印性、耐印性及解像性優異之印刷版之效果。
1‧‧‧印刷版
2‧‧‧基材
2a、31a‧‧‧彈性體層
2b、31b‧‧‧支持體
3‧‧‧疏水性溶劑滲透防止層
4‧‧‧親水部
5‧‧‧凹部
11‧‧‧抗蝕圖案
12‧‧‧氧化處理
13‧‧‧物理處理
14、15‧‧‧親水化處理
21、42‧‧‧油墨
22、44‧‧‧印刷用基材
30‧‧‧毯狀層
31‧‧‧第2基材
32‧‧‧親水性區域
35‧‧‧功能層形成用塗敷液
36‧‧‧功能層形成用基材
38、49‧‧‧清潔用基材
40‧‧‧印刷裝置
41‧‧‧塗敷機
43‧‧‧印刷用載置構件
45‧‧‧清潔用載置構件
46‧‧‧第1輥
47‧‧‧第2輥
48‧‧‧清潔單元
d‧‧‧深度
圖1係表示本發明之印刷版之一例之概略剖面圖。
圖2(a)至(e)係表示本發明之印刷版之製造方法之一例之步驟圖。
圖3(a)至(c)係表示本發明之印刷版之使用方法之一例之步驟圖。
圖4係表示本發明之印刷版之另一例之概略剖面圖。
圖5(a)至(f)係表示本發明之印刷版之製造方法之另一例之步驟圖。
圖6(a)至(c)係表示本發明之印刷版之使用方法之另一例之步驟圖。
圖7(a)至(f)係表示本發明之印刷版之製造方法之另一例之步驟圖。
圖8(a)至(d)係表示本發明之功能性元件之製造方法之一例之步驟圖。
圖9(a)及(b)係表示本發明之功能性元件之製造方法之一例之步驟圖。
圖10(a)及(b)係表示本發明之功能性元件之製造方法之另一例之步驟圖。
圖11係表示本發明之印刷裝置之一例之模式圖。
以下，對本發明之印刷版、印刷版之製造方法、以及使用印刷版之功能性元件之製造方法及印刷裝置詳細地進行說明。
A.印刷版
本發明之印刷版之特徵在於其具有：基材，係含有可於溶劑中 膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層，於上述基材上以圖案狀形成；及親水部，係形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層。
一面參照圖式，一面對本發明之印刷版進行說明。
圖1係表示本發明之印刷版之一例之概略剖面圖，為平版印刷用印刷版之一例。如圖1中所例示，印刷版1具有：基材2，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層3，於基材2上以圖案狀形成；及親水部4，係形成於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面，並且基材2之疏水性溶劑滲透防止層3側之面較平坦。
圖2(a)至(e)係表示本發明之印刷版之製造方法之一 例之步驟圖，為平版印刷用印刷版之製造方法之一例。首先，如圖2(a)所示，於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材2上形成疏水性溶劑滲透防止層3。繼而，如圖2(b)所示，於疏水性溶劑滲透防止層3上形成抗蝕圖案11，如圖2(c)所示，以抗蝕圖案11作為遮罩而對疏水性溶劑滲透防止層3表面實施電漿照射或真空紫外光照射等氧化處理12。藉此，如圖2(d)所示，抗蝕圖案11之開口部之疏水性溶劑滲透防止層3被去除，而使疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面親水化。其結果為，於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面形成親水部4。其後，將抗蝕圖案11剝離，如圖2(e)所示，可獲得印刷版1。
圖3(a)至(c)係表示使用本發明之印刷版之印刷物之 製造方法之一例之步驟圖，為使用平版印刷用印刷版之例。首先，如圖3(a)中所例示，雖未於印刷版1中進行圖示，但使用塗佈頭塗 佈油墨21。由於疏水性溶劑滲透防止層3具有疏水性，且親水部4之親水性高於疏水性溶劑滲透防止層3，故而油墨21僅附著於親水部4表面。繼而，如圖3(b)~(c)中所例示，於使印刷用基材22與附著有油墨21之印刷版1表面密接後，自印刷版1將印刷用基材22剝離，並將油墨21轉印至印刷用基材22，而印刷所需之圖案。
圖4係表示本發明之印刷版之另一例之概略剖面 圖，為凹版印刷用印刷版之一例。如圖4中所例示，印刷版1具有：基材2，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層3，於基材2上以圖案狀形成；及親水部4，係形成於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面，並且於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部，基材2於表面具有凹部5。
圖5(a)至(f)係表示本發明之印刷版之製造方法之另 一例之步驟圖，為凹版印刷用印刷版之製造方法之一例。首先，如圖5(a)所示，於基材2上形成疏水性溶劑滲透防止層3。繼而，如圖5(b)所示，於疏水性溶劑滲透防止層3上形成抗蝕圖案11，如圖5(c)所示，以抗蝕圖案11作為遮罩而對疏水性溶劑滲透防止層3表面實施電漿照射等物理處理13。藉此，如圖5(d)所示，抗蝕圖案11之開口部之疏水性溶劑滲透防止層3被去除，進而疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2之表面被去除而形成凹部5。繼而，如圖5(e)所示，以抗蝕圖案11作為遮罩而對基材2表面實施電漿照射或真空紫外光照射等親水化處理14。藉此，疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面經親水化，而於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面形成親水部4。其後，將抗蝕圖案11剝離，如圖5(f)所示，而可獲得印刷版1。
圖6(a)至(c)係表示使用本發明之印刷版之印刷物之 製造方法之另一例之步驟圖，為使用凹版印刷用印刷版之例。首先，如圖6(a)中所例示，雖於印刷版1中未進行圖示，但使用塗佈頭塗佈油墨21。由於疏水性溶劑滲透防止層3具有疏水性，且親水部4之親水性高於疏水性溶劑滲透防止層3，故而油墨21僅附著於作為凹部之親水部4。繼而，如圖6(b)及(c)中所例示，於使印刷用基材22與附著有油墨21之印刷版1表面密接後，將印刷用基材22自印刷版1剝離，並將油墨21轉印至印刷用基材22，而印刷所需之圖案。
根據本發明，藉由基材含有可於溶劑中膨潤之彈性 體，而可使基材成為因溶劑而膨潤者。於本發明之印刷版中，由於親水部為基材表面經親水化之部分，且基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，故而於使用本發明之印刷版進行印刷之情形下，可使附著於印刷版之親水部之油墨中之溶劑滲透至親水部中。因此，於使油墨附著於印刷版之親水部後轉印至印刷用基材為止之期間，油墨中之溶劑會滲透至印刷版之親水部中，故而油墨中之溶劑進行蒸發之部分亦合計在內，可使油墨之黏度緩慢上升，而提高油墨於印刷版之親水部表面之凝集力。因此，於將油墨自印刷版向印刷用基材轉印時，可將油墨完全轉印，而可提高油墨自印刷版向印刷用基材之轉印性。
又，於本發明之印刷版中，疏水性溶劑滲透防止層具有抑制溶劑之滲透之功能。因此，於使用本發明之印刷版進行反覆印刷之情形，可抑制疏水性溶劑滲透防止層因油墨中之溶劑而膨潤，而抑制油墨附著於疏水性溶劑滲透防止層表面。因此，可抑制版污之產 生，而提高耐印性。
又，於製造本發明之印刷版時，可於疏水性溶劑滲透 防止層上形成抗蝕圖案，利用抗蝕圖案以圖案狀去除疏水性溶劑滲透防止層，使基材表面親水化，而形成親水部。如此由於抗蝕圖案形成於疏水性溶劑滲透防止層上，故而可抑制抗蝕劑中之溶劑滲透至基材中。因此，可防止於抗蝕劑成膜時滲透至印刷版中之抗蝕劑中之溶劑滲出至抗蝕圖案中，導致抗蝕圖案膨脹而形狀不良。因此，能夠以高解像度形成抗蝕圖案，可形成微細之親水部。因此，藉由使用本發明之印刷版，可利用微細之親水部進行高精細之印刷。
以下，對本發明之印刷版之各構成進行說明。
1.疏水性溶劑滲透防止層
本發明中之疏水性溶劑滲透防止層係於基材上以圖案狀形成，且具有抑制溶劑之滲透之功能者。
疏水性溶劑滲透防止層係具有疏水性者。此處，所謂 「疏水性」，係指對25℃之水之接觸角為50°以上之情形。具體而言，疏水性溶劑滲透防止層對25℃之水之接觸角只要為50°以上即可，較佳為70°以上，更佳為80°以上。其原因在於：若疏水性溶劑滲透防止層之上述接觸角為上述範圍，則可增大疏水性溶劑滲透防止層及親水部之上述接觸角之差，而可使用本發明之印刷版進行高精細之印刷。
又，疏水性溶劑滲透防止層及親水部之上述接觸角之差越大越佳，具體而言，較佳為10°以上，其中較佳為40°以上，尤佳為70° 以上。與上述情形相同地，其原因在於：若疏水性溶劑滲透防止層及親水部之上述接觸角之差為上述範圍，則可使用本發明之印刷版進行高精細之印刷。
再者，接觸角例如可藉由如下方式進行測定：於成為測定對象之層上滴加1微升之液體，自側面觀測所滴加之液滴之形狀，並測量液滴與層表面所成之角。接觸角例如可使用井元製作所製造之接觸角測定裝置或協和界面科學製造之接觸角計DM-901而進行測定。
作為疏水性溶劑滲透防止層所使用之材料，只要為具 有上述疏水性，具有抑制溶劑之滲透之功能，且可藉由電漿照射或真空紫外光照射等而去除者即可，例如可列舉具有二維交聯構造之聚矽氧烷及氟化聚矽氧烷。作為此種材料之市售品，亦可使用奈米壓印所使用之脫模劑。
此處，所謂「二維交聯構造」，係指高分子於主鏈方 向進行交聯之高分子構造。於本發明中，藉由疏水性溶劑滲透防止層含有具有二維交聯構造之聚矽氧烷或氟化聚矽氧烷，可使疏水性溶劑滲透防止層成為不因溶劑而膨潤者。
關於聚矽氧烷或氟化聚矽氧烷具有二維交聯構造，可 根據薄膜之X射線繞射測定進行判斷。於三維交聯構造中，出現以網狀構造為代表之高次構造之波峰，但若為二維交聯構造，則不會出現相當於其等之波峰，故而可確認為二維交聯構造或為三維交聯構造。
又，疏水性溶劑滲透防止層亦可為對表面實施過疏水 化處理者。具體而言，可使用於表面形成有疏水層之金屬層。
疏水層係具有上述疏水性，且可於金屬層表面形成 者，例如可列舉使用具有疏水性基與可鍵結於構成金屬層之金屬之鍵結部位之化合物的自組單分子膜。由於此種自組單分子膜可與金屬層穩定地形成化學鍵，故而可提高疏水層及金屬層之密接性。藉此，於使本發明之印刷版與印刷用基材密接而將油墨轉印時，可抑制疏水層之剝離，而可提高印刷版之耐久性。
作為自組單分子膜中所使用之化合物，只要為具有疏水性基與向構成金屬層之金屬之鍵結部位之化合物，則並無特別限定，例如可列舉：硫醇化合物、二硫醚化合物、硫醚化合物、矽烷偶合劑、磷酸化合物等。作為該等化合物，係根據構成金屬層之金屬之種類等而進行適當選擇。例如，於硫醇化合物之情形，可形成因金-硫醇反應、銀-硫醇反應等而產生之化學鍵。又，於磷酸化合物之情形，可與鈦、鋁等適宜地形成化學鍵。
又，就疏水性之觀點而言，該等化合物較佳為包含氟。
其中，可較佳地使用硫醇化合物。作為硫醇化合物，例如可列舉：烷烴硫醇、氟化烷烴硫醇等。
作為金屬層中所使用之金屬材料，只要為具有抑制溶 劑之滲透之功能，可與上述自組單分子膜中所使用之化合物鍵結，且可藉由電漿照射等去除者即可，例如可列舉：金、銀、銅、鉑、鈀、鉻、鉬、鎢、鉭、鎳、鋁、鈦、鎂、鈣、鋰及包含該等之合金等。又，亦可使用氧化銦錫、氧化銦鋅等。
疏水性溶劑滲透防止層為非影像區，作為疏水性溶劑 滲透防止層之圖案形狀，係根據印刷版之用途等而進行適當選擇者，可設為任意形狀。
又，作為疏水性溶劑滲透防止層之圖案尺寸，並無特別限定，於本發明中，可將進行作為影像區之親水部之微細化。具體而言，若疏水性溶劑滲透防止層之開口部之寬度為至多2μm左右即可形成。
作為疏水性溶劑滲透防止層之膜厚，只要為可發揮出 抑制溶劑之滲透之功能，且可利用電漿照射或真空紫外光照射等去除疏水性溶劑滲透防止層之厚度，則並無特別限定，係根據疏水性溶劑滲透防止層之構成而進行適當調整。
例如，於疏水性溶劑滲透防止層含有具有二維交聯構造之聚矽氧烷或氟化聚矽氧烷之情形下，疏水性溶劑滲透防止層之膜厚較佳為2nm~50nm之範圍內，其中較佳為5nm~40nm之範圍內，尤佳為10nm~20nm之範圍內。若疏水性溶劑滲透防止層之膜厚較薄，則存在無法獲得所需之疏水性之情形。又，若疏水性溶劑滲透防止層之膜厚較厚，則存在難以利用電漿照射或真空紫外光照射等去除之情形。
又，例如，於疏水性溶劑滲透防止層為於表面形成有 疏水層之金屬層之情形下，作為疏水層之膜厚，只要為可充分地發揮出疏水性，且可形成自組單分子膜之厚度，則並無特別限定，係根據疏水層之材料等而進行適當決定。具體而言，疏水層之膜厚較佳為1nm~5nm之範圍內，其中較佳為2nm~4nm之範圍內。若疏水層之膜厚為上述範圍內，則可獲得所需之疏水性，並且可藉由電漿照射等容易地去除疏水層。
作為金屬層之膜厚，只要可發揮出抑制溶劑之滲透之功能，則並無特別限定，例如較佳為10nm~300nm之範圍內，其中較佳為 20nm~200nm之範圍內，尤佳為50nm~100nm之範圍內。若金屬層之膜厚為上述範圍內，則可發揮出抑制溶劑之滲透之功能，並且可藉由電漿照射等容易地去除金屬層。
作為疏水性溶劑滲透防止層之形成方法，係根據材料 等而進行適當選擇。再者，關於疏水性溶劑滲透防止層之形成方法，由於記載於下述「B.印刷版之製造方法」中，故而此處之說明省略。
2.親水部
本發明中之親水部係形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之基材表面，且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層者。
作為親水部之親水性，只要高於上述疏水性溶劑滲透 防止層之親水性即可，具體而言，只要25℃之水之接觸角未滿50°即可。更具體而言，只要親水部對25℃之水之接觸角未滿50°即可，較佳為30°以下，更佳為20°以下。其原因在於：若親水部之上述接觸角為上述範圍，則可增大親水部及疏水性溶劑滲透防止層之上述接觸角之差，而可使用本發明之印刷版進行高精細之印刷。
再者，接觸角之測定方法如上所述。
親水部係將基材表面親水化者。再者，關於基材表面 之親水化，由於記載於下述「B.印刷版之製造方法」中，故而此處之說明省略。
親水部為影像區，作為親水部之圖案形狀，係根據印 刷版之用途等而進行適當選擇者，可設為任意形狀。
又，作為親水部之寬度，係根據本發明之印刷版之用途等而進 行適當調整。於本發明中，可進行親水部之微細化，具體而言，若親水部之寬度為至多2μm左右即可形成。
3.基材
本發明中之基材係含有可於溶劑中膨潤之彈性體者。由於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材具有彈性，故而於使印刷用基材與本發明之印刷版之表面密接而將油墨轉印至印刷用基材時，可對印刷版之表面均勻地施加壓力，又，可提高印刷版與印刷用基材之密接度。因此，可提高油墨之轉印性，而進行高精細之印刷。
作為可於溶劑中膨潤之彈性體，可列舉具有三維交聯 構造之彈性體。
此處，所謂「三維交聯構造」，係指高分子相互三維地聚合，而形成網狀構造之狀態。藉由彈性體具有三維交聯構造，可使基材成為因溶劑而膨潤者。
又，可於溶劑中膨潤之彈性體較佳為橡膠硬度為60° ~90°之範圍內，其中較佳為70°~80°之範圍內。若彈性體之橡膠硬度過低，則存在過於柔軟而於印刷時圖案之尺寸或位置變得不正確之情形。又，若彈性體之橡膠硬度過高，則有於清潔時不易自印刷版去除油墨之虞。
再者，橡膠硬度係藉由依據JIS K6253之方法，使用ASKER A型橡膠硬度計(A型硬度計)而測得之值。
作為此種可於溶劑中膨潤之彈性體，例如可列舉：聚 矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、苯乙烯 丁二烯橡膠等。其中，較佳為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠，尤佳為聚矽氧橡膠。其原因在於：該等於如下所述之油墨中所含之溶劑中容易膨潤。又，於聚矽氧橡膠之情形時，容易進行完全轉印，而可進一步提高轉印性。
作為基材中所使用之聚矽氧橡膠之材料，例如可列 舉：聚二甲基矽氧烷及其共聚合體、含氟基之聚二甲基矽氧烷及其共聚合體、聚乙烯基甲基矽氧烷、聚苯基甲基矽氧烷等。
又，作為基材中所使用之丙烯酸系橡膠之材料，例如可列舉：聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯酸甲氧基乙酯等。
基材可為含有可於溶劑中膨潤之彈性體之單一層，亦 可為於支持體上形成有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之彈性體層者。作為支持體，例如可列舉：玻璃基板、樹脂基板、陶瓷基板、金屬基板等。
又，如圖1中所例示，基材2之疏水性溶劑滲透防止 層3側之面可較平坦，如圖4中所例示，於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部，基材2亦可於表面具有凹部5。
此處，所謂基材之疏水性溶劑滲透防止層側之面較平坦，係指於疏水性溶劑滲透防止層之開口部，基材於表面不具有凹部，且係指於基材之形成有疏水性溶劑滲透防止層之部分及基材之未形成疏水性溶劑滲透防止層之部分的整體較平坦。於印刷版為輥狀之情形，基材之疏水性溶劑滲透防止層側之面只要為平坦之曲面即可。
又，所謂於疏水性溶劑滲透防止層之開口部，基材於表面具有凹部，係指基材之凹部之端部與疏水性溶劑滲透防止層之開口部之端部一致。例如於圖4中，基材2之凹部5之端部與疏水性溶劑滲 透防止層3之開口部之端部一致。
如圖1中所例示，於疏水性溶劑滲透防止層3與親水部4之階差較小之情形，可製成平版印刷用印刷版，如圖4中所例示，於疏水性溶劑滲透防止層3與親水部4之階差較大之情形，可製成凹版印刷用印刷版。
於凹版印刷用印刷版之情形下，作為凹部之深度，只 要為可藉由電漿照射等形成之程度，則並無特別限定，具體而言，較佳為0.2μm~500μm之範圍內。若凹部之深度較小，則存在無法保持附著於凹部之油墨之情形。又，若凹部之深度較大，則難以形成凹部。
此處，所謂凹部之深度，係指自形成有疏水性溶劑滲透防止層之區域之基材表面至未形成疏水性溶劑滲透防止層之區域之基材表面的深度。例如如圖4所示，凹部5之深度係以d表示。
另一方面，即便於在疏水性溶劑滲透防止層之開口部 基材於表面具有凹部之情形下，凹部之深度亦較小，於疏水性溶劑滲透防止層與親水部之階差較小之情形，可製成平版印刷用印刷版。於平版印刷用印刷版之情形，關於凹部之深度，具體而言，較佳為200nm以下。
4.印刷版
作為本發明之印刷版之形狀，可如圖1中所例示般為板狀，雖未圖示，但亦可為輥狀。
5.用途
作為本發明之印刷版之用途，例如可列舉：電晶體或二極體等半導體元件中之電極、半導體層、閘極絕緣層及層間絕緣層之形成、薄膜電晶體(TFT，Thin Film Transistor)基板中之像素電極之形成、太陽電池中之背面電極之形成、有機電致發光(EL，Electro Luminescence)元件中之背面電極之形成、非揮發性記憶體之電極及聚合物層之形成、壓力感測器之電極及聚合物層之形成、佈線基板中之佈線之形成、彩色濾光片中之著色層及遮光部之形成、生物晶片之製作等。尤其是本發明之印刷版可適宜地用於要求圖案之微細化之電子裝置之製造。
於本發明中，如圖3(a)至(c)中所例示，使油墨21附 著於印刷版1之親水部4，並將油墨21轉印至印刷用基材22。作為油墨中所含之溶劑，可使用滲透至基材中且不會滲透至疏水性溶劑滲透防止層中者，即，使基材膨潤且不會使疏水性溶劑滲透防止層膨潤者。作為此種溶劑，係根據基材及疏水性溶劑滲透防止層之材料等而進行適當選擇。具體而言，可列舉：甲苯、二甲苯、均三甲苯、甲醇、乙醇、2-丙醇、丁醇、1-甲氧基2-丙醇、松脂醇、丙二醇-1-單甲醚2-乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等。
B.印刷版之製造方法
本發明之印刷版之製造方法之特徵在於包括如下步驟：疏水性溶劑滲透防止層形成步驟，其係於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材上形成疏水性溶劑滲透防止層；抗蝕圖案形成步驟，其係於上述疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案；去除及親水化步驟，其係將上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層去除，使 所露出之上述基材表面親水化；及抗蝕圖案剝離步驟，其係將上述抗蝕圖案剝離。
圖2(a)至(e)係表示本發明之印刷版之製造方法之一 例之步驟圖，為平版印刷用印刷版之製造方法之一例。再者，關於圖2(a)至(e)，由於記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
該情形下，可藉由在疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案，實施電漿照射或真空紫外光照射等氧化處理，以圖案狀去除疏水性溶劑滲透防止層，使基材表面親水化，而形成親水部。藉此，可獲得將親水部設為影像區，且將疏水性溶劑滲透防止層表面設為非影像區之印刷版。
圖5(a)至(f)係表示本發明之印刷版之製造方法之另 一例之步驟圖，為凹版印刷用印刷版之製造方法之一例。再者，關於圖5(a)至(f)，由於記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
該情形下，可藉由在疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案，實施電漿照射等物理處理，而以圖案狀去除疏水性溶劑滲透防止層，進而以圖案狀去除基材表面，實施電漿照射或真空紫外光照射等親水化處理，藉此使基材表面親水化，而形成親水部。藉此，可獲得將親水部設為影像區，且將疏水性溶劑滲透防止層表面設為非影像區之印刷版。
於本發明中，由於疏水性溶劑滲透防止層具有抑制溶 劑之滲透之功能，故而藉由在疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案，可抑制抗蝕劑中之溶劑滲透至基材中。因此，可防止於抗蝕圖 案形成時滲透至印刷版中之抗蝕劑中之溶劑滲出至抗蝕圖案中，導致抗蝕圖案膨脹而形狀不良。因此，能夠以高解像度形成抗蝕圖案，可形成微細之親水部。因此，可獲得能夠利用微細之親水部進行高精細之印刷之印刷版。
又，根據本發明，藉由使用含有可於溶劑中膨潤之彈 性體之基材，而可使基材成為於溶劑中膨潤者。本發明之印刷版之製造方法中，由於使基材表面親水化而形成親水部，且基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，故而於使用根據本發明製造之印刷版進行印刷之情形下，可使附著於印刷版之親水部之油墨中之溶劑滲透至親水部中，而可使油墨之黏度上升，從而提高油墨之凝集力。因此，可獲得油墨自印刷版向印刷用基材之轉印性優異之印刷版。
又，於使用根據本發明製造之印刷版進行反覆印刷之情形下，由於疏水性溶劑滲透防止層具有抑制溶劑之滲透之功能，故而可抑制疏水性溶劑滲透防止層因油墨中之溶劑進行膨潤，而抑制油墨附著於疏水性溶劑滲透防止層表面。因此，可獲得抑制版污之產生，耐印性優異之印刷版。
又，根據本發明，藉由適當選擇去除及親水化步驟之 樣態，可調整疏水性溶劑滲透防止層與親水部之階差，即，由疏水性溶劑滲透防止層及親水部形成之槽之深度。因此，可製造自槽之深度為奈米級之大致平坦之平版印刷用印刷版至槽之深度為微米級之凹版印刷用的印刷版。於凹版印刷用印刷版中，由於可根據槽之深度調整所填充之油墨量，故而可積極地控制轉印至印刷用基材之油墨之厚度。
圖7(a)至(f)係表示本發明之印刷版之製造方法之另 一例之步驟圖。首先，如圖7(a)所示，進行藉由電漿照射或真空紫外光照射等親水化處理15，而使基材2表面親水化之預處理步驟。 繼而，如圖7(b)所示，於表面經親水化之基材2上塗佈疏水性溶劑滲透防止層形成用塗敷液，而形成疏水性溶劑滲透防止層3。再者，由於圖7(c)至(f)與圖2(b)至(e)相同，故而省略。
如此於本發明中，較佳為於疏水性溶劑滲透防止層形成步驟前進行預處理步驟。該情形下，可提高基材及疏水性溶劑滲透防止層之密接性。藉此，於使根據本發明製造之印刷版與印刷用基材密接而將油墨轉印時，可防止疏水性溶劑滲透防止層自基材剝離，而可獲得耐久性較高之印刷版。
以下，對本發明之印刷版之製造方法中之各步驟進行說明。
1.疏水性溶劑滲透防止層形成步驟
本發明中之疏水性溶劑滲透防止層形成步驟係於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材上形成疏水性溶劑滲透防止層之步驟。
作為疏水性溶劑滲透防止層之形成方法，係根據材料等而進行適當選擇。
例如於形成含有具有二維交聯構造之聚矽氧烷或氟化聚矽氧烷之疏水性溶劑滲透防止層之情形，可列舉於基材上塗佈包含具有二維交聯構造之聚矽氧烷或氟化聚矽氧烷之疏水性溶劑滲透防止層形成用塗敷液之方法。作為塗佈方法，只要為可於基材全面塗佈疏水性溶劑滲透防止層形成用塗敷液之方法，則並無特別限定，例如可使用旋轉塗佈法、模頭塗佈法、輥塗法、棒式塗佈法、浸漬塗 佈法、噴塗法、刮刀塗佈法、凹版印刷法、狹縫式塗佈法、噴墨法、軟版印刷法等通常之方法。
又，例如，於形成於表面形成有疏水層之金屬層作為疏水性溶劑滲透防止層之情形下，作為金屬層之形成方法，例如可列舉：真空蒸鍍法、濺鍍法、或塗佈分散有金屬粒子之油墨並進行焙燒之方法等。又，作為疏水層之形成方法，只要為可形成自組單分子膜之方法即可，例如可列舉：浸漬法、噴霧法、模頭塗佈法、旋轉塗佈法、蒸鍍法等。
再者，關於疏水性溶劑滲透防止層之其他方面及基 材，由於詳細地記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
2.抗蝕圖案形成步驟
本發明中之抗蝕圖案形成步驟係於上述疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案之步驟。
作為抗蝕圖案之形成方法，例如可列舉：於疏水性溶 劑滲透防止層上塗佈光阻劑，進行曝光及顯影之方法；或藉由網版印刷法等直接形成抗蝕圖案之方法等。
作為抗蝕圖案之形成中所使用之抗蝕劑，只要為可於疏水性溶劑滲透防止層上形成者即可，可自通常之抗蝕劑之中進行適當選擇而使用。又，作為光阻劑，可使用正型及負型之任一種。
其中，抗蝕劑較佳為包含含有氟基之界面活性劑。其原因在於：若為此種抗蝕劑，則由於可有效地減少抗蝕劑之表面張力，故而即便疏水性溶劑滲透防止層表面之疏水性較高，亦可於疏水性溶劑滲透防止層上良好地塗佈抗蝕劑。作為含有氟基之界面活性，只 要對抗蝕劑可溶，則並無特別限定，可使用高分子系及低分子系之任一種，可使用通常之氟系界面活性劑。
又，作為抗蝕劑中所含之溶劑，可使用不會使疏水性溶劑滲透防止層溶解且不會滲透至疏水性溶劑滲透防止層中者，即，不會使疏水性溶劑滲透防止層溶解且不會使疏水性溶劑滲透防止層膨潤者。作為此種溶劑，係根據疏水性溶劑滲透防止層之材料等而進行適當選擇者，例如可列舉：丙二醇單甲醚乙酸酯、甲基乙基酮、2-庚酮、環己酮、環戊酮、甲苯、二甲苯、均三甲苯、丙酮、甲醇、乙醇、異丙醇等。
作為抗蝕圖案之膜厚，只要為於下述去除及親水化步 驟時可保護位於抗蝕圖案之下之疏水性溶劑滲透防止層之厚度即可，係進行適當調整。
3.去除及親水化步驟
本發明中之去除及親水化步驟係去除上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層，使所露出之上述基材表面親水化之步驟。
去除及親水化步驟可為藉由單一處理將抗蝕圖案之 開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除，而使所露出之基材表面親水化之步驟，又，亦可為分別進行將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除之去除步驟、及使所露出之基材表面親水化之親水化步驟之步驟。
於製作平版印刷用印刷版之情形下，於去除及親水化步驟中，可藉由單一處理，將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去 除，而使所露出之基材表面親水化，亦可分別進行將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除之去除步驟與使所露出之基材表面親水化之親水化步驟。其中，較佳為藉由單一處理，將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除，而使所露出之基材表面親水化。
另一方面，於製作凹版印刷用印刷版之情形下，去除及親水化步驟較佳為包括如下步驟：去除步驟，其係將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除，進而將所露出之基材表面去除而於基材表面形成凹部；及親水化步驟，其係使所露出之基材表面親水化。
於藉由單一處理，將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑 滲透防止層去除，而使所露出之基材表面親水化之情形下，作為該處理，只要為可將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除，且可使所露出之基材表面親水化之方法，則並無特別限定，係根據疏水性溶劑滲透防止層之材料等而進行適當選擇。例如可列舉：電漿照射、真空紫外光照射、紫外線(UV，Ultra Violet)-臭氧處理等氧化處理。於疏水性溶劑滲透防止層係於表面形成有疏水層之金屬層之情形下，較佳為電漿照射。
於電漿照射中，產生反應性氣體之電漿而進行照射。 作為反應性氣體，例如可列舉氧氣。又，反應性氣體亦可含有氮氣、氬氣、氦氣等。又，於電漿照射中，例如可於減壓下照射電漿，亦可於大氣壓下照射電漿。大氣壓電漿於成本或製造效率等方面較有利。
又，藉由照射真空紫外光，可將抗蝕圖案之開口部之 疏水性溶劑滲透防止層去除，而使所露出之基材表面親水化。
此處，所謂「真空紫外光」，係指波長為10nm~200nm之範圍內之紫外線。作為真空紫外光，只要具有可去除疏水性溶劑滲透防止層之波長，則並無特別限定，只要根據疏水性溶劑滲透防止層之材料等而使用適當之波長之真空紫外光即可。其中，真空紫外光之波長為126nm~193nm之範圍內，進而較佳為172nm。
作為真空紫外光之照射中所使用之光源，例如可列舉：準分子燈、低壓水銀燈等。又，作為真空紫外光之照射量，只要為可去除疏水性溶劑滲透防止層，使基材表面親水化之程度即可，係根據疏水性溶劑滲透防止層之材料或真空紫外光之波長等而進行適當調整。
又，UV-臭氧處理中，可使用產生臭氧之氧氣或空氣。
又，於去除及親水化步驟包括將抗蝕圖案之開口部之 疏水性溶劑滲透防止層去除，進而將所露出之基材表面去除而於基材表面形成凹部之去除步驟與使所露出之基材表面親水化之親水化步驟之情形，於去除步驟中，作為將疏水性溶劑滲透防止層去除之方法，只要為可將抗蝕圖案之開口部之疏水性溶劑滲透防止層去除，並可將所露出之基材表面去除而形成凹部之方法，則並無特別限定，係根據疏水性溶劑滲透防止層之材料等而進行適當選擇。例如可列舉乾式蝕刻或藉由工具等進行切削之方法等物理處理。其中，就可進行微細加工之觀點而言，較佳為乾式蝕刻。
作為乾式蝕刻，例如可列舉電漿照射。
作為產生電漿之反應性氣體，例如可列舉：氧氣及CF4之混合氣體、氧氣及C4F8之混合氣體。又，反應性氣體亦可含有氮氣、氬氣、氦氣等。又，於電漿照射中，例如可於減壓下照射電漿，亦可 於大氣壓下照射電漿。
又，於親水化步驟中，作為使基材表面親水化之方 法，只要為可對基材表面賦予親水性之方法，則並無特別限定，例如可列舉：電漿照射、真空紫外光照射、UV-臭氧處理等親水化處理。
關於電漿照射、真空紫外光照射、UV-臭氧處理，可設為與上述單一處理之情形相同。
又，於去除及親水化步驟中，較佳為以使於基材表面所形成之親水部具有所需之親水性之方式進行親水化。
再者，關於親水部，由於詳細地記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
4.抗蝕圖案剝離步驟
本發明中之抗蝕圖案剝離步驟係將上述抗蝕圖案剝離之步驟。
作為抗蝕圖案之剝離方法，只要為如不會對疏水性溶劑滲透防止層之疏水性及親水部之親水性造成影響之方法，則並無特別限定，可使用通常之抗蝕劑之剝離方法，可應用濕式製程及乾式製程之任一種。
5.預處理步驟
於本發明中，較佳為於上述疏水性溶劑滲透防止層形成步驟前，進行使基材表面親水化之預處理步驟。
作為親水化處理，只要為可對基材表面賦予親水性之方法，則並無特別限定，例如可列舉：UV-臭氧處理、真空紫外光 照射、電漿照射等。
於UV-臭氧處理中，可使用產生臭氧之氧氣或空氣。
於電漿照射中，作為產生電漿之反應性氣體，例如可列舉：氧氣、氮氣、氬氣、氦氣等。又，於電漿照射中，例如可於減壓下照射電漿，亦可於大氣壓下照射電漿。
6.印刷版
作為根據本發明製造之印刷版之形狀，例如可如圖1所示般為板狀，雖未圖示，但亦可為輥狀。
於製作輥狀之印刷版之情形下，可藉由將板狀之印刷 版捲取為輥狀而製造輥狀之印刷版，又，亦可藉由使用圓筒狀之基材進行上述各步驟而製造輥狀之印刷版。
C.功能性元件之製造方法
本發明之功能性元件之製造方法之特徵在於包括如下步驟：印刷版準備步驟，其準備如下印刷版，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面較平坦；毯狀層準備步驟，其準備具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材之毯狀層；塗佈步驟，其係於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈功能層形成用塗敷液；一次轉印步驟，其經由上述功能層形成用塗敷液使上述毯狀層及上述印刷版接觸，而將 上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液僅轉印至上述印刷版之上述親水部；二次轉印步驟，其係將殘留於上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液轉印至功能層形成用基材，而形成功能層；且上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
圖8(a)至(d)及圖9(a)及(b)係表示本發明之功能性元 件之製造方法之一例之步驟圖。首先，如圖8(a)中所例示，進行準備印刷版1之印刷版準備步驟，該印刷版1具有：基材2，其於支持體2b上形成有彈性體層2a；疏水性溶劑滲透防止層3，其於基材2上以圖案狀形成；及親水部4，其形成於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面，且親水性高於疏水性溶劑滲透防止層3，並且基材2之疏水性溶劑滲透防止層3側之面較平坦。又，進行準備毯狀層30之毯狀層準備步驟，該毯狀層30具有第2基材31，其於支持體31b上形成有彈性體層31a，且於彈性體層31a之表面具有親水性區域32。關於毯狀層30之親水性區域32，親水性高於印刷版1之疏水性溶劑滲透防止層3，且與親水部4親水性相同或親水性低於親水部4。繼而，如圖8(b)中所例示，進行塗佈步驟，其係於毯狀層30之親水性區域32全面塗佈功能層形成用塗敷液35。繼而，如圖8(c)及(d)中所例示，進行一次轉印步驟，其係經由功能層形成用塗敷液35使毯狀層30及印刷版1接觸，而將毯狀層30之功能層形成用塗敷液35僅轉印至印刷版1之親水部4。 繼而，如圖9(a)及(b)中所例示，進行二次轉印步驟，其係將殘留於毯狀層30之功能層形成用塗敷液35轉印至功能層形成用基材36， 而形成功能層。
此處，於接著科學中，已知有Weak Boundary Layer(弱 邊界層)之理論。再者，以下，存在將Weak Boundary Layer簡稱為WBL之情形。WBL之理論係於接著之破壞始終存在於所接著的任一種相之界面附近之較弱之層，即，在WBL中發生，純粹之界面破壞不可能存在。又，推測WBL係因低分子成分或添加劑於表面偏析而形成。
於本發明中，認為，於在毯狀層之親水性區域側之面 塗佈功能層形成用塗敷液時，於毯狀層之親水性區域與功能層形成用塗敷液之界面處形成WBL。
於本發明中，毯狀層之親水性區域其親水性高於印刷版之疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與印刷版之親水部相同或親水性低於親水部。因此，關於毯狀層之親水性區域之親水性，高於印刷版之疏水性溶劑滲透防止層之親水性，且低於印刷版之親水部之親水性之情形下，因親水性之差異及WBL，可於一次轉印步驟中，將功能層形成用塗敷液僅轉印至印刷版之親水部。又，關於毯狀層之親水性區域之親水性，於高於印刷版之疏水性溶劑滲透防止層之親水性，且與印刷版之親水部之親水性相等之情形下，因WBL而可於一次轉印步驟中，將功能層形成用塗敷液僅轉印至印刷版之親水部。
又，通常，就轉印性之觀點而言，功能層形成用基材之親水性係以高於毯狀層之親水性區域之親水性之方式進行設定。於功能層形成用基材之親水性高於毯狀層之親水性區域之親水性之情形下，因親水性之差異及WBL而可於二次轉印步驟中，將功能層形 成用塗敷液可轉印至功能層形成用基材。又，於功能層形成用基材之親水性與毯狀層之親水性區域之親水性相等之情形時，亦因WBL而可於二次轉印步驟中，將功能層形成用塗敷液可轉印至功能層形成用基材。
如此，於本發明中，由於不僅可利用親水性之差異，亦可利用WBL而將功能層形成用塗敷液轉印，故而可提高轉印性。
習知，作為使微米級之微細印刷成為可能之技術，例 如已知有剝離套版印刷、反轉套版印刷、微接觸印刷等。
於剝離套版印刷中，於無水平版全面均勻地塗佈油墨，將無水平版之聚矽氧橡膠層上之油墨轉印至毯狀層，而將轉印至毯狀層之油墨轉印至印刷用基材。由於毯狀層中主要使用有聚矽氧橡膠，且無水平版之聚矽氧橡膠層為疏水性之非影像區，故而認為毯狀層與無水平版之聚矽氧橡膠層表面之濕潤性相同。因此，油墨自無水平版之聚矽氧橡膠層向毯狀層之轉印較大地取決於在無水平版之聚矽氧橡膠層與油墨的界面處所形成之WBL。又，關於油墨自毯狀層向印刷用基材之轉印，毯狀層及印刷用基材之濕潤性之差異為主要因素。
相對於此，於本發明中，由於在一次轉印步驟及二次轉印步驟之任一者中均不僅可利用濕潤性之差異，亦可利用WBL而將功能層形成用塗敷液轉印，故而可提高轉印性。
又，於反轉套版印刷中，將均勻地塗佈於毯狀層之表 面之油墨轉印至凸版，並將殘留於毯狀層之油墨轉印至印刷用基材。於反轉套版印刷中，雖然凸版之凹凸會成為圖像，但為了製成對印刷有效之版，而於凸版之槽中需要某程度之深度。凸版之槽係 藉由蝕刻或光蝕刻法形成，但由於深度方向之縱橫比必然存在，故而為了確保槽之深度，不得已降低解像度。
相對於此，於本發明中，印刷版之親水性不同之親水部及疏水性溶劑滲透防止層成為圖像。印刷版因疏水性溶劑滲透防止層及親水部之階差而具有數奈米至數百奈米之槽，但於通常之印刷法中，於微細之凹凸之情形下，為了以微米級之壓入量進行控制，若為如上所述之槽，則印刷版實質上係作為較平坦之面而進行處理。又，親水部為基材表面經親水化之部分，於真空紫外光照射、電漿照射、UV臭氧處理等親水化處理中，無深度方向之縱橫比。因此，於本發明中，可製成解像性優異之印刷版，且可使用該印刷版以高解像度進行印刷。
又，於微接觸印刷中，於凹凸版全面塗佈油墨，並使 凹凸版與印刷用基材密接，藉此將油墨僅自凹凸版之凸部轉印至印刷用基材。
反轉套版印刷係使用具有微米級之凹凸之凸版之方 法，若自毯狀層向凸版之油墨轉印時之壓力過剩，則油墨不僅會轉印至凸版之凸部，亦會轉印至凹部。又，微接觸印刷係使用具有微米級之凹凸之凹凸版之方法，若自凹凸版向印刷用基材之油墨轉印時之壓力過剩，則不僅凹凸版之凸部之油墨，凹部之油墨亦會被轉印至印刷用基材。此種現象被稱為「底部接觸」，因底部接觸而發生印刷不良。於不會引起底部接觸，且將油墨自毯狀層僅轉印至凸版之凸部、或將凹凸版之凸部之油墨僅轉印至印刷用基材時，需要控制轉印時之壓力。
相對於此，於本發明中，由於利用毯狀層之親水性區域與印刷 版之疏水性溶劑滲透防止層及印刷版之親水部的親水性之差異及WBL，而將功能層形成用塗敷液轉印，故而可防止因底部接觸所引起之印刷不良之發生。因此，可擴大一次轉印步驟中之壓力之容許範圍，於壓力相對較大之情形下，亦可進行印刷。
圖8(a)至(d)、圖9(a)至(b)及圖10(a)至(b)係表示本發 明之功能性元件之製造方法之其他例之步驟圖。再者，關於圖8(a)至(d)及圖9(a)至(b)，由於上文已進行說明，故而此處之說明省略。 繼而，如圖10(a)至(b)中所例示，進行去除步驟，其係將轉印至印刷版1之親水部4之功能層形成用塗敷液35轉印至清潔用基材38。
於習知之反轉套版印刷中，於連續進行印刷動作時， 每次印刷時毯狀層及凸版需要呈現潔淨之狀態。其原因在於：若殘留油墨累積於毯狀層及凸版，則會導致圖案不良。於反轉套版印刷中，藉由使油墨自毯狀層表面完全轉印至印刷用基材，而毯狀層之表面被重置。另一方面，凸版所接收之油墨未被去除，而另外需要洗淨步驟。作為凸版之洗淨方法，例如提出有如下方法等，即，利用溶劑擦拭油墨之方法；於使溶劑散佈而使油墨溶解後，直接利用刮刀刮取附著於凸版之凸部之油墨，並擦拭去殘留於凸版之凹部之油墨溶液之方法；及使用黏著基材剝除油墨之方法。然而，該等洗淨方法需要進一步之改良。
又，於剝離套版印刷中，於連續進行印刷動作時，與上述情形相同地，每次印刷時無水平版及毯狀層需要呈現潔淨之狀態。於剝離套版印刷中，藉由使油墨自毯狀層表面完全轉印至印刷用基材，而毯狀層之表面被重置。另一方面，殘留於無水平版之油墨未被去除，而另外需要洗淨步驟。
又，於微接觸印刷中，於塗佈於凹凸版全面之油墨之中，凹凸版之凸部之油墨被轉印至印刷用基材，凹凸版之凹部之油墨殘留。因此，進行連續印刷時，需要除去凹凸版之凹部之油墨之步驟。
如此，反轉套版印刷、剝離套版印刷、微接觸印刷等習知之印刷法不適合連續印刷。
於本發明中，藉由毯狀層之第2基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，而可使第2基材成為因溶劑而膨潤者。於毯狀層中，由於親水性區域為第2基材表面經親水化之部分，且第2基材含有可於溶劑中膨潤之彈性體，故而可使附著於毯狀層之親水性區域之功能層形成用塗敷液中之溶劑滲透至親水性區域中。因此，於使功能層形成用塗敷液附著於毯狀層之親水性區域後使之轉印至印刷版之親水部及功能層形成用基材為止之期間，功能層形成用塗敷液中之溶劑滲透至毯狀層之親水性區域中，故而功能層形成用塗敷液中之溶劑進行蒸發之部分亦合計在內，可使功能層形成用塗敷液之黏度緩慢上升，而提高功能層形成用塗敷液於毯狀層之親水性區域表面之凝集力。因此，於將功能層形成用塗敷液自毯狀層向印刷版之親水部及功能層形成用基材轉印時，可將功能層形成用塗敷液完全轉印，而可提高功能層形成用塗敷液自毯狀層向印刷版及功能層形成用基材之轉印性。
又，於本發明中之印刷版中，如上述「A.印刷版」中所記載般，於將功能層形成用塗敷液自印刷版之親水部向清潔用基材轉印時，可將功能層形成用塗敷液完全轉印，而可提高功能層形成用塗敷液自印刷版向清潔用基材之轉印性。進而，於反覆使用印刷版之情形下，可抑制功能層形成用塗敷液附著於疏水性溶劑滲透防止層 表面，而可抑制版污之產生。
因此，於本發明中，可進行連續印刷。
又，轉印至清潔用基材之功能層形成用塗敷液可不廢 棄地回收，從而進行再利用。因此，亦可不浪費地回收自毯狀層被轉印至印刷版之不需要之功能層形成用塗敷液，而以低成本製造功能性元件。
又，於習知之剝離套版印刷中，若為無水平版中，則 由於親水性之影像區相對於疏水性之非影像區成為微米級之槽，故而難以與本發明同樣地將油墨自毯狀層向無水平版之親水性之影像區轉印。又，由於無水平版之親水性之影像區包含感熱層等，故而難以將油墨完全轉印，而難以將殘留於無水平版之油墨去除。
相對於此，於本發明中，藉由在印刷版之親水部中使用可於溶劑中膨潤之彈性體，可簡便地進行印刷版之油墨之去除。
以下，對本發明之功能性元件之製造方法中之各步驟進行說明。
1.印刷版準備步驟
本發明中之印刷版準備步驟係準備如下印刷版之步驟，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面較平坦。
再者，關於印刷版及其製造方法，由於詳細地記載於上述「A. 印刷版」及「B.印刷版之製造方法」中，故而此處之說明省略。
2.毯狀層準備步驟
本發明中之毯狀層準備步驟係準備如下毯狀層之步驟，該毯狀層具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材。毯狀層之親水性區域其親水性高於上述印刷版之疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述印刷版之親水部相同或親水性低於親水部。又，毯狀層之親水性區域側之面較平坦。
第2基材係含有可於溶劑中膨潤之彈性體者。由於含 有可於溶劑中膨潤之彈性體之第2基材具有彈性，故而於下述一次轉印步驟中於使印刷版與毯狀層密接而將功能層形成用塗敷液轉印時，及於下述二次轉印步驟中於使印刷用基材與毯狀層密接而將功能層形成用塗敷液轉印時，可對毯狀層均勻地施加壓力，又，可提高毯狀層及印刷版之密接性以及毯狀層及印刷用基材之密接度。因此，可提高功能層形成用塗敷液之轉印性，而進行高精細之印刷。
再者，關於可於溶劑中膨潤之彈性體，可與上述印刷 版之基材中所使用之可於溶劑中膨潤之彈性體同樣地製成，由於詳細地記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
作為此種可於溶劑中膨潤之彈性體，例如可列舉：聚 矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、苯乙烯丁二烯橡膠等。其中，較佳為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠，尤佳為聚矽氧橡膠。其原因在於：該等於下述功能層形成用塗 敷液中所含之溶劑中容易膨潤。又，於聚矽氧橡膠之情形，容易進行完全轉印，而可進一步提高轉印性。
作為第2基材中所使用之聚矽氧橡膠之材料，例如可 列舉：聚二甲基矽氧烷及其共聚合體、含氟基之聚二甲基矽氧烷及其共聚合體、聚乙烯基甲基矽氧烷、聚苯基甲基矽氧烷等。
又，作為第2基材中所使用之丙烯酸系橡膠之材料，例如可列舉：聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯酸甲氧基乙酯等。
第2基材可為含有可於溶劑中膨潤之彈性體之單一 層，亦可為於支持體上形成有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之彈性體層者。作為支持體，例如可列舉：玻璃基板、樹脂基板、陶瓷基板、金屬基板等。
作為毯狀層之親水性區域之親水性，只要高於上述印 刷版之疏水性溶劑滲透防止層之親水性，且與親水部之親水性相同或低於親水部之親水性即可，具體而言，只要親水性區域之25℃之水之接觸角低於上述印刷版之疏水性溶劑滲透防止層之上述接觸角，且為親水部之上述接觸角以上即可。更具體而言，關於親水性區域，較佳為對25℃之水之接觸角為50°以上且105°以下之範圍內，其中較佳為70°以上且105°以下之範圍內。其原因在於：若毯狀層之親水性區域之上述接觸角為上述範圍，則可增大毯狀層之親水性區域及印刷版之疏水性溶劑滲透防止層之上述接觸角之差、以及毯狀層之親水性區域及印刷版之親水部之上述接觸角之差，而可提高轉印性。
再者，接觸角之測定方法如上所述。
又，毯狀層之親水性區域及印刷版之疏水性溶劑滲透 防止層之上述接觸角之差、以及毯狀層之親水性區域及印刷版之親水部之上述接觸角之差分別越大越佳，具體而言，較佳為5°以上，其中較佳為10°以上。與上述情形相同地，其原因在於：若毯狀層之親水性區域及印刷版之疏水性溶劑滲透防止層之上述接觸角之差、以及毯狀層之親水性區域及印刷版之親水部之上述接觸角之差分別為上述範圍，則可提高轉印性。
親水性區域係將第2基材表面親水化而成者。通常， 於第2基材之整個面形成親水性區域。再者，關於第2基材表面之親水化，由於可設為與上述「B.印刷版之製造方法」中所記載之方法相同，故而此處之說明省略。
作為毯狀層之形狀，可為板狀，亦可為輥狀。於印刷 版及毯狀層為輥狀之情形下，能夠以捲繞式進行連續印刷。
3.塗佈步驟
本發明中之塗佈步驟係於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈功能層形成用塗敷液的步驟。
此處，所謂「功能」，係指光選擇吸收、反射性、偏 光性、光選擇穿透性、非線形光學性、螢光或磷光等發光、光致變色性等光學性；硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等磁性；導電性、絕緣性、壓電性、熱電性、介電性等電氣或電子性；吸附性、脫附性、觸媒性、吸水性、離子傳導性、氧化還原性、電氣化學特性、電致變色性等化學性；耐磨耗性等機械性；傳熱性、隔熱性、紅外線放射性等熱性；活體相容性、抗血栓性等活體功能性之類的各種功能。
功能層形成用塗敷液係含有功能性材料及溶劑者。
作為功能性材料，係根據功能性元件之種類或用途等而進行適當選擇者，例如可列舉：半導體材料、發光材料、電洞注入性材料、金屬奈米膠體等導電性材料、著色材料、樹脂材料、蛋白質、細胞、去氧核糖核酸(DNA，Deoxyribonucleic Acid)等活體物質等。
又，作為溶劑，較佳為對可於溶劑中膨潤之彈性體具 有滲透性，且具有揮發性者。藉由使用此種溶劑，可將功能層形成用塗敷液完全轉印。關於滲透性及揮發性，例如可參照上述專利文獻2、專利文獻3中所記載者。具體而言，可列舉上述「A.印刷版5.用途」中所記載之溶劑。
作為於毯狀層之親水性區域側之面塗佈功能層形成 用塗敷液之方法，只要為可於親水性區域全面以均勻之厚度塗佈功能層形成用塗敷液之方法，則並無特別限定，例如可自旋轉塗佈法、模頭塗佈法、棒式塗佈法等通常之方法中進行適當選擇。
又，較佳為於塗佈功能層形成用塗敷液後進行乾燥。 其原因在於：藉由乾燥而使功能層形成用塗敷液之凝集力增加，可將功能層形成用塗敷液完全轉印。於功能層形成用塗敷液含有揮發性之溶劑之情形下，可進行自然乾燥。又，亦可藉由加熱、送風等使功能層形成用塗敷液乾燥。
4.一次轉印步驟
本發明中之一次轉印步驟係經由上述功能層形成用塗敷液使上述毯狀層及上述印刷版接觸，而將上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液僅轉印至上述印刷版之上述親水部之步驟。
使毯狀層及印刷版接觸時之壓力係經適當調整。如上 所述，本發明中，可擴大一次轉印步驟中之壓力之容許範圍，於壓力相對較大之情形，亦可進行印刷。
5.二次轉印步驟
本發明中之二次轉印步驟係將殘留於上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液轉印至功能層形成用基材，而形成功能層之步驟。
作為功能層形成用基材之表面之親水性，只要與毯狀 層之親水性區域之親水性相同、或高於其即可，具體而言，只要功能層形成用基材表面之25℃之水之接觸角為毯狀層之親水性區域之上述接觸角以下即可。更具體而言，關於功能層形成用基材，較佳為對25℃之水之接觸角為0°以上且90°以下之範圍內，其中較佳為60°以上且80°以下之範圍內。其原因在於：若功能層形成用基材之上述接觸角為上述範圍，則可增大功能層形成用基材及毯狀層之親水性區域中之上述接觸角之差，而可提高轉印性。
再者，接觸角之測定方法如上所述。
又，毯狀層之親水性區域及功能層形成用基材中之上 述接觸角之差越大越佳，具體而言，較佳為5°以上，其中較佳為10°以上。與上述情形相同地，其原因在於：若毯狀層之親水性區域及功能層形成用基材中之上述接觸角之差為上述範圍，則可提高轉印性。
功能層形成用基材可為單片，亦可為長條。於長條之 功能層形成用基材之情形時，能夠以捲繞式進行連續印刷。
使毯狀層及功能層形成用基材接觸時之壓力係經適 當調整。
功能層形成用塗敷液之塗膜之厚度係根據功能性元件之種類或用途等而進行適當選擇。
6.去除步驟
於本發明中，較佳為進行將上述印刷版之上述親水部之上述功能層形成用塗敷液轉印至清潔用基材之去除步驟。
清潔用基材之表面係親水性高於印刷版之親水部 者。印刷版之親水部係含有可於溶劑中膨潤之彈性體者，且清潔用基材表面之親水性高於印刷版之親水部，藉此可將功能層形成用塗敷液完全轉印至清潔用基材。
作為清潔用基材之表面之親水性，只要高於印刷版之 親水部之親水性即可，具體而言，只要清潔用基材表面之25℃之水之接觸角低於印刷版之親水部之上述接觸角即可。更具體而言，關於清潔用基材，較佳為對25℃之水之接觸角為0°以上且60°以下之範圍內，其中較佳為0°以上且30°以下之範圍內。其原因在於：若清潔用基材之上述接觸角為上述範圍，則可增大清潔用基材及印刷版之親水部之上述接觸角之差，而可提高轉印性。
再者，接觸角之測定方法如上所述。
又，印刷版之親水部及清潔用基材中之上述接觸角之 差越大越佳，具體而言，較佳為5°以上，其中較佳為10°以上。與上述情形相同地，其原因在於：若印刷版之親水部及清潔用基材中之上述接觸角之差為上述範圍，則可提高轉印性。
又，清潔用基材亦可為具有黏著性者。印刷版之親水 部係含有可於溶劑中膨潤之彈性體者，且清潔用基材具有黏著性，藉此可將功能層形成用塗敷液完全轉印於清潔用基材。
作為清潔用基材之黏著性，較佳為黏著力為2.0N/20mm以上且20N/20mm以下之範圍內。其原因在於：若清潔用基材之黏著力為上述範圍內，則可獲得所需之轉印性。
再者，黏著力係藉由依據JIS Z 0237之方法測得之值。
清潔用基材可為單片，亦可為長條。於長條之清潔用基材之情形下，能夠以捲繞式進行連續印刷。
使印刷版及清潔用基材接觸時之壓力係經適當調整。
7.用途
作為本發明之功能性元件之製造方法之用途，例如可列舉：電晶體或二極體等半導體元件中之電極、半導體層、閘極絕緣層及層間絕緣層之形成、TFT基板中之像素電極之形成、太陽電池中之背面電極之形成、有機EL元件中之背面電極之形成、非揮發性記憶體之電極及聚合物層之形成、壓力感測器之電極及聚合物層之形成、佈線基板中之佈線之形成、彩色濾光片中之著色層及遮光部之形成、生物晶片之製作等。尤其是本發明之功能性元件之製造方法可適宜地用於要求圖案之微細化之電子裝置之製造。
D.印刷裝置
本發明之印刷裝置之特徵在於具有：印刷版，該印刷版含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部 之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面較平坦；毯狀層，其係可抵接地配置於上述印刷版，並且具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材；塗敷機，其於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈油墨；印刷用載置構件，其可抵接地配置於上述毯狀層，載置印刷用基材；及清潔用載置構件，其係可抵接地配置於上述印刷版，載置清潔用基材；上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
圖11係表示本發明之印刷裝置之一例之模式圖。圖 11中所例示之印刷裝置40具有：印刷版1，其為輥狀；輥狀之毯狀層30，其係可抵接地配置於印刷版1；塗敷機41，其將油墨塗佈於毯狀層30；印刷用載置構件43，其可抵接地配置於毯狀層30，載置印刷用基材44；及清潔單元48，其包含可抵接地配置於印刷版1，載置清潔用基材49之輥狀之清潔用載置構件45。印刷版1具有：基材2，其係於支持體2b上形成有彈性體層2a；疏水性溶劑滲透防止層3，其係於基材2上以圖案狀形成；及親水部4，其係於疏水性溶劑滲透防止層3之開口部之基材2表面形成，且親水性高於疏水性溶劑滲透防止層3，並且基材2之疏水性溶劑滲透防止層3側之面成為較平坦之曲面。毯狀層30具有第2基材31，其於支持體31b上形成有彈性體層31a，且於彈性體層31a之表面具有親水性區域32。關於毯狀層30之親水性區域32，親水性高於印刷版1之疏水性溶劑滲透防止層3，且親水性與印刷版1之親水部 4相同或親水性低於親水部4。清潔單元48具有：輥狀之清潔用載置構件45；第1輥46，用以送出長條之清潔用基材49；及第2輥47，其捲取長條之清潔用基材49。
於該印刷裝置40中，首先，藉由塗敷機41於毯狀層 30之親水性區域32側之面塗佈油墨42，經由油墨42使毯狀層30及印刷版1接觸，而將毯狀層30之油墨42僅轉印至印刷版1之親水部4。繼而，將殘留於毯狀層30之油墨42轉印至印刷用基材44。 又，將轉印至印刷版1之親水部4之油墨42轉印至長條之清潔用基材49。
於本發明中，如上述「C.功能性元件之製造方法」中 所記載般，於油墨自毯狀層向印刷版之親水部之轉印、及油墨自毯狀層向印刷用基材之轉印時，由於不僅可利用親水性之差異，亦可利用WBL而將油墨完全轉印，故而可提高轉印性。又，於油墨自毯狀層向印刷版之親水部之轉印時，由於利用親水性之差異及WBL而將油墨轉印，故而可防止因底部接觸所引起之印刷不良之發生。 因此，能夠以高解像度進行印刷。
進而，於本發明中具備清潔用載置構件，如上述「A. 印刷版」中所記載般，於將油墨自印刷版之親水部向清潔用基材轉印時，可將油墨完全轉印，而可提高油墨自印刷版向清潔用基材之轉印性。進而，於反覆使用印刷版之情形下，可抑制油墨附著於疏水性溶劑滲透防止層表面，而可抑制版污之產生。因此，可進行連續印刷。
又，轉印至清潔用基材之油墨可不廢棄地回收，從而 進行再利用。因此，亦可自毯狀層不浪費地回收轉印至印刷版之不 需要之油墨，而削減成本。
以下，對本發明之印刷裝置中之各構成進行說明。
1.印刷版
本發明中之印刷版具有：基材，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層，於上述基材上以圖案狀形成；及親水部，係形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面，且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面較平坦。
再者，關於印刷版，由於詳細地記載於上述「A.印刷版」中，故而此處之說明省略。
2.毯狀層
本發明中之毯狀層係可抵接地配置於上述印刷版，且具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材者。毯狀層之親水性區域其親水性高於上述印刷版之疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述印刷版之親水部相同或親水性低於親水部。
再者，關於毯狀層，由於詳細地記載於上述「C.功能性元件之製造方法」中，故而此處之說明省略。
毯狀層只要可抵接地配置於印刷版即可，其配置係根據毯狀層之形狀而進行適當選擇。
3.塗敷機
本發明中之塗敷機係於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈油墨者。
塗敷機只要為可於毯狀層之親水性區域全面以均勻之厚度塗佈油墨者，則無特別限定，例如可自旋轉塗佈機、模頭塗佈機、棒式塗佈機等通常之塗敷機中進行適當選擇。
4.印刷用載置構件
本發明中之印刷用載置構件係可抵接地配置於上述毯狀層，載置印刷用基材者。
印刷用載置構件之形狀可為板狀，亦可為輥狀。於印刷用載置構件為輥狀之情形，能夠以捲繞式進行連續印刷。
印刷用載置構件只要可抵接地配置於毯狀層即可，其配置係根據印刷用載置構件之形狀而進行適當選擇。
5.清潔用載置構件
本發明中之清潔用載置構件係可抵接地配置於上述印刷版，載置清潔用基材者。
清潔用載置構件之形狀可為板狀，亦可為輥狀。於清潔用載置構件為輥狀之情形，能夠以捲繞式進行連續印刷。
又，於清潔用載置構件為輥狀之情形，較佳為於本發明之印刷裝置中具備清潔單元，該清潔單元具有輥狀之清潔用載置構件、用以送出長條之清潔用基材之第1輥、及捲取長條之清潔用基材之第2輥。其原因在於：可將清潔用基材與印刷版之接觸面始終保持為潔淨之狀態。
清潔用載置構件只要可抵接地配置於印刷版即可，其配置係根據清潔用載置構件之形狀而進行適當選擇。
本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態為例示，關於具有與本發明之申請專利範圍中所記載之技術思想實質上相同之構成，且發揮出同樣之作用效果者，任意者均包括於本發明之技術範圍內。
[實施例]
以下表示實施例及比較例，更詳細地對本發明進行說明。
[實施例1]利用聚矽氧橡膠之平版印刷用印刷版之製作 (基材之製作)
利用Mikasa公司製造之旋轉塗佈機MS-A100，於玻璃基材上旋轉塗佈作為聚矽氧橡膠之原液之信越化學工業公司製造之Shin-EtsuSilicone KE106，利用AS ONE公司製造之加熱板ND-1於160℃下加熱1小時，而形成聚矽氧橡膠層。利用協和界面科學公司製造之接觸角計DM-901測定該聚矽氧橡膠層對純水之接觸角，結果為107±4°。又，利用Mitutoyo公司製造之標準數顯卡尺(Digimatic Calipers)測定聚矽氧橡膠層之厚度，結果為620μm。
利用Yamato Scientific公司製造之電漿清潔器V1000對上述聚矽氧橡膠層之表面進行氧電漿處理，而將全面親水化。親水化後之聚矽氧橡膠層對純水之接觸角為10±2°。
(疏水性溶劑滲透防止層之形成)
於上述親水化後之聚矽氧橡膠層之表面將氟化烷基聚矽氧烷FAS-17之聚合體旋轉塗佈，並利用150℃之加熱板焙燒10分鐘，而形成疏水性溶劑滲透防止層。FAS-17之聚合體係藉由將Sigma-Aldrich公司製造之1H,1H,2H,2H-全氟癸基三乙氧基矽烷(1H,1H,2H,2H-Perfluoro decyl triethoxy silane)與0.05N鹽酸水溶液以10：1之比進行混合，並於室溫下攪拌12小時而製備。疏水性溶劑滲透防止層對純水之接觸角為110±7°。
(版之圖案化)
於上述疏水性溶劑滲透防止層之表面，將於AZ Electronics公司製造之光阻劑AZ1500中微量添加有DIC公司製造之界面活性劑F444之光阻劑旋轉塗佈，介隔光罩利用日亞化學工業公司製造之LED NC4U134A以365nm之光進行曝光，並於金屬槽中利用東京應化工業公司製造之顯影液NMD-W進行顯影。藉此，獲得包含線與間隙(L/S)：10/10μm之抗蝕圖案。利用Kosaka研究所公司製造之SURFCORDER SE4000對抗蝕劑之厚度及Ra進行測定階差，結果厚度為5±0.1μm，Ra為10nm。
藉由對形成有抗蝕圖案之疏水性溶劑滲透防止層及聚矽氧橡膠層進行氧電漿處理，而將全面親水化。此時於抗蝕圖案之開口部，疏水性溶劑滲透防止層之表面直接暴露於電漿處理，藉此將疏水性溶劑滲透防止層去除，進而將所露出之聚矽氧橡膠層之表面親水化。
再次對形成有抗蝕圖案之聚矽氧橡膠層全面照射365nm之發光二極體(LED，Light Emitting Diode)後，於金屬槽中浸漬 於顯影液中，藉此去除抗蝕圖案。若評價表面之濕潤性，則所露出之聚矽氧橡膠層對純水之接觸角為60±3°而為親水性，相對於此，疏水性溶劑滲透防止層對純水之接觸角為107±5°而為疏水性。又，因表面之測定階差，於所露出之聚矽氧橡膠層之部分中，相對於疏水性溶劑滲透防止層形成有30nm之槽。階差之邊界與親水性區域及疏水性區域之邊界非常一致，可與抗蝕圖案相同地以L/S：10/10μm之解像性獲得平版印刷用印刷版。
[實施例2]利用聚矽氧橡膠之凹版印刷用印刷版之製作 (基材之製作及疏水性溶劑滲透防止層之形成)
以與實施例1相同之方式製作基材，而形成疏水性溶劑滲透防止層。
(版之圖案化)
以與實施例1相同之方式，於疏水性溶劑滲透防止層之表面形成抗蝕圖案。
利用Yamato Scientific公司製造之電漿清潔器V1000，對形成有抗蝕圖案之疏水性溶劑滲透防止層及聚矽氧橡膠層，利用由氧氣及CF4之混合氣體所產生之電漿進行處理後，不分批開放而直接進行氧電漿處理。此時，於抗蝕圖案之開口部，藉由最初之混合氣體之電漿進行乾式蝕刻處理而將疏水性溶劑滲透防止層去除，並且亦將所露出之聚矽氧橡膠層去除，繼而所露出之聚矽氧橡膠層之表面藉由氧電漿而進一步經親水化。
以與實施例1相同之方式，去除抗蝕圖案。若評價表 面之濕潤性，則所露出之聚矽氧橡膠層對純水之接觸角為60±3°而為親水性，相對於此，疏水性溶劑滲透防止層對純水之接觸角為107±5°而為疏水性。又，因表面之測定階差，於所露出之聚矽氧橡膠層之部分中，相對於疏水性溶劑滲透防止層形成有4.1±0.1μm之槽。階差之邊界與親水性區域及疏水性區域之邊界非常一致，可與抗蝕圖案相同地以L/S：10/10μm之解像性獲得具有親水疏水之效果之凹版印刷用印刷版。
[比較例1]
以與實施例1相同之方式，於玻璃基板上形成聚矽氧橡膠層。
於聚矽氧橡膠層之表面，以與實施例1相同之方式形成抗蝕圖案。抗蝕圖案因滲透至聚矽氧橡膠層中之光阻劑中之溶劑之逆流而膨潤，L/S：10/10μm設計之抗蝕圖案成為16/4μm。另一方面，於解像性低於L/S：50/50μm之圖案之情形，如設計般形成抗蝕圖案。又，因膨潤而使抗蝕圖案之表面及側面之粗糙程度較大，測定階差之結果為，Ra為1.3μm而成為損及解像性者。如此，難以形成高精細之抗蝕圖案。
[實施例3]有機薄膜電晶體(OTFT，Organic Thin Film Transistor)用電極之製作 (印刷版之製作)
使用具有相當於OTFT之源極電極及汲極電極之圖案者作為光罩，除此以外，以與實施例1相同之方式製作平版印刷用印刷版。於版之表面，相當於源極電極及汲極電極之區域成為疏水性區域， 此外之區域成為親水性區域。
(毯狀層之製作)
對Teijin Dupont公司製造之聚萘二甲酸乙二酯(PEN，Polyethylene Naphthalate)膜Q65FA之表面，使用Ushio電機公司製造之光照射裝置UER616908-172藉由真空紫外光處理而進行洗淨。繼而，於PEN膜上使用Mikasa公司製造之旋轉塗佈機MS-300旋轉塗佈Shin-Etsu Silicones公司製造之未硬化之聚矽氧橡膠KE106，並使用Yamato Scientific公司製造之烘箱DE410於160℃下焙燒1小時，而製作具有聚矽氧橡膠層之毯狀層。若利用Mitutoyo公司製造之游標卡尺CD67-SPS測定聚矽氧橡膠層之厚度，則為0.75±0.01mm。又，使用協和界面科學公司製造之接觸角計DM-901對聚矽氧橡膠層之表面之純水接觸角進行測定，結果為107±3°。藉由對該表面進行上述真空紫外光處理，而將純水接觸角設為79±2°。
(清潔用基材之準備)
對Teijin Dupont公司製造之PEN膜Q65FA之表面，使用Ushio電機公司製造之光照射裝置UER616908-172進行真空紫外光處理，於洗淨表面之同時進行親水化。使用協和界面科學公司製造之接觸角計DM-901對PEN膜之表面之純水接觸角進行測定，結果為17±6°。
(源極電極及汲極電極之印刷)
準備於表面具有200nm之矽氧化膜之矽基板作為功能層形成 用基材。
使用DIC公司製造之銀膏GOAGT作為油墨，利用刮刀將油墨抹開於毯狀層，於室溫下乾燥30秒，然後使用Katsura Roller製作所公司製造之手壓輥Micro Catch使毯狀層與印刷版接觸，而將油墨自毯狀層向印刷版之親水部轉印。此處，於毯狀層之表面留下與印刷版之疏水性區域相同之形狀，即，相當於OTFT之源極電極及汲極電極之圖案形狀。繼而，若仍使用手壓輥使毯狀層與功能層形成用基材接觸，則油墨自毯狀層被轉印至功能層形成用基材，而於矽基板上形成銀膏之圖案。又，毯狀層之表面呈現潔淨之狀態。
繼而，若使用手壓輥將上述清潔用基材抵壓於印刷版，則附著於印刷版之親水性區域表面之油墨被轉印至清潔用基材，而使印刷版呈現潔淨之狀態。藉由毯狀層及印刷版之任一者均呈現潔淨之狀態，亦可同樣地進行接續之印刷。
(OTFT之製作及評價)
繼而，藉由使用Yamato Scientific公司製造之烘箱DE410將形成有銀膏之圖案之矽基板於160℃下焙燒1小時，油墨經焙燒，而形成源極電極及汲極電極。
繼而，使用Sigma-Aldrich公司之Plexore OS2100作為有機半導體油墨，使用Mikasa公司製造之旋轉塗佈機MS-300將有機半導體油墨旋轉塗佈於矽基板表面，而形成有機半導體層。藉此，製作具有包含矽基板之閘極電極、包含矽氧化膜之閘極絕緣層、經印刷之源極電極及汲極電極、及有機半導體層之OTFT。
對OTFT之電氣特性進行評價，結果遷移率顯示0.01±0.003 cm2/Vs，而正常地進行動作。
[實施例4]利用丙烯酸系橡膠之平版印刷用印刷版之製作 (基材之製作)
利用Mikasa公司製造之旋轉塗佈機MS-A100，於玻璃基材上旋轉塗佈作為丙烯酸系橡膠之原液之日本Zeon公司製造之NipolAR12，利用AS ONE公司製造之加熱板ND-1於160℃下加熱1小時，而形成丙烯酸系橡膠層。利用協和界面科學公司製造之接觸角計DM-901測定該丙烯酸系橡膠層對純水之接觸角，結果為90±3°。又，利用Mitutoyo公司製造之標準數顯卡尺(Digimatic Calipers)測定丙烯酸系橡膠層之厚度，結果為1000μm。
利用Yamato Scientific公司製造之電漿清潔器V1000對上述丙烯酸系橡膠層之表面進行氧電漿處理，而將全面親水化。親水化後之丙烯酸系橡膠層對純水之接觸角為10±2°。
(疏水性溶劑滲透防止層之形成)
與實施例1相同地形成疏水性溶劑滲透防止層。疏水性溶劑滲透防止層對純水之接觸角為110±7°。
(版之圖案化)
與實施例1相同地進行版之圖案化。若評價去除抗蝕圖案後之表面之濕潤性，則所露出之丙烯酸系橡膠層對純水之接觸角為50±2°而為親水性，相對於此，疏水性溶劑滲透防止層對純水之接觸角為107±5°而為疏水性。又，因表面之測定階差，於所露出之丙 烯酸系橡膠層之部分中，相對於疏水性溶劑滲透防止層形成有30nm之槽。階差之邊界與親水性區域及疏水性區域之邊界非常一致，可與抗蝕圖案相同地以L/S：10/10μm之解像性獲得平版印刷用印刷版。
[實施例5] (印刷版之製作)
於實施例1之基材之製作中，將聚矽氧橡膠之硬化溫度設為80℃、160℃、250℃，除此以外，與實施例3相同地製作印刷版。再者，聚矽氧橡膠之硬化時間係設為與實施例1相同。關於聚矽氧橡膠層之橡膠硬度，於硬化溫度80℃之情形為57°，於硬化溫度為160℃之情形為79°，於硬化溫度為250℃之情形為91°。
(源極電極及汲極電極之印刷)
使用所獲得之印刷版，與實施例3相同地進行源極電極及汲極電極之印刷。於任一種情形時均可進行油墨自毯狀層向印刷版及功能層形成用基材之完全轉印。又，於聚矽氧橡膠層之橡膠硬度為79°之情形下，可如印刷版之設計般進行印刷。另一方面，於聚矽氧橡膠層之橡膠硬度為57°之情形下，相較於橡膠硬度為79°之情形，圖案之線寬略微增大。又，於聚矽氧橡膠層之橡膠硬度為91°之情形下，可進行如印刷版之設計之印刷，但相較於橡膠硬度為79°之情形，略微難以進行利用轉印方式之印刷版之清潔。
1‧‧‧印刷版
2‧‧‧基材
3‧‧‧疏水性溶劑滲透防止層
4‧‧‧親水部

Claims (14)

  1. 一種印刷版，其特徵在於具有：基材，係含有可於溶劑中膨潤之彈性體；疏水性溶劑滲透防止層，於上述基材上以圖案狀形成；及親水部，係形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層。
  2. 如申請專利範圍第1項之印刷版，其中，上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠(urethane rubber)、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之印刷版，其中，上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面為平坦狀。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之印刷版，其中，於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部，上述基材於表面具有凹部。
  5. 一種印刷版之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：疏水性溶劑滲透防止層形成步驟，其係於含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材上形成疏水性溶劑滲透防止層；抗蝕圖案形成步驟，其係於上述疏水性溶劑滲透防止層上形成抗蝕圖案；去除及親水化步驟，其係將上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層去除，使所露出之上述基材表面親水化；及抗蝕圖案剝離步驟，其係將上述抗蝕圖案剝離。
  6. 如申請專利範圍第5項之印刷版之製造方法，其中，上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、 乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。
  7. 如申請專利範圍第5或6項之印刷版之製造方法，其進而包括預處理步驟，其係於上述疏水性溶劑滲透防止層形成步驟前，使上述基材表面親水化。
  8. 如申請專利範圍第5或6項之印刷版之製造方法，其中，上述去除及親水化步驟包括如下步驟：去除步驟，其係將上述抗蝕圖案之開口部之上述疏水性溶劑滲透防止層去除，進而將所露出之上述基材表面去除而於上述基材表面形成凹部；及親水化步驟，其係使所露出之上述基材表面親水化。
  9. 一種功能性元件之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：印刷版準備步驟，其準備印刷版，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面為平坦狀；毯狀層(blanket)準備步驟，其準備具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材的毯狀層；塗佈步驟，其係於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈功能層形成用塗敷液；一次轉印步驟，其係經由上述功能層形成用塗敷液使上述毯狀層及上述印刷版接觸，將上述毯狀層之上述功能層形成用塗敷液僅轉印至上述印刷版之上述親水部；及二次轉印步驟，其係將殘留於上述毯狀層之上述功能層形成用塗 敷液轉印至功能層形成用基材，而形成功能層；且上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
  10. 如申請專利範圍第9項之功能性元件之製造方法，其中，上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。
  11. 如申請專利範圍第9或10項之功能性元件之製造方法，其包括去除步驟，其係將上述印刷版之上述親水部之上述功能層形成用塗敷液轉印至清潔用基材。
  12. 一種印刷裝置，其特徵在於具有：印刷版，該印刷版具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體之基材、於上述基材上以圖案狀形成之疏水性溶劑滲透防止層、及形成於上述疏水性溶劑滲透防止層之開口部之上述基材表面且親水性高於上述疏水性溶劑滲透防止層的親水部，並且上述基材之上述疏水性溶劑滲透防止層側之面為平坦狀；毯狀層，其係可抵接地配置於上述印刷版，並且具有含有可於溶劑中膨潤之彈性體、且於表面具有親水性區域之第2基材；塗敷機，其於上述毯狀層之上述親水性區域側之面塗佈油墨；印刷用載置構件，其係可抵接地配置於上述毯狀層，載置印刷用基材；及清潔用載置構件，其係可抵接地配置於上述印刷版，載置清潔用基材；且 上述毯狀層之上述親水性區域其親水性高於上述印刷版之上述疏水性溶劑滲透防止層，且親水性與上述親水部相同或親水性低於上述親水部。
  13. 如申請專利範圍第12項之印刷裝置，其中，上述彈性體為聚矽氧橡膠、丙烯酸系橡膠、胺酯橡膠、氟橡膠、聚硫橡膠、乙烯丙烯橡膠、腈橡膠、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠、丁二烯橡膠、或苯乙烯丁二烯橡膠。
  14. 如申請專利範圍第12或13項之印刷裝置，其中，上述印刷版、上述毯狀層及上述清潔用載置構件為輥狀，且具有清潔單元，該清潔單元具有上述輥狀之清潔用載置構件、用以送出長條之上述清潔用基材之第1輥、及捲取上述清潔用基材之第2輥。
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