KR101211736B1 - 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법 - Google Patents

액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101211736B1
KR101211736B1 KR1020100130500A KR20100130500A KR101211736B1 KR 101211736 B1 KR101211736 B1 KR 101211736B1 KR 1020100130500 A KR1020100130500 A KR 1020100130500A KR 20100130500 A KR20100130500 A KR 20100130500A KR 101211736 B1 KR101211736 B1 KR 101211736B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
printing plate
liquid crystal
crystal display
photosensitive resin
display device
Prior art date
Application number
KR1020100130500A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20120069099A (ko
Inventor
구찬규
강현욱
이용인
홍범선
신준식
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020100130500A priority Critical patent/KR101211736B1/ko
Publication of KR20120069099A publication Critical patent/KR20120069099A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101211736B1 publication Critical patent/KR101211736B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306Details
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133351Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2053Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
    • G03F7/2055Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274Photolithographic processes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

본 발명은 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 감광층 수지층을 이용한 패턴층 하부에 미세선폭 구현시 밀착력을 향상시키는 층을 형성하고 감광성 수지의 패턴을 형성한 후 상부에 보호층을 코팅함으로써, 대면적 미세 패턴 인쇄용 인쇄판의 제조가 가능하다. 또한, 미세패턴 구현을 용이하게 하고 그에 따라 패턴 해상도, 전사 특성을 향상시키고 인쇄판의 제조 비용 및 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법은, (a) 기판상에 밀착층을 형성하는 단계와; (b) 상기 밀착층 상에 감광성 수지층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 감광성 수지층을 이용하여 상기 밀착층의 상부가 일부 노출되도록 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고 있다.

Description

액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법{High Definition Printing Plate of Liquid Crystal Display and Method for Manufacture using the same}
본 발명은 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 클리체(Cliche) 패턴을 강화하기 위해 패턴 하부에 밀착층을 형성하고 패턴의 무너짐을 방지하기 위해 패턴 상부에 보호층을 형성함으로써, 대면적 미세 패턴 인쇄용 인쇄판의 제조가 가능한 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
인쇄를 이용해 전자 부품의 회로 및 각종 패턴을 찍어내기 위해서는 잉크젯(Inkjet) 등의 직접 인쇄 방법을 이용하거나 패턴이 인쇄된 인쇄판을 이용하는 그라비어(Gravure) 인쇄나 오프셋(Offset) 인쇄 등의 간접 인쇄 방법을 이용하게 된다.
종래 인쇄판을 만드는 방법으로는 기판을 부식시켜 패턴을 형성시키는 방법이나 감광성의 수지가 먼저 부착되어 있는 판을 포토리소그래피(photolithography)를 이용하여 패턴을 형성하는 방법이 있다. 그러나, 이러한 종래의 방법은 어떤 방법을 이용하든 형성되는 패턴의 깊이가 일정하게 유지되게 된다. 이러한 인쇄판을 이용하여 인쇄하기 위해서는 인쇄 롤이 패턴의 바닥에 닿지 않도록 인쇄판의 패턴 깊이가 일정 수준 이상이 되어야 한다. 이러한 깊이는 미세 선폭일 때와 일반 패턴일 때가 다르다.
도 1은 종래 기술의 실시 형태에 따라 습식 에칭(Wet Etching)된 인쇄판에서 패턴 깊이에 따른 인쇄 오류를 나타낸 단면도이다.
도 1에서 보듯이, 미세 패턴부인 A 부분의 경우 패턴의 깊이가 깊게 요구되지 않으나 미세 패턴에 비해 비교적 패턴 선폭이 큰 b 부분의 경우에는 인쇄 롤(Roll)(20)이 바닥에 닿아 패턴이 잘못 인쇄될 수 있으므로 깊이를 더 크게 해야 한다. 이 때문에 습식 에칭을 통해 제작된 인쇄판(10)은 형성되는 패턴의 깊이(t)가 인쇄판의 최소 미세 선폭의 1/2 이하로 결정되게 된다. 즉, 인쇄판에서 구현 가능한 최소 선폭은 아래와 같이 결정되게 된다.
[구현 가능한 최소 선폭 ≥ 최소 패턴 깊이 × 2]
일반적으로, 인쇄판을 이용해 인쇄 가능한 최소 패턴 깊이는 5㎛ 수준이므로, 종래의 방법을 통해 구현 가능한 최소 선폭은 10㎛ 수준이 된다. 따라서 종래 기술로는 10㎛ 이내의 미세 선폭을 갖는 인쇄판을 제조하기가 어렵다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 도 2와 같이 건식 식각이나 임프린팅 기술을 이용하여 비등방성의 수직형 패턴(20)을 기판(10) 위에 형성하는 방법이 최근 제시되고 있다. 그러나 이러한 패턴의 경우에도 미세 패턴부가 인쇄 과정에서 롤(Roll)(30)에 의한 압력으로 파손되는 문제가 있어 대형화하기에 어려움이 있었다.
또한, 도 3에 나타낸 바와 같이, 인쇄판의 제조 공정에서 사용되는 여러 가지의 화학 물질이 미세 패턴(20) 아래로 침투하여 기판(10) 사이의 접착력을 떨어뜨리는 들뜸 현상을 발생시킴으로써, 패턴이 손상되는 문제가 있었다.
전술한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 기존의 기술로 제조된 인쇄판에서 구현할 수 없었던 미세 패턴이 형성된 인쇄판을 제조할 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 미세패턴 구현을 용이하게 하고 그에 따라 패턴 해상도, 전사 특성을 향상시키고 인쇄판의 제조 비용 및 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시킬 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 감광층 수지층을 이용한 패턴층 하부에 미세선폭 구현시 밀착력을 향상시키는 층을 형성하고 감광성 수지의 패턴을 형성한 후 상부에 보호층을 코팅함으로써, 대면적 미세 패턴 인쇄용 인쇄판의 제조가 가능한 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 감광성 수지층으로 형성된 인쇄 패턴을 외부의 화공약품으로부터 보호하여 패턴 손상을 방지하기 위해 감광성 수지층으로 형성된 패턴 상부에 보호층을 형성한 대면적 미세 패턴 인쇄용 인쇄판의 제조가 가능한 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 클리체(Cliche) 패턴을 강화하기 위해 패턴 하부에 밀착층을 형성하고 패턴의 무너짐을 방지하기 위해 패턴 상부에 보호층을 형성한 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
본 발명의 해결과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 청구항 1에 기재된 발명은, 「액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법에 있어서, (a) 기판상에 밀착층을 형성하는 단계와; (b) 상기 밀착층 상에 감광성 수지층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 감광성 수지층을 이용하여 상기 밀착층의 상부가 노출되도록 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 2에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 기판은: PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자, 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 3에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 기판은: 인쇄용 잉크가 전사되는 전사 기판과 열팽창 계수 차이가 4배 이내의 열팽창계수를 가지는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 4에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은: 금속을 증착 또는 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 5에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 6에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 7에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 8에 기재된 발명은, 「제 7 항에 있어서, 상기 감광성 수지는: 상기 감광성 수지층과 동일한 재료로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 9에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating)을 포함한 코팅 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 10에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 11에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 12에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 패턴은: 상기 감광성 수지층을 포토리소그래피 공법으로 패터닝하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 13에 기재된 발명은, 「제 1 항에 있어서, 상기 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법은: 상기 (c)단계의 구조물 상부에 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 14에 기재된 발명은, 「제 13 항에 있어서, 상기 보호층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과; 패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와; 산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료; 및 유?무기 하이브리드계 재료; 중에서 상기 감광성 수지층 및 기판의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
청구항 15에 기재된 발명은, 「제 13 항에 있어서, 상기 보호층은: 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.」을 제공한다.
또한, 전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 다른 수단으로서, 청구항 16에 기재된 발명은, 「액정표시장치용 고정세 인쇄판에 있어서, 기판상에 형성된 밀착층; 및 상기 밀착층 상에 패턴이 형성된 감광성 수지층;을 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 17에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 기판은: PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자, 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 18에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 19에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 20에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 21에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 22에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은: 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 23에 기재된 발명은, 「제 16 항에 있어서, 상기 구조물 상에 형성된 보호층을 더 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 24에 기재된 발명은, 「제 23 항에 있어서, 상기 보호층은: Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과; 패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와; 산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료; 및 유?무기 하이브리드계 재료; 중에서 상기 감광성 수지층 및 기판의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
청구항 25에 기재된 발명은, 「제 23 항에 있어서, 상기 보호층은: 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
또한, 전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 또 다른 수단으로서, 청구항 26에 기재된 발명은, 「액정표시장치용 고정세 인쇄판에 있어서, 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법을 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.」을 제공한다.
본 발명에 따르면, 감광층 수지층을 이용한 패턴층 하부에 미세선폭 구현시 밀착력을 향상시키는 층을 형성하고 감광성 수지의 패턴을 형성한 후 상부에 보호층을 코팅함으로써, 대면적 미세 패턴 인쇄용 인쇄판의 제조가 가능하다.
그리고, 미세패턴 구현을 용이하게 하고 그에 따라 패턴 해상도, 전사 특성을 향상시키고 인쇄판의 제조 비용 및 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시킬 수 있다.
또한, 기존의 인쇄판을 이용해 불가능하였던 미세 영역의 패턴을 간접 인쇄 방식으로 인쇄할 수 있게 됨으로써, 전자 회로 및 패턴을 빠르고 값싸게 제조할 수 있다.
또한, 인쇄판 제조자의 경우 기존의 인쇄판에서 구현할 수 없었던 미세패턴을 본 발명을 이용하여 제조함으로써 인쇄판의 적용 범위를 넓힐 수 있다.
또한, 인쇄형 디스플레이 및 전자부품 등에 이용되는 대면적 미세패턴의 인쇄에 필요한 인쇄판에 있어 필요한 깊이와 강도를 모두 구현할 수 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
도 1은 종래 기술의 실시 형태에 따라 습식 에칭(Wet Etching)된 인쇄판에서 패턴 깊이에 따른 인쇄 오류를 나타낸 단면도
도 2는 종래 기술의 실시 형태에 따른 인쇄판이 외력에 의해 패턴 파손 모습을 나타낸 단면도
도 3은 종래 기술의 실시 형태에 따른 인쇄판이 화학 물질 침투로 인해 패턴 들뜸 현상이 발생하는 모습을 나타낸 단면도
도 4 내지 도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 공정 단면도
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명되는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙여 설명하기로 한다.
이하, 본 발명에서 실시하고자 하는 구체적인 기술내용에 대해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법의 실시 예
도 4 내지 도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 공정 단면도이다.
먼저, 도 4를 참조하여 설명하면, 기판(100)을 깨끗이 세정한 다음, 상기 기판(100) 상에 밀착층(110)을 형성한다.
상기 기판(100)은 표면의 평탄도가 확보되고 대형화 가능하며, 전사된 후의 기판과 열팽창 계수가 유사한 재료로 제조되면 모두 사용 가능하다. 그 예로서, 상기 기판(100)은 PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자와 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된다. 이때, 상기 기판(100)은 패턴의 정확도를 유지하기 위해서, 인쇄용 잉크가 전사되는 전사 기판과 열팽창 계수 대비 4배 이내의 열팽창계수를 갖도록 선정하는 것이 바람직하다.
상기 밀착층(110)은 상기 기판(100)과 이후에 형성하게 될 감광성 수지층(120)과의 밀착력을 높여주기 위해 형성된 것으로, 미세선폭의 액정표시장치의 인쇄판 형성을 가능하게 한다.
상기 밀착층(110)은 금속을 증착 또는 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성할 수 있으며, 이때 사용되는 재료는 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성할 수 있다.
또한, 상기 밀착층(110)은 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성할 수도 있고, Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성할 수도 있다.
그 다음, 도 5를 참조하여 설명하면, 상기 밀착층(110) 상에 감광성 수지층(120)을 형성한다.
상기 감광성 수지층(120)은 상기 밀착층(110) 상에 미세 패턴을 형성하기 위한 것으로, 통상의 코팅 방법을 통해 코팅한다. 이때, 통상의 코팅 방법이란 전형적으로는 스핀 코팅(Spin Coating)과 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating) 등이 있으며, 코팅 균일도를 유지할 수 있는 방법이라면 모두 적용 가능하다.
또한, 상기 감광성 수지층(120)은 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지 등이 모두 사용 가능하며, 본 발명의 구조가 그 재료에 한정되어 적용되는 것은 아니다. 또한, 상기 감광성 수지층(120)은 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성할 수 있다.
계속해서, 도 6을 참조하면, 상기 감광성 수지층(120)을 이용하여 상기 밀착층(110)의 상부가 일부 노출되도록 패턴을 형성한다. 이때, 상기 감광성 수지층(120)을 이용하여 형성된 패턴은 상기 감광성 수지층(120)을 포토리소그래피 공법으로 패터닝하여 형성한다.
마지막으로, 도 7을 참조하여 설명하면, 상기 밀착층(110) 상에 상기 감광성 수지층(120)으로 패턴이 형성된 구조물 상부에 보호층(130)을 형성한다.
상기 보호층(130)은 상기 감광성 수지층(120) 및 상기 기판(100)의 특성에 따라 다양한 재료들이 사용될 수 있다. 그 예로서, Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과, 패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와, 산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료와, 유?무기 하이브리드계 재료 등이 사용된다. 상기 보호층(130)은 상기에 열거한 재료들 중에서 상기 감광성 수지층(120) 및 기판(100)의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성할 수 있다.
그리고, 상기 보호층(130)은 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 통상의 모든 방법들을 활용하여 형성할 수 있다.
이러한 상기 보호층(130)은 첫째 재료의 보호를 위해, 둘째 잉크 퍼짐성 확보를 위해 선택되어 진다. 인쇄판의 경우 그 세정을 위해 여러 종류의 화공 약품들이 사용되어 지며, 그 각각에 대해 모두 내화학성이 있는 감광성 수지층을 개발하기에는 현실적으로 어려움이 따른다. 따라서, 이에 대해 내성이 있는 보호층을 필요에 맞게 채택하여 코팅함으로써 감광성 수지층으로 형성된 인쇄 패턴을 외부의 화공약품으로부터 보호하여 패턴 손상을 방지하게 된다.
또한, 다양한 용제에 분산된 인쇄용 잉크, 페이스트(paste) 등이 인쇄판 위에 잘 퍼지도록 하기 위해서는 인쇄판의 표면 에너지를 제어할 필요가 있다. 이 때문에 상부 보호층의 재료 선정을 통해 잉크와의 정합성을 확보하도록 함으로써 발명의 목적을 달성할 수 있다.
액정표시장치용 고정세 인쇄판의 실시 예
본 발명의 액정표시장치용 고정세 인쇄판은 도 7에 도시된 바와 같이, 기판(100)상에 형성된 밀착층(110)과, 상기 밀착층(110) 상에 패턴이 형성된 감광성 수지층(121)과, 상기 구조물 상에 형성된 보호층(130)을 포함하고 있다.
여기서, 상기 기판(100)은 PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자, 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된다.
그리고, 상기 밀착층(110)은 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성된다. 또한, 상기 밀착층(110)은 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성하거나, 또는 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성할 수도 있다.
상기 감광성 수지층(121)은 포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성할 수 있으며, 또는 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성할 수 있다.
상기 보호층(130)은 Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과, 패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와, 산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료와, 유?무기 하이브리드계 재료 중에서 상기 감광성 수지층 및 기판의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성되고, 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성할 수 있다.
이와 같이 구성된 본 발명의 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법은 감광층 수지층을 이용한 패턴층 하부에 미세선폭 구현시 밀착력을 향상시키는 층을 형성하고 감광성 수지의 패턴을 형성한 후 상부에 보호층을 코팅함으로써, 본 발명의 기술적 과제를 해결할 수가 있다.
상술한 실시 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다.
따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. 또한, 이상에서 실시 예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100 : 기판 101 : 일반 패턴이 형성된 기판
110 : 감광성 수지층 111 : 패턴이 형성된 감광성 수지층
120 : 감광성 수지층
121 : 미세 패턴이 형성된 감광성 수지층
200 : 인쇄용 롤(Roll)

Claims (26)

  1. 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법에 있어서,
    (a) 기판상에 밀착층을 형성하는 단계;
    (b) 상기 밀착층 상에 감광성 수지층을 형성하는 단계;
    (c) 상기 감광성 수지층을 이용하여 상기 밀착층의 상부가 일부 노출되도록 패턴을 형성하는 단계; 및
    (d) 상기 감광성 수지층의 상부와, 상기 노출된 밀착층의 상부에 보호층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은:
    PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자, 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    금속을 증착 또는 스퍼터링(Sputtering) 하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 감광성 수지는:
    상기 감광성 수지층과 동일한 재료로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
    스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating)을 포함한 코팅 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
    포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
    포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 패턴은:
    상기 감광성 수지층을 포토리소그래피 공법으로 패터닝하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  13. 삭제
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과;
    패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와;
    산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료; 및
    유?무기 하이브리드계 재료;
    중에서 상기 감광성 수지층 및 기판의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층은:
    스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 방법 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
  16. 액정표시장치용 고정세 인쇄판에 있어서,
    기판상에 형성된 밀착층;
    상기 밀착층 상에 형성되며, 상기 밀착층의 상부가 일부 노출되는 패턴이 형성된 감광성 수지층; 및
    상기 감광성 수지층의 상부와, 상기 노출된 밀착층의 상부에 형성되는 보호층;
    을 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  17. 제 16 항에 있어서, 상기 기판은:
    PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin), PMMA(Polymethylmethacrylate)를 포함한 고분자, 글래스(Glass), 필름(Film), 금속(Metal)을 포함한 군 중에서 어느 하나의 재료로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  18. 제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  19. 제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox를 혼합하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  20. 제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Mo, Cr, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금에 O, N, Cox, Nox과 감광성 수지를 혼합하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  21. 제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
    포토레지스트(Photoresist), 건식 필름 레지스트(Dry Film Resist), 습식 필름 레지스트(Wet Film Resist), 자외선 경화형 수지를 포함한 감광성 물질 중 어느 하나를 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  22. 제 16 항에 있어서, 상기 감광성 수지층은:
    포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  23. 삭제
  24. 제 16 항에 있어서, 상기 보호층은:
    Cu, Ag, Ni, Au, Al, Cr, Mo, Ti, Ta, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 금속과;
    패럴린(Parylene), 테프론(Teflon)을 포함한 유기재료와;
    산화 실리콘(SiOx), 질화 실리콘(SiNx), 다이아몬 라이크 카본(Diamon liked Carbon)을 포함한 무기재료; 및
    유?무기 하이브리드계 재료;
    중에서 상기 감광성 수지층 및 기판의 특성에 따라 선택된 어느 하나를 이용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  25. 제 16 항에 있어서, 상기 보호층은:
    스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(Sputtering), 증발기(Evaporator)를 포함한 방 중 어느 하나를 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
  26. 삭제
KR1020100130500A 2010-12-20 2010-12-20 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법 KR101211736B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100130500A KR101211736B1 (ko) 2010-12-20 2010-12-20 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100130500A KR101211736B1 (ko) 2010-12-20 2010-12-20 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120069099A KR20120069099A (ko) 2012-06-28
KR101211736B1 true KR101211736B1 (ko) 2012-12-12

Family

ID=46687422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100130500A KR101211736B1 (ko) 2010-12-20 2010-12-20 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101211736B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6235974B2 (ja) 2014-09-24 2017-11-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム

Also Published As

Publication number Publication date
KR20120069099A (ko) 2012-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101641402B1 (ko) 도전성 기판 및 그 제조 방법 및 터치 패널
US8313173B2 (en) Compositions and processes for manufacturing printed electronics
TWI644809B (zh) 印刷版、印刷版之製造方法、功能性元件之製造方法及印刷裝置
WO2013074617A1 (en) Process for imprint patterning materials in thin-film devices
JP2010147408A (ja) 有機トランジスタ、有機トランジスタアレイ及び表示装置
US8007980B2 (en) Resist for printing and patterning method using the same
KR101211736B1 (ko) 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법
Naserifar et al. Inkjet printing of curing agent on thin PDMS for local tailoring of mechanical properties
JP4588041B2 (ja) 樹脂モールドを利用した印刷版の製造方法
US20100159138A1 (en) Resist solution and method of forming pattern using the same
KR101235168B1 (ko) 인쇄판 및 그 제조방법
CN107107603B (zh) 用于胶版印刷的铅版的制造方法以及用于胶版印刷的铅版
JP2007227715A (ja) パターニング基板の製造方法
JP5167890B2 (ja) スペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法
KR101234150B1 (ko) 대면적 미세 패턴 형성용 인쇄판 및 그의 제조 방법
JP2010076189A (ja) 印刷版およびそれを用いた印刷方法
KR20110048605A (ko) 액정표시장치용 클리체 및 그 제조방법
JP4449949B2 (ja) 表面エネルギー差バンクの形成方法、パターンの形成方法、バンク構造、電子回路、電子デバイス、電子機器、及びスタンプ
KR101234147B1 (ko) 내구성이 개선된 대면적 미세패턴 프린팅용 인쇄판 및 그의 제조 방법
JP2011002549A (ja) スペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法
JP2009246090A (ja) フィルムデバイス製造用支持体、およびこれが用いられたフィルムデバイスの製造方法
JP5151610B2 (ja) スペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法
KR20120010750A (ko) 인쇄판 및 그 제조방법
US20100064920A1 (en) Print board, method for manufacturing the same, and printing method using the same
KR101279470B1 (ko) 인쇄판 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151105

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161104

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171107

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181112

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191111

Year of fee payment: 8